JPH08171713A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH08171713A JPH08171713A JP31503394A JP31503394A JPH08171713A JP H08171713 A JPH08171713 A JP H08171713A JP 31503394 A JP31503394 A JP 31503394A JP 31503394 A JP31503394 A JP 31503394A JP H08171713 A JPH08171713 A JP H08171713A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 非磁性基体の小径・薄型化を達成できる基体
材料を選定することにより、強度及び加工性に優れ、外
径95mm以下で板厚0.15mm〜0.7mm の非磁性基体を実現し
た磁気記録媒体を提供する。 【構成】 磁気記録媒体は、ＰＳＺ（部分安定化ジルコ
ニア）の非磁性基板１０を非磁性基体とし、この上に非
磁性金属下地層３、硬磁性層４、保護層６が順次積層さ
れている。ＰＳＺ非磁性基板１０は、純度99.9％のＺｒ
Ｏ2 粉末とＹ2 Ｏ3 粉末を準備し、これらから３mol ％
のＹ2 Ｏ3 を含有する混合物を作り、加圧成形して焼結
し、厚さ0.3mm の外径約48mm, 内径約20mmの円盤状板材
を得た後、平均粒径２μm のダイヤモンド砥石を用いて
端面加工を行い、板厚0.15mmまでダイヤモンド砥粒及び
酸化セリウムなどの遊離砥粒によって精密表面研磨を行
って得られる。ＰＳＺ基板は靱性，破壊強度等の点で酸
化アルミニウム含有ガラスやＡｌ合金に比して優れてい
る。
材料を選定することにより、強度及び加工性に優れ、外
径95mm以下で板厚0.15mm〜0.7mm の非磁性基体を実現し
た磁気記録媒体を提供する。 【構成】 磁気記録媒体は、ＰＳＺ（部分安定化ジルコ
ニア）の非磁性基板１０を非磁性基体とし、この上に非
磁性金属下地層３、硬磁性層４、保護層６が順次積層さ
れている。ＰＳＺ非磁性基板１０は、純度99.9％のＺｒ
Ｏ2 粉末とＹ2 Ｏ3 粉末を準備し、これらから３mol ％
のＹ2 Ｏ3 を含有する混合物を作り、加圧成形して焼結
し、厚さ0.3mm の外径約48mm, 内径約20mmの円盤状板材
を得た後、平均粒径２μm のダイヤモンド砥石を用いて
端面加工を行い、板厚0.15mmまでダイヤモンド砥粒及び
酸化セリウムなどの遊離砥粒によって精密表面研磨を行
って得られる。ＰＳＺ基板は靱性，破壊強度等の点で酸
化アルミニウム含有ガラスやＡｌ合金に比して優れてい
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、固定磁気ディスク装置
等の磁気記録媒体に関し、特に、その非磁性基体に関す
る。
等の磁気記録媒体に関し、特に、その非磁性基体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般的な金属薄膜磁気記録ディスク（媒
体）の断面構造は、図４に示すように、非磁性基板１上
に非磁性層２が形成された基体１１の上に、非磁性金属
下地層３、硬磁性層４（例えばＣｏＣｒＴａ又はＣｏＣ
ｒＰｔＴａ等）、Ｃ（カーボン）を主とする保護層６が
順次積層されており、更にその上に、液体潤滑剤からな
る潤滑層７が形成されているものである。
体）の断面構造は、図４に示すように、非磁性基板１上
に非磁性層２が形成された基体１１の上に、非磁性金属
下地層３、硬磁性層４（例えばＣｏＣｒＴａ又はＣｏＣ
ｒＰｔＴａ等）、Ｃ（カーボン）を主とする保護層６が
順次積層されており、更にその上に、液体潤滑剤からな
る潤滑層７が形成されているものである。
【０００３】このような磁気記録媒体においては、例え
ばＡｌ−Ｍｇ合金ディスクの非磁性基板１の表面に、膜
厚12μm 程度のＮｉ−Ｐメッキの非磁性層２を形成して
非磁性基体１１としている。Ａｌ−Ｍｇ合金は比較的軽
量であって回転モータの負荷が少なくなることや、加工
精度に優れていることで利点を有しており、またＮｉ−
Ｐメッキを施してポリッシングを行うことで、記録・再
生のエラーとなり得る基体表面の欠陥が無なり、さらに
媒体表面の平面度を向上させている。
ばＡｌ−Ｍｇ合金ディスクの非磁性基板１の表面に、膜
厚12μm 程度のＮｉ−Ｐメッキの非磁性層２を形成して
非磁性基体１１としている。Ａｌ−Ｍｇ合金は比較的軽
量であって回転モータの負荷が少なくなることや、加工
精度に優れていることで利点を有しており、またＮｉ−
Ｐメッキを施してポリッシングを行うことで、記録・再
生のエラーとなり得る基体表面の欠陥が無なり、さらに
媒体表面の平面度を向上させている。
【０００４】ところで、従来の磁気記録媒体において
は、上記のＮｉ−Ｐメッキの非磁性層２を施した非磁性
基体１１に対し主に円周方向へ向かう細かな溝を付与す
るために、研磨テープ又は遊離砥粒を用いたテクスチャ
リング処理を行っている。このようなテクスチャー溝が
形成されているので、磁気ヘッドの磁気記録媒体への離
着陸動作の繰り返し（ＣＳＳ動作）に伴うヘッド−媒体
間の摩擦係数が低下し、且つディスク円周方向に測定し
た場合の磁気特性、殊に保磁力Ｈｃ，角形比Ｓ，保磁力
角形比Ｓ* が著しく向上している。この円周方向の磁気
特性の向上は、磁気再生特性を著しく向上させるという
点で非常に重要である。
は、上記のＮｉ−Ｐメッキの非磁性層２を施した非磁性
基体１１に対し主に円周方向へ向かう細かな溝を付与す
るために、研磨テープ又は遊離砥粒を用いたテクスチャ
リング処理を行っている。このようなテクスチャー溝が
形成されているので、磁気ヘッドの磁気記録媒体への離
着陸動作の繰り返し（ＣＳＳ動作）に伴うヘッド−媒体
間の摩擦係数が低下し、且つディスク円周方向に測定し
た場合の磁気特性、殊に保磁力Ｈｃ，角形比Ｓ，保磁力
角形比Ｓ* が著しく向上している。この円周方向の磁気
特性の向上は、磁気再生特性を著しく向上させるという
点で非常に重要である。
【０００５】一方、磁気記録媒体は、近年高記録密度化
と共に小型・軽量化が進展しており、記録媒体のサイズ
も外径65mm，厚さ0.381mm のものや、外径48mm，厚さ0.
381mm のものが実用化段階に入り、ますます小型・薄型
化へと進展しているものの、他方、可搬型の固定磁気デ
ィスク装置としてＩＣメモリカードなどに対抗するには
外径65mm，厚さ0.381mm や外径48mm，厚さ0.381mm のサ
イズではまだ大きすぎ、特に、板厚を0.15mm〜0.3mm の
薄形にすることが要請されている。このような小径，薄
型を満足させるために、Ａｌ合金に代えて、強化ガラス
やガラスセラミックス，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｃ等が固定磁気デ
ィスクの非磁性基体として検討されている。
と共に小型・軽量化が進展しており、記録媒体のサイズ
も外径65mm，厚さ0.381mm のものや、外径48mm，厚さ0.
381mm のものが実用化段階に入り、ますます小型・薄型
化へと進展しているものの、他方、可搬型の固定磁気デ
ィスク装置としてＩＣメモリカードなどに対抗するには
外径65mm，厚さ0.381mm や外径48mm，厚さ0.381mm のサ
イズではまだ大きすぎ、特に、板厚を0.15mm〜0.3mm の
薄形にすることが要請されている。このような小径，薄
型を満足させるために、Ａｌ合金に代えて、強化ガラス
やガラスセラミックス，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｃ等が固定磁気デ
ィスクの非磁性基体として検討されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、強化ガ
ラスやガラスセラミックス，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｃ等の基体材
質でも、外径65mm, 厚さ0.381 mmや外径48mm, 厚さ0.38
1 mmが限界であり、それより薄い場合は、強度が充分で
はなく、また、加工が困難であり、固定磁気ディスクの
基体としての要求に応えることができない。強化ガラ
ス，ガラスセラミックス，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｃ等のＡｌ基体
の代替基体を外径95mm以下板厚0.15mm〜0.7mmに加工
し、媒体として使用するには、加工性, 剛性, 機械的強
度の点から困難であった。
ラスやガラスセラミックス，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｃ等の基体材
質でも、外径65mm, 厚さ0.381 mmや外径48mm, 厚さ0.38
1 mmが限界であり、それより薄い場合は、強度が充分で
はなく、また、加工が困難であり、固定磁気ディスクの
基体としての要求に応えることができない。強化ガラ
ス，ガラスセラミックス，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｃ等のＡｌ基体
の代替基体を外径95mm以下板厚0.15mm〜0.7mmに加工
し、媒体として使用するには、加工性, 剛性, 機械的強
度の点から困難であった。
【０００７】そこで上記問題点に鑑み、本発明の課題
は、非磁性基体の小径・薄型化を達成できる基体材料を
選定することにより、強度及び加工性に優れ、外径95mm
以下で板厚0.15mm〜0.7mm の非磁性基体を実現した磁気
記録媒体を提供することにある。
は、非磁性基体の小径・薄型化を達成できる基体材料を
選定することにより、強度及び加工性に優れ、外径95mm
以下で板厚0.15mm〜0.7mm の非磁性基体を実現した磁気
記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、非磁性基体上に、非磁性金属下地層，磁
性層及び保護層を順次積層してなる磁気記録媒体におい
て、上記非磁性基体としては、Ｙ2 Ｏ3 を１〜20mol ％
含有するＺｒＯ2 から成ることを特徴とする。
に、本発明は、非磁性基体上に、非磁性金属下地層，磁
性層及び保護層を順次積層してなる磁気記録媒体におい
て、上記非磁性基体としては、Ｙ2 Ｏ3 を１〜20mol ％
含有するＺｒＯ2 から成ることを特徴とする。
【０００９】特に、Ｙ2 Ｏ3 の含有率が１mol ％〜３mo
l ％であることが望ましい。このような基体材料を用い
ることにより、非磁性基体を外径95mm以下の円板とし、
その板厚を0.15〜0.7mm とすることができる。
l ％であることが望ましい。このような基体材料を用い
ることにより、非磁性基体を外径95mm以下の円板とし、
その板厚を0.15〜0.7mm とすることができる。
【００１０】
【作用】イットリアＹ2 Ｏ3 １〜20mol ％を含むジルコ
ニアＺｒＯ2 材（ＰＳＺ：部分安定化ジルコニアと略
す）は、破壊に際して正方晶粒子が安定層である単斜晶
に相転移し、破壊エネルギーを吸収するための靱性が大
きく、加工及び衝撃に際してクラックの伸展を抑える構
造となっている。このため、小型・薄型化の加工性に優
れており、また、強度，平滑性や耐衝撃性に優れた媒体
とすることが可能である。特に、Ｙ2 Ｏ3 の含有率が１
mol ％〜３mol ％であれば、耐衝撃性が著しく高くな
る。
ニアＺｒＯ2 材（ＰＳＺ：部分安定化ジルコニアと略
す）は、破壊に際して正方晶粒子が安定層である単斜晶
に相転移し、破壊エネルギーを吸収するための靱性が大
きく、加工及び衝撃に際してクラックの伸展を抑える構
造となっている。このため、小型・薄型化の加工性に優
れており、また、強度，平滑性や耐衝撃性に優れた媒体
とすることが可能である。特に、Ｙ2 Ｏ3 の含有率が１
mol ％〜３mol ％であれば、耐衝撃性が著しく高くな
る。
【００１１】
【実施例】次に添付図面を参照して本発明の実施例を説
明する。
明する。
【００１２】本例の磁気記録媒体の断面構造は、図１に
示すように、ＰＳＺ（部分安定化ジルコニア）の非磁性
基板１０を基体とし、この上に、非磁性金属下地層３、
硬磁性層４（例えばＣｏＣｒＴａ又はＣｏＣｒＰｔＴａ
等）、Ｃ（カーボン）を主とする保護層６が順次積層さ
れており、更にその上に、液体潤滑剤からなる潤滑層７
が形成されているものである。
示すように、ＰＳＺ（部分安定化ジルコニア）の非磁性
基板１０を基体とし、この上に、非磁性金属下地層３、
硬磁性層４（例えばＣｏＣｒＴａ又はＣｏＣｒＰｔＴａ
等）、Ｃ（カーボン）を主とする保護層６が順次積層さ
れており、更にその上に、液体潤滑剤からなる潤滑層７
が形成されているものである。
【００１３】このＰＳＺ（部分安定化ジルコニア）の非
磁性基板１０は次のようにして作製される。まず、純度
99.9％のＺｒＯ2 （ジルコニア）粉末とＹ2 Ｏ3 （イッ
トリア）粉末を準備する。これらから３mol ％のＹ2 Ｏ
3 を含有する混合物を作り、加圧成形して焼結し、厚さ
0.3mm の外径約48mm, 内径約20mmの円盤状板材を得る。
更に、平均粒径２μm のダイヤモンド砥石を用いて端面
加工を行い、板厚0.15mmまでダイヤモンド砥粒及び酸化
セリウムなどの遊離砥粒によって精密表面研磨を行い、
Ｙ2 Ｏ3 含有のＺｒＯ2 の基体を得る。このＰＳＺ基体
の特性値を表１に、加工性については表２に比較例と共
に掲げる。
磁性基板１０は次のようにして作製される。まず、純度
99.9％のＺｒＯ2 （ジルコニア）粉末とＹ2 Ｏ3 （イッ
トリア）粉末を準備する。これらから３mol ％のＹ2 Ｏ
3 を含有する混合物を作り、加圧成形して焼結し、厚さ
0.3mm の外径約48mm, 内径約20mmの円盤状板材を得る。
更に、平均粒径２μm のダイヤモンド砥石を用いて端面
加工を行い、板厚0.15mmまでダイヤモンド砥粒及び酸化
セリウムなどの遊離砥粒によって精密表面研磨を行い、
Ｙ2 Ｏ3 含有のＺｒＯ2 の基体を得る。このＰＳＺ基体
の特性値を表１に、加工性については表２に比較例と共
に掲げる。
【００１４】
【表１】
【００１５】
【表２】
【００１６】（比較例１）基体は酸化アルミニウム含有
のガラス：研磨中、板厚0.3mm 以下では加工応力による
割れや欠けが頻発し、極薄の基体は得られなかった。
のガラス：研磨中、板厚0.3mm 以下では加工応力による
割れや欠けが頻発し、極薄の基体は得られなかった。
【００１７】（比較例２）従来のＡｌ基体（５０８６系
Ａｌ合金の片面にＮｉ−Ｐメッキ膜（リン濃度；10wt
％）を10μm 施した基体）：板厚0.3 mm以下では平面度
20μm を超え、形状の測定も困難であり、限界板厚は0.
35mmである。
Ａｌ合金の片面にＮｉ−Ｐメッキ膜（リン濃度；10wt
％）を10μm 施した基体）：板厚0.3 mm以下では平面度
20μm を超え、形状の測定も困難であり、限界板厚は0.
35mmである。
【００１８】表１，表２から明らかなように、ＰＳＺは
靱性，破壊強度等の点で酸化アルミニウム含有ガラスや
Ａｌ合金に比して優れている。ＰＳＺの比重ρは酸化ア
ルミニウム含有ガラスやＡｌ合金に比べて高いものの、
薄板化が可能であるので、結果的に軽量化も満足する。
靱性，破壊強度等の点で酸化アルミニウム含有ガラスや
Ａｌ合金に比して優れている。ＰＳＺの比重ρは酸化ア
ルミニウム含有ガラスやＡｌ合金に比べて高いものの、
薄板化が可能であるので、結果的に軽量化も満足する。
【００１９】図２はＰＳＺのビッカース硬さＨｖのＹ2
Ｏ3 含有率（mol ％）依存性を示すグラフである。Ｙ2
Ｏ3 含有率が３mol ％になるまでは急激にビッカース硬
さＨｖが増大し、３mol ％以上になると緩やかにＨｖが
減少する。酸化アルミニウム含有のガラスやＡｌ基体は
Ｈｖ１０００以下であるから、Ｙ2 Ｏ3 含有率が約１mo
l ％〜20mol ％であれば、充分な硬度（Ｈｖ１０００以
上）が得られる。Ｙ2Ｏ3 含有率が約0.5 ％でもある程
度の硬度が確保できる。なお、20mol ％ 以上でもある
程度の硬度が得られるものの、Ｙ2 Ｏ3 の分布が不均一
化し易く、製作性が悪い。
Ｏ3 含有率（mol ％）依存性を示すグラフである。Ｙ2
Ｏ3 含有率が３mol ％になるまでは急激にビッカース硬
さＨｖが増大し、３mol ％以上になると緩やかにＨｖが
減少する。酸化アルミニウム含有のガラスやＡｌ基体は
Ｈｖ１０００以下であるから、Ｙ2 Ｏ3 含有率が約１mo
l ％〜20mol ％であれば、充分な硬度（Ｈｖ１０００以
上）が得られる。Ｙ2Ｏ3 含有率が約0.5 ％でもある程
度の硬度が確保できる。なお、20mol ％ 以上でもある
程度の硬度が得られるものの、Ｙ2 Ｏ3 の分布が不均一
化し易く、製作性が悪い。
【００２０】図３はＰＳＺの耐衝撃性ＫICのＹ2 Ｏ3 含
有率（mol ％）依存性を示すグラフである。耐衝撃靱性
ＫICはＹ2 Ｏ3 含有率が約２mol ％で無限大ピークとな
っており、この近傍領域、即ち２±１mol ％の範囲が最
適である。この範囲は図２のビッカース硬さＨｖのピー
ク領域に相当している。従って、Ｙ2 Ｏ3 含有率が１mo
l ％〜３mol ％の範囲にあることが最も望ましい。
有率（mol ％）依存性を示すグラフである。耐衝撃靱性
ＫICはＹ2 Ｏ3 含有率が約２mol ％で無限大ピークとな
っており、この近傍領域、即ち２±１mol ％の範囲が最
適である。この範囲は図２のビッカース硬さＨｖのピー
ク領域に相当している。従って、Ｙ2 Ｏ3 含有率が１mo
l ％〜３mol ％の範囲にあることが最も望ましい。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、磁気記
録媒体の非磁性基体としてＹ2 Ｏ3 を１mol ％〜20mol
％含有するＺｒＯ2 から成るＰＳＺ（部分安定化ジルコ
ニア）を用いたことを特徴とする。他の材質では不可能
であった板厚の薄い基体を作製でき、小径・薄型で、耐
衝撃性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。特
に、Ｙ2 Ｏ3 含有率が１mol ％〜３mol ％の範囲である
場合には、上記効果が顕著である。
録媒体の非磁性基体としてＹ2 Ｏ3 を１mol ％〜20mol
％含有するＺｒＯ2 から成るＰＳＺ（部分安定化ジルコ
ニア）を用いたことを特徴とする。他の材質では不可能
であった板厚の薄い基体を作製でき、小径・薄型で、耐
衝撃性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。特
に、Ｙ2 Ｏ3 含有率が１mol ％〜３mol ％の範囲である
場合には、上記効果が顕著である。
【図１】本発明の実施例に係る磁気記録媒体の断面構造
を示す模式的断面図である。
を示す模式的断面図である。
【図２】同実施例におけるＰＳＺのビッカース硬さＨｖ
のＹ2 Ｏ3 含有率（mol ％）依存性を示すグラフであ
る。
のＹ2 Ｏ3 含有率（mol ％）依存性を示すグラフであ
る。
【図３】同実施例におけるＰＳＺの耐衝撃性ＫICのＹ2
Ｏ3 含有率（mol ％）依存性を示すグラフである。
Ｏ3 含有率（mol ％）依存性を示すグラフである。
【図４】従来一般の磁気記録媒体の断面構造を示す模式
的断面図である。
的断面図である。
１…非磁性基板 ２…非磁性層 ３…非磁性下地層 ４…磁性層 ６…保護層 ７…潤滑層 １０…ＰＳＺ非磁性基体 １１…非磁性基体。
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性基体上に、非磁性金属下地層，磁
性層及び保護層を順次積層してなる磁気記録媒体におい
て、前記非磁性基体は、Ｙ2 Ｏ3 を１mol ％〜20mol ％
含有するＺｒＯ2 から成ることを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】 請求項１に記載の磁気記録媒体におい
て、前記Ｙ2 Ｏ3 の含有率は１mol ％〜３mol ％である
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の磁気記録
媒体において、前記非磁性基体は外径95mm以下の円板で
あって、その板厚は0.15〜0.7mm であることを特徴とす
る磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31503394A JPH08171713A (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31503394A JPH08171713A (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08171713A true JPH08171713A (ja) | 1996-07-02 |
Family
ID=18060621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31503394A Pending JPH08171713A (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08171713A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107055609A (zh) * | 2016-12-29 | 2017-08-18 | 宣城晶瑞新材料有限公司 | 一种超高纯3y钇稳定氧化锆的制备方法 |
-
1994
- 1994-12-19 JP JP31503394A patent/JPH08171713A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107055609A (zh) * | 2016-12-29 | 2017-08-18 | 宣城晶瑞新材料有限公司 | 一种超高纯3y钇稳定氧化锆的制备方法 |
| CN107055609B (zh) * | 2016-12-29 | 2018-06-08 | 宣城晶瑞新材料有限公司 | 一种超高纯3y钇稳定氧化锆的制备方法 |
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