JPH0818028B2 - 真空式汚水処理システムにおける真空発生装置 - Google Patents

真空式汚水処理システムにおける真空発生装置

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JPH0818028B2
JPH0818028B2 JP41595090A JP41595090A JPH0818028B2 JP H0818028 B2 JPH0818028 B2 JP H0818028B2 JP 41595090 A JP41595090 A JP 41595090A JP 41595090 A JP41595090 A JP 41595090A JP H0818028 B2 JPH0818028 B2 JP H0818028B2
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vacuum
sewage
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jet flow
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Inventor
潤一 山中
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株式会社イナックス
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は真空式汚水処理システ
ムにおける真空発生装置に関し、特にエジェクタ−を用
いて真空を発生させる装置に関する。
【0002】
【従来の技術】汚水の処理システムとして、真空発生装
置で発生させた真空により汚水を吸引・収集して後段の
汚水処理装置へと送り出し、そこで汚水を浄化処理する
真空式汚水処理システムが用いられている。図2はこの
システムの一例を示したものであって、各家庭等におい
て排出された汚水を、真空発生装置100で発生させた
真空により真空管路102を通じて空気とともに気液混
合状態で真空発生装置100の汚水槽104内に吸引
し、そしてそこで気液分離して汚水のみを後段の汚水処
理装置へと送るようになっている。ここで真空発生装置
100としては、土中にほぼ下半分を埋設したハウジン
グ106内に汚水槽104と機械室108とを区画形成
し、そしてエジェクタ−110により汚水槽104内の
汚水をその噴出口から噴出させつつ循環させ、その噴出
口からの噴出流によって真空を発生させるようにした形
態のものが一般に採用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところでこの真空発生
装置100においては、汚水槽104と機械室108と
を別々に区画形成する必要があり、これに起因してハウ
ジング106ないし真空発生装置100自体が大型のも
のとならざるを得ないといった問題があった。
【0004】そこでかかる真空発生装置のハウジングと
して、下水システムにおいて広く用いられているマンホ
−ル用の円筒体を用い、その内部を汚水槽と成してそこ
にエジェクタ−を配置・収容することが考えられてい
る。図3(A)はその一例を示したものであって、ここ
では水中ポンプ形式の循環ポンプ112を用い、これを
汚水114中に埋没させてかかる循環ポンプ112によ
り汚水114を揚水するとともに、エジェクタ−116
の噴出口より汚水槽118内に噴出させ、真空発生部1
20で発生させた真空により管路122から汚水を吸引
するようになっている。
【0005】しかしながらこのような真空発生装置の場
合、マンホ−ル用円筒体(以下単にマンホ−ルとする)
の直径として、少なくてもエジェクタ−116の水平方
向長さ+噴出流の長さ分の直径が必要であり、直径の大
きなマンホ−ルが必要となってしまう。またこの他噴出
流が壁面に対して正面から勢い良く衝突するために、そ
の反射流が激しく、加えて気相中における噴出流の滞留
時間が短いために、気相中で気液分離が充分に行われな
いといった問題がある。
【0006】これに対し図3(B)に示しているよう
に、エジェクター124からの噴出流を鉛直下方に噴出
させることも考えられる。この場合には真空発生装置の
ハウジング126として直径の小さなマンホ−ルを用い
ることが可能である。しかしながらこの形式の場合、気
液分離が良好に行われないばかりか、エジェクター12
4からの噴出流が強い勢いで汚水液114中に突入する
ために液中に多量の空気が混入し、循環ポンプ112の
揚水能力が大きく低下し、ないし不能となってしまう。
これを防止するため、エジェクター124からの噴出流
の途中にバッファ−板128を設け、ここで勢いを止め
ることが考えられるが、この場合にはバッファ−板12
8に対して噴出流が勢い良く衝突するためにバッファ−
板128の強度が問題となり、加えてバッファ−板12
8に対して汚物が付着するためにその清掃が必要とな
り、更にこのようなバッファ−板128を設けることに
よって槽内の構造が複雑化し、循環ポンプ112のメン
テナンスが非常に難しくなるといった問題がある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解決するためになされたものであり、その要旨は、収
集した汚水を一旦汚水槽に収容するとともに、該汚水槽
内の汚水をエジェクタ−によりその噴出口より噴出させ
つつ循環させ、該エジェクタ−の噴出作用に基づいて真
空を発生させるようにした真空発生装置において、前記
エジェクタ−を前記汚水槽内に配設するとともに、該エ
ジェクタ−からの噴出流を該汚水槽内の環状の周壁面に
沿ってほぼ水平方向に噴出させるように成したことにあ
る。
【0008】[作用及び発明の効果]このように本発明
は、汚水槽内にエジェクターを配置・収容するようにし
たものであり、これにより従来必要とされていた機械室
が不要となって装置がコンパクト化される。また本発明
の装置においては、エジェクターからの噴出流が環状の
周壁面に沿ってほぼ水平方向に噴出され、そして周壁面
を巡回しつつ下方に落下して、下部に貯えられている汚
水液中に静かに流入する。従って下部の汚水液が噴出流
よってかき乱されたり、汚水液中に空気が多量に混入す
るといったことが無く、それ故上述したようなバッファ
−板も不要である。従ってかかるバッファ−板設置によ
りその強度が問題となったり、バッファ−板に汚物が付
着して清掃が大変となったり、或いはバッファ−板によ
り槽内のメンテナンスが大変となったりする等の不具合
を生じない。
【0009】本発明の装置においては、エジェクターか
ら噴出された気液混合流は巡回しつつ長時間かけて下部
の汚水液中に流入する。即ち気相中での滞留時間が長
く、このために気相中において気液分離が良好に行われ
る。また本発明の装置は、エジェクタ−からの噴出流を
環状の周壁面に沿って案内することを特徴としており、
ハウジングとして一般の下水道用に用いられている円筒
状のマンホ−ルをそのまま流用できる利点がある。即ち
このような円筒状のマンホ−ルを使用すれば、その内壁
面をそのまま噴出流案内のための環状の周壁面として用
いることができる。そしてこのようなマンホ−ルを用い
た場合、これを土中に完全に埋めることが可能であっ
て、これにより真空発生装置を、特に場所を選ばないで
自由に設置することが可能となる。例えば真空式汚水処
理システムにおいて、真空発生装置を道路の真中に設置
したい場合があっても、従来の装置の場合にはこのよう
なことは困難であるが、本発明によればこれが可能とな
るのである。またこのようなマンホ−ルを流用できれ
ば、装置コストを安価に抑えることが可能となる。
【0010】加えて本発明の装置の場合、エジェクター
からの噴出流を環状の周壁面に沿って導くものであるた
め、そのようなマンホ−ルを用いた場合において直径の
小さなものを用いることが可能であり、これにより装置
を更にコンパクトにおさめることができるようなる。
【0011】
【実施例】次に本発明の実施例を図面に基づいて詳しく
説明する。図1において10は本発明の一例としての真
空発生装置である。12は下水道に多く用いられている
マンホールをそのまま用いたハウジングであって、その
内部全体が汚水層として構成されており、そしてその汚
水層内に水中ポンプ形式の循環ポンプ16及びエジェク
ター14が配設されている。エジェクター14は、汚水
層内に貯えられた汚水液15を揚水するための揚水管路
18と、真空発生部20と、真空下水管路22より真空
発生部20内に吸引された汚水を、揚水管18を通じて
揚水された汚水とともに混合状態で排出するジェットチ
ューブ24と、その先端において内口径が漸次増大する
形態の出口部26とを有している。而して本例において
は、揚水管18の上端部から出口部26にかけての部分
が、ハウジング12の円形の内周壁面28に沿ってほぼ
水平方向に延び且つ円形に回曲させられている。
【0012】このような真空発生装置10においては、
揚水された汚水及び真空下水管路22より吸引された汚
水の混合液が気液混合状態で出口部26から勢い良く噴
出される。その噴出流は予めエジェクター14内部にお
いて円形に方向付けされた上で出口部26より噴出さ
れ、そして噴出後においてはハウジング12の円形の内
周壁面28に沿って巡回させられる。そしてかかる巡回
運動を行いながら漸次下方に流下し、下部の汚水液15
中に静かに流入する。
【0013】本例の装置においては、真空発生装置10
のハウジング12内が全体的に汚水層として構成され、
そこにエジェクター14が収容されており、機械室は特
に設けられていない。これにより真空発生装置10がコ
ンパクトとなる。
【0014】また本例の装置は、下水などに多く用いら
れている市販のマンホールをそのまま用いているために
装置価格も安価となる。加えてエジェクター14からの
噴出流は、ハウジング12の円形の内周壁面28に沿っ
て巡回した後静かに下部の汚水液15中に流入するた
め、下部の汚水液15がかき乱されたり、その内部に空
気が多量に混入させられたりすることも無い。それ故前
述したようなバッファ−板を設けることが必要でなく、
従ってかかるバッファ−板の配設に伴う不具合も生じな
い。更にエジェクターから噴出された噴出流は、気相中
に長く留まるため、気液分離が良好に行われる。また前
述した図3(A)の真空発生装置と異なって,直径の小
さなマンホ−ルを用いることができ、このことによって
装置構成を更にコンパクト化することができる。
【0015】尚、上例の装置はあくまで本発明の一例示
であって、本発明は他の様々な形態で構成することが可
能である。例えば上例ではハウジングが完全な円筒形状
と成されているが、場合によりこれを多角形状と成すこ
とも可能であるし、またハウジングの内周壁面をそのま
ま噴出流案内のための環状の周壁面として利用するのが
望ましいが、場合によりハウジング内に環状の案内面
(周壁面)を別途に設けて、エジェクターからの噴出流
をこの案内面に沿って噴出させるようにもできる。更に
その案内面は必ずしもエジェクターと下部の汚水液との
間の全高に亘って設けられていなければならないもので
はなく、場合により噴出流が一巡回する範囲に亘って、
又は半巡回する範囲に亘って設けても良い等、本発明は
当業者の知識に基づき、様々な変更を加えた形態で構成
可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である真空発生装置の内部構
成図である。
【図2】従来一般の真空式汚水処理システムの一例を示
す説明図である。
【図3】その真空発生装置として考えられるものの例を
示す図である。
【符号の説明】
10 真空発生装置 12 ハウジング 14 エジェクタ− 15 汚水液 28 内周壁面

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 収集した汚水を一旦汚水槽に収容すると
    ともに、該汚水槽内の汚水をエジェクターによりその噴
    出口より噴出させつつ循環させ、該エジェクタ−の噴出
    作用に基づいて真空を発生させるようにした真空発生装
    置において、前記エジェクタ−を前記汚水槽内に配設す
    るとともに、該エジェクタ−からの噴出流を該汚水槽内
    の環状の周壁面に沿ってほぼ水平方向に噴出させるよう
    に成したことを特徴とする真空式汚水処理システムにお
    ける真空発生装置。
JP41595090A 1990-12-30 1990-12-30 真空式汚水処理システムにおける真空発生装置 Expired - Lifetime JPH0818028B2 (ja)

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