JPH08178937A - 磁気検出装置 - Google Patents
磁気検出装置Info
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Abstract
気抵抗素子との位置ずれにともなうオフセット誤差を低
減可能な磁気検出装置を提供する。 【構成】一対のバイアス磁石11、12が、磁気検出位
置Pを挟んでセンサ部2の主面に平行なx方向における
互いに反対の位置にてセンサ部2の主面に平行でx方向
と直角なy方向へそれぞれ延設される。更に、両バイア
ス磁石11,12のセンサ部2対面側の磁極面は互いに
反対極性を有する。このようにすれば、ほぼx方向へ向
かう磁界が磁気検出位置Pに形成され、したがって、磁
気検出位置Pを含んでx方向に延びる線上の各点の磁界
強度はほとんど等しくなる。したがって、センサ部2の
磁気抵抗素子がバイアス磁石に対してx方向に相対変位
しても、磁気抵抗素子に作用する磁界成分は殆ど変化せ
ず、抵抗値の変化も小さい。
Description
磁気検出装置に関する。本発明の磁気検出装置は例えば
回転検出装置に適用される。
下、MR式磁気検出装置ともいう)の一例を図11に示
す。この装置は、回転検出装置であって、磁界を検出す
べき磁気検出位置Pに近接配置されてこの位置Pに所定
のバイアス磁界を形成するバイアス磁石111と、抵抗
値が磁界に応じて変化する磁気抵抗素子が主面上に配設
されるとともに位置Pに配設される板状のセンサ部11
2と、位置Pに近接して磁界の主方向Mと直角方向へ回
転する高透磁性の歯部113を有するギヤ114とを有
している。115は、バイアス磁石のN極面上に固着さ
れた一定厚の平板からなるスペーサであって、116は
バイアス磁石111が固定されるベースプレートであ
る。センサ部112には、位置Pに近接してMR素子が
ブリッジ回路構成又は単一又はハーフブリッジ回路構成
で配設されており、歯部113の近接又は離隔に伴うM
R素子位置における主としてX方向の磁界変化を検出し
て回転を検出している。
ジ回路構成で配設した場合の出力電圧Voの波形を示
す。MR素子r1は主としてx方向に流れるようにつづ
ら折り状に配設され、MR素子r2は主としてy方向に
流れるようにつづら折り状に配設され、その結果、歯部
113の回転によりMR素子r2の抵抗値の変化によ
り、正弦波状の出力電圧Voが得られる。
従来の磁気検出装置では、MR素子とバイアス磁石との
相対位置が主面方向すなわち図 中、x,y方向でずれ
ると、MR素子の初期バイアス磁界がばらつき、それに
よりMR素子の抵抗値にオフセット誤差が生じ、その両
端にオフセット誤差が増大する。同様に、ブリッジ回路
構成されたMR素子(以下、MR素子ブリッジともい
う)でも、ブリッジの中点電位として発生する信号電圧
のDC成分がばらつき、オフセット誤差電圧が増大す
る。 図13(a)にバイアス磁石111の磁極面を模
式的に示し、図13(b)にバイアス磁石111の磁極
面と直角方向の断面図を示し、図13(c)にバイアス
磁石111のN極面の主面中心kからz方向へ所定距離
dだけ離れた磁気検出位置Pを通ってx方向へ延びる線
上におけるx方向磁界成分(Hx)の変化を示し、図1
3(d)にバイアス磁石111のN極面の主面中心kか
らz方向へ所定距離dだけ離れた磁気検出位置Pを通っ
てy方向へ延びる線上におけるy方向磁界成分(Hy)
の変化を示す。センサ部112上のMR素子の電気抵抗
はx方向磁界成分(Hx)又はy方向磁界成分(Hy)
の変化により変化してしまう。 すなわち、このような
オフセット誤差の増大は、センサ感度、精度の向上を図
る上の重大な障害となっていた。
あり、センサ部の磁気検出方向におけるバイアス磁石と
磁電変換素子との位置ずれにともなうオフセット誤差を
低減可能な磁気検出装置を提供することを、その目的と
している。
磁界を検出すべき磁気検出位置に近接配置されて前記磁
気検出位置に所定のバイアス磁界を形成するバイアス磁
石と、前記バイアス磁界の変化を電気的変化に変換する
磁電変換素子を備えて前記磁気検出位置又はその近傍に
配設されるセンサ部とを備える磁気検出装置において、
少なくとも一対の前記バイアス磁石は、前記磁気検出位
置を挟んで前記センサ部の磁気検出方向に平行なx方向
における互いに反対の位置にて前記センサ部の磁気検出
方向に平行で前記x方向と直角なy方向へそれぞれ延設
されるとともに、互いに反対極性の磁極面を前記センサ
部に向けた姿勢を有することを特徴とする磁気検出装置
である。
おいて更に、前記磁電変換素子が磁気抵抗素子であるこ
とを特徴としている。本発明の第3の構成は、上記第1
の構成において更に、前記バイアス磁石の磁極面が前記
センサ部の主面に平行に配設されることを特徴としてい
る。本発明の第4の構成は、上記第3の構成において更
に、前記一対のバイアス磁石の互いに異なる極性の磁極
面上に一定厚の平板からなる非磁性のスペーサの一主面
が固着され、前記センサ部は前記スペーサの反対主面に
固着されることを特徴としている。
おいて更に、前記磁気抵抗素子は、前記センサ部の前記
主面上にて前記y方向へ往復して延設された感磁導電路
部から主として構成されることを特徴としている。本発
明の第6の構成は、上記第1の構成において更に、前記
磁電変換素子がホール素子であることを特徴としてい
る。
おいて更に、前記両バイアス磁石は互いに反対極性を有
して対面する磁極面を有することを特徴としている。本
発明の第8の構成は、上記第1〜第7の構成において更
に、前記磁気検出位置に近接しつつ前記x方向へ回転可
能な高透磁性の歯部を有するギヤを有し、回転検出装置
として用いられることを特徴としている。
のバイアス磁石が、磁気検出位置を挟んでセンサ部の磁
気検出方向に平行なx方向における互いに反対の位置に
てセンサ部の磁気検出方向に平行でx方向と直角なy方
向へそれぞれ延設される。更に、両バイアス磁石のセン
サ部対面側の磁極面は互いに反対極性を有する。
界が磁気検出位置に形成され、したがって、磁気検出位
置を含んでx方向に延びる線上の各点の磁界強度はほと
んど等しくなる。したがって、センサ部の磁電変換素子
がバイアス磁石に対してx方向に相対変位しても、磁電
変換素子に作用する磁界成分は殆ど変化せず、電気的変
化も小さい。
イアス磁石と磁電変換素子との位置ずれにともなうオフ
セット誤差は従来より格段に低減される。本発明の第2
の構成では、上記第1の構成において更に、磁電変換素
子が磁気抵抗素子であるため、検出すべき磁界の変化を
抵抗値の変化に変換できる。本発明の第3の構成では、
上記第2の構成において更に、バイアス磁石の磁極面が
センサ部の主面に平行に配設されるので、配設が容易と
なる。
において更に、一対のバイアス磁石の互いに異なる極性
の磁極面上に一定厚の平板からなる非磁性のスペーサの
一主面が固着され、センサ部はスペーサの反対主面に固
着されるので、配設が更に容易となる。本発明の第5の
構成は、上記第2の構成において更に、磁気抵抗素子
が、センサ部の主面上にてy方向へ往復して延設された
感磁導電路部から主として構成されるので、感度(抵抗
値変化率)を向上することができる。
において更に、磁電変換素子がホール素子であるため、
検出すべき磁界の変化をホール電圧の変化に変換でき
る。本発明の第7の構成では、上記第1の構成において
更に、両バイアス磁石が互いに反対極性を有して対面す
る磁極面を有するので、磁気検出位置を含んでx方向に
延びる線上の各点の磁界強度は更に一層等しくなり、磁
電変換素子のx方向変位による磁界変化による電気的変
化は一層低減できる。
図4を参照して説明する。この装置は、回転検出装置で
あって、磁界を検出すべき磁気検出位置Pに近接配置さ
れてこの位置Pに所定のバイアス磁界を形成する一対の
バイアス磁石11、12と抵抗値が磁界に応じて変化す
る磁気抵抗素子が主面上に配設されるとともに位置Pに
配設される板状(チップ状)のセンサ部2と、位置Pに
近接してx、z面内にて回転する高透磁性の歯部3を有
するギヤ4とを有している。ベースプレート5は、バイ
アス磁石11のS極面及びバイアス磁石12のN極面が
主面に接着される平板状のベースプレートであり、非磁
性体又は磁性体により構成されている。6は一定厚を有
する非磁性の平板からなるスペーサであって、その上面
はバイアス磁石11のN極面及びバイアス磁石12のS
極面に接着され、その下面にはセンサ部2が接着されて
いる。すなわち、スペーサ6は、バイアス磁界の大きさ
及び方向を磁気検出位置Pの近傍にてできるだけ等しく
するために、バイアス磁石11、12とセンサ部2との
間に一定の間隔を確保するためのものである。
は、略正方形の平板形状を有し、板厚方向に異方性があ
るフェライト系のプラスチック磁石板1の着磁部から構
成されており、図2(a),(b)に示すように、プラ
スチック磁石板1の左右両側端から距離d1〜d2の間
をy方向に着磁したものである。なお、(a)はプラス
チック磁石板1をz方向上側(図1において)へ見上げ
た図でであり、(b)はそのx,z方向断面を示す図で
ある。y方向に延在するこれらバイアス磁石11、12
以外のプラスチック磁石板1の部分は着磁されていな
い。なお、この実施例では、磁気検出位置Pとギヤ4の
軸心とを結ぶ線はz方向に延在するものとし、x方向は
歯部3の回転面内におけるz方向と直角な方向とし、こ
れらx,y方向と直交する方向をy方向としている。こ
の3次元空間座標の原点は磁気検出位置Pとする。ま
た、プラスチック磁石板1の主面、センサ部2の主面は
x,y面内に延在するものとし、図2(a)に示される
プラスチック磁石板1の4辺は、x、y方向に延在する
ものとする。図2(b)に示すk点はプラスチック磁石
板1の下向き主面の中央点であり、k点は磁気検出位置
Pからz方向へ所定距離dだけ離れた点である。すなわ
ち、k点は、スペーサ6の厚さとセンサ部2の厚さの分
だけP点より反ギヤ側に変位して配設されている。
すパターンを強磁性体金属の薄膜で形成されてハーフブ
リッジ回路を構成する一対のMR素子21、22と、こ
のハーフブリッジ回路の出力電圧(信号電圧)を増幅す
る不図示の増幅回路、定電圧回路等を有しており、これ
らMR素子はセンサ部2のギヤ側の主面に形成されてい
るものとする。更に説明すると、MR素子21はy方向
へ往復して延設された感磁導電路部21aから主として
構成され、MR素子22はx方向へ往復して延設された
感磁導電路部22aから主として構成され、磁気検出位
置Pは図3に示すように両素子21、22の中間に設定
され、両素子21、22はx方向へ配列される。 もち
ろん、両素子21、22が磁気検出位置Pに近接配置さ
れる限り、他の配列も可能であり、例えば素子21を重
視して図3のP’の点に磁気検出位置Pを設定してもよ
い。
の歯部3の移動に伴いMR素子21、22に作用する磁
界が変化する。以下、磁気検出位置P点を通ってx方向
に延びる線上の各位置における磁界強度(通常、磁界強
度は単に磁界とも呼ばれる)を図2(c)に示し、磁気
検出位置P点を通ってx方向及びy方向に延びる線上の
各位置における磁界強度(通常、磁界強度は単に磁界と
も呼ばれる)を図2(d)に示す。磁界Hのx方向成分
Hx、磁界Hのy方向成分Hyは、磁気検出位置Pから
x、y方向に変位しても磁界変化が小さいことがわか
る。したがって、センサ部2がバイアス磁石11、12
に対して相対的にx方向又はy方向へ多少ずれても、ほ
とんど磁界のx方向成分Hx又はy方向成分Hyが変化
せず、これら変位に8より出力電圧のDC変動いわゆる
オフセット誤差電圧はほとんど生じないことがわかる。
特性を図4に示す。Aは、MR素子21における磁界の
y方向成分の変化による抵抗変化率の変化、又は、MR
素子22における磁界のx方向成分の変化による抵抗変
化率の変化を示し、Bは、MR素子22における磁界の
y方向成分の変化による抵抗変化、又は、MR素子21
における磁界のx方向成分の変化による抵抗変化を示
す。このような特性は周知のものである。したがって、
歯部3のx方向への接近、離遠により、MR素子21の
抵抗値が大幅に変化することになる。MR素子21、2
2は図3に示すようにハーフブリッジ回路を構成してい
るので、その出力電圧はMR素子21の抵抗値変化に応
じて変化し、これにより回転軸の回転を検出することが
できる。なお、スペーサ6の省略は可能である。
の実施例では、プラスチック磁石板1の図5中左半分は
下主面がN極となるように着磁され、その図5中左半分
は下主面がS極となるように着磁され、実施例1と同様
の効果を奏する。
の実施例では、センサ部2が接着されるx方向中央部の
無着磁部がその両側の着磁部よりz方向下向きに突出し
たものであり、このようにすれば実施例1のスペーサ6
を省略することができる。
し、実施例1と共通の機能を有する構成要素には同一符
号を付す。この実施例では、一種のスペーサ兼ベースで
ある樹脂板部8に、バイアス磁石11、12及びセンサ
部2が接着されている。ただし、この実施例では、バイ
アス磁石11のN極面及びバイアス磁石12のS極面は
それぞれややセンサ部2に向かう斜め方向に傾斜した姿
勢で樹脂板部2に接着されている。
おける磁界の変化が小さくなる。 (実施例5)他の実施例を図8に示す。但し、実施例1
と共通の機能を有する構成要素には同一符号を付す。こ
の実施例では、一種のスペーサ兼ベースである樹脂板部
9の同一面に、バイアス磁石11、12及びセンサ部2
が接着されている。ただし、バイアス磁石11のN極面
及びバイアス磁石12のS極面はセンサ部2を挟んで互
いに真正面に対面しており、その結果、x方向各位置に
おける磁界の変化は更に一層小さくなる。なお、図9は
ギヤ4側から見た図である。
の実施例では、K点を中心としてプラスチック磁石板1
にあけられた固定用の穴に、ホール素子部101が磁気
検出位置Pに近接配置されるとともに、ホール素子10
1の磁気検出方向がプラスチック磁石板1の主面に平行
になるように、ホールセンサ10を通し、固着されてい
る。このようにすればホールセンサにおいても実施例1
と同様の効果を奏する。
す模式正面図である。 (b) 図1の装置における磁束Φの分布をしめす磁力
線図である。
である。 (b) そのx、z方向断面図である。 (c) 磁気検出位置Pがx方向へ移動した場合の磁界
Hxの変化を示す特性図である。 (d) 磁気検出位置Pがy方向へ移動した場合の磁界
Hxの変化を示す特性図である。
22の模式配置図である。
変化と抵抗値との関係を示す特性図である。
グチャートである。
る。 (b) 図11のバイアス磁石の正面断面図である。 (c) 磁気検出位置Pがx方向へ移動した場合の磁界
Hxの変化を示す特性図である。 (d) 磁気検出位置Pがy方向へ移動した場合の磁界
Hxの変化を示す特性図である。
サ部、3は歯部、4はギヤ、6はスペーサ、11、12
はバイアス磁石。
Claims (8)
- 【請求項1】磁界を検出すべき磁気検出位置に近接配置
されて前記磁気検出位置に所定のバイアス磁界を形成す
るバイアス磁石と、前記バイアス磁界の変化を電気的変
化に変換する磁電変換素子を備えて前記磁気検出位置又
はその近傍に配設されるセンサ部とを備える磁気検出装
置において、 少なくとも一対の前記バイアス磁石は、前記磁気検出位
置を挟んで前記センサ部の磁気検出方向に平行なx方向
における互いに反対の位置にて前記センサ部の磁気検出
方向に平行で前記x方向と直角なy方向へそれぞれ延設
されるとともに、互いに反対極性の磁極面を前記センサ
部に向けた姿勢を有することを特徴とする磁気検出装
置。 - 【請求項2】前記磁電変換素子は、磁気抵抗素子である
請求項1に記載の磁気検出装置。 - 【請求項3】前記バイアス磁石の磁極面は前記センサ部
の主面に平行に配設される請求項2記載の磁気検出装
置。 - 【請求項4】前記一対のバイアス磁石の互いに異なる極
性の磁極面上に一定厚の平板からなる非磁性のスペーサ
の一主面が固着され、前記センサ部は前記スペーサの反
対主面に固着される請求項3記載の磁気検出装置。 - 【請求項5】前記磁気抵抗素子は、前記センサ部の前記
主面上にて前記y方向へ往復して延設された感磁導電路
部から主として構成される請求項2記載の磁気検出装
置。 - 【請求項6】前記磁電変換素子は、ホール素子である請
求項1に記載の磁気検出装置。 - 【請求項7】前記両バイアス磁石は互いに反対極性を有
して対面する磁極面を有する請求項1記載の磁気検出装
置。 - 【請求項8】前記磁気検出位置に近接しつつ前記x方向
へ回転可能な高透磁性の歯部を有するギヤを有し、回転
検出装置として用いられる請求項1〜7のいずれか記載
の磁気検出装置。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP31532794A JP3487452B2 (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 磁気検出装置 |
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Publications (2)
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|---|---|---|---|
| JP31532794A Expired - Fee Related JP3487452B2 (ja) | 1994-12-19 | 1994-12-19 | 磁気検出装置 |
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