JPH08171069A - Optical scanning device - Google Patents
Optical scanning deviceInfo
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- JPH08171069A JPH08171069A JP31508994A JP31508994A JPH08171069A JP H08171069 A JPH08171069 A JP H08171069A JP 31508994 A JP31508994 A JP 31508994A JP 31508994 A JP31508994 A JP 31508994A JP H08171069 A JPH08171069 A JP H08171069A
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Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はレーザプリンタやディジ
タル複写機等の画像記録装置に使用される光学走査装置
に係り、特に回転多面鏡の反射面の回転方向のサイズ
（幅）よりもこの回転多面鏡に入射する光束の主走査方
向と対応する方向のサイズ（幅）の方が大きいオーバー
フィルド（Ｏｖｅｒｆｉｌｌｅｄ）タイプの光学走査装
置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical scanning device used in an image recording device such as a laser printer or a digital copying machine, and more particularly, to the rotation of a reflecting surface of a rotary polygon mirror rather than the size (width) in the rotating direction. The present invention relates to an overfilled type optical scanning device in which a size (width) of a light beam incident on a polygonal mirror in a direction corresponding to a main scanning direction is larger.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、回転多面鏡に入射する際のレーザ
ビームの主走査方向と対応する方向の幅よりも回転多面
鏡の反射面の回転方向の幅（以下、反射面の面幅Ｆａと
いう）の方が大きいアンダーフィルド（Ｕｎｄｅｒｆｉ
ｌｌｅｄ）タイプの光学走査装置が一般に使用されてお
り、このタイプの光学走査装置では反射面の幅はこの反
射面に所定の方向からどの角度でレーザビームを入射し
てもこのレーザビームを網羅できるような大きさに設定
されている。2. Description of the Related Art Conventionally, the width of a rotary surface of a rotary polygon mirror in the rotational direction (hereinafter referred to as the surface width Fa of the reflective surface is larger than the width of the laser beam when entering the rotary polygon mirror, which corresponds to the main scanning direction. ) Is larger underfill (Underfi
Led) type optical scanning devices are generally used. In this type of optical scanning device, the width of the reflecting surface can cover the laser beam regardless of the angle of incidence of the laser beam from a predetermined direction to the reflecting surface. It is set to such a size.
【０００３】ところで、光学走査装置を使用したレーザ
プリンタやディジタル複写機等の画像記録装置には、近
年、高速化及び高解像度化が要求されており、上記のよ
うなアンダーフィルド系の光学走査装置において、この
高速化及び高解像度化の要求に応えるには、回転多面鏡
の単位回転速度を上げることによって、レーザビームが
感光体上の１ラインを走査するのに要する時間を短縮す
ることが考えられる。By the way, in recent years, an image recording device such as a laser printer or a digital copying machine using an optical scanning device is required to have a high speed and a high resolution, and the underfilled optical scanning device as described above is required. In order to meet the demand for higher speed and higher resolution, it is conceivable to increase the unit rotational speed of the rotary polygon mirror to shorten the time required for the laser beam to scan one line on the photoconductor. To be
【０００４】しかし、回転多面鏡を回転駆動させる駆動
モータの回転速度は、ボールベアリングを使用した場合
で、現在、１５，０００ｒｐｍが限度であり、大幅なコ
ストアップを招くため使用が好ましくない空気軸受けを
用いたとしても４０，０００ｒｐｍが限度である。従っ
て、回転多面鏡の回転速度を上げることによって画像記
録装置の高速化及び高解像度化を図るには限界がある。However, the rotational speed of the drive motor for rotationally driving the rotary polygon mirror is 15,000 rpm at present when using a ball bearing, which causes a significant cost increase, which is not preferable for use in an air bearing. The limit is 40,000 rpm. Therefore, there is a limit to increase the speed and resolution of the image recording apparatus by increasing the rotation speed of the rotary polygon mirror.
【０００５】また、回転多面鏡の反射面の数を増加する
ことによって、回転多面鏡が１回転する間の走査回数を
増やして高速化及び高解像度化を図ることも考えられる
が、反射面の数が増加すると回転多面鏡が大径化するた
め、通常の駆動モータでは駆動し難いという問題が発生
する。It is also possible to increase the number of scans during one rotation of the rotating polygon mirror to increase the speed and resolution, by increasing the number of reflecting surfaces of the rotating polygon mirror. When the number increases, the diameter of the rotary polygon mirror increases, which causes a problem that it is difficult to drive with a normal drive motor.
【０００６】このため、反射面の面幅よりも広い主走査
方向と対応する方向の幅のレーザビームを回転多面鏡に
照射して複数の反射面を介してレーザビームを偏向させ
て、１回の回転における反射面の使用頻度を多くして走
査回数を増やすオーバーフィルドタイプの光学走査装置
が特開昭５０−９３７１９号に開示されている。図１３
に示されるように、この特開昭５０−９３７１９号の光
学走査装置は、平行ビームを発生する光源２と、画像信
号に応じてこの平行ビームを変調する変調器４と、反射
鏡６と、射出側が曲面とされ、かつ入射した平行ビーム
を主走査方向と対応する方向に発散するレンズパワーを
備えた平凸シリンドリカルレンズ８と、平凸シリンドリ
カルレンズ８から射出された発散ビームの主走査方向と
対応する方向の幅を調整し、同方向に長い線像として結
像させる結像レンズ１０と、回転多面鏡１２と、倒れ補
正用のシリンドリカルレンズ１４とを含んでいる。For this reason, the rotary polygon mirror is irradiated with a laser beam having a width corresponding to the main scanning direction wider than the surface width of the reflecting surface, and the laser beam is deflected through the plurality of reflecting surfaces. Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-93719 discloses an overfilled type optical scanning device which increases the frequency of use of the reflecting surface in the rotation of the above-mentioned type and increases the number of times of scanning. FIG.
As shown in FIG. 1, the optical scanning device of Japanese Patent Laid-Open No. 50-93719 includes a light source 2 for generating a parallel beam, a modulator 4 for modulating the parallel beam according to an image signal, a reflecting mirror 6, A plano-convex cylindrical lens 8 having a lens power that has a curved surface on the exit side and that diverges an incident parallel beam in a direction corresponding to the main scanning direction; and a main scanning direction of a divergent beam emitted from the plano-convex cylindrical lens 8. An imaging lens 10 that adjusts the width in the corresponding direction and forms a long line image in the same direction, a rotary polygon mirror 12, and a tilt correction cylindrical lens 14 are included.
【０００７】また、一般に、光源と回転多面鏡との間に
は、半導体レーザのような光源から射出された発散光で
あるレーザビームを平行光にするコリメータレンズと、
この平行光を副走査方向と対応する方向に収束させるシ
リンドリカルレンズとが配置されている。この配置の光
学系では、レーザビームの主走査方向と対応する方向の
幅の調整は光源とコリメータレンズとの間隔を調整する
ことにより行われ、光源はコリメータレンズの焦点に配
置される。また、レーザビームの副走査方向と対応する
方向の幅の調整はシリンドリカルレンズと回転多面鏡と
の間隔を調整することにより行われ、回転多面鏡はシリ
ンドリカルレンズの焦点又はその近傍に配置される。即
ち、この配置の光学系では、主走査方向と対応する方向
の幅の調整及び副走査方向と対応する方向の幅の調整が
独立して行われており、これらの調整を独立して行える
ことが利点となっている。Further, in general, between the light source and the rotary polygon mirror, a collimator lens for collimating a laser beam, which is divergent light emitted from a light source such as a semiconductor laser, into parallel light,
A cylindrical lens for converging the parallel light in a direction corresponding to the sub-scanning direction is arranged. In the optical system having this arrangement, the width of the laser beam in the direction corresponding to the main scanning direction is adjusted by adjusting the distance between the light source and the collimator lens, and the light source is arranged at the focal point of the collimator lens. The width of the laser beam in the direction corresponding to the sub-scanning direction is adjusted by adjusting the distance between the cylindrical lens and the rotary polygonal mirror, and the rotary polygonal mirror is arranged at or near the focal point of the cylindrical lens. That is, in this arrangement of the optical system, the width adjustment in the direction corresponding to the main scanning direction and the width adjustment in the direction corresponding to the sub-scanning direction are performed independently, and these adjustments can be performed independently. Is an advantage.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところで、回転多面鏡
から偏向された光束の主走査方向と対応する方向の幅Ｄ
は、アンダーフィルドタイプの光学走査装置では走査角
にかかわらず一定であるのに対して、オーバーフィルド
タイプの光学走査装置では、図１４のＤ1 乃至Ｄ 3 に示
されるように、走査開始位置（ＳＯＳ）と走査終了位置
（ＥＯＳ）との間で変化する。また、使用されるレーザ
ビームはガウシアンビームであるので、レーザビームの
どの領域をどれくらいの幅で使用するかによって、感光
体上でのビーム径及び光量が異なる。即ち、オーバーフ
ィルドタイプの光学走査装置では、感光体上の走査位置
によってビーム径及び光量が異なってしまう。By the way, a rotary polygon mirror
Width D of the light beam deflected from the main scanning direction
Is the scanning angle for the underfilled optical scanning device.
Is constant regardless of overfilled
In the optical scanning device of the type shown in FIG.1Through D 3Shown in
Scan start position (SOS) and scan end position
(EOS). Also used laser
Since the beam is a Gaussian beam,
Depending on which area and how wide you use
The beam diameter and the amount of light on the body are different. That is, over
In the field type optical scanning device, the scanning position on the photoconductor
Therefore, the beam diameter and the light amount are different.
【０００９】そして、特開昭５０−９３７１９号に示さ
れているように、感光体上における走査幅（Ｘ）が２８
０ｍｍ、偏向光束の両最外縁部が成す角度の半分の角度
（以下、走査半角ａという）が±１８°、結像レンズ１
０の光軸を偏向光束の両最外縁部を含む面に投影したと
きの投影線と偏向光束の両最外縁部が成す角度を２等分
する線とが成す角度（以下、入射角βという）が９０
°、光源におけるビームの波長λが６３２．８ｎｍ、回
転多面鏡の反射面の回転方向の面幅に対する反射面に入
射する光束の主走査方向と対応する方向の幅の比が２で
ある場合、使用されるレーザビームがガウシアンビーム
であることを考慮すると、感光体上の光量の一様性は６
５％程度と予想され、実使用レベルではなくなる。Then, as shown in Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-93719, the scanning width (X) on the photoconductor is 28.
0 mm, half the angle formed by both outermost edges of the deflected light beam (hereinafter referred to as scanning half angle a) is ± 18 °, and the imaging lens 1
The angle formed by the projection line when the optical axis of 0 is projected on the surface including both outermost edges of the deflected light beam and the line that bisects the angle formed by both outermost edge portions of the deflected light beam (hereinafter referred to as the incident angle β ) Is 90
°, the wavelength λ of the beam at the light source is 632.8 nm, and the ratio of the width in the main scanning direction of the light beam incident on the reflecting surface to the surface width in the rotating direction of the reflecting surface of the rotating polygon mirror is 2, Considering that the laser beam used is a Gaussian beam, the uniformity of the amount of light on the photoconductor is 6
It is expected to be around 5%, and it will not be at the actual usage level.
【００１０】また、前述の一般的な配置の光学系をオー
バーフィルドタイプの光学走査装置に適用した場合、コ
リメータレンズに入射する光束は、主走査方向と対応す
る方向に広い幅を有する光束でなければならないため、
光源からコリメータレンズまでに長い距離が必要とな
り、結果的に光源から回転多面鏡までの光路長が長くな
ってしまう。さらに、広い幅の光束を得るための大口径
のコリメータレンズは非常に高価である。Further, when the above-described optical system of the general arrangement is applied to the overfilled type optical scanning device, the light beam incident on the collimator lens must be a light beam having a wide width in the direction corresponding to the main scanning direction. Because I have to
A long distance is required from the light source to the collimator lens, and as a result, the optical path length from the light source to the rotary polygon mirror becomes long. Furthermore, a large-diameter collimator lens for obtaining a wide-width light beam is very expensive.
【００１１】本発明は上記事実を考慮し、回転多面鏡の
大径化を回避すると共に、感光体上の光量の一様性の悪
化を低減できるオーバーフィルドタイプの光学走査装置
を提供することを第１の目的とする。In view of the above facts, the present invention provides an overfilled type optical scanning device capable of avoiding an increase in the diameter of a rotary polygon mirror and reducing the deterioration of the uniformity of the amount of light on the photoconductor. The first purpose.
【００１２】また、本発明は光源から回転多面鏡までの
光路長を短縮できるオーバーフィルドタイプの光学走査
装置を提供することを第２の目的とする。It is a second object of the present invention to provide an overfilled type optical scanning device capable of shortening the optical path length from the light source to the rotary polygon mirror.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段及び作用】本発明は、光源
と、回転軸と平行な複数の反射面を有し、かつ入射した
光束を前記反射面により主走査方向に略等角速度で偏向
させる回転多面鏡と、前記回転多面鏡の複数の反射面に
またがるように前記光源から射出された光束を主走査方
向と対応する方向に長い線像として結像させる第１の光
学系と、偏向された偏向光束を光スポットが略等速度で
走査されるように被走査面上に収束させる第２の光学系
と、を備えた光学走査装置において、前記反射面の回転
方向のサイズに対する前記第１の光学系から射出された
光束の主走査方向と対応する方向のサイズの比が１．５
以上４．０以下、前記偏向光束の両最外縁部が成す角度
が３０°以上６０°以下、かつ前記第１の光学系の光軸
を前記偏向光束の両最外縁部を含む面に投影したときの
投影線と前記偏向光束の両最外縁部が成す角度を２等分
する線とが成す角度が９０°未満であることを特徴とす
る。According to the present invention, a light source and a plurality of reflecting surfaces parallel to a rotation axis are provided, and an incident light beam is deflected by the reflecting surfaces at a substantially constant angular velocity in the main scanning direction. The rotating polygonal mirror, and a first optical system for forming a long line image in a direction corresponding to the main scanning direction of the light beam emitted from the light source so as to straddle a plurality of reflecting surfaces of the rotating polygonal mirror, and are deflected. And a second optical system for converging the deflected light flux on the surface to be scanned so that the light spot is scanned at a substantially constant speed. The ratio of the size of the light beam emitted from the optical system in the direction corresponding to the main scanning direction is 1.5
Above 4.0, the angle formed by both outermost edges of the deflected light flux is between 30 ° and 60 °, and the optical axis of the first optical system is projected onto a surface including both outermost edges of the deflected light flux. The angle formed by the projection line at this time and the line bisecting the angle formed by both outermost edges of the deflected light flux is less than 90 °.
【００１４】以下、本発明を説明する。反射面の回転方
向のサイズに対する第１の光学系から射出された光束の
主走査方向と対応する方向のサイズの比が１．５未満で
あると、走査開始位置（ＳＯＳ）と走査終了位置（ＥＯ
Ｓ）との間で光量の一様性が著しく悪化し、その結果出
力濃度の差が視覚上明瞭に判別されてしまう。The present invention will be described below. When the ratio of the size of the light beam emitted from the first optical system in the direction corresponding to the main scanning direction to the size of the reflecting surface in the rotation direction is less than 1.5, the scan start position (SOS) and the scan end position ( EO
The uniformity of the amount of light is remarkably deteriorated between S and S), and as a result, the difference in output density is visually distinct.
【００１５】一方、反射面の回転方向のサイズに対する
第１の光学系から射出された光束の主走査方向と対応す
る方向のサイズの比が４．０を越えると、光学系全体の
透過率が下がってしまい、一般に普及している安価な光
源を使用した場合、粉塵等の汚れによる光学系全体の透
過率の低下、低温時の感光体の感度の低下等が起こる
と、印字が不可能になる。On the other hand, when the ratio of the size of the light beam emitted from the first optical system in the direction corresponding to the main scanning direction to the size of the reflecting surface in the rotating direction exceeds 4.0, the transmittance of the entire optical system is increased. If you use an inexpensive light source that is generally widespread, if the transmittance of the entire optical system decreases due to dirt such as dust, or the sensitivity of the photoconductor at low temperatures decreases, printing becomes impossible. Become.
【００１６】また、図１２に示されるように、感光体上
における走査幅を現在一般的に使用されているＡ３用紙
の短辺長さに相当する２９７ｍｍとした場合、偏向光束
の両最外縁部が成す角度を３０°未満にすると、換言す
れば、走査半角を１５°未満にすると、焦点距離は５５
０ｍｍ以上であることが必要になり、画像記録装置の大
型化を招く。Further, as shown in FIG. 12, when the scanning width on the photoconductor is 297 mm, which corresponds to the short side length of A3 paper which is generally used at present, both outermost edges of the deflected light flux. If the angle formed by is less than 30 °, in other words, if the scanning half angle is less than 15 °, the focal length is 55.
It is necessary to be 0 mm or more, which leads to an increase in size of the image recording apparatus.
【００１７】一方、偏向光束の両最外縁部が成す角度
（走査角）が６０°を越えると、一般に使用されている
大きさの光学系を第２の光学系に使用した場合、光束が
第２の光学系の端部を通るので好ましくない。また、大
径の光学系を第２の光学系として使用すると、コストが
高くなる。On the other hand, when the angle (scanning angle) formed by both outermost edges of the deflected light flux exceeds 60 °, when the optical system of a commonly used size is used in the second optical system, the light flux becomes It is not preferable because it passes through the end of the second optical system. Further, if a large-diameter optical system is used as the second optical system, the cost will increase.
【００１８】さらに、第１の光学系の光軸を偏向光束の
両最外縁部を含む面に投影したときの投影線と偏向光束
の両最外縁部が成す角度を２等分する線とが成す角度が
９０°以上であると、回転中に回転多面鏡の反射面が入
射光と平行になる等入射光を被走査面に向けて有効に反
射できないので好ましくない。さらに、この入射角は４
５°以下であることが好ましい。Further, a projection line when the optical axis of the first optical system is projected on a surface including both outermost edge portions of the deflected light beam and a line bisecting an angle formed by both outermost edge portions of the deflected light beam are If the angle formed is 90 ° or more, incident light cannot be effectively reflected toward the surface to be scanned such that the reflecting surface of the rotary polygon mirror becomes parallel to the incident light during rotation, which is not preferable. Furthermore, this angle of incidence is 4
It is preferably 5 ° or less.
【００１９】また、第１の光学系は、前記第１の光学系
は、前記光源の射出方向に配置されたコリメータレンズ
と、前記コリメータレンズの射出側に配置され、かつ前
記コリメータレンズから射出された光束の副走査方向と
対応する方向にレンズパワーを有し前記コリメータレン
ズから射出された光束を副走査方向と対応する方向に収
束させる副走査方向調節レンズと、前記副走査方向調節
レンズの射出側に配置され、かつ前記副走査方向調節レ
ンズから射出された光束の主走査方向と対応する方向に
レンズパワーを有し前記副走査方向調節レンズから射出
された光束を主走査方向と対応する方向に略平行とする
主走査方向調節レンズと、で構成し、前記光源を前記コ
リメータレンズの焦点位置よりも内側に配置することが
できる。The first optical system is arranged such that the first optical system is arranged on the exit side of the collimator lens and in the exit direction of the light source, and is emitted from the collimator lens. And a sub-scanning direction adjusting lens which has a lens power in a direction corresponding to the sub-scanning direction of the light beam and converges the light beam emitted from the collimator lens in a direction corresponding to the sub-scanning direction; Is disposed on the side and has a lens power in a direction corresponding to the main scanning direction of the light beam emitted from the sub-scanning direction adjustment lens, and a direction corresponding to the main scanning direction of the light beam emitted from the sub-scanning direction adjustment lens. And a main scanning direction adjusting lens that is substantially parallel to the light source, and the light source can be disposed inside the focal position of the collimator lens.
【００２０】このように光源をコリメータレンズの焦点
位置よりも内側に配置すれば、コリメータレンズから射
出される光束は発散光となる。この発散光の主走査方向
と対応する方向の幅は主走査方向調節レンズにより所定
の幅に調整される。即ち、光束の主走査方向と対応する
方向の幅は光源とコリメータレンズとの間隔及びコリメ
ータレンズと主走査方向調節レンズとの間隔をそれぞれ
調整することにより調整される。一方、この発散光の副
走査方向と対応する方向の幅は副走査方向調節レンズと
回転多面鏡との間隔を調整することにより調整される。By thus arranging the light source inside the focal position of the collimator lens, the light beam emitted from the collimator lens becomes divergent light. The width of the divergent light in the direction corresponding to the main scanning direction is adjusted to a predetermined width by the main scanning direction adjusting lens. That is, the width of the light beam in the direction corresponding to the main scanning direction is adjusted by adjusting the distance between the light source and the collimator lens and the distance between the collimator lens and the main scanning direction adjusting lens. On the other hand, the width of the divergent light in the direction corresponding to the sub-scanning direction is adjusted by adjusting the distance between the sub-scanning direction adjustment lens and the rotary polygon mirror.
【００２１】ここで、前述の主走査方向調節レンズは副
走査方向調節レンズと回転多面鏡との間に配置されてい
る。即ち、主走査方向と対応する方向の幅を調整するの
に必要な間隔と、副走査方向と対応する方向の幅を調整
するのに必要な間隔とは副走査方向調節レンズと主走査
方向調節レンズとの間で重なっている。また、光源はコ
リメータレンズの焦点位置よりも内側に配置されてお
り、光源とコリメータレンズとの距離は短縮されてい
る。このため、回転多面鏡の反射面の面幅よりも広い主
走査方向と対応する方向の幅を有する光束を得るための
光源から回転多面鏡までの光路長を短縮できる。Here, the main scanning direction adjusting lens is arranged between the sub-scanning direction adjusting lens and the rotary polygon mirror. That is, the interval required to adjust the width in the direction corresponding to the main scanning direction and the interval required to adjust the width in the direction corresponding to the sub scanning direction are the sub scanning direction adjustment lens and the main scanning direction adjustment. It overlaps with the lens. Further, the light source is arranged inside the focal position of the collimator lens, and the distance between the light source and the collimator lens is shortened. Therefore, the optical path length from the light source to the rotating polygon mirror for obtaining a light beam having a width in the direction corresponding to the main scanning direction wider than the surface width of the reflecting surface of the rotating polygon mirror can be shortened.
【００２２】[0022]
【実施例】以下に図１乃至図１１に基づいて本発明の実
施例を説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS.
【００２３】図１には、光学走査装置２０を備えた画像
記録装置の構成が示されている。また、図２、図３に
は、この光学走査装置２０の第１の光学系を表す平面
図、側面図がそれぞれ示されている。FIG. 1 shows the structure of an image recording apparatus having an optical scanning device 20. 2 and 3 are a plan view and a side view showing the first optical system of the optical scanning device 20, respectively.
【００２４】図１に示されるように、光学走査装置２０
は半導体レーザ２２（図２乃至図３）を備えたレーザダ
イオードアセンブリ２３を備えている。半導体レーザ２
２はｐｎ接合面が主走査方向を向くように配置されてい
る。この結果、図２及び図３に示されるように、この半
導体レーザ２２から発振されるレーザビームは、主走査
方向と対応する方向の拡がり角が副走査方向と対応する
方向の拡がり角よりも大きくなる。As shown in FIG. 1, an optical scanning device 20.
Comprises a laser diode assembly 23 with a semiconductor laser 22 (FIGS. 2-3). Semiconductor laser 2
2 is arranged such that the pn junction surface faces the main scanning direction. As a result, as shown in FIGS. 2 and 3, the laser beam emitted from the semiconductor laser 22 has a divergence angle in the direction corresponding to the main scanning direction larger than that in the direction corresponding to the sub-scanning direction. Become.
【００２５】また、図１に示されるように、レーザダイ
オードアセンブリ２３のレーザビーム照射側の光路上に
は、コリメータレンズ２４（図２乃至図３）を備えたコ
リメータレンズアセンブリ２５が配置されている。コリ
メータレンズ２４の焦点距離は、例えば、１２．５ｍｍ
であり、半導体レーザ２３の照射部はこのコリメータレ
ンズ２４の焦点位置よりも、例えば、０．８ｍｍ内側に
配置されている。Further, as shown in FIG. 1, a collimator lens assembly 25 having a collimator lens 24 (FIGS. 2 to 3) is arranged on the optical path of the laser diode assembly 23 on the laser beam irradiation side. . The focal length of the collimator lens 24 is, for example, 12.5 mm.
The irradiation portion of the semiconductor laser 23 is arranged, for example, 0.8 mm inside the focal position of the collimator lens 24.
【００２６】コリメータレンズアセンブリ２４の射出側
の光路上には、ビーム整形用のスリット２６が配置され
ていて、発散光の副走査方向と対応する方向の幅を制限
する。A beam shaping slit 26 is provided on the exit side optical path of the collimator lens assembly 24 to limit the width of the divergent light in the direction corresponding to the sub-scanning direction.
【００２７】スリット２６の射出側の光路上には、副走
査方向と対応する方向にレンズパワーを有する副走査方
向調節レンズであるシリンドリカルレンズ２８と、シリ
ンドリカルレンズ２８から射出されたレーザビームを反
射するフラットミラー（平面鏡）３０が配置されてい
る。A cylindrical lens 28, which is a sub-scanning direction adjusting lens having a lens power in a direction corresponding to the sub-scanning direction, and a laser beam emitted from the cylindrical lens 28 are reflected on the optical path on the exit side of the slit 26. A flat mirror (flat mirror) 30 is arranged.
【００２８】フラットミラー３０によって反射されたレ
ーザビームの光路上には、正十五角柱状の回転多面鏡３
４が配置されている。この回転多面鏡３４の底面の中心
及び上面の中心を通る直線を回転軸とし、この回転軸と
平行な１５の長方形状の側面が反射面とされて、複数の
反射面が光路上に位置するように回転多面鏡３４が配置
されている。この回転多面鏡３４の底面は底面に内接す
る円の直径（ＰΦ）が２２ｍｍとなる大きさであり、反
射面の面幅（Ｆａ）は、回転多面鏡の反射面の数をｎと
すると、「Ｆａ＝ＰΦ×ｔａｎ（１８０°／ｎ）」で表
され、４．６８ｍｍである。回転多面鏡３４は回転軸を
介して図示しない駆動モータによって略一定速度で回転
駆動され、これにより入射したレーザビームを所定方向
に略等角速度で連続的に偏向する。On the optical path of the laser beam reflected by the flat mirror 30, a regular polygonal prism 3 is used.
4 are arranged. A straight line passing through the center of the bottom surface and the center of the upper surface of the rotating polygon mirror 34 is used as a rotation axis, and 15 rectangular side surfaces parallel to this rotation axis are reflection surfaces, and a plurality of reflection surfaces are located on the optical path. Thus, the rotary polygon mirror 34 is arranged. The bottom surface of the rotating polygon mirror 34 has a size such that the diameter (PΦ) of the circle inscribed in the bottom surface is 22 mm, and the surface width (Fa) of the reflecting surface is n, where n is the number of reflecting surfaces of the rotating polygon mirror. It is represented by “Fa = PΦ × tan (180 ° / n)” and is 4.68 mm. The rotary polygon mirror 34 is rotationally driven at a substantially constant speed by a drive motor (not shown) via a rotary shaft, and thereby the incident laser beam is continuously deflected in a predetermined direction at a substantially constant angular speed.
【００２９】フラットミラー３０と回転多面鏡３４との
間の光路上で、かつシリンドリカルレンズ２８の焦点位
置よりも内側には、凸レンズ３２が配置されており、フ
ラットミラー３０によって反射されたレーザビームを主
走査方向と対応する方向に平行にすると共に、副走査方
向と対応する方向に収束させ回転多面鏡３４の反射面近
傍に収束させる。これによりレーザビームは回転多面鏡
３４の反射面近傍で主走査方向と対応する方向に長い線
像として結像されて、回転多面鏡３４の複数の反射面を
照射する。A convex lens 32 is arranged on the optical path between the flat mirror 30 and the rotary polygon mirror 34, and inside the focal position of the cylindrical lens 28, and the laser beam reflected by the flat mirror 30 is reflected by the convex lens 32. It is made parallel to the direction corresponding to the main scanning direction, and is converged in the direction corresponding to the sub-scanning direction to be converged in the vicinity of the reflecting surface of the rotary polygon mirror 34. As a result, the laser beam is imaged as a long line image in the direction corresponding to the main scanning direction near the reflecting surface of the rotary polygon mirror 34, and irradiates the plurality of reflecting surfaces of the rotary polygon mirror 34.
【００３０】第１の光学系は、以上のコリメータレンズ
２４、シリンドリカルレンズ２８及び凸レンズ３２によ
って構成される。The first optical system comprises the collimator lens 24, the cylindrical lens 28 and the convex lens 32 described above.
【００３１】回転多面鏡３４によって偏向された偏向ビ
ームの光路上には、被走査面である感光ドラム４２表面
に所定のビーム径の略円形の光スポットが略等速度で走
査されるように収束させる第２の光学系である２つのレ
ンズを組み合わせて構成したｆθレンズ３６｛例えば、
焦点距離（ｆ）＝２８６．５ｍｍ｝が配置されている。
このｆθレンズ３６と感光ドラム４２との間には、回転
多面鏡３４の各反射面の副走査方向の傾きのばらつきに
よって起こる面倒れ誤差等の走査位置のずれを補正する
ためのシリンドリカルミラー４０と、ｆθレンズ３６か
ら射出されたレーザビームをこのシリンドリカルミラー
４０に向けて反射するためのフラットミラー３８とが配
置されている。On the optical path of the deflected beam deflected by the rotary polygon mirror 34, a substantially circular light spot having a predetermined beam diameter is converged on the surface of the photosensitive drum 42, which is the surface to be scanned, so as to scan at a substantially constant speed. Fθ lens 36 configured by combining two lenses, which is a second optical system, (for example,
The focal length (f) = 286.5 mm} is arranged.
Between the fθ lens 36 and the photosensitive drum 42, a cylindrical mirror 40 for correcting a deviation of the scanning position such as a surface tilt error caused by a variation in the inclination of each reflecting surface of the rotary polygon mirror 34 in the sub-scanning direction is provided. , And a flat mirror 38 for reflecting the laser beam emitted from the fθ lens 36 toward the cylindrical mirror 40.
【００３２】本実施例では、一例として、回転多面鏡３
４の反射面の面幅Ｆａは前述の如く４．６８ｍｍとさ
れ、また凸レンズ３２から射出された光束の主走査方向
と対応する方向の幅（以下、入射光束幅という）Ｄ0 は
１０．３、回転多面鏡３４の反射面の面幅に対する入射
光束幅Ｄ0 ／Ｆａは２．２（１０．３／４．６８）、入
射角βは４５°、走査半角ａは±２１°とされている。In the present embodiment, as an example, the rotary polygon mirror 3
The surface width Fa of the reflecting surface of No. 4 is 4.68 mm as described above, and the width of the light beam emitted from the convex lens 32 in the direction corresponding to the main scanning direction (hereinafter referred to as the incident light beam width) D 0 is 10.3. The incident light flux width D 0 / Fa is 2.2 (10.3 / 4.68) with respect to the surface width of the reflecting surface of the rotary polygon mirror 34, the incident angle β is 45 °, and the scanning half angle a is ± 21 °. There is.
【００３３】次に本実施例の作用を説明する。図２及び
図３に示されるように、半導体レーザ２２は主走査方向
と対応する方向における拡がり角の方が副走査方向と対
応する方向における拡がり角の方が大きい発散光である
レーザビームを照射する。この半導体レーザ２２はコリ
メータレンズ２４の焦点位置よりも内側に配置されてい
るため、半導体レーザ２２から照射されたレーザビーム
はコリメータレンズ２４によって緩く発散する発散光と
なる。次いで、コリメータレンズ２４から射出されたレ
ーザビームは、スリット２６によって副走査方向と対応
する方向の幅が制限される。Next, the operation of this embodiment will be described. As shown in FIGS. 2 and 3, the semiconductor laser 22 irradiates a laser beam which is a divergent light whose divergence angle in the direction corresponding to the main scanning direction is larger than that in the sub-scanning direction. To do. Since the semiconductor laser 22 is arranged inside the focal position of the collimator lens 24, the laser beam emitted from the semiconductor laser 22 becomes divergent light which is loosely diverged by the collimator lens 24. Next, the width of the laser beam emitted from the collimator lens 24 is limited by the slit 26 in the direction corresponding to the sub-scanning direction.
【００３４】スリット２６を通過したレーザビームはシ
リンドリカルレンズ２８を通過し、これによりその副走
査方向と対応する方向に収束される。次いで、シリンド
リカルレンズ２８を通過したレーザビームはシリンドリ
カルレンズ２８の焦点位置よりも内側に配置された凸レ
ンズ３２によって、主走査方向と対応する方向に略平行
とされ、かつ、副走査方向と対応する方向に収束され
る。これにより凸レンズ３２から射出されたレーザビー
ムは回転多面鏡３４の反射面近傍で主走査方向と対応す
る方向に長い線像として結像される。このレーザビーム
の入射光束幅Ｄ0は約１０．３ｍｍとされて回転多面鏡
３４の複数の反射面に入射する。The laser beam that has passed through the slit 26 passes through a cylindrical lens 28 and is thereby focused in a direction corresponding to the sub-scanning direction. Next, the laser beam that has passed through the cylindrical lens 28 is made substantially parallel to the direction corresponding to the main scanning direction by the convex lens 32 arranged inside the focal position of the cylindrical lens 28, and the direction corresponding to the sub scanning direction. Is converged to. As a result, the laser beam emitted from the convex lens 32 is imaged as a long line image in the direction corresponding to the main scanning direction near the reflecting surface of the rotary polygon mirror 34. The incident light flux width D 0 of this laser beam is set to about 10.3 mm and is incident on a plurality of reflecting surfaces of the rotary polygon mirror 34.
【００３５】図４に示されるように、この回転多面鏡３
４は入射角β４５°で入射した入射光束幅Ｄ0 約１０．
３ｍｍのレーザビームを主走査方向に走査半角ａ±２１
°になるように略等角速度で連続的に偏向する。偏向さ
れたレーザビームは、ｆθレンズ３６を通過することに
より、所定のビーム径の略円形の光スポットで略等速度
で感光ドラム４２上を走査される。As shown in FIG. 4, this rotary polygon mirror 3
4 is the incident light flux width D 0 incident at an incident angle β 45 ° of about 10.
Scanning a laser beam of 3 mm in the main scanning direction with a half angle a ± 21
Deflection is continuously performed at a substantially constant angular velocity so that the angle becomes °. The deflected laser beam passes through the fθ lens 36 to scan the photosensitive drum 42 at a substantially constant speed with a substantially circular light spot having a predetermined beam diameter.
【００３６】以上のように、本実施例の第１の光学系で
は、半導体レーザ２２はコリメータレンズ２４の焦点位
置よりも内側に配置されているため、コリメータレンズ
２４から射出されるレーザビームは発散光となる。そし
て、レーザビームの主走査方向と対応する方向の幅は半
導体レーザ２２とコリメータレンズ２４との間隔及びコ
リメータレンズ２４と凸レンズ３２との間隔をそれぞれ
調整することにより所定の幅に調整される。As described above, in the first optical system of this embodiment, since the semiconductor laser 22 is arranged inside the focal position of the collimator lens 24, the laser beam emitted from the collimator lens 24 diverges. Become light. The width of the laser beam in the main scanning direction is adjusted to a predetermined width by adjusting the distance between the semiconductor laser 22 and the collimator lens 24 and the distance between the collimator lens 24 and the convex lens 32.
【００３７】一方、このレーザビームはシリンドリカル
レンズ２８及び凸レンズ３２によって副走査方向と対応
する方向に収束されており、レーザビームの副走査方向
と対応する方向の幅は、このレーザビームの主走査方向
と対応する方向の幅を調整した後に、コリメータレンズ
２４から射出されたレーザビームが回転多面鏡３４の反
射面近傍に収束されるように回転多面鏡３４に対してシ
リンドリカルレンズ２８の位置を調整することによって
調整される。即ち、本実施例では、レーザビームの主走
査方向と対応する方向の幅の調整をするための間隔とこ
のレーザビームの副走査方向と対応する方向の幅の調整
をするための間隔とがシリンドリカルレンズ２８及び凸
レンズ３２との間で重なっている。また、半導体レーザ
２２はコリメータレンズ２４の焦点位置よりも内側に配
置されており、半導体レーザ２２とコリメータレンズ２
４との距離は短縮されている。このため、前述の従来技
術における配置のレンズよりも光路長を短縮することが
できる。また、本実施例に使用されている第１の光学系
は、コリメータレンズ、凸レンズ、シリンドリカルレン
ズの順に配置された光学系と比較すると、光源から回転
多面鏡までの光路長約１／２とすることができる。On the other hand, this laser beam is converged by the cylindrical lens 28 and the convex lens 32 in the direction corresponding to the sub-scanning direction, and the width of the laser beam in the direction corresponding to the sub-scanning direction is the main scanning direction of this laser beam. After adjusting the width in the direction corresponding to, the position of the cylindrical lens 28 is adjusted with respect to the rotary polygon mirror 34 so that the laser beam emitted from the collimator lens 24 is converged in the vicinity of the reflecting surface of the rotary polygon mirror 34. Adjusted by That is, in the present embodiment, the interval for adjusting the width of the laser beam in the main scanning direction and the interval for adjusting the width of the laser beam in the sub-scanning direction are cylindrical. The lens 28 and the convex lens 32 overlap each other. Further, the semiconductor laser 22 is arranged inside the focal position of the collimator lens 24, and the semiconductor laser 22 and the collimator lens 2 are arranged.
The distance from 4 has been shortened. Therefore, the optical path length can be made shorter than that of the lens having the arrangement in the above-mentioned conventional technique. Further, the first optical system used in this embodiment has an optical path length from the light source to the rotary polygon mirror of about 1/2 as compared with an optical system in which a collimator lens, a convex lens, and a cylindrical lens are arranged in this order. be able to.
【００３８】以上より、本実施例は、光路長を短縮する
ことができ、かつ高価な大口径のコリメータレンズを使
用することなく、所望の入射光束幅の光束をつくること
ができる。また、本実施例でもレーザビームの主走査方
向と対応する方向の幅の調整と副走査方向と対応する方
向の幅の調整とを独立して行うことができる。As described above, in the present embodiment, the optical path length can be shortened, and a luminous flux having a desired incident luminous flux width can be formed without using an expensive collimator lens having a large aperture. Also in this embodiment, the adjustment of the width of the laser beam in the direction corresponding to the main scanning direction and the adjustment of the width of the laser beam in the direction corresponding to the sub-scanning direction can be performed independently.
【００３９】図５には、入射角（β）を４５°、走査半
角（±ａ）を２１°、ｆθレンズの焦点距離を２８６．
５ｍｍとしたときの走査開始位置（ＳＯＳ）と走査中央
位置（ＣＯＳ）との光量の比、及び入射光束幅と回転多
面鏡の反射面の面幅との比（Ｄ0 ／Ｆａ）の関係を表す
グラフが示されている。また、図６には、入射角を４５
°、Ｄ0 ／Ｆａを２．２とし、ＥＯＳ側から光束を回転
多面鏡に入射した場合の走査半角とｆ／Ｄの比又は光量
の比との関係をそれぞれ表したグラフが示されている。
本実施例に係る光学走査装置２０では、前述のとおり、
回転多面鏡３４の反射面の面幅に対する回転多面鏡３４
に入射される入射光束幅Ｄ0 ／Ｆａは２．２であり、入
射角βは４５°、走査半角ａは±２１°であるので、こ
れらのグラフから明らかなように、走査開始位置（ＳＯ
Ｓ）、走査中央位置（ＣＯＳ）及び走査終了位置（ＥＯ
Ｓ）に渡って、光量の一様性を約８４％とすることがで
きる。In FIG. 5, the incident angle (β) is 45 °, the scanning half angle (± a) is 21 °, and the focal length of the fθ lens is 286.
The relationship between the ratio of the light amount between the scanning start position (SOS) and the scanning center position (COS) and the ratio between the incident light beam width and the surface width of the reflecting surface of the rotary polygon mirror (D 0 / Fa) is 5 mm. A representative graph is shown. Further, in FIG. 6, the incident angle is 45
And D 0 / Fa is 2.2, graphs showing the relationship between the scanning half-angle and the f / D ratio or the light amount ratio when a light beam is incident on the rotary polygon mirror from the EOS side are shown. .
In the optical scanning device 20 according to this embodiment, as described above,
The rotating polygon mirror 34 with respect to the surface width of the reflecting surface of the rotating polygon mirror 34.
Since the incident light flux width D 0 / Fa incident on is 2.2, the incident angle β is 45 °, and the scanning half angle a is ± 21 °, it is clear from these graphs that the scanning start position (SO
S), scanning center position (COS) and scanning end position (EO)
The uniformity of the amount of light can be about 84% over S).
【００４０】図７には、ハーフトーンの密度の指標であ
る入力信号の有効範囲（Ｃｏｖｅｒａｇｅ Ｉｎｐｕｔ
Ｓｉｇｎａｌ）と出力濃度と光量の比との関係を表し
たグラフが示されている。入力信号の有効範囲が３０％
を越えた場合でも、本実施例では光量の比を８０％以上
にすることができるので、アンダーフィルドタイプの光
学走査装置で達成される光量の比が１００％のときと比
べて出力濃度の差を０．１未満とすることができる。入
力信号の有効範囲が３０〜５０％である場合にこの出力
濃度の差が０．１以上あると一般に濃度差が視覚上明瞭
に判別されるが、本実施例では濃度差が視覚上明瞭に判
別されることを回避することができる。FIG. 7 shows the effective range (Coverage Input) of the input signal, which is an index of halftone density.
(Signal) and the relationship between the output density and the ratio of the amount of light are shown in the graph. Input signal effective range is 30%
In this embodiment, the light quantity ratio can be 80% or more even when the light quantity ratio exceeds 100%. Therefore, the difference in the output density is 100% as compared with the case where the light quantity ratio achieved by the underfill type optical scanning device is 100%. Can be less than 0.1. When the effective range of the input signal is 30 to 50%, if the difference in the output densities is 0.1 or more, the density difference is generally visually distinct, but in the present embodiment, the density difference is visually distinct. It is possible to avoid being discriminated.
【００４１】以上より、本実施例は、回転多面鏡の単位
回転速度を上げることなく、かつ回転多面鏡を大径化す
ることなく、しかも光量の一様性の悪化を低減でき、ひ
いては出力濃度の差を視覚上明瞭に判別できない程度に
抑えることができ、高速化及び高解像度化を図ることの
できる光学走査装置を提供することができる。As described above, the present embodiment can reduce the deterioration of the uniformity of the light quantity without increasing the unit rotational speed of the rotary polygon mirror and without enlarging the diameter of the rotary polygon mirror. It is possible to provide an optical scanning device capable of suppressing the difference between the above values to such an extent that they cannot be clearly discriminated visually and achieving high speed and high resolution.
【００４２】また、図８には光学系全体の透過効率とＤ
0 ／Ｆａとの関係を表したグラフが示されており、図９
には光源の出力が３．５ｍＷであるときの感光体上で保
証できるエネルギーと透過効率との関係を表したグラフ
が示されている。図８に示されるように、Ｄ0 ／Ｆａが
２．２の場合の光学系全体の透過率は６．８％であり、
実行の使用可能範囲が３．５ｍＷである５ｍＷの半導体
レーザを光源として使用した場合、図９に示されるよう
に、透過率が６．８％だと感光体上に供給できるエネル
ギーは１１．６ｎＪ／ｍｍ2 となる。粉塵等による汚れ
による光学系全体の透過率の低下を６０％、低温時にお
ける感光体の感度の低下を５０％とした場合、印字を可
能とする最低限のエネルギー２ｎＪ／ｍｍ2 を保証する
には、感光体上に供給されるエネルギーは６．７ｎＪ／
ｍｍ2 以上であることが必要であり、前述の１１．６ｎ
Ｊ／ｍｍ2 ならば、粉塵等による汚れによる光学系全体
の透過率の低下、低温時の感光体の感度の低下等が起こ
った場合でも、印字は可能となる。このため、本実施例
では、光源として安価な５ｍＷクラスの半導体レーザを
使用することができる。Further, FIG. 8 shows the transmission efficiency and D of the entire optical system.
A graph showing the relationship with 0 / Fa is shown in FIG.
Shows a graph showing the relationship between the energy that can be guaranteed on the photoconductor and the transmission efficiency when the output of the light source is 3.5 mW. As shown in FIG. 8, the transmittance of the entire optical system when D 0 / Fa is 2.2 is 6.8%,
When a semiconductor laser of 5 mW whose usable range for execution is 3.5 mW is used as a light source, as shown in FIG. 9, when the transmittance is 6.8%, the energy that can be supplied onto the photoconductor is 11.6 nJ. / Mm 2 . Assuming that the reduction in the transmittance of the entire optical system due to dirt such as dust is 60% and the reduction in the sensitivity of the photoconductor at low temperatures is 50%, a minimum energy of 2 nJ / mm 2 that enables printing is guaranteed. Energy supplied to the photoconductor is 6.7 nJ /
mm 2 or more, which is 11.6n as described above.
If it is J / mm 2 , printing is possible even if the transmittance of the optical system as a whole is lowered due to dirt due to dust or the like, or the sensitivity of the photoconductor is lowered at low temperatures. Therefore, in this embodiment, an inexpensive semiconductor laser of 5 mW class can be used as the light source.
【００４３】上記実施例において、光源である半導体レ
ーザ２２とコリメータレンズ２４との間隔は、結像性能
に悪影響を及ぼすことがないような間隔であると共に、
コリメータレンズ２４からあまり長い間隔を必要とする
ことなく主走査方向と対応する方向の幅が広いレーザビ
ームを得ることのできる間隔とされ、具体的には実験で
求められる。また、コリメータレンズ２４と凸レンズ３
２との間隔、シリンドリカルレンズ２８と回転多面鏡３
４との間隔も実験で求められる。In the above embodiment, the distance between the semiconductor laser 22 which is the light source and the collimator lens 24 is such that the image forming performance is not adversely affected.
The distance is set so that a laser beam having a wide width in the direction corresponding to the main scanning direction can be obtained from the collimator lens 24 without requiring a very long distance, and is specifically determined by an experiment. In addition, the collimator lens 24 and the convex lens 3
2, the cylindrical lens 28 and the rotary polygon mirror 3
The distance from 4 can also be obtained by experiment.
【００４４】また、上記の実施例において、コリメータ
レンズ、シリンドリカルレンズ、凸レンズ、及びｆθレ
ンズは、ガラス、プラスチック又はその他の適切な材料
から構成することができる。Further, in the above embodiment, the collimator lens, the cylindrical lens, the convex lens and the fθ lens can be made of glass, plastic or other suitable material.
【００４５】さらに、上記の実施例では、主走査方向と
対応する方向及び副走査方向と対応する方向の双方にレ
ンズパワーを有する凸レンズ３２を使用したが、主走査
方向と対応する方向にのみレンズパワーを有するシリン
ドリカルレンズをこの凸レンズ３２の代わりに使用して
もよい。Further, in the above embodiment, the convex lens 32 having the lens power in both the direction corresponding to the main scanning direction and the direction corresponding to the sub scanning direction is used, but the lens is provided only in the direction corresponding to the main scanning direction. A cylindrical lens having power may be used instead of the convex lens 32.
【００４６】また、上記実施例では、回転多面鏡に入射
する光束が主走査方向と対応する方向について平行であ
る場合を例にとって説明しているが、回転多面鏡に入射
する光束は同方向について発散光であってもよい。In the above embodiment, the case where the light beam incident on the rotary polygon mirror is parallel to the direction corresponding to the main scanning direction has been described as an example, but the light beam incident on the rotary polygon mirror is in the same direction. It may be divergent light.
【００４７】なお、一例として、図１０には、入射角を
０°、Ｄ0 ／Ｆａを２．２とし、ＥＯＳ側から光束を回
転多面鏡に入射した場合の走査半角とｆ／Ｄの比又は光
量の比との関係をそれぞれ表したグラフが示されてお
り、入射角が０°のときは、走査半角が大きくても光量
の比を８０％以上にすることができることがわかる。図
６及び図１０に示されるように、入射角βと走査角とは
関連しており、入射角βが大きくなるに従って、走査角
は小さくなる傾向にある。具体的には、入射角が０°の
ときは走査角を６０°以下、入射角が４５°のときは走
査角を５０°以下とすることができ、入射角が９０°付
近では走査角は３０°以下となる。なお、入射角を０°
にするには、図１１（Ａ）又は（Ｂ）に示されるような
方法で、シリンドリカルレンズ２８の光軸を偏向ビーム
の両最外縁部を含む面に投影した投影線と偏向ビームの
両最外縁部が成す角度を２等分する線とを重ねる必要が
ある。また、入射角を０°にした場合、走査線の湾曲等
の他の性能の悪化を低減させる必要がある。As an example, in FIG. 10, the incident angle is 0 °, D 0 / Fa is 2.2, and the ratio of the scanning half-angle and f / D when the light beam enters the rotary polygon mirror from the EOS side. Alternatively, graphs showing respective relationships with the light amount ratio are shown, and it is understood that when the incident angle is 0 °, the light amount ratio can be 80% or more even if the scanning half angle is large. As shown in FIGS. 6 and 10, the incident angle β is related to the scanning angle, and the scanning angle tends to decrease as the incident angle β increases. Specifically, the scanning angle can be set to 60 ° or less when the incident angle is 0 °, and the scanning angle can be set to 50 ° or less when the incident angle is 45 °. It becomes 30 ° or less. The incident angle is 0 °
11A or 11B, the optical axis of the cylindrical lens 28 is projected onto a plane including both outermost edges of the deflected beam, and both the deflected beam and the projected line are projected. It is necessary to overlap with a line that divides the angle formed by the outer edge into two equal parts. Further, when the incident angle is set to 0 °, it is necessary to reduce the deterioration of other performance such as the curvature of the scanning line.
【００４８】[0048]
【発明の効果】請求項１記載の発明は、反射面の回転方
向のサイズに対する第１の光学系から射出された光束の
主走査方向と対応する方向のサイズの比が１．５以上
４．０以下、偏向光束の両最外縁部が成す角度が３０°
以上６０°以下、かつ第１の光学系の光軸を偏向光束の
両最外縁部を含む面に投影したときの投影線と偏向光束
の両最外縁部が成す角度を２等分する線とが成す角度が
９０°未満としているので、オーバーフィルドタイプの
光学走査装置において、回転多面鏡の大径化を回避で
き、かつ感光体上における光量の一様性の悪化を低減す
ることができる。According to the invention described in claim 1, the ratio of the size of the light beam emitted from the first optical system in the direction corresponding to the main scanning direction to the size of the reflecting surface in the rotation direction is 1.5 or more. 0 or less, the angle formed by both outermost edges of the deflected light flux is 30 °
A line that bisects the angle formed by the projection line when the optical axis of the first optical system is projected to a surface including both outermost edge portions of the deflected light flux and not more than 60 ° and the outermost edge portions of the deflected light flux. Since the angle formed by is less than 90 °, it is possible to avoid an increase in the diameter of the rotary polygon mirror in the overfilled type optical scanning device, and it is possible to reduce the deterioration of the uniformity of the light amount on the photoconductor.
【００４９】請求項２記載の発明は、光源をコリメータ
レンズの焦点位置よりも内側に配置しているので、コリ
メータレンズから射出される光束は発散光となり、この
発散光の主走査方向と対応する方向の幅は主走査方向調
節レンズにより調整される。即ち、光源からの光束は、
光源とコリメータレンズとの間隔及びコリメータレンズ
と主走査方向調節レンズとの間隔で調整される。また、
コリメータレンズから射出された光束の副走査方向と対
応する方向の幅は、副走査方向調節レンズと回転多面鏡
との間隔で調整される。即ち、主走査方向と対応する方
向の幅を調整するのに必要な間隔と、副走査方向と対応
する方向の幅を調整するのに必要な間隔とは副走査方向
調節レンズと主走査方向調節レンズとの間で重なってい
る。また、光源は前述のとおりコリメータレンズの焦点
位置よりも内側に配置されており、光源とコリメータレ
ンズとの距離は短縮されている。このため、回転多面鏡
の反射面の面幅よりも広い入射光束幅を有する光束を得
るための光源から回転多面鏡までの光路長を短縮するこ
とができる。According to the second aspect of the invention, since the light source is arranged inside the focal position of the collimator lens, the light flux emitted from the collimator lens becomes divergent light, which corresponds to the main scanning direction of this divergent light. The width in the direction is adjusted by the main scanning direction adjustment lens. That is, the luminous flux from the light source is
The distance between the light source and the collimator lens and the distance between the collimator lens and the main scanning direction adjustment lens are adjusted. Also,
The width of the light beam emitted from the collimator lens in the direction corresponding to the sub-scanning direction is adjusted by the distance between the sub-scanning direction adjustment lens and the rotary polygon mirror. That is, the interval required to adjust the width in the direction corresponding to the main scanning direction and the interval required to adjust the width in the direction corresponding to the sub scanning direction are the sub scanning direction adjustment lens and the main scanning direction adjustment. It overlaps with the lens. Further, the light source is arranged inside the focal position of the collimator lens as described above, and the distance between the light source and the collimator lens is shortened. Therefore, the optical path length from the light source to the rotating polygon mirror for obtaining a light beam having an incident light beam width wider than the surface width of the reflecting surface of the rotating polygon mirror can be shortened.
【図１】本発明の実施例に係る光学走査装置を備えた画
像記録装置の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an image recording apparatus including an optical scanning device according to an exemplary embodiment of the present invention.
【図２】図１の光学走査装置における第１の光学系を示
す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a first optical system in the optical scanning device of FIG.
【図３】図２の側面図である。FIG. 3 is a side view of FIG.
【図４】本発明で使用される角度の関係を表す説明図で
ある。FIG. 4 is an explanatory diagram showing a relationship of angles used in the present invention.
【図５】回転多面鏡の面幅に対する入射光束幅（Ｄ0 ／
Ｆａ）及び走査開始位置と走査中央位置との光量の比の
関係を示すグラフである。FIG. 5 shows the incident light flux width (D 0 /
8 is a graph showing the relationship between Fa) and the light amount ratio between the scanning start position and the scanning center position.
【図６】入射角βを４５°、Ｄ0 ／Ｆａを２．２とし、
走査中央位置の値を１とした場合の走査半角とｆ／Ｄの
比又は光量の比を示すグラフである。FIG. 6 shows an incident angle β of 45 ° and D 0 / Fa of 2.2,
6 is a graph showing the ratio of scanning half-angle to f / D or the ratio of light amount when the value of the scanning center position is 1.
【図７】入力信号の有効範囲、出力濃度及び走査開始位
置と走査中央位置との光量の比の関係を示すグラフであ
る。FIG. 7 is a graph showing the relationship between the effective range of the input signal, the output density, and the ratio of the light amount between the scanning start position and the scanning center position.
【図８】回転多面鏡の面幅に対する入射光束幅（Ｄ0 ／
Ｆａ）と透過効率との関係を示すグラフである。FIG. 8 shows an incident light flux width (D 0 /
It is a graph which shows the relationship between Fa) and transmission efficiency.
【図９】感光体上で保証できるエネルギーと透過効率と
の関係を示すグラフである。FIG. 9 is a graph showing the relationship between the energy that can be guaranteed on the photoconductor and the transmission efficiency.
【図１０】入射角βを０°、Ｄ0 ／Ｆａを２．２とし、
走査中央位置の値を１とした場合の走査半角とｆ／Ｄの
比又は光量の比を示すグラフである。FIG. 10 shows an incident angle β of 0 ° and D 0 / Fa of 2.2,
6 is a graph showing the ratio of scanning half-angle to f / D or the ratio of light amount when the value of the scanning center position is 1.
【図１１】（Ａ）乃至（Ｂ）は入射角βが０となる場合
の一例を示す側面図である。11A to 11B are side views showing an example when the incident angle β is 0. FIG.
【図１２】焦点距離と走査半角ａとの関係を示すグラフ
である。FIG. 12 is a graph showing the relationship between the focal length and the scanning half angle a.
【図１３】従来技術のオーバーフィルドタイプの光学走
査装置の概略構成図である。FIG. 13 is a schematic configuration diagram of a conventional overfilled type optical scanning device.
【図１４】オーバーフィルドタイプの光学走査装置にお
いて、走査開始位置から走査中央位置を介して走査終了
位置までの間で回転多面鏡により偏向されたレーザビー
ムの主走査方向と対応する方向における幅が異なること
を示す図である。FIG. 14 is a view showing a width of a laser beam deflected by a rotary polygon mirror in a direction corresponding to a main scanning direction from a scanning start position to a scanning end position through a scanning center position in an overfilled type optical scanning device. It is a figure which shows what is different.
２０ 光学走査装置 ２２ 半導体レーザ（光源） ２４ コリメータレンズ ２８ シリンドリカルレンズ（副走査方向調節レン
ズ） ３２ 凸レンズ（主走査方向調節レンズ） ３４ 回転多面鏡 ３６ ｆθレンズ（第２の光学系）20 Optical Scanning Device 22 Semiconductor Laser (Light Source) 24 Collimator Lens 28 Cylindrical Lens (Sub-scanning Direction Adjustment Lens) 32 Convex Lens (Main Scanning Direction Adjustment Lens) 34 Rotating Polyhedral Mirror 36 fθ Lens (Second Optical System)
Claims (2)
有し、かつ入射した光束を前記反射面により主走査方向
に略等角速度で偏向させる回転多面鏡と、前記回転多面
鏡の複数の反射面にまたがるように前記光源から射出さ
れた光束を主走査方向と対応する方向に長い線像として
結像させる第１の光学系と、偏向された偏向光束を光ス
ポットが略等速度で走査されるように被走査面上に収束
させる第２の光学系と、を備えた光学走査装置におい
て、 前記反射面の回転方向のサイズに対する前記第１の光学
系から射出された光束の主走査方向と対応する方向のサ
イズの比が１．５以上４．０以下、前記偏向光束の両最
外縁部が成す角度が３０°以上６０°以下、かつ前記第
１の光学系の光軸を前記偏向光束の両最外縁部を含む面
に投影したときの投影線と前記偏向光束の両最外縁部が
成す角度を２等分する線とが成す角度が９０°未満であ
ることを特徴とする光学走査装置。1. A light source, a rotary polygonal mirror which has a plurality of reflecting surfaces parallel to a rotation axis, and which deflects an incident light beam by the reflecting surfaces in a main scanning direction at a substantially constant angular velocity, and a rotary polygonal mirror. A first optical system for forming a light beam emitted from the light source as a long line image in a direction corresponding to the main scanning direction so as to straddle a plurality of reflection surfaces, and a deflected deflected light beam having a light spot having a substantially constant velocity. And a second optical system that converges on a surface to be scanned so that the main light flux emitted from the first optical system with respect to the size of the reflecting surface in the rotation direction is measured. The size ratio in the direction corresponding to the scanning direction is 1.5 or more and 4.0 or less, the angle formed by both outermost edges of the deflected light flux is 30 ° or more and 60 ° or less, and the optical axis of the first optical system is When projected onto a surface including both outermost edges of the deflected light flux Optical scanning device shadow lines and the angle between the line that bisects the two angles the outermost edge forms of the deflected light beam is equal to or less than 90 °.
向に配置されたコリメータレンズと、前記コリメータレ
ンズの射出側に配置され、かつ前記コリメータレンズか
ら射出された光束の副走査方向と対応する方向にレンズ
パワーを有し前記コリメータレンズから射出された光束
を副走査方向と対応する方向に収束させる副走査方向調
節レンズと、前記副走査方向調節レンズの射出側に配置
され、かつ前記副走査方向調節レンズから射出された光
束の主走査方向と対応する方向にレンズパワーを有し前
記副走査方向調節レンズから射出された光束を主走査方
向と対応する方向に略平行とする主走査方向調節レンズ
と、を備え、前記光源は前記コリメータレンズの焦点位
置よりも内側に配置された請求項１の光学走査装置。2. The first optical system includes a collimator lens arranged in the emission direction of the light source, and a sub-scanning direction of a light beam arranged on the emission side of the collimator lens and emitted from the collimator lens. A sub-scanning direction adjusting lens which has a lens power in a corresponding direction and converges a light beam emitted from the collimator lens in a direction corresponding to the sub-scanning direction; Main scanning in which the light beam emitted from the sub-scanning direction adjusting lens has a lens power in a direction corresponding to the main scanning direction and the light beam emitted from the sub-scanning direction adjusting lens is substantially parallel to the direction corresponding to the main scanning direction. 2. The optical scanning device according to claim 1, further comprising a direction adjusting lens, wherein the light source is disposed inside a focal position of the collimator lens.
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP31508994A JP3348551B2 (en) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | Optical scanning device |
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| US08/740,128 US5774251A (en) | 1994-12-19 | 1996-10-24 | Optical scanning apparatus |
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|---|---|---|---|
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| JPH08171069A true JPH08171069A (en) | 1996-07-02 |
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ID=18061280
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3348551B2 (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000180750A (en) * | 1998-12-18 | 2000-06-30 | Fuji Xerox Co Ltd | Optical scanner |
| EP0987575A3 (en) * | 1998-09-18 | 2001-03-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical device |
| JP2001215421A (en) * | 2000-02-01 | 2001-08-10 | Canon Inc | Optical scanning optical system, optical scanning device, and image forming apparatus using the same |
| US6888655B2 (en) | 2003-07-03 | 2005-05-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Optical beam scanning device |
| US6999218B2 (en) | 2002-09-19 | 2006-02-14 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Light scanning apparatus and image forming apparatus |
-
1994
- 1994-12-19 JP JP31508994A patent/JP3348551B2/en not_active Expired - Fee Related
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| EP0987575A3 (en) * | 1998-09-18 | 2001-03-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical device |
| US6512623B1 (en) | 1998-09-18 | 2003-01-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical device |
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| Publication number | Publication date |
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| JP3348551B2 (en) | 2002-11-20 |
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