JPH0817787A - 薬液処理装置 - Google Patents
薬液処理装置Info
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- JPH0817787A JPH0817787A JP15186994A JP15186994A JPH0817787A JP H0817787 A JPH0817787 A JP H0817787A JP 15186994 A JP15186994 A JP 15186994A JP 15186994 A JP15186994 A JP 15186994A JP H0817787 A JPH0817787 A JP H0817787A
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- chemical
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、薬液を薬液タンクから処理槽に
供給する機能と、処理槽内の薬液を薬液タンクに回収す
る機能を持っている、被処理基板を浸漬処理する装置に
関し、薬液内の気泡の除去を目的とする。 【構成】 薬液タンクから薬液を供給配管を用いて処理
槽に供給し、処理槽にて被処理基板を薬液にて処理した
後、薬液を回収配管を用いて薬液タンクに回収する機能
を有する処理装置において、処理槽より薬液タンクへの
回収配管の途中に薬液内の泡を消す消泡タンクを備え
る。
供給する機能と、処理槽内の薬液を薬液タンクに回収す
る機能を持っている、被処理基板を浸漬処理する装置に
関し、薬液内の気泡の除去を目的とする。 【構成】 薬液タンクから薬液を供給配管を用いて処理
槽に供給し、処理槽にて被処理基板を薬液にて処理した
後、薬液を回収配管を用いて薬液タンクに回収する機能
を有する処理装置において、処理槽より薬液タンクへの
回収配管の途中に薬液内の泡を消す消泡タンクを備え
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、処理液を外部タンクか
ら処理カップに供給する機能と、処理カップ内の処理液
を外部タンクに回収する機能を持っている、被処理基板
をディップ処理する装置に関するものである。液を回収
する理由は、再度処理に使うためである。
ら処理カップに供給する機能と、処理カップ内の処理液
を外部タンクに回収する機能を持っている、被処理基板
をディップ処理する装置に関するものである。液を回収
する理由は、再度処理に使うためである。
【０００２】近年、半導体基板やマスク基板等の被処理
基板の表面洗浄や基板上の膜等のエッチング処理工程に
おいて、処理液に界面活性剤等を含む各種の薬液が用い
られるため、薬液の供給、或いは回収中に気泡が発生す
ることがある。
基板の表面洗浄や基板上の膜等のエッチング処理工程に
おいて、処理液に界面活性剤等を含む各種の薬液が用い
られるため、薬液の供給、或いは回収中に気泡が発生す
ることがある。
【０００３】そのため、気泡の発生してい処理方法なら
びに機構が必要となる。
びに機構が必要となる。
【０００４】
【従来の技術】図３は従来例の説明図である。図におい
て、１は薬液タンク、２は薬液、３は供給配管、４は処
理槽、５は被処理基板、６は回収配管、８は回収ポン
プ、９は供給ポンプである。
て、１は薬液タンク、２は薬液、３は供給配管、４は処
理槽、５は被処理基板、６は回収配管、８は回収ポン
プ、９は供給ポンプである。
【０００５】図３に示すように、薬液タンク１から薬液
２を供給配管３を通して供給ポンプ９により処理槽４に
供給し、処理槽４にて被処理基板５を薬液２を用いて処
理した後、薬液２を回収配管６を用いて薬液タンク１に
回収する機能を有する処理装置において、被処理基板５
を薬液２を用いて処理槽４内にて処理した後、処理槽４
から回収された薬液２は直接回収配管６を通って薬液タ
ンク１に回収されていた。
２を供給配管３を通して供給ポンプ９により処理槽４に
供給し、処理槽４にて被処理基板５を薬液２を用いて処
理した後、薬液２を回収配管６を用いて薬液タンク１に
回収する機能を有する処理装置において、被処理基板５
を薬液２を用いて処理槽４内にて処理した後、処理槽４
から回収された薬液２は直接回収配管６を通って薬液タ
ンク１に回収されていた。
【０００６】この時、処理方法によっては、劣化した薬
液２が、薬液２を回収する際に出来るだけ混ざらないよ
うにすることや、処理時間の短縮のために、回収ポンプ
８によりかなりの速度で薬液２を回収していた。また、
薬液２の回収量を多くするために処理槽４内が空付近で
も回収ポンプ８を回して、薬液２を完全に回収するまで
回収ポンプ８を回していた。
液２が、薬液２を回収する際に出来るだけ混ざらないよ
うにすることや、処理時間の短縮のために、回収ポンプ
８によりかなりの速度で薬液２を回収していた。また、
薬液２の回収量を多くするために処理槽４内が空付近で
も回収ポンプ８を回して、薬液２を完全に回収するまで
回収ポンプ８を回していた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、使用さ
れている薬液の中には、界面活性剤を含んでいる薬液も
ある。このような薬液をかなりの流量で薬液タンクに回
収すると、泡が発生してしまう。
れている薬液の中には、界面活性剤を含んでいる薬液も
ある。このような薬液をかなりの流量で薬液タンクに回
収すると、泡が発生してしまう。
【０００８】また、薬液を多く回収するために完全に薬
液が回収するところまで回収ポンプを回すと、その付近
の回収は空気も一緒に巻き込んでしまうので、特に泡が
発生してしまう。泡が発生すると、処理槽内の薬液の界
面活性剤の濃度は低下してしまい、泡が発生している時
間だけ界面活性剤により期待している効果が薄れている
薬液を処理槽内に入れて、被処理基板を処理してしまう
ことになる。
液が回収するところまで回収ポンプを回すと、その付近
の回収は空気も一緒に巻き込んでしまうので、特に泡が
発生してしまう。泡が発生すると、処理槽内の薬液の界
面活性剤の濃度は低下してしまい、泡が発生している時
間だけ界面活性剤により期待している効果が薄れている
薬液を処理槽内に入れて、被処理基板を処理してしまう
ことになる。
【０００９】また、泡の発生している時間の間、被処理
基板の処理を見合わせると、スループットが低下してし
まう。本発明は、以上の点を鑑み、薬液回収時の薬液内
の泡の発生を防ぐ手段を提供する。
基板の処理を見合わせると、スループットが低下してし
まう。本発明は、以上の点を鑑み、薬液回収時の薬液内
の泡の発生を防ぐ手段を提供する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理説明
図である。図において、１は薬液タンク、２は薬液、３
は供給配管、４は処理槽、５は被処理基板、６は回収配
管、７は消泡タンク、８は回収ポンプ、９は供給ポン
プ、10は重力落下バルブである。
図である。図において、１は薬液タンク、２は薬液、３
は供給配管、４は処理槽、５は被処理基板、６は回収配
管、７は消泡タンク、８は回収ポンプ、９は供給ポン
プ、10は重力落下バルブである。
【００１１】上記問題点を解決するためには、図１に示
すように、先ず、被処理基板５を処理した後の、処理槽
４から回収した薬液２は直接薬液タンク１に入れない。
その前に泡をこの中で自然に消すための消泡タンクを設
ける。そのタンク内で泡が収まるのを待って、静かに薬
液タンクに薬液を泡が発生しないようにして送り込む。
すように、先ず、被処理基板５を処理した後の、処理槽
４から回収した薬液２は直接薬液タンク１に入れない。
その前に泡をこの中で自然に消すための消泡タンクを設
ける。そのタンク内で泡が収まるのを待って、静かに薬
液タンクに薬液を泡が発生しないようにして送り込む。
【００１２】すなわち、本発明の目的は、図１に示すよ
うに、薬液タンク１から薬液２を供給配管３を用いて処
理槽４に供給し、処理槽４にて被処理基板５を薬液２を
用いて処理した後、薬液２を回収配管６を用いて薬液タ
ンク１に回収する機能を有する処理装置において、処理
槽４より薬液タンク１への回収配管６の途中に消泡タン
ク７を備えてなることにより、そして、前記薬液タンク
１は静置、振動、減圧により薬液２の中の泡を消す機能
を有することにより、また、前記薬液タンク１を複数有
することにより、また、前記消泡タンク７から前記薬液
タンク１への前記薬液２の供給が重力落下により行われ
る機構を有することにより、更に、前記消泡タンク７か
ら前記薬液タンク１への前記薬液２の時間制御による供
給が自動により行われる機構を有することにより達成さ
れる。
うに、薬液タンク１から薬液２を供給配管３を用いて処
理槽４に供給し、処理槽４にて被処理基板５を薬液２を
用いて処理した後、薬液２を回収配管６を用いて薬液タ
ンク１に回収する機能を有する処理装置において、処理
槽４より薬液タンク１への回収配管６の途中に消泡タン
ク７を備えてなることにより、そして、前記薬液タンク
１は静置、振動、減圧により薬液２の中の泡を消す機能
を有することにより、また、前記薬液タンク１を複数有
することにより、また、前記消泡タンク７から前記薬液
タンク１への前記薬液２の供給が重力落下により行われ
る機構を有することにより、更に、前記消泡タンク７か
ら前記薬液タンク１への前記薬液２の時間制御による供
給が自動により行われる機構を有することにより達成さ
れる。
【００１３】
【作用】上記のように、本発明では、処理や回収時に泡
が発生した状態の薬液をすぐに薬液タンクに回収するこ
とをしないで、一旦、本発明の消泡タンクに入れて時間
をかけて薬液内の泡を自然に消すか、積極的に消泡タン
クを超音波を用いて微振動させたり、真空ポンプでポン
プ内を緩く減圧したりして、消泡を行ない、更に消泡タ
ンクから薬液タンクへの送液を薬液タンクの内壁に静か
に垂らす等の走査を行い、泡がまた発生しないように静
かに薬液タンクに送るため、被処理基板の処理時に泡の
発生による障害がなくなり、品質的に良好な薬液処理を
行うことができる。
が発生した状態の薬液をすぐに薬液タンクに回収するこ
とをしないで、一旦、本発明の消泡タンクに入れて時間
をかけて薬液内の泡を自然に消すか、積極的に消泡タン
クを超音波を用いて微振動させたり、真空ポンプでポン
プ内を緩く減圧したりして、消泡を行ない、更に消泡タ
ンクから薬液タンクへの送液を薬液タンクの内壁に静か
に垂らす等の走査を行い、泡がまた発生しないように静
かに薬液タンクに送るため、被処理基板の処理時に泡の
発生による障害がなくなり、品質的に良好な薬液処理を
行うことができる。
【００１４】
【実施例】図２は本発明の一実施例の説明図であり、薬
液処理装置の概要図である。図において、１は薬液タン
ク、２は薬液、３は供給配管、４は処理槽、５は被処理
基板、６は回収配管、７は消泡タンク、８は回収ポン
プ、９は供給ポンプ、10は重力落下バルブ、11は切替バ
ルブ、12はドレーンバルブ、13は基板チャック、14はリ
ンスノズルである。
液処理装置の概要図である。図において、１は薬液タン
ク、２は薬液、３は供給配管、４は処理槽、５は被処理
基板、６は回収配管、７は消泡タンク、８は回収ポン
プ、９は供給ポンプ、10は重力落下バルブ、11は切替バ
ルブ、12はドレーンバルブ、13は基板チャック、14はリ
ンスノズルである。
【００１５】処理槽４と処理槽４に入れる薬液２が入っ
ている薬液タンク１とは供給配管３で繋がっており、こ
の供給配管３を通して供給ポンプ９にて薬液２は薬液タ
ンク１から処理槽４に供給される。本発明の消泡タンク
は７ａと７ｂの二個が用いられ、ここに処理槽４から薬
液２が、消泡タンク７と処理槽４の間の回収配管６を通
して回収ポンプ８により二つの消泡タンク７ａ、７ｂに
送られる。尚、薬液２は切替バルブ11の切替えにて消泡
タンク７ａ、７ｂのどちらかに薬液２が入れられるか決
まる。
ている薬液タンク１とは供給配管３で繋がっており、こ
の供給配管３を通して供給ポンプ９にて薬液２は薬液タ
ンク１から処理槽４に供給される。本発明の消泡タンク
は７ａと７ｂの二個が用いられ、ここに処理槽４から薬
液２が、消泡タンク７と処理槽４の間の回収配管６を通
して回収ポンプ８により二つの消泡タンク７ａ、７ｂに
送られる。尚、薬液２は切替バルブ11の切替えにて消泡
タンク７ａ、７ｂのどちらかに薬液２が入れられるか決
まる。
【００１６】消泡タンク７の中で時間を置いて泡が治ま
った薬液２は、重力落下バルブ10を開くことにより、静
かに下方の薬液タンク１に送られる。また、処理槽４内
の回収配管６の吸い込み口は処理槽４の底面に近接して
おり、殆どの薬液２を回収することができる構造となっ
ている。
った薬液２は、重力落下バルブ10を開くことにより、静
かに下方の薬液タンク１に送られる。また、処理槽４内
の回収配管６の吸い込み口は処理槽４の底面に近接して
おり、殆どの薬液２を回収することができる構造となっ
ている。
【００１７】また、被処理基板５を保持する基板チャッ
クはスピン回転、上下運動可能な構造となっている。こ
こで、薬液２に界面活性剤入りのクロムのエッチング液
を用い、被処理基板５としてマスク用のガラス基板上の
クロム膜をエッチングする例を用いて、本発明の一実施
例について説明する。
クはスピン回転、上下運動可能な構造となっている。こ
こで、薬液２に界面活性剤入りのクロムのエッチング液
を用い、被処理基板５としてマスク用のガラス基板上の
クロム膜をエッチングする例を用いて、本発明の一実施
例について説明する。
【００１８】薬液２としてのエッチング液は、硝酸第二
セリウムアンモニウムを用いた液を使用している。基板
チャック13を薬液２から上げた状態でクロム膜を 1,000
Åの厚さに被覆したガラスマスクからなる被処理基板５
を基板チャック13の上に乗せる。クロム膜上には電子ビ
ーム用レジストを用いて作られたレジストパターンがあ
る。このレジストをマスクとしてガラス基板上にクロム
膜のパターンをエッチングにより作成する。また、ガラ
ス基板は 150mm□のサイズのものを用いた。
セリウムアンモニウムを用いた液を使用している。基板
チャック13を薬液２から上げた状態でクロム膜を 1,000
Åの厚さに被覆したガラスマスクからなる被処理基板５
を基板チャック13の上に乗せる。クロム膜上には電子ビ
ーム用レジストを用いて作られたレジストパターンがあ
る。このレジストをマスクとしてガラス基板上にクロム
膜のパターンをエッチングにより作成する。また、ガラ
ス基板は 150mm□のサイズのものを用いた。
【００１９】この状態のまま、薬液タンク１から供給ポ
ンプ９を用い、エッチング液である薬液２を処理槽４へ
被処理基板５の基板浸漬レベルまで約５分かけてゆっく
り導入する。薬液２の導入が終了すると、基板チャック
13は被処理基板５が薬液２に完全に沈むまで下がる。下
がったと同時に再び基板チャック13は薬液２の面から上
昇し、被処理基板５と基板チャック13の上部は薬液２の
面より上のレベルまで上がる。被処理基板５を薬液２に
沈めてから、薬液２面のレベルまで上がるのに約８分か
かる。被処理基板５の上にはエッチング液からなる薬液
２が盛られた状態である。被処理基板５上のクロム膜の
エッチングはこの薬液２で40秒間行なわれる。
ンプ９を用い、エッチング液である薬液２を処理槽４へ
被処理基板５の基板浸漬レベルまで約５分かけてゆっく
り導入する。薬液２の導入が終了すると、基板チャック
13は被処理基板５が薬液２に完全に沈むまで下がる。下
がったと同時に再び基板チャック13は薬液２の面から上
昇し、被処理基板５と基板チャック13の上部は薬液２の
面より上のレベルまで上がる。被処理基板５を薬液２に
沈めてから、薬液２面のレベルまで上がるのに約８分か
かる。被処理基板５の上にはエッチング液からなる薬液
２が盛られた状態である。被処理基板５上のクロム膜の
エッチングはこの薬液２で40秒間行なわれる。
【００２０】その間、同時に被処理基板５が薬液２の面
から出たのと同時に回収ポンプ８が20秒間動いて、消泡
タンク７へ処理槽４内の薬液２が導かれる。薬液２は被
処理基板５から垂れる劣化した薬液２が僅かでも混入し
ないためと、次の被処理基板５のリンス工程に移るため
に速く回収する必要がある。よって大流量での回収が必
要である。また、薬液２を少しでも多く回収するため
に、処理槽４が空になるまで薬液２を回収する必要があ
る。
から出たのと同時に回収ポンプ８が20秒間動いて、消泡
タンク７へ処理槽４内の薬液２が導かれる。薬液２は被
処理基板５から垂れる劣化した薬液２が僅かでも混入し
ないためと、次の被処理基板５のリンス工程に移るため
に速く回収する必要がある。よって大流量での回収が必
要である。また、薬液２を少しでも多く回収するため
に、処理槽４が空になるまで薬液２を回収する必要があ
る。
【００２１】薬液２の回収後、被処理基板５の表面はリ
ンスノズル14から出る純水によって１分間リンスされ
る。この時、基板チャック13は 200rpm の割合で回転
し、ドレーンバルブ12はリンス液を流すためオープンす
る。
ンスノズル14から出る純水によって１分間リンスされ
る。この時、基板チャック13は 200rpm の割合で回転
し、ドレーンバルブ12はリンス液を流すためオープンす
る。
【００２２】エッチングにおいて１枚当り回収される薬
液２は１リットルであり、消泡タンク７へは先ず、被処
理基板５を１０枚処理するのに必要な分量、つまり１０
リットルの液を入れ、その後切替バルブ11を切り換える
ことにより、隣の消泡タンク７へ液が回収される。普通
用いるレシピでは８枚処理する時間、つまり１枚につき
10分要するので計80分で泡は完全に消える。
液２は１リットルであり、消泡タンク７へは先ず、被処
理基板５を１０枚処理するのに必要な分量、つまり１０
リットルの液を入れ、その後切替バルブ11を切り換える
ことにより、隣の消泡タンク７へ液が回収される。普通
用いるレシピでは８枚処理する時間、つまり１枚につき
10分要するので計80分で泡は完全に消える。
【００２３】よって、その時回収に使用されている消泡
タンク７に８枚目の薬液２が回収されたら、重力落下バ
ルブ10の何れかががタイマーにより自動的に開き、配管
を通って薬液タンク１へ薬液２を重力により流す。10リ
ットル分の薬液２は約５分で消泡タンク７からら１の薬
液タンクへ回収される。配管から流出した液は薬液タン
クの側壁にあたり、直接下方の薬液に注ぐようなことを
しないので、泡が立つことがない。また、重力落下バル
ブ10の配管は内径３ｍｍで複数個でも良い。この場合、
配管は４本を使用し、流量は１本当り毎分約 170ミリリ
ットルである。
タンク７に８枚目の薬液２が回収されたら、重力落下バ
ルブ10の何れかががタイマーにより自動的に開き、配管
を通って薬液タンク１へ薬液２を重力により流す。10リ
ットル分の薬液２は約５分で消泡タンク７からら１の薬
液タンクへ回収される。配管から流出した液は薬液タン
クの側壁にあたり、直接下方の薬液に注ぐようなことを
しないので、泡が立つことがない。また、重力落下バル
ブ10の配管は内径３ｍｍで複数個でも良い。この場合、
配管は４本を使用し、流量は１本当り毎分約 170ミリリ
ットルである。
【００２４】また、この気泡の除去方法は重力で行なわ
なくても、同じ流量になるようにポンプで行なっても良
い。このポンプは消泡タンク７と薬液タンクの間にあ
り、その時、回収に使用される薬液タンク１に８枚目の
被処理基板５が回収されたら自動的にスイッチが入る。
なくても、同じ流量になるようにポンプで行なっても良
い。このポンプは消泡タンク７と薬液タンクの間にあ
り、その時、回収に使用される薬液タンク１に８枚目の
被処理基板５が回収されたら自動的にスイッチが入る。
【００２５】上記の一実施例では、消泡タンク７の中で
薬液を時間的に静置することで、薬液中の泡の自然消滅
を行なったが、積極的に消泡タンク７を例えば 400Ｗの
超音波振動子を用いて微振動を与えたり、減圧装置に接
続して減圧による消泡を行なっても良い。
薬液を時間的に静置することで、薬液中の泡の自然消滅
を行なったが、積極的に消泡タンク７を例えば 400Ｗの
超音波振動子を用いて微振動を与えたり、減圧装置に接
続して減圧による消泡を行なっても良い。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
被処理基板の薬液処理において、泡が発生した状態の薬
液を処理槽へ導入することがなく、消泡タンクを用い
て、静置や振動、減圧により薬液中の泡を消してから処
理槽に導入するため、精度高い処理をスループットが低
下することなしに実現出来、プロセス上に何の問題も起
こさず、エッチング精度の向上、処理時間の短縮に大き
く寄与している。
被処理基板の薬液処理において、泡が発生した状態の薬
液を処理槽へ導入することがなく、消泡タンクを用い
て、静置や振動、減圧により薬液中の泡を消してから処
理槽に導入するため、精度高い処理をスループットが低
下することなしに実現出来、プロセス上に何の問題も起
こさず、エッチング精度の向上、処理時間の短縮に大き
く寄与している。
【図１】 本発明の原理説明図
【図２】 本発明の一実施例の説明図
【図３】 従来例の説明図
図において １ 薬液タンク ２ 薬液 ３ 供給配管 ４ 処理槽 ５ 被処理基板 ６ 回収配管 ７ 消泡タンク ８ 回収ポンプ ９ 供給ポンプ 10 重力落下バルブ 11 切替バルブ 12 ドレーンバルブ 13 基板チャック 14 リンスノズル
Claims (5)
- 【請求項１】 薬液タンクから薬液を供給配管を用いて
処理槽に供給し、該処理槽にて被処理基板を薬液にて処
理した後、該薬液を回収配管を用いて薬液タンクに回収
する機能を有する処理装置において、 処理槽より薬液タンクへの回収配管の途中に消泡タンク
を備えてなることを特徴とする薬液処理装置。 - 【請求項２】 前記薬液タンクは静置、振動、減圧によ
り薬液中の泡を消す機能を有することを特徴とする請求
項１記載の薬液処理装置。 - 【請求項３】 前記薬液タンクを複数有することを特徴
とする請求項１または２記載の薬液処理装置。 - 【請求項４】 前記消泡タンクから前記薬液タンクへの
前記薬液の供給が重力落下により行われる機構を有する
ことを特徴とする請求項１、２または３記載の薬液処理
装置。 - 【請求項５】 前記消泡タンクから前記薬液タンクへの
前記薬液の時間制御による供給が自動により行われる機
構を有することを特徴とする請求項１〜４記載の薬液処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15186994A JPH0817787A (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | 薬液処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15186994A JPH0817787A (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | 薬液処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0817787A true JPH0817787A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15528001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15186994A Withdrawn JPH0817787A (ja) | 1994-07-04 | 1994-07-04 | 薬液処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0817787A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007102604A1 (ja) * | 2006-03-09 | 2007-09-13 | Tokyo Electron Limited | 液処理装置及び処理液の消泡方法 |
| CN107045269A (zh) * | 2017-03-15 | 2017-08-15 | 惠科股份有限公司 | 显影排泡装置以及显影机 |
-
1994
- 1994-07-04 JP JP15186994A patent/JPH0817787A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007102604A1 (ja) * | 2006-03-09 | 2007-09-13 | Tokyo Electron Limited | 液処理装置及び処理液の消泡方法 |
| JP2007273958A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-10-18 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置及び処理液の消泡方法 |
| CN107045269A (zh) * | 2017-03-15 | 2017-08-15 | 惠科股份有限公司 | 显影排泡装置以及显影机 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010904 |