JPH08169925A - フレキソ印刷プレートに有用な液体ポリウレタン(メト)アクリレート感光性ポリマー - Google Patents

フレキソ印刷プレートに有用な液体ポリウレタン(メト)アクリレート感光性ポリマー

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JPH08169925A
JPH08169925A JP15192595A JP15192595A JPH08169925A JP H08169925 A JPH08169925 A JP H08169925A JP 15192595 A JP15192595 A JP 15192595A JP 15192595 A JP15192595 A JP 15192595A JP H08169925 A JPH08169925 A JP H08169925A
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diisocyanate
meth
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JP15192595A
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Cynthia L Ebner
シンシア・ルイーズ・エブナー
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Polyfibron Technologies Inc
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 ベンゾフェノンを含む光重合開始剤系を適当
に配合したアミン変性ポリエーテルベースのポリウレタ
ン(メト)アクリレートポリマーを用いて、水現像可能
な不粘着性固体基板の製造に有用な液体感光性ポリマー
を製造する。さらに、殺菌放射線照射による後硬化処理
により、不粘着性表面を得る方法が得られる。 【効果】 この発明は、粘着防止用添加剤を使用しなく
ても固有に不粘着性であり、且つ現像後処理を全く必要
としない光硬化性レリーフフレキソ印刷プレートの製造
を可能にする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、放射線硬化性ポリマー
及びかかるポリマーを含む製剤または組成物、並びにか
かるポリマーまたは組成物から製造される固体表面また
は層を有する感光性物品に係わる。本発明は更に、該ポ
リマーを製造及び使用する方法にも係わる。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】光硬化
性ポリマー及び組成物は、印刷プレートや他の感光性ま
たは放射線硬化性製品を形成する分野で公知である。放
射線硬化性フレキソ印刷プレート分野においては、プレ
ートは一般的には支持体と、光硬化性組成物の感光性表
面または層とを含む。
【0003】感光性樹脂レリーフプレートは通常、支持
体上に与えられた感光性樹脂層を像担持透明体、例えば
ネガフィルムを通して化学線に対し画像方向(imag
ewise)に露光し;感光性樹脂層の露光されなかっ
た(未硬化の)領域を現像液(例えば有機溶剤、塩また
はアルカリ水溶液、界面活性剤水溶液、または水)で洗
い出し;後露光処理を実施して確実に架橋を完了させ、
次いで乾燥することにより製造される。例えば参照によ
り本明細書の一部を構成するものとするオーストラリア
特許AU−B−62273/90号明細書参照。
【0004】別の従来技術の情報は、米国特許出願第0
7/003,167号明細書及び同第08/198,4
60号明細書から得ることができ、これらの特許明細書
の開示内容は参照により本明細書の一部を構成するもの
とする。
【0005】ポリマー材料及び製品は、硬化後に存在し
得る表面粘着性の問題を有することがある。表面粘着性
は、埃や糸くずがより寄せ付けられたり、ウェブの引張
りや紙の剥離が増加したり、積重ね及び保管が困難にな
るなどの少なからぬ問題点が挙げられ、感光性ポリマー
印刷プレートにとっては特に問題である。
【0006】ポリマー材料及び光硬化性ポリマー材料の
表面粘着性を低下すべく化学的または物理的処理を含む
種々の方法が公知である。特に光硬化性材料に対して
は、レリーフ像を酸化剤、還元剤などで処理する方法;
レリーフ像の表面にコーティング材料を塗布する方法;
酸素が光硬化を妨害しないように不活性ガス中またはレ
リーフ像を液体中に浸漬しながら、レリーフ像を化学線
に後露光する方法などがある。例えば米国特許第4,8
06,506号参照。硬化の際にポリマー表面に移動す
る脂肪酸またはろう質材料を添加し、表面粘着性を低下
させることも公知である。
【0007】米国特許第4,400,459号明細書
は、現像及び乾燥した表面に、(1)化学線の後露光、
及び(2)アルカリ性モノペルスルフェート及び臭化物
塩の溶液による処理をいずれかの順番で行う、感光性エ
ラストマーフレキソ印刷プレートの粘着を防止する方法
を教示している。
【0008】米国特許第4,202,696号明細書
は、表面層に水素原子を引抜き得る有機カルボニル化合
物を含浸させ、次いでプレートに波長200〜300n
mの化学線を照射して有機カルボニル化合物を励起する
ことによる、感光性ポリマー印刷プレートから表面粘着
性を除去する方法を教示している。
【0009】米国特許第4,716,094号明細書
は、飽和もしくは不飽和カルボン酸、アミドまたはアル
コールといった化合物を感光性樹脂組成物中に配合する
ことを教示している。
【0010】欧州特許出願公開第0 017 927号
明細書は、有機溶剤または溶剤混合物、例えばペルクロ
ロエチレン/n−ブタノールまたはトリクロロエチレン
を用いて現像または「洗い出し」した感光性エラストマ
ー印刷プレートを、例えば「殺菌」灯を用いて波長30
0nm以下の光に露光することにより粘着防止する方法
を教示している。
【0011】米国特許第4,806,506号明細書
は、画像方向に露光し、溶剤現像したフレキソレリーフ
印刷プレートの粘着を防止する方法を教示している。該
方法は、現像後にプレートを乾燥し、非プロトン性溶剤
をプレート表面に塗布し、次いで印刷表面を波長200
〜300nmの放射線に露光するステップからなる。該
方法は更に、200〜300nmの波長を使用すると同
時にまたはその前に印刷表面を露光することを含む。
【0012】米国特許出願第07/003,167号明
細書は、2成分感光性系においてウレタンベースのプレ
ポリマー、好ましくはポリエーテルウレタンプレポリマ
ーを結合剤として使用することにより、ポリマー材料の
表面粘着性を低下する方法を開示している。第1の感光
性成分はベンゾインアルキルエーテルカルボニル化合物
からなる。第2の感光性成分はアミン化合物及びベンゾ
フェノン光重合開始剤からなり、ベンゾフェノンは、ア
ミン化合物から水素原子を引抜き、それによって、波長
200〜300nmの放射線に露光したときにポリマー
結合剤から形成される硬化製品の表面粘着性を低下する
よう作用する。しかしながら、この方法を使用する際に
はアミン及びベンゾフェノンは相容性であらねばなら
ず、別個の相に分離してはならない。更にこの方法には
環境に敏感なモノマーを使用する必要がある。
【0013】感光性ポリマーレリーフ印刷プレートは多
くの場合に約30×40インチ以上の寸法で製造されて
おり、この大きさが加工及び処理の際の取り扱いを困難
にしている。現像後に表面にスプレー、コーティングま
たは浸漬しても、処理すべき硬化後の印刷プレートまた
は製品の表面に活性表面成分が有効または均一な濃度で
存在するという保証はない。
【0014】本明細書において使用される表面粘着性を
低下させる、または「不粘着性」表面を得るなる概念
は、硬化ポリマー製品の粘着性が低下または防止された
状態以上のものを指す。光硬化性レリーフ印刷プレート
においては、現像され、洗浄して未硬化ポリマーが除去
され、水中で後露光され、例えばオーブンを使用して乾
燥されたプレートは、当初は表面に粘着性を僅かしか、
または全くもたないと考えてよい。しかしながら、アル
コール含有インキと接触したときの影響をエミュレーシ
ョンする意味で乾燥表面をアルコールで拭くと、結果的
に表面は指触粘着性となり得る。従って、本明細書にお
ける表面粘着防止なる概念は、永続的に表面粘着性が低
下した現像後の表面の状態を含む。
【0015】従って本発明は、環境に敏感な溶剤及び/
またはモノマーを使用することもないし結合剤または他
の粘着防止用添加剤を使用する必要もなしに、固有の不
粘着性ポリマー材料、特に光硬化性レリーフ印刷プレー
トを製造するための優れた方法及び組成物に係わる。
【0016】本発明の目的は、固有に不粘着性である、
即ち粘着性の問題を解消するための結合剤または他の添
加剤を使用する必要なく、硬化時に低ショアーA値を有
する、フレキソ印刷に使用するのに適した液体組成物を
提供することである。本発明の別の目的は、水分散性で
あり、環境に敏感な溶剤の使用が回避される光硬化性液
体組成物を得ることである。更に本発明の目的は、添加
剤または他の物質が表面にブルーミングする問題のな
い、フレキソ印刷に使用するのに適した組成物を製造す
ることである。本発明の別の目的は、アルコールベース
のインキに対してより耐性を示す印刷プレート表面を製
造することである。
【0017】本発明の更に別の目的は、不粘着性であ
り、現像後処理を全く必要としない光硬化性ポリマー製
品、例えばレリーフフレキソ印刷プレートを製造する方
法を提供することである。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明は、紫外線硬化時
に低ショアーAを有し、硬化したとき不粘着性である液
体感光性ポリマーを提供する。本発明の感光性ポリマー
はアミン変性ポリエーテルベースのポリウレタン(メ
ト)アクリレートであるが、ここで(メト)なる表現は
アクリレートまたはメタクリレートのいずれかを含むも
のとする。本発明組成物の例としては、式J−Y−R1
−J〔式中、JはCH2=C(R2)−C(:O)−O−
R3−O−であり;YはB及びR4からなり;Bは−[X
[NHC(:O)]2−O−(A−O)b]x−であり;
(A−O)は−CH2CH2−O−、−CH2CH(C
H3)−O−、−CH2CH2CH2CH2−O−、−CH2
CH2CH(CH3)−O−または−CH2CH(CH3)
CH2−O−及びこれらの混合物であり;R4は−[X
[NHC(:O)]2−O−R5−R6−R7−O]z−で
あり;R1は−X[NHC(:O)]2−であり;R2は
HまたはCH3であり;R3は炭素原子1〜7個の直鎖も
しくは分枝鎖アルキレンまたは−(A−O)b−であ
り;R5及びR7は、同じまたは異なる炭素原子1〜8個
のアルキレン基であるか;或いは、R7が−(CH2CH
2O)eCH2CH2−であるならばR5は−(CH2CH2
O)dCH2CH2−であり得(ここでd及びeは各々が
0〜9であり、d+e=3〜15である);R6は−N
(R8)、
【0019】
【化2】
【0020】または、−N(Ph)(ここでPhはフェ
ニルである)であり;R8はHまたは炭素原子1〜8個
のアルキル基であり;Xは、2〜100個の炭素原子を
含む二価脂肪族、脂環式または芳香族基である〕からな
る光硬化性ポリマーが挙げられる。
【0021】上記ポリマーは、最も好ましくはBがR10
及びR11からなり、ここでR10は−[X[NHC(:
O)]2−O−(C3H6O)n]x−であり、R11は−
[X[NHC(:O)]2−O−(C2H4O)m−(C3
H6O)p−(C2H4O)m]y−である。
【0022】上記ポリマーは、R2がCH3−であり;R
3が−(CH2CH(CH3)O)q−であり;R5及びR7
がエチレンであり;R6が−N(R8)であり;R8がC
H3であり;且つ、Xがトルエンであるのが最も好まし
い。
【0023】上記光硬化性ポリマーを製造する方法は、 (I)記載のモル比で、約650〜8000の分子量を
有するポリエーテルジオール(約1モル)をジイソシア
ネート約1.2〜約4モルと反応させ、ジオール末端に
イソシアネートのキャップを付加するステップ; (II)ステップ(I)の反応混合物に、約0.01〜
約5のモル比のジアルカノールアミンを添加し、アミン
をポリマーの主鎖中に取り込むステップ;及び (III)ステップ(II)の反応混合物に、約0.2
〜約1.0モルのヒドロキシアルキル(メト)アクリレ
ートを添加し、(II)の末端イソシアネート基をヒド
ロキシアルキル(メト)アクリレートのヒドロキシル基
と反応させ、光硬化性ポリマーを得るステップからな
る。
【0024】本発明は更に、フレキソ印刷プレート表面
基板を製造する方法であって、 a)上記光硬化性ポリマーを、約0重量%〜約70重量
%の光活性(メト)アクリレートモノマーまたはオリゴ
マーと混合するステップ; b)ステップ(a)で得た混合物を、約0.01重量%
〜約10重量%のベンゾフェノンを含有する光重合開始
剤系と混合するステップ; c)ステップ(b)で得た混合物をカバーシート(好ま
しくはポリプロピレン)上に囲い枠を使用してキャステ
ィングし、複合体上に支持シート(backing s
heet)(好ましくはポリエステル)を貼り付けて物
品を作製するステップ; d)化学線を用い、ステップ(c)の流延液体混合物
(b)を支持シートを通して光硬化させてプレートの床
を作製し、次いでカバーシート及びネガを通して硬化し
て像を生成するステップ; e)ステップ(d)で露光されなかった未硬化のポリマ
ーを水性界面活性剤溶液で洗い流すことにより像を現像
するステップ; f)必要によって、物品を水に入れ、物品を化学線に現
像後露光して確実に硬化するステップ、 g)現像した物品を乾燥するステップ;及び h)殺菌線に露光することにより硬化表面基板を処理す
るステップからなる。
【0025】或いは(f)と(h)は空気中または水中
で同時に実施してもよく、同じ結果が得られる。
【0026】本発明の感光性ポリマーは下記の主反応に
より得られる: 1.P+Cy→(Cy−P)x−Cy (I); 2.N+Cy→(Cy−N)y−Cy (II); 3.I+N+II→[(Cy−P)x−(Cy−N)y]
z−Cy(プレポリマーIII、またはIII); (注:反応2と3は同時進行) 4.III+A→A−[(Cy−P)x−(Cy−
N)y]z−Cy−A(感光性ポリマーIV、またはI
V) 〔式中、Pはポリエーテルジオールまたはその部分であ
り、Cyはジイソシアネートまたはその部分であり、N
はアルキルジアルカノールアミンまたはその部分であ
り、Aは、ポリプロピレングリコールモノメタクリレー
ト、ヒドロキシアルキル(メト)アクリレート、これら
の部分、及びこれらの混合物からなる群から選択され
る〕。上記反応において、ヒドロキシルを含む化合物が
ジイソシアネートを含む化合物にウレタン結合−NH−
C(:O)−O−を介して結合してそれぞれの部分を形
成する。x、y及びzは分子ごとに異なり得るが、プレ
ポリマーIIIの総分子量は約1,000〜40,00
0(好ましくは約2,000〜20,000)であり、
プレポリマーIVの総分子量は約1,000〜50,0
00(好ましくは約3,000〜30,000)であ
る。I及びIIのセグメントは鎖中にランダムに配置さ
れ得る。
【0027】上述の4つの反応は別様に明言し得る。即
ち、モル比P:Cy:N:Aは1:1.2〜4:0.0
1〜5.0:0.2〜1、好ましくは1:1.4−2.
6:0.2〜1.2:0.4:0.8である必要があ
る。
【0028】ポリエーテルポリオールの分子量に従い、
反応物質P(ポリオール)、Cy(ジイソシアネー
ト)、N(アルキルジアルカノールアミン)及びA(ヒ
ドロキシアルキル(メト)アクリレート)のモル比は以
下のように選択するのが好ましい(以下に引用する重量
%は最終的な感光性ポリマーの総重量を基準とする): (a)最終的な感光性ポリマーが優れた可撓性またはエ
ラストマー性を有するためにはポリオール総含有量が約
60〜約90重量%であるのが好ましく; (b)優れた水現像性を維持するためにはアルキルジア
ルカノールアミン含有量が約0.1〜約10重量%であ
るのが好ましく; (c)優れた光硬化性、従って優れたインク膨潤耐性を
得るためにはヒドロキシアルキル(メト)アクリレート
含有量が約0.5〜約8.0重量%であるのが好まし
い。
【0029】1.ポリエーテルジオール(P)と上記化
学量論的過剰量のジイソシアネート(Cy)の反応: HO−(−A−O−)bH+過剰量のOCNXNCO→ OCN−D−X−NCO (I) 〔ここでAは、−CH2CH2−、−CH2CH2−CH2
−、−CH2CH(CH3)−、−CH2CH2CH2CH2
−、−CH2CH2CH(CH3)−、−CH2CH(CH
3)CH2−、または任意の二官能性ジオール、及びこれ
らの混合物であり;Dは1つ以上のセグメント[−X−
NH−C(:O)O(−A−O−)bC(:O)NH
−]であり;bはポリエーテルジオールの分子量によっ
て決定されるものであり、下記のポリエーテルジオール
の説明において記載し;Xは、2〜100、好ましくは
5〜15個の炭素原子を含む二価芳香族、脂肪族または
脂環式基である〕。
【0030】上記末端キャップ付加反応は公知である。
前述したように、最初に形成された末端にキャップが付
加されたジオール上の末端イソシアネートは他のポリエ
ーテル上の他のヒドロキシル基と反応し、それによっ
て、得られるポリウレタンの総分子量を増加し得る。こ
の反応は、例えば約25℃〜80℃の通常温度で適当に
実施される。
【0031】アルキルジアルカノールアミン(HO−R
5−R6−R7−OH)によるプレポリマー生成物(I)
の鎖伸長。この反応においては、反応2と3が同時進行
し、反応2の生成物IIは反応3の中間体として作用す
る。
【0032】 2.OCN−X−OCN+HO−R5−R6−R7−OH → OCN−F−X−NCO (II) 〔ここでFは1つ以上のセグメント[−X−NH−
C(:O)−O−R5−R6−R7−O−C(:O)NH
−]を表わし;R5及びR7は同じまたは異なる炭素原子
1〜8個のアルキレン基であるか;或いは、R7が−
(CH2CH2O)eCH2CH2−であるならばR5は−
(CH2CH2O)dCH2CH2−であり得(ここでd及
びeは各々が0〜9であり、d+e=3〜15であ
る);R6は−N(R8)、
【0033】
【化3】
【0034】または、−N(Ph)(ここでPhはフェ
ニルである)であり;R8は炭素原子1〜8個のアルキ
ル基またはHである〕。
【0035】 3.I+HO−R5−R6−R7−OH + II → OCN−E−X−NCO (プレポリマーIII) 〔ここでEはDの1つ以上のセグメント及びFの1つ以
上のセグメントからなる、即ちEはD及びFからな
る〕。
【0036】反応2と3は同じ反応混合物中で実質的に
同時に温度約25〜約60℃で、残留イソシアネートを
滴定することにより判定して全てのヒドロキシル基が反
応するまで行われる。前述したように、III中の個々
のポリマー鎖は、ポリエーテルジオール、ジイソシアネ
ート及びアルキルジアルカノールアミン部分の数が様々
であると推定される。反応物質の割合は、全てのまたは
実質的に全てのポリマー鎖がイソシアネートを末端にも
つように上述の範囲内で制御し得る。この制御は第4
(最終)ステップには不可欠である。IIIの形成後に
少量の残留遊離ジイソシアネートが残ってもよい。
【0037】反応2及び3においては、モル比Cy/P
+Nは常に>1であることに留意されたい。
【0038】IIIにおいては、Xがトルエン(TD
I)であり;R5及びR7がエチレンであり;R6が−N
(R8)−であり;R8がメチルであり;ジオールが、酸
化エチレンで末端がキャップされたポリオキシプロピレ
ンジオール及びポリプロピレングリコールジオール(こ
こで(A−O−)bは分子量約1000〜3500を有
する)の混合物を含むとき好ましい構造となる。
【0039】反応4.鎖伸長ポリマー(プレポリマーI
II)と、ヒドロキシアルキル(メト)アクリレート、
例えばヒドロキシエチルメタクリレート(HEMA)ま
たはポリプロピレングリコールモノメタクリレート(P
PGMMA)、これらの部分または混合物のいずれかと
を反応させ、感光性ポリマーIVを得る: III + HO−R3−O−C(:O)−C(R2)=CH2 → J−R10−R11−R4−R1−J (IV) 〔ここでR3は炭素原子1〜7個のアルキレンまたは
(A−O)bであり;R2はメチルまたはHであり;2つ
のJは同一であって、CH2=C(R2)−C(:O)−
O−R3−O−であり;R10は[X[NHC(:O)]2
−O−(C3H6O)n]x(ここでXは、2〜100個の
炭素原子を含む二価脂肪族、脂環式もしくは芳香族基、
または変性ジイソシアネートである)であり;R11は−
[X[NHC(:O)]2−O−(C2H4O)m−(C3
H6O)p−(C2H4O)m]y(ここでXは、2〜100
個の炭素原子を含む二価脂肪族、脂環式もしくは芳香族
基、または変性ジイソシアネートである)であり;R4
は[X[NHC(:O))]2−O−R5−R6−R7−
O]z−(ここでXは、2〜100個の炭素原子を含む
二価脂肪族、脂環式もしくは芳香族基、または変性ジイ
ソシアネートである)であり;R1は[X[NHC(:
O)]2](ここでXは、2〜100個の炭素原子を含
む二価脂肪族、脂環式もしくは芳香族基、または変性ジ
イソシアネートである)であり;R5及びR7は、同じま
たは異なる炭素原子1〜8個のアルキレン基であるか;
或いは、R7が−(CH2CH2O)eCH2CH2−である
ならばR5は−(CH2CH2O)dCH2CH2−であり得
(ここでd及びeは各々が0〜9であり、d+e=3〜
15である〕。
【0040】反応4は温度約60℃〜約80℃で適当に
実施され、都合のよいことに鎖伸長反応2及び3のあと
に同じ容器内で実施される。前述したように、ほとんど
の分子は複数のポリエーテルジオール、末端キャップ付
きジイソシアネート、及び鎖伸長ジアルカノールアミン
部分を含んでおり、全てまたは実質的に全てのポリマー
分子IVは、ヒドロキシアルキル(メト)アクリレー
ト、好ましくはポリプロピレングリコールモノメタクリ
レート(PPGMMA)を末端に有する。
【0041】上記反応は溶剤なしで実施される。
【0042】以下、反応物質を更に説明する。
【0043】ジオール類 (a)ポリエーテルジオール。
【0044】この製品は、構造、HO−(A−O)bH
〔式中、Aは二価のエチレン、プロピレン、イソプロピ
レン、ブチレン、イソブチレン基であり、bは、基〔A
−O〕b又はポリマージオール(実質的には同一物であ
る)の数平均分子量が約650〜約7,000の範囲、
好ましくは約1,000〜3,500の範囲になるよう
なものである〕を有する。分子量が約1,000〜3,
500のポリプロピレンオキシドグリコール、又はエチ
レンオキシドの量がポリマー全体の約1〜50重量%の
範囲、好ましくは総分子量の約10〜30重量%の範囲
であり、分子量が約1,000〜7,000、好ましく
は1,000〜4,000の範囲である、エチレンオキ
シドで末端がキャップされたポリプロピレンオキシドが
特に好ましい。コポリマーを用いる場合に理想的な(A
−O)b構造は、[−(CH2CH2O)x−(CH2CH
(CH3)−O)y−(CH2CH2O)z]b−〔式中、x
+z及びyは、エチレンオキシド部分がポリオールの総
分子量の約1〜50重量%、好ましくは約10〜30重
量%であるものである〕である。そのようなコポリマー
には、POLY G55−37(分子量2952、約3
0重量%のエチレンオキシドを含む)及びPOLY L
225−28(分子量4000、約20重量%のエチレ
ンオキシドを含む)が含まれ、いずれもOlin Co
rp.から入手可能である。ポリエーテルジオール反応
体は、当該分野において周知の方法により、アルキレン
オキシド又はアルキレンオキシド混合物と、少なくとも
1種の活性水素原子を有する水のような化合物、エタノ
ール及びプロパノールのような一価のアルコール並びに
エチレングリコール及びグリセリンのモノエチルエーテ
ルのような二価のアルコールを含む化合物とを反応させ
ることにより製造可能である。そのような反応体のポリ
(オキシアルキレン)製品は、直鎖のオキシアルキレン
又はオキシエチレン−高オキシアルキレン鎖を有してお
り、そのような鎖はヒドロキシル基を末端基としてい
る。慣用の水酸化カリウム触媒又は二重金属シアン化物
を用いてよい。
【0045】ジイソシアナート ポリエーテルジオールの末端キャッピングには多岐にわ
たるジイソシアナートが使用可能である。これらのジイ
ソシアナートは、構造OCN−XNCOを有する脂肪
族、脂環式又は芳香族であってよい。二価の基Xは一般
に2〜100個の炭素原子を有しており、場合によって
エーテル基、エステル基、ウレタン基、アミド基、尿素
基、アリール基、脂肪族基、脂環式基又はハロゲン原子
のような非妨害性置換基を担持してよい。変性ジイソシ
アナートも使用可能である。適当なジイソシアナートの
例には、4,4′−メチレンジフェニルジイソシアナー
ト(MDI)、Dow Chemical Co.から
Isonate 2181として入手可能なポリエーテ
ルポリオールと反応するMDI及びMDIプレポリマー
のような変性MDI、2,4−トリレンジイソシナネー
ト(トルエンジイソシアナート)、2,6−トリレンジ
イソシアナート、最後の2種の異性体の混合物、2,4
−トリレンジイソシアナートのダイマー、p−キシレン
ジイソシアナート、m−キシレンジイソシアナート、
1,5−ナフタレンジイソシアナート、3,3′−ジメ
チルビフェニル−4,4′−ジイソシアナート、ヘキサ
メチレンジイソシアナート、トリメチルヘキサメチレン
ジイソシアナート、リジンジイソシアナート、イソホロ
ンジイソシアナート、4,4′−メチレンビス(シクロ
ヘキシルイソシアナート)、メチルシクロヘキサン−
2,4−(又は2,6)−ジイソシアナート、1,3−
(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、m−テトラメ
チルキシレンジイソシアナート、p−テトラメチルキシ
レンジイソシアナート及びそれらの混合物が含まれる。
好ましいジイソシアナートは、2,4−トリレンジイソ
シアナートと2,6−トリレンジイソシアナートの混合
物である。
【0046】慣用のウレタン形成触媒をジイソシアナー
トとの反応に用いてよい。これらの触媒には、例えば、
ジブチルすずジラウレート及びオクタン酸第一スズのよ
うな有機スズ化合物、有機水銀化合物、第3級アミン、
並びにこれらの物質の混合物が含まれる。
【0047】アルキルジアルカノールアミン この物質は、構造HOR5R6R7OH〔式中、番号の付
されたRは上記に定義の通りである〕を有している。こ
の群の中では、メチルジエタノールアミン、ビス(ヒド
ロキシエチル)−ピペラジン、
【0048】
【化4】
【0049】、及びN,N′−ビス(2−ヒドロキシプ
ロピル)アニリン(HO−CH(CH3)CH2−N(P
h)−CH2CH(CH3)OH)が好ましい(Phはフ
ェニルである)。
【0050】ヒドロキシアルキル(メト)アクリレート この物質は、構造HO−R3OC(:O)−C(R2)=
CH〔式中、R′は上記に定義の通りである〕を有して
いる。この構造を有するものの中では、PPGMMAが
好ましい。
【0051】本発明の感光性ポリマーを含む組成物 最も簡単な組成物は、本発明の感光性ポリマーに有効量
の光重合開始剤を加えたものである。そのような混合物
はそのままキャスティングし得る。しかし、多くの商業
上の使用の場合には、光重合性組成物を、約1〜約75
重量%の反応性(即ち、光活性)モノマー又はオリゴマ
ー、最も好ましくは約5〜約50重量%の範囲の反応性
モノマーを用いて配合又は増量する。適当な反応性モノ
マー又はオリゴマーは、式: CH2=C(R2)−C(:O)−O−)s−R15 〔式中、R2はH又はメチルであり、R15はsの価(v
alence)を有する有機部分であり、sは整数であ
る〕を有するものである。
【0052】そのような反応性(メト)アクリレート希
釈剤には、光重合性組成物に添加して硬化製品を改質し
得る、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキ
サンジオールジアクリレート、1,3−ブチレングリコ
ールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コール−200ジアクリレート、テトラエチレングリコ
ールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリ
レート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ト
リプロピレングリコールジアクリレート、エトキシル化
ビスフェノール−Aジアクリレート、プロピレングリコ
ールモノ/ジメタクリレート、トリメチロールプロパン
ジアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアク
リレート、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレー
トのトリアクリレート、ジペンタエリトリトールヒドロ
キシペンタアクリレート、ペンタエリトリトールトリア
クリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチ
レングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコ
ール−200ジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタ
クリレート、ポリエチレングリコール−600ジメタク
リレート、1,3−ブチレングリコールジメタクリレー
ト、エトキシル化ビスフェノール−Aジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート、1,4−ブタンジ
オールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタク
リレート、ペンタエリトリトールテトラメタクリレー
ト、グリセリンジメタクリレート、トリメチロールプロ
パンジメタクリレート、ペンタエリトリトールトリメタ
クリレート、ペンタエリトリトールジメタクリレート、
ペンタエリトリトールジアクリレート、ウレタンメタク
リレート又はアクリレートオリゴマーなどが含まれる
が、それらには限定されない。シクロヘキシルアクリレ
ート、イソボルニルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート及び
テトラヒドロフルフリルアクリレートのようなモノアク
リレート並びにその対応メタクリレートも反応性希釈剤
として、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート
及びポリエステル又はポリエーテルアクリレートのよう
なメタクリレートオリゴマーと同様に使用し得る。
【0053】光重合開始剤 本発明の新規な物質を含む組成物には、好ましくは組成
物全体の約0.01〜約10%のベンゾフェノンを含む
光重合開始剤系が必要とされる。
【0054】好ましい光重合開始剤系は二つの部分を含
んでいる。一次光重合開始剤は、300nmを超える波
長で組成物を初期硬化又は架橋結合させる。その後で、
初期硬化に先立って高分子組成物に十分に混和された二
次光重合開始剤を200〜300nmの範囲の波長を有
する放射線に露光して、表面処理を開始する。この2種
の光重合開始剤は、2つの成分が異なる紫外線波長を用
いて選択的に光活性化され得るような紫外線吸収スペク
トルを特徴としている。一次光重合開始剤は、少なくと
も30nm以上の波長を有する放射線に露光されるとラ
ジカル重合によりポリマーを硬化させるように作用し得
るカルボニル化合物であるのが好ましい。二次光重合開
始剤は、200〜300nmの範囲の波長を有する放射
線(即ち、「殺菌放射線」)に露光すると、硬化物品の
表面粘着性を低減させるベンゾフェノン又はベンゾフェ
ノン誘導体である。
【0055】光重合性組成物用の一次光重合開始剤は、
ベンゾインアルキルエーテル、即ち、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソ
プロピルエーテル及びベンゾインイソブチルエーテルの
ような公知のカルボニル化合物、例えば、2,2−ジメ
トキシ−2−フェニルアセトフェノン即ちIrgacu
re(登録商標)651(Ciba−Geigy)のよ
うなジアルコキシアセトフェノン、アセトフェノン、o
−メトキシベンゾフェノン、アセトナフタレンキノン、
メチルエチルケトン、バレロフェノン、ヘキサノフェノ
ン、α−フェニルブチロフェノン、p−モルホリノプロ
ピオフェノン、ジベンゾスベロン、4−モルホリノベン
ゾフェノン、4′−モルホリノデオキシベンゾイン、p
−ジアセチルベンゼン、4−アミノベンゾフェノン、
4′−メトキシアセトフェノン、ベンズアルデヒド、α
−テトラロン、9−アセチルフェナントレン、2−アセ
チルフェナントレン、10−チオキサンテノン、3−ア
セチルフェナントレン、3−アセチルインドン、9−フ
ルオレノン、1−インダノン、1,3,5−トリアセチ
ルベンゼン、チオキサンテン−9−オン、キサンテン−
9−オン、7−H−ベンズ[de]−アントラセン−7
−オン、1−ナフタアルデヒド、4,4′−ビス(ジメ
チルアミノ)−ベンゾフェノン、フロレン−9−オン、
1′−アセトナフトン、2′−アセトナフトン、2,3
−ブテジオン、アセトナフテン、ベンズ[a]アントラ
セン7.12ジエンなどから選択してよい。トリフェニ
ルホスフィン及びトリ−o−トリルホスフィンのような
ホスフィン類も本発明において光重合開始剤として使用
し得る。
【0056】二次光重合開始剤は、200〜300nm
の範囲の波長を有する放射線に露光すると水素を引き抜
くように作用し得るカルボニル化合物を含むのが好まし
い。好ましい二次光重合開始剤は、式O=C(R)
2〔式中、Rは置換又は未置換フェニル環である〕を有
するベンゾフェノンである。フェニル環が未置換である
ベンゾフェノンを用いるのが好ましい。
【0057】ベンゾフェノン又はベンゾフェノン誘導体
は一次光重合開始剤として使用するのが公知となってい
るが、本発明者は、本発明によって教示されているよう
に、後現像(post−development)表面
の粘着防止用の二次光重合開始剤として本明細書に記載
されているアミン変性ポリウレタン(メト)アクリレー
トポリマーと組み合わせてベンゾフェノンを使用するこ
とは今まで知られていないか又は示唆されていなかった
と考える。
【0058】光重合開始剤は、ポリマーの約0.01〜
約10.0重量%の範囲、好ましくはポリマーの約1.
0〜約2.5重量%の範囲であってよい。好ましい実施
態様において、一次光重合開始剤は2,2−ジメトキシ
−2−フェニルアセトフェノンであり、二次光重合開始
剤はベンゾフェノンである。100%ベンゾフェノンで
ある光重合開始剤系を用いることも可能であるが、これ
は望ましくない。
【0059】他の添加剤 本発明の組成物はさらに、光硬化性組成物に使用するた
めの当該分野において公知の他の添加剤、例えば、酸化
防止剤、オゾン亀裂防止剤及び紫外線吸収剤を含んでい
てよい。本発明の組成物を含むポリマーの貯蔵中の早期
架橋を阻害するために、熱重合阻害剤及び安定剤を加え
る。そのような安定剤は、当該分野において周知であ
り、ハイドロキノンモノベンジルエーテル、メチルハイ
ドロキノン、アミルキノン、アミロキシハイドロキノ
ン、n−ブチルフェノール、フェノール、ハイドロキノ
ンモノプロピルエーテル、フェノチアジン、ホスファイ
ト、ニトロベンゼン及びフェノール性チオ化合物並びに
それらの混合物が含まれるが、それらには限定されな
い。そのような添加剤は、ポリマーの約0.01〜約4
重量%の範囲の量で用いられる。これらの安定剤は、製
造、加工及び貯蔵中にポリマー組成物の架橋結合を防止
するのに有効である。
【0060】紫外光吸収剤又は紫外光安定剤は、光速
度、従ってポリマー物質の露光寛容度の調整に用いるこ
とができる。当業者には多くの物質が明らかであろう。
最も重要な光安定剤群は、2−ヒドロキシベンゾフェノ
ン、2−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、立体
障害性アミン及び有機ニッケル化合物である。さらに、
サリチレート、シンナメート誘導体、レゾルシノールモ
ノベンゾエート、オキサニリド及びp−ヒドロキシベン
ゾエートも用いられる。これらの添加剤はポリマーの約
0.01〜約4重量%の範囲で用いられる。
【0061】組成物はさらに、染料及び/又は顔料着色
剤を含んでいてよい。感光性ポリマー組成物中に存在す
る着色剤は、画像方向への露光を妨害してはならず且つ
組成物中に存在する重合剤が活性化され得るスペクトル
の領域内で化学線を吸収してはならない。
【0062】着色剤は多くの市販顔料及び染料から選択
してよい。着色剤は溶媒可溶形態で、又は分散剤形態で
用いてよい。粒状物質が用いられる場合には、その粒度
は5000Å未満でなければならない。粒子が200〜
3000Åの範囲であればなお好ましい。
【0063】本発明の実施に有用な多くの顔料及び染料
は当業者には明らかであろうが、そのような物質をいく
つかここにリストする。
【0064】適当な顔料には、Ciba−Geigyか
ら入手可能なMicrolith(登録商標)が含まれ
る。特に好ましいのは、A3R−K及び4G−K物質で
ある。適当な染料には、例えば、Baso Blue
645(C.I.Solvent Blue 4)、B
aso Blue 688(C.I.SolventB
lue 81)、Luxol Fast Blue M
BSN(C.I.Solvent Blue 38)、
Neopen Blue 808(C.I.Solve
nt Blue 70)、Orasol(登録商標)B
lue 2GLN(C.I.Solvent Blue
48)、Savinyl(登録商標)Blue GL
S(C.I.Solvent Blue 44)、Sa
vinyl Blue RLS(C.I.Sovent
Blue 45)、Thermoplast Blu
e 684(C,I.Solvent Violet1
3)及びVictoria Blue BO(C.I.
Solvent Blue 7)が含まれる。本出願に
は青及び紫を用いているが、染料の色は重要ではない。
他の色を用いても、例えば耐退色を含む利点が得られ得
る。
【0065】本発明の感光性ポリマーを用いた組成物に
は以下のものが含まれる: (1)感光性ポリマー、組成物全体の約40〜99重量
%、好ましくは約60〜90重量%; (2)モノマー又はオリゴマーであってよいモノ−、ジ
−又はマルチ−アクリレート希釈剤、約0〜60重量
%、好ましくは約10〜40重量%; (3)光重合開始剤、約0.1〜10重量%、好ましく
は約0.5〜2.5重量%;及び (4)安定剤、紫外吸収剤及び着色剤、全体で0.1〜
10重量%、好ましくは約1〜4重量%。
【0066】プレートの製造 感光性樹脂組成物から、以下の方法でレリーフ印刷プレ
ートを製造する:市販の露光装置の下部ガラスプレート
の上に写真ネガを置き、20μのポリプロピレン保護フ
ィルムで被覆し、次いで真空被着して、しわ又はエアポ
ケットを取り除く。囲い枠を用いて0.25インチ
(0.63cm)の厚さに樹脂を被覆フィルムに塗布
し、この複合体にポリエステルバッキング(backi
ng)シートを貼り合わせる。先ず、プレートの床を形
成するために300〜400nmの範囲の波長を有する
化学線ランプを用いて最上部のポリエステルバッキング
を介して複合体に裏露光し、次いで化学線ランプを用い
てネガを介して画像方向に露光する。プレートを水性洗
剤溶液で20分間洗浄し、未硬化の残留ポリマーを除去
する。
【0067】プレートをすすぎ、約40℃の乾燥オーブ
ンに30分間入れ、その後で取り出して冷却する。次い
でプレートを大気中で殺菌放射線(<300nm)に1
0分間露光し、不粘着性表面を得る。
【0068】
【実施例】以下の実施例により本発明を例示するが、該
実施例は本発明を限定するものではない。
【0069】実施例1 1lの重合がまに、トリフェニルホスファイト1.71
g、ブチル化ヒドロキシトルエン0.20g、数平均分
子量が約3,000のポリプロピレングリコールジオー
ル(PPG 3025、Arco Chemical
Co.)139.2g及び数平均分子量が約3,000
であり、約30重量%のエチレンオキシド末端ユニット
のエチレンオキシド−プロピレンオキシドブロックポリ
エーテルジオール(Poly G55−37, Oli
n chemicals Co.)108.8gを仕込
んだ。2種のポリオールを、3滴のジブチルすずジラウ
レートの存在下に、2,4−トリレンジイソシアナート
/2,6−トリレンジイソシアナート(TDI 80/
20重量比)の混合物20gと、80℃で2〜3時間反
応させた。
【0070】ブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)安
定剤2.8gを加えた。得られたイソシアナートを末端
基とするポリウレタンをメチルジエタノールアミン(M
DEA)2.11gを用いて60℃で1〜2時間連鎖延
長した。2滴のジブチルすずジラウレートの存在下に、
ポリマーを、数平均分子量が350〜380のポリプロ
ピレングリコールモノメタクリレート(PPGMMA)
19.77gと、70℃で、IR分光分析法によりイソ
シアナートが全て消失したことが2600cm-1でピー
クが消えることにより測定されるまで、さらに反応させ
た。
【0071】ポリマー40gに、ポリプロピレングリコ
ールモノメタクリレート(PPGMMA)5.72g、
ネオペンチルグリコールジメタクリレート(NPGDM
A)0.93g及び硬化剤として2,2−ジメトキシ−
2−フェニル−アセトフェノン(Irgacure 6
51)0.47gを加えて、感光性樹脂組成物を製造し
た。Amergraph EU1218露光装置上で露
光することによる物理試験を行うために20ミル(mi
l)樹脂フィルムを製造した。表1の物理特性データを
参照されたい。
【0072】実施例2 125.3gのPPG 3025、95.84gのPo
ly G55−37、20gのTDI、1.71gのト
リフェニルホスファイト及び0.2gのBHTを実施例
1と同じように反応させた。追加のBHT2.61gを
加え、MDEA3.16gで連鎖延長し、次いで実施例
1と同様にPPGMMA19.77gを加えて停止反応
を行った。
【0073】ポリマーを配合し、実施例1のように試験
した。表1のデータを参照されたい。
【0074】実施例3 112.0gのPPG 3025、82.1gのPol
y G55−37、20gのTDI、1.71gのトリ
フェニルホスファイト及び0.2gのBHTを60℃で
実施例1のように反応させた。追加のBHT2.4gを
加え、MDEA4.21gで連鎖延長した。発熱は8℃
であることが認められた。イソシアナートを末端基とす
るポリウレタンを実施例1のようにPPGMMA19.
8gとさらに反応させた。
【0075】ポリマーを配合し、実施例1のように試験
した。表1を参照されたい。
【0076】実施例4 84.01gのPPG 3025、54.8gのPol
y G55−37、20gのTDI、1.71gのトリ
フェニルホスファイト及び0.20gのBHTを60℃
で実施例1のように反応させた。BHT1.8g及びM
DEA6.32gを連鎖延長段階で加え、次いで実施例
1のようにPPGMMA19.8gを加えてポリマーを
反応停止させた。
【0077】ポリマーを配合し、実施例1と同様に試験
した。表1のデータを参照されたい。
【0078】実施例5 356.2gのPoly G55−37及び50gのT
DIを1lの重合がまに仕込み、60℃で4時間反応さ
せた。BHT4.35g、希釈剤として用いられるラウ
リルメタクリレート130.5g、MDEA13.7g
及び2滴のジブチルすずジラウレートを加え、50℃で
3〜4時間反応させた。次いで、ヒドロキシエチルメタ
クリレート(HEMA)14.95gを加え、反応混合
物を室温で一晩撹拌した。IR分光分析法によりNCO
が消失したことを確認して、反応を完了した。
【0079】ポリマーを配合し、実施例1のように試験
した。表1のデータを参照されたい。このポリマーは実
施例1〜4のものより速い亀裂生長反応を有していた。
【0080】比較例1 164.5gのPPG 3025、129.4gのPo
ly G55−37、20gのTDI、1.71gのト
リフェニルホスファイト及び0.20gのBHTを1l
の重合がまに仕込み、3滴のジブチルすずジラウレート
の存在下に、80℃で4時間反応させた。反応混合物を
60℃に冷却し、PPGMMA23.37g及び2滴の
ジブチルすずジラウレートを加えた。3時間後、IR分
光分析法により2600cm-1でNCOピークが完全に
なくなったことが示されて反応が完了したと見なされ
た。
【0081】ポリマーを配合し、実施例1のように試験
した。表1の物理データを参照されたい。
【0082】粘着性測定試験法 異なる配合及び異なる露光条件から得られる粘着性レベ
ルを比較するために、硬化印刷プレートを用いて以下の
試験を行った。
【0083】囲い枠を用いて、ポリプロピレン保護フィ
ルムの上に0.25インチ(6.35mm)の樹脂層を
キャスティングしてプレートを製造した。ポリエステル
バッキングシートを組成物に貼り合わせた。ポリエステ
ルを介して複合体に裏露光して床を形成し、次いでポリ
プロピレンカバーを介して表露光した。ポリプロピレン
カバーを取り除き、試料を水性洗剤溶液で20分間洗浄
して、未硬化ポリマーを除去した。
【0084】典型的には、大気中で10分間の追加化学
線に露光するか又は大気中で10分間殺菌放射線に露光
してプレートを後露光した。後露光条件を変えて、粘着
性に与える効果を測定した。
【0085】以下のようにプレート上の粘着性レベルを
決定する試験を行った。試料領域上に清潔なポリエチレ
ンテルフタレートフィルム片をプレスし、フィルムの耐
剥離量を測定して粘着性を決定した。水中30(重量)
%のイソプロパノール(IPA)で20回プレートをふ
き、15秒間放置し、次いで吸い取り乾燥した。再度、
清潔なポリエチレンテルフタレートフィルム片を試料領
域にプレスし、フィルムの耐剥離量を測定して粘着性を
決定した。この測定は、アルコールで試料をふいてから
1分、1時間及び24時間後に行われた。試料が不粘着
性を保っていた場合、100%イソプロパノールを用い
て試験を繰り返した。
【0086】実施例で製造された樹脂を配合し、表2に
示されているように試験した。
【0087】要約すると、粘着性試験により、光重合開
始剤中のベンゾフェノン及びポリマー主鎖中のアミンを
含むプレートは、所定の殺菌放射線に露光すると、IP
Aふき試験後にも不粘着性を保っていることが示され
た。ベンゾフェノンを含まない実施例は、所定の殺菌放
射線に露光すると、ふき試験後にも粘着性であった。ポ
リマー主鎖にアミンを含まない比較例1のプレートは、
配合物パッケージ又は後露光条件にも関係なく粘着性で
あった。
【0088】
【表1】
【0089】
【表2】
【0090】
【表3】

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式J−Y−R1−J〔式中、2つのJは
    同一であって、CH2=C(R2)−C(:O)−O−R
    3−O−であり;YはB及びR4からなり;Bは−[X
    [NHC(:O)]2−O−(A−O)b]x−であり;
    (A−O)は−CH2CH2−O、−CH2CH(CH3)
    −O−、−CH2CH2CH2CH2−O−、−CH2CH2
    CH(CH3)−O−または−CH2CH(CH3)CH2
    −O−及びこれらの混合物であり;R4は−[X[NH
    −C(:O)]2−O−R5−R6−R7−O]z−であ
    り;R1は−X[NH−C(:O)]2−であり;R2は
    HまたはCH3であり;R3は炭素原子1〜7個の直鎖も
    しくは分枝鎖アルキレンまたは−(A−O)b−であ
    り;R5及びR7は、同じまたは異なる炭素原子1〜8個
    のアルキレン基であるか;或いは、R7が−(CH2CH
    2O)eCH2CH2−であるならばR5は−(CH2CH2
    O)dCH2CH2−であり得(ここでd及びeは各々が
    0〜9であり、d+e=3〜15である);R6は−N
    (R8)、 【化1】 または、−N(Ph)(ここでPhはフェニルである)
    であり;R8はHまたは炭素原子1〜8個のアルキル基
    であり;Xは、2〜100個の炭素原子を含む二価脂肪
    族、脂環式または芳香族基である〕からなる液体光硬化
    性ポリマー。
  2. 【請求項2】 BがR10及びR11からなり、ここでR10
    が−[X[NHC(:O)]2−O−(C3H6O)n]x
    −であり、R11が−[X[NHC(:O)]2−O−
    (C2H4O)m−(C3H6O)p−(C2H4O)m]y−で
    ある請求項1に記載のポリマー。
  3. 【請求項3】 R2がCH3−であり;R3が−(CH2C
    H(CH3)O)q−であり;R5及びR7がエチレンであ
    り;R6が−N(R8)であり;R8がCH3であり;且
    つ、Xがトルエンである請求項2に記載のポリマー。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の光硬化性ポリマーを製
    造する方法であって、 (I)記載のモル比で、約650〜8000の分子量を
    有するポリエーテルジオール(約1モル)をジイソシア
    ネート約1.2〜約4モルと反応させ、ジオール末端に
    イソシアネートのキャップを付加するステップ; (II)ステップ(I)の反応混合物に、約0.01〜
    約5のモル比のジアルカノールアミンを添加し、アミン
    をポリマーの主鎖中に取り込むステップ;及び (III)ステップ(II)の反応混合物に、約0.2
    〜約1.0モルのイソシアネート反応性ヒドロキシアル
    キル(メト)アクリレートを添加し、(II)の末端イ
    ソシアネート基を前記イソシアネート反応性物質のヒド
    ロキシル基と反応させ、光硬化性ポリマーを得るステッ
    プからなる方法。
  5. 【請求項5】 前記反応物質のモル比 ポリエーテルジ
    オール:ジイソシアネート:ジアルカノールアミン:ヒ
    ドロキシアルキル(メト)アクリレートが約1:1.4
    〜2.6:0.2〜1.2:0.4〜0.8である請求
    項4に記載の方法。
  6. 【請求項6】 ヒドロキシアルキル(メト)アクリレー
    トがポリプロピレングリコールモノメタクリレートであ
    る請求項4に記載の方法。
  7. 【請求項7】 ポリエーテルジオールが、ポリプロピレ
    ングリコールジオールと酸化エチレン−酸化プロピレン
    ブロックポリエーテルジオールの混合物である請求項4
    に記載の方法。
  8. 【請求項8】 ジイソシアネートが、2,4−トリレン
    ジイソシアネートと2,6−トリレンジイソシアネート
    の混合物である請求項4に記載の方法。
  9. 【請求項9】 フレキソ印刷プレート表面基板を製造す
    る方法であって、 a)請求項1に記載の光硬化性ポリマーを、ポリマー及
    びモノマー混合物の約0重量%〜約70重量%の量の光
    活性(メト)アクリレートモノマーまたはオリゴマーと
    混合するステップ; b)ステップ(a)で得た混合物を、ステップ(a)及
    び(b)の組成物全体の約0.01重量%〜約10重量
    %のベンゾフェノンを含有する光重合開始剤系と混合す
    るステップ; c)ステップ(b)で得た混合物をカバーシート上に囲
    い枠を使用してキャスティングし、複合体上に支持シー
    トを貼り付けて物品を作製するステップ; d)化学線を用い、ステップ(c)の流延液体混合物を
    前記支持シートを通して光硬化させてプレートの床を作
    製し、次いでネガを通して硬化して像を生成するステッ
    プ; e)ステップ(d)で露光されなかった未硬化のポリマ
    ーを水性界面活性剤溶液で洗い流すことにより像を現像
    するステップ; f)現像した物品を乾燥するステップ;及び g)殺菌線に露光することにより硬化表面基板を処理す
    るステップからなる方法。
  10. 【請求項10】 前記光重合開始剤系が更に2,2−ジ
    メトキシ−2−フェニルアセトフェノン及びベンゾフェ
    ノンを含む請求項9に記載の方法。
  11. 【請求項11】 前記ステップ(b)が更に、実質的に
    抗酸化剤、オゾン亀裂防止剤、紫外線吸収剤、熱重合開
    始剤、安定剤及びこれらの混合物からなる群から選択さ
    れる添加剤を混合することを含む請求項9に記載の方
    法。
  12. 【請求項12】 請求項9に記載の方法によって製造さ
    れた露光印刷プレート。
  13. 【請求項13】 請求項1に記載のポリマーと、ベンゾ
    フェノンを含有する光重合開始剤系とを含む光硬化性組
    成物。
  14. 【請求項14】 前記光重合開始剤が更に2,2−ジメ
    トキシ−2−フェニルアセトフェニン及びベンゾフェノ
    ンを含む請求項13に記載の組成物。
  15. 【請求項15】 ステップe)のあとに更に、物品を水
    に入れ、化学線に現像後露光して確実に硬化することを
    含む請求項9に記載の方法。
  16. 【請求項16】 前記化学線及び殺菌線への現像後露光
    を空気中または水中で同時に行う請求項15に記載の方
    法。
JP15192595A 1994-06-17 1995-06-19 フレキソ印刷プレートに有用な液体ポリウレタン(メト)アクリレート感光性ポリマー Pending JPH08169925A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001500276A (ja) * 1996-07-26 2001-01-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング 光学素子の組み合わせ体
WO2008156115A1 (ja) 2007-06-18 2008-12-24 Asahi Kasei E-Materials Corporation 感光性樹脂組成物、フレキソ印刷版、及びフレキソ印刷版の製造方法
JP2011001543A (ja) * 2009-05-20 2011-01-06 Asahi Glass Co Ltd 硬化性樹脂組成物、透明積層体およびその製造方法
JP2018131609A (ja) * 2017-02-13 2018-08-23 三洋化成工業株式会社 ポリウレタンウレア樹脂組成物用耐光性向上剤

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019009695A1 (en) * 2017-07-07 2019-01-10 Polyfaber Sdn Bhd PREFABRICATED LIQUID PHOTOPOLYMER PLATE

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US316787A (en) 1885-04-28 Tool for turning metal
JPS53143669A (en) 1977-05-23 1978-12-14 Asahi Chem Ind Co Ltd Elimination of surface tuckiness of radically-polymerizable resin cured product
CA1123547A (en) * 1977-07-12 1982-05-11 Charles H. Carder Radiation curable composition
JPS55135838A (en) 1979-04-12 1980-10-23 Asahi Chem Ind Co Ltd Surface treating method for photosensitive elastomer printing plate
US4400459A (en) 1981-05-07 1983-08-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for bromine surface treatment of photosensitive elastomeric flexographic printing plates
JPS60191237A (ja) 1984-03-13 1985-09-28 Asahi Chem Ind Co Ltd 露光硬化後非粘着性感光性樹脂組成物
US4806506A (en) 1987-09-14 1989-02-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for detackifying photopolymer flexographic printing plates
US5328805A (en) * 1992-08-28 1994-07-12 W. R. Grace & Co.-Conn. Aqueous developable photosensitive polyurethane-(meth)acrylate

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001500276A (ja) * 1996-07-26 2001-01-09 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング 光学素子の組み合わせ体
WO2008156115A1 (ja) 2007-06-18 2008-12-24 Asahi Kasei E-Materials Corporation 感光性樹脂組成物、フレキソ印刷版、及びフレキソ印刷版の製造方法
US8501391B2 (en) 2007-06-18 2013-08-06 Asahi Kasei E-Materials Corporation Photosensitive resin composition, flexographic printing plate, and method for producing flexographic printing plate
JP2011001543A (ja) * 2009-05-20 2011-01-06 Asahi Glass Co Ltd 硬化性樹脂組成物、透明積層体およびその製造方法
JP2018131609A (ja) * 2017-02-13 2018-08-23 三洋化成工業株式会社 ポリウレタンウレア樹脂組成物用耐光性向上剤

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