JPH0819139A - レ−ザ加工装置 - Google Patents
レ−ザ加工装置Info
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- JPH0819139A JPH0819139A JP6144361A JP14436194A JPH0819139A JP H0819139 A JPH0819139 A JP H0819139A JP 6144361 A JP6144361 A JP 6144361A JP 14436194 A JP14436194 A JP 14436194A JP H0819139 A JPH0819139 A JP H0819139A
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- Japan
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- laser
- laser light
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- thin wire
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- Removal Of Insulation Or Armoring From Wires Or Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 この発明は細径ワイヤを被覆した絶縁被膜を
周方向全体にわたって確実に除去できるようにしたレ−
ザ加工装置を提供することにある。 【構成】 細径ワイヤ１３を被覆した高分子絶縁被膜１
３ａをレ−ザ光の照射で除去するレ−ザ加工装置におい
て、内面が反射面１１ａに形成され一方の焦点位置に軸
線方向に沿って上記細径ワイヤが挿通された筒状楕円体
１１と、この筒状楕円体の他方の焦点位置に軸線方向に
対して反射面を４５度の角度で傾斜して配置された反射
ミラ−１７と、この反射ミラ−の反射面１７ａに入射す
る上記レ−ザ光を出力するレ−ザ装置２３と、上記反射
ミラ−を上記中空楕円体の軸線と平行かつ上記他方の焦
点を通る軸線を中心にして回転させることでその反射面
で反射したレ−ザ光を上記筒状楕円体の内面で反射させ
て上記細径ワイヤが配置された上記一方の焦点位置に集
光させる回転駆動手段２２とを具備したことを特徴とす
る。
周方向全体にわたって確実に除去できるようにしたレ−
ザ加工装置を提供することにある。 【構成】 細径ワイヤ１３を被覆した高分子絶縁被膜１
３ａをレ−ザ光の照射で除去するレ−ザ加工装置におい
て、内面が反射面１１ａに形成され一方の焦点位置に軸
線方向に沿って上記細径ワイヤが挿通された筒状楕円体
１１と、この筒状楕円体の他方の焦点位置に軸線方向に
対して反射面を４５度の角度で傾斜して配置された反射
ミラ−１７と、この反射ミラ−の反射面１７ａに入射す
る上記レ−ザ光を出力するレ−ザ装置２３と、上記反射
ミラ−を上記中空楕円体の軸線と平行かつ上記他方の焦
点を通る軸線を中心にして回転させることでその反射面
で反射したレ−ザ光を上記筒状楕円体の内面で反射させ
て上記細径ワイヤが配置された上記一方の焦点位置に集
光させる回転駆動手段２２とを具備したことを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は細径ワイヤを絶縁被覆
した高分子絶縁被膜を除去するためのレ−ザ加工装置に
関する。
した高分子絶縁被膜を除去するためのレ−ザ加工装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、マイクロエレクトロニクスの分
野などでは、素子間の配線などに５０μｍ程度の細径ワ
イヤが用いられる。その場合、上記細径ワイヤの素子に
接続される端部は導電性で、他の部分は絶縁被膜によっ
て被覆された絶縁性であることが要求されることがあ
る。
野などでは、素子間の配線などに５０μｍ程度の細径ワ
イヤが用いられる。その場合、上記細径ワイヤの素子に
接続される端部は導電性で、他の部分は絶縁被膜によっ
て被覆された絶縁性であることが要求されることがあ
る。
【０００３】そのような用途の細径ワイヤとしては、通
常、全長がポリウレタンなどの絶縁被膜で被覆されてい
て、使用時にその絶縁被膜を除去して使用するというこ
とが行われている。
常、全長がポリウレタンなどの絶縁被膜で被覆されてい
て、使用時にその絶縁被膜を除去して使用するというこ
とが行われている。
【０００４】上記絶縁被膜の除去は、細径ワイヤがミク
ロンオ−ダと非常に細いため、機械的な外力を与えて除
去するということが難しいため、その絶縁被膜の除去を
レ−ザ光で行われていた。
ロンオ−ダと非常に細いため、機械的な外力を与えて除
去するということが難しいため、その絶縁被膜の除去を
レ−ザ光で行われていた。
【０００５】図７と図８に従来の絶縁被膜の除去方法を
示す。図中１は図示しないレ−ザ装置から出力されたレ
−ザ光Ｌの光路に配置されたマスクである。このマスク
２には矩形状の通孔部２ａが形成されていて、この通孔
部２ａを通過したレ−ザ光Ｌは矩形状のパタ−ンＰに成
形される。
示す。図中１は図示しないレ−ザ装置から出力されたレ
−ザ光Ｌの光路に配置されたマスクである。このマスク
２には矩形状の通孔部２ａが形成されていて、この通孔
部２ａを通過したレ−ザ光Ｌは矩形状のパタ−ンＰに成
形される。
【０００６】上記マスク１によって成形されたレ−ザ光
Ｌはレンズ２によって集束される。このレンズ２を透過
したレ−ザ光Ｌは上記レンズ２の焦点Ｆ1 から十分に離
れた位置に配置された凹状の球面ミラ−３に入射する。
Ｌはレンズ２によって集束される。このレンズ２を透過
したレ−ザ光Ｌは上記レンズ２の焦点Ｆ1 から十分に離
れた位置に配置された凹状の球面ミラ−３に入射する。
【０００７】図８に示すように、上記レンズ２の焦点Ｆ
1 と上記球面ミラ−３の焦点Ｆ2 との間で、レンズ２に
よって集束されたパタ−ンＰと球面ミラ−３によって集
束されたパタ−ンＰとが同じ大きさの矩形状になる位置
には、絶縁被膜４によって被覆された細径ワイヤ５が配
置されている。この細径ワイヤ５は、その絶縁被膜４の
上記レンズ２側に向いた周方向の約半周、つまり前面側
４ａが上記レンズ２からのレ−ザ光Ｌによって照射さ
れ、残りの半周である、球面ミラ−３側を向いた背面側
４ｂは上記球面ミラ−３で反射したレ−ザ光Ｌによって
照射される。
1 と上記球面ミラ−３の焦点Ｆ2 との間で、レンズ２に
よって集束されたパタ−ンＰと球面ミラ−３によって集
束されたパタ−ンＰとが同じ大きさの矩形状になる位置
には、絶縁被膜４によって被覆された細径ワイヤ５が配
置されている。この細径ワイヤ５は、その絶縁被膜４の
上記レンズ２側に向いた周方向の約半周、つまり前面側
４ａが上記レンズ２からのレ−ザ光Ｌによって照射さ
れ、残りの半周である、球面ミラ−３側を向いた背面側
４ｂは上記球面ミラ−３で反射したレ−ザ光Ｌによって
照射される。
【０００８】それによって、上記細径ワイヤ５の外周面
を被覆した絶縁被膜４は、レ−ザ光Ｌによって周方向全
周が軸方向に沿って所定の長さで照射除去される。とこ
ろで、このようにして絶縁被膜４を除去する場合、絶縁
被膜４はレ−ザ光Ｌによって周方向の全長が均一な強度
で照射されないということがあった。つまり、レ−ザ光
Ｌのパタ−ンＰは、図 においてＡで示す箇所（この箇
所を側部箇所という）の方が、ＢとＣで示す箇所（この
箇所を前後部箇所という）に比べて大きい。
を被覆した絶縁被膜４は、レ−ザ光Ｌによって周方向全
周が軸方向に沿って所定の長さで照射除去される。とこ
ろで、このようにして絶縁被膜４を除去する場合、絶縁
被膜４はレ−ザ光Ｌによって周方向の全長が均一な強度
で照射されないということがあった。つまり、レ−ザ光
Ｌのパタ−ンＰは、図 においてＡで示す箇所（この箇
所を側部箇所という）の方が、ＢとＣで示す箇所（この
箇所を前後部箇所という）に比べて大きい。
【０００９】レ−ザ光Ｌは、パタ−ンＰが大きければ、
単位面積当たりのエネルギが低い。そのため、上記絶縁
被膜４は、Ａの箇所がＢ、Ｃの箇所に比べて除去されず
らかったり、残ってしまうなどのことがあり、周方向全
長を均一に除去することができない。しかも、側部箇所
Ａにおいては、レ−ザ光Ｌが絶縁被膜４を、その厚さ方
向に対して大きな傾斜角度で照射するため、そのことに
よっても前後部箇所Ｂ、Ｃに比較して除去しずらいとい
うことがあった。
単位面積当たりのエネルギが低い。そのため、上記絶縁
被膜４は、Ａの箇所がＢ、Ｃの箇所に比べて除去されず
らかったり、残ってしまうなどのことがあり、周方向全
長を均一に除去することができない。しかも、側部箇所
Ａにおいては、レ−ザ光Ｌが絶縁被膜４を、その厚さ方
向に対して大きな傾斜角度で照射するため、そのことに
よっても前後部箇所Ｂ、Ｃに比較して除去しずらいとい
うことがあった。
【００１０】絶縁被膜４の、周方向における側部箇所Ａ
を確実に除去できるようにするためには、出力の大きな
レ−ザ光Ｌを用いることが考えられる。しかしながら、
レ−ザ光Ｌの出力を増大させて絶縁被膜４を除去するよ
うにすると、細径ワイヤ５はミクロンオ−ダで非常に細
いため、その熱によって細径ワイヤ５を熱損させること
になる。
を確実に除去できるようにするためには、出力の大きな
レ−ザ光Ｌを用いることが考えられる。しかしながら、
レ−ザ光Ｌの出力を増大させて絶縁被膜４を除去するよ
うにすると、細径ワイヤ５はミクロンオ−ダで非常に細
いため、その熱によって細径ワイヤ５を熱損させること
になる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】このように、細径ワイ
ヤを被覆した絶縁被膜をレ−ザ光によって照射除去する
場合、従来の手段では周方向全長を均一に除去できない
ということがあった。この発明は上記事情に基づきなさ
れたもので、その目的とするところは、細径ワイヤを被
覆した絶縁被膜を周方向全長にわたって確実に除去でき
るようにしたレ−ザ加工装置を提供することにある。
ヤを被覆した絶縁被膜をレ−ザ光によって照射除去する
場合、従来の手段では周方向全長を均一に除去できない
ということがあった。この発明は上記事情に基づきなさ
れたもので、その目的とするところは、細径ワイヤを被
覆した絶縁被膜を周方向全長にわたって確実に除去でき
るようにしたレ−ザ加工装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載されたこ
の発明は、細径ワイヤを被覆した高分子絶縁被膜をレ−
ザ光の照射で除去するレ−ザ加工装置において、内面が
反射面に形成され一方の焦点位置に軸線方向に沿って上
記細径ワイヤが挿通された中空楕円体と、この中空楕円
体の他方の焦点位置に軸線方向に対して反射面を４５度
の角度で傾斜して配置された反射ミラ−と、この反射ミ
ラ−の反射面に入射する上記レ−ザ光を出力するレ−ザ
装置と、上記反射ミラ−を上記中空楕円体の軸線と平行
かつ上記他方の焦点を通る軸線を中心にして回転させる
ことでその反射面で反射したレ−ザ光を上記中空楕円体
の内面で反射させて上記細径ワイヤが配置された上記一
方の焦点位置に集光させる回転駆動手段とを具備したこ
とを特徴とする。
の発明は、細径ワイヤを被覆した高分子絶縁被膜をレ−
ザ光の照射で除去するレ−ザ加工装置において、内面が
反射面に形成され一方の焦点位置に軸線方向に沿って上
記細径ワイヤが挿通された中空楕円体と、この中空楕円
体の他方の焦点位置に軸線方向に対して反射面を４５度
の角度で傾斜して配置された反射ミラ−と、この反射ミ
ラ−の反射面に入射する上記レ−ザ光を出力するレ−ザ
装置と、上記反射ミラ−を上記中空楕円体の軸線と平行
かつ上記他方の焦点を通る軸線を中心にして回転させる
ことでその反射面で反射したレ−ザ光を上記中空楕円体
の内面で反射させて上記細径ワイヤが配置された上記一
方の焦点位置に集光させる回転駆動手段とを具備したこ
とを特徴とする。
【００１３】請求項２に記載されたこの発明は、請求項
１の発明において、上記中空楕円体は回転楕円体である
ことを特徴とする。請求項３に記載された発明は、請求
項１の発明において、上記中空楕円体は筒状楕円体であ
って、上記レ−ザ装置と上記反射ミラ−との間には、上
記反射ミラ−で反射したレ−ザ光を上記細径ワイヤの軸
線方向と平行な直線状に集束するシリンドリカルレンズ
が上記反射ミラ−と一体に回転するよう配置されている
ことを特徴とする。
１の発明において、上記中空楕円体は回転楕円体である
ことを特徴とする。請求項３に記載された発明は、請求
項１の発明において、上記中空楕円体は筒状楕円体であ
って、上記レ−ザ装置と上記反射ミラ−との間には、上
記反射ミラ−で反射したレ−ザ光を上記細径ワイヤの軸
線方向と平行な直線状に集束するシリンドリカルレンズ
が上記反射ミラ−と一体に回転するよう配置されている
ことを特徴とする。
【００１４】請求項４に記載された発明は、請求項１の
発明において、上記細径ワイヤは、レ−ザ光によって照
射される軸方向の長さを規制するために、先端面を所定
の間隔で離間させた一対の遮光パイプに挿通されること
を特徴とする請求項１記載のレ−ザ加工装置。
発明において、上記細径ワイヤは、レ−ザ光によって照
射される軸方向の長さを規制するために、先端面を所定
の間隔で離間させた一対の遮光パイプに挿通されること
を特徴とする請求項１記載のレ−ザ加工装置。
【００１５】請求項５に記載された発明は、請求項１の
発明において、上記細径ワイヤは、一部が上記レ−ザ光
を透過する透光部に形成され残りの部分がレ−ザ光を遮
断する遮光部に形成された遮光パイプに挿通されている
ことを特徴とする。
発明において、上記細径ワイヤは、一部が上記レ−ザ光
を透過する透光部に形成され残りの部分がレ−ザ光を遮
断する遮光部に形成された遮光パイプに挿通されている
ことを特徴とする。
【００１６】
【作用】請求項１に記載された発明によれば、中空楕円
体の一方の焦点位置に配設された細径ワイヤの外周面
に、他方の焦点位置の反射ミラ−で反射したレ−ザ光が
集束されるから、上記細径ワイヤを被覆した絶縁被膜は
周方向全長にわたって除去される。
体の一方の焦点位置に配設された細径ワイヤの外周面
に、他方の焦点位置の反射ミラ−で反射したレ−ザ光が
集束されるから、上記細径ワイヤを被覆した絶縁被膜は
周方向全長にわたって除去される。
【００１７】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面を参照して説
明する。図１乃至図 はこの発明の第１の実施例を示
し、図中１１は内周面１１ａが鏡面に加工された中空楕
円体としての筒状楕円体１１である。この筒状楕円体１
１の一方の焦点Ｆ1 には、細径ワイヤ１３が、筒状楕円
体１１の軸線Ｏと平行に、しかも一対の遮光パイプ１２
に挿通されて設けられている。一対の遮光パイプ１２
は、これらの先端間を所定の間隔Ｄで離間対向させてい
る。それによって、細径ワイヤ１３の一部が露出してい
る。
明する。図１乃至図 はこの発明の第１の実施例を示
し、図中１１は内周面１１ａが鏡面に加工された中空楕
円体としての筒状楕円体１１である。この筒状楕円体１
１の一方の焦点Ｆ1 には、細径ワイヤ１３が、筒状楕円
体１１の軸線Ｏと平行に、しかも一対の遮光パイプ１２
に挿通されて設けられている。一対の遮光パイプ１２
は、これらの先端間を所定の間隔Ｄで離間対向させてい
る。それによって、細径ワイヤ１３の一部が露出してい
る。
【００１８】なお、細径ワイヤ１３は、図 に示すよう
にポリウレタンなどの絶縁被膜３３によって被覆絶縁さ
れている。上記細径ワイヤ１３は供給リ−ル１４から繰
り出され、巻き取りリ−ル１５に巻き取られるようにな
っている。この実施例では、供給リ−ル１４と巻き取り
リ−ル１５の両方が第１の駆動源１６ａ、１６ｂによっ
て所定の速度で間欠的に同期駆動されて細径ワイヤ１３
を巻き取るようになっている。それによって、細径ワイ
ヤ１３を、テンションを加えることなく、巻き取れるよ
うになっている。
にポリウレタンなどの絶縁被膜３３によって被覆絶縁さ
れている。上記細径ワイヤ１３は供給リ−ル１４から繰
り出され、巻き取りリ−ル１５に巻き取られるようにな
っている。この実施例では、供給リ−ル１４と巻き取り
リ−ル１５の両方が第１の駆動源１６ａ、１６ｂによっ
て所定の速度で間欠的に同期駆動されて細径ワイヤ１３
を巻き取るようになっている。それによって、細径ワイ
ヤ１３を、テンションを加えることなく、巻き取れるよ
うになっている。
【００１９】なお、供給リ−ル１４と巻き取りリ−ル１
５のうち、巻き取りリ−ル１５だけを駆動するようにし
てもよい。上記筒状楕円体１１の他方の焦点Ｆ2 には反
射ミラ−１７が軸線Ｏに対して４５度の角度で傾斜して
配設されている。つまり、反射ミラ−１７はホルダ１８
の一端部内に保持されている。このホルダ１８は他端部
を上記筒状楕円体１１の外部に突出させている。ホルダ
１８の他端部内にはシリンドリカルレンズ１９がその軸
線Ｏ1 を筒状楕円体１１の軸線Ｏに対して直交させて保
持されている。
５のうち、巻き取りリ−ル１５だけを駆動するようにし
てもよい。上記筒状楕円体１１の他方の焦点Ｆ2 には反
射ミラ−１７が軸線Ｏに対して４５度の角度で傾斜して
配設されている。つまり、反射ミラ−１７はホルダ１８
の一端部内に保持されている。このホルダ１８は他端部
を上記筒状楕円体１１の外部に突出させている。ホルダ
１８の他端部内にはシリンドリカルレンズ１９がその軸
線Ｏ1 を筒状楕円体１１の軸線Ｏに対して直交させて保
持されている。
【００２０】上記ホルダ１８の上端面には駆動軸２１が
その軸線をホルダ１８の軸線と一致させて連結されてい
る。この駆動軸２１は第２の駆動源２２に連結されてい
る。したがって、上記ホルダ１８は第２の駆動源２２に
よって回転および上下駆動されるようになっている。
その軸線をホルダ１８の軸線と一致させて連結されてい
る。この駆動軸２１は第２の駆動源２２に連結されてい
る。したがって、上記ホルダ１８は第２の駆動源２２に
よって回転および上下駆動されるようになっている。
【００２１】上記ホルダ１８の下端は開口し、この開口
からはレ−ザ光Ｌが入射する。このレ−ザ光Ｌはレ−ザ
装置２３から出力される。レ−ザ装置２３としてはたと
えばエキシマレ−ザなどが用いられる。
からはレ−ザ光Ｌが入射する。このレ−ザ光Ｌはレ−ザ
装置２３から出力される。レ−ザ装置２３としてはたと
えばエキシマレ−ザなどが用いられる。
【００２２】ホルダ１８に入射したレ−ザ光Ｌは、図２
に示すようにシリンドリカルレンズ１９で一方向に直線
状に集束され、反射ミラ−１７で反射する。ホルダ１８
の周壁の、上記レ−ザ光Ｌが反射ミラ−１７で反射する
方向にはレ−ザ光Ｌを通過させる窓部１８ａが形成され
ている。窓部１８ａは、ホルダ１８の周壁に開口を形成
したり、周壁の一部を透光性とするなどして形成すれば
よく、この実施例では開口によって形成されている。
に示すようにシリンドリカルレンズ１９で一方向に直線
状に集束され、反射ミラ−１７で反射する。ホルダ１８
の周壁の、上記レ−ザ光Ｌが反射ミラ−１７で反射する
方向にはレ−ザ光Ｌを通過させる窓部１８ａが形成され
ている。窓部１８ａは、ホルダ１８の周壁に開口を形成
したり、周壁の一部を透光性とするなどして形成すれば
よく、この実施例では開口によって形成されている。
【００２３】反射ミラ−１７で反射したレ−ザ光Ｌは、
その直線方向を細径ワイヤ１３の軸線方向と平行にして
上記ホルダ１８の窓部１８ａを通過する。上記反射ミラ
−１７で反射して窓部１８ａを通過したレ−ザ光Ｌは、
反射ミラ−１７の回転角度に応じて細径ワイヤ１３の一
対の遮光パイプ１２の先端面から露出した部分を、直接
照射したり、筒状楕円体１１の内周面１１ａで反射して
から照射する。
その直線方向を細径ワイヤ１３の軸線方向と平行にして
上記ホルダ１８の窓部１８ａを通過する。上記反射ミラ
−１７で反射して窓部１８ａを通過したレ−ザ光Ｌは、
反射ミラ−１７の回転角度に応じて細径ワイヤ１３の一
対の遮光パイプ１２の先端面から露出した部分を、直接
照射したり、筒状楕円体１１の内周面１１ａで反射して
から照射する。
【００２４】つぎに、上記構成のレ−ザ加工装置によっ
て細径ワイヤ１３を被覆した絶縁被膜３３を除去する場
合について説明する。一対の遮光パイプ１２の先端間の
間隔Ｄを設定したならば、レ−ザ装置２３を作動させ、
レ−ザ光Ｌを出力する。それと同時に第２の駆動源２２
によってホルダ１８を回転駆動する。
て細径ワイヤ１３を被覆した絶縁被膜３３を除去する場
合について説明する。一対の遮光パイプ１２の先端間の
間隔Ｄを設定したならば、レ−ザ装置２３を作動させ、
レ−ザ光Ｌを出力する。それと同時に第２の駆動源２２
によってホルダ１８を回転駆動する。
【００２５】レ−ザ装置２３から出力されたレ−ザ光Ｌ
はホルダ１８に入射し、シリンドリカルレンズ１９で直
線状に集束されて反射ミラ−１７で反射し、ホルダ１８
の窓部１８ａを通過する。ホルダ１８の窓部１８ａから
出射したレ−ザ光Ｌは、反射ミラ−１７の回転角度に応
じて細径ワイヤ１３の一対の遮光パイプ１２の先端間か
ら露出した部分を直接、あるいは筒状楕円体１１の内周
面１１ａで反射してから照射する。つまり、細径ワイヤ
１３は筒状楕円体１１の一方の焦点Ｆ1 に配置され、反
射ミラ−１７は他方の焦点Ｆ2 に配置されている。
はホルダ１８に入射し、シリンドリカルレンズ１９で直
線状に集束されて反射ミラ−１７で反射し、ホルダ１８
の窓部１８ａを通過する。ホルダ１８の窓部１８ａから
出射したレ−ザ光Ｌは、反射ミラ−１７の回転角度に応
じて細径ワイヤ１３の一対の遮光パイプ１２の先端間か
ら露出した部分を直接、あるいは筒状楕円体１１の内周
面１１ａで反射してから照射する。つまり、細径ワイヤ
１３は筒状楕円体１１の一方の焦点Ｆ1 に配置され、反
射ミラ−１７は他方の焦点Ｆ2 に配置されている。
【００２６】そのため、反射ミラ−１７で反射して筒状
楕円体１１の内周面を照射したレ−ザ光Ｌは他方の焦点
Ｆ2 から一方の焦点Ｆ1 に集光されるから、その焦点Ｆ
1 に配置された細径ワイヤ１３を被覆した絶縁被膜３３
を照射することになる。
楕円体１１の内周面を照射したレ−ザ光Ｌは他方の焦点
Ｆ2 から一方の焦点Ｆ1 に集光されるから、その焦点Ｆ
1 に配置された細径ワイヤ１３を被覆した絶縁被膜３３
を照射することになる。
【００２７】レ−ザ光Ｌによる細径ワイヤ１３の照射を
さらに図３を参照して説明する。ホルダ１８の窓部１８
ａが細径ワイヤ１３と対向する方向を向いている場合、
上記絶縁被膜３３は上記窓部１８ａ側に向いた部分が上
記窓部１８ａから出射したレ−ザ光Ｌ1 によって照射さ
れる。
さらに図３を参照して説明する。ホルダ１８の窓部１８
ａが細径ワイヤ１３と対向する方向を向いている場合、
上記絶縁被膜３３は上記窓部１８ａ側に向いた部分が上
記窓部１８ａから出射したレ−ザ光Ｌ1 によって照射さ
れる。
【００２８】反射ミラ−１７がホルダ１８とともに図３
に矢印Ａで示す時計方向に回転されると、上記ホルダ１
８の窓部１８ａから出射するレ−ザ光Ｌは、Ｌ1 、Ｌ2
、Ｌ2 、…Ｌn の順に筒状楕円体１１の内周面で反射
して絶縁被膜３３を順次照射する。したがって、絶縁被
膜３２は反射ミラ−１７を１回転あるいは複数回転させ
ることで、レ−ザ光Ｌにより細径ワイヤ１３の周方向全
体が照射除去される。
に矢印Ａで示す時計方向に回転されると、上記ホルダ１
８の窓部１８ａから出射するレ−ザ光Ｌは、Ｌ1 、Ｌ2
、Ｌ2 、…Ｌn の順に筒状楕円体１１の内周面で反射
して絶縁被膜３３を順次照射する。したがって、絶縁被
膜３２は反射ミラ−１７を１回転あるいは複数回転させ
ることで、レ−ザ光Ｌにより細径ワイヤ１３の周方向全
体が照射除去される。
【００２９】上記レ−ザ光Ｌは、そのパタ−ンが細径ワ
イヤ１３の軸線方向と平行かつその方向に沿う直線状に
成形されて上記絶縁被膜３３を照射する。そのため、絶
縁被膜３３は周方向におけるどの位置においても同じパ
タ−ン、つまり同じ強度のレ−ザ光Ｌで照射されるか
ら、上記絶縁被膜３３を周方向全体にわたって均一に除
去することができる。
イヤ１３の軸線方向と平行かつその方向に沿う直線状に
成形されて上記絶縁被膜３３を照射する。そのため、絶
縁被膜３３は周方向におけるどの位置においても同じパ
タ−ン、つまり同じ強度のレ−ザ光Ｌで照射されるか
ら、上記絶縁被膜３３を周方向全体にわたって均一に除
去することができる。
【００３０】上記細径ワイヤ１３を被覆した絶縁被膜３
３は、一対の遮光パイプ１２の先端間の間隔Ｄから露出
した部分だけがレ−ザ光Ｌによって照射除去される。そ
のため、一対の遮光パイプ１２の先端間の間隔Ｄを設定
することで、絶縁被膜３３の除去長さを調節することが
できる。
３は、一対の遮光パイプ１２の先端間の間隔Ｄから露出
した部分だけがレ−ザ光Ｌによって照射除去される。そ
のため、一対の遮光パイプ１２の先端間の間隔Ｄを設定
することで、絶縁被膜３３の除去長さを調節することが
できる。
【００３１】このように、絶縁被膜３３を周方向全周に
わたって除去したならば、第１の駆動源１６ａ、１６ｂ
を作動させて細径ワイヤ１３を所定長さ送り、新たな部
分を一対の遮光パイプ１２の先端間に位置させれば、そ
の部分の絶縁被膜３３を細径ワイヤ１３の軸方向に沿っ
て先程と同様に除去することができる。絶縁被膜３３の
除去は、細径ワイヤ１３の送り長さに応じて間欠的ある
いは連続的に行える。
わたって除去したならば、第１の駆動源１６ａ、１６ｂ
を作動させて細径ワイヤ１３を所定長さ送り、新たな部
分を一対の遮光パイプ１２の先端間に位置させれば、そ
の部分の絶縁被膜３３を細径ワイヤ１３の軸方向に沿っ
て先程と同様に除去することができる。絶縁被膜３３の
除去は、細径ワイヤ１３の送り長さに応じて間欠的ある
いは連続的に行える。
【００３２】この第１の実施例において、反射ミラ−１
７に入射するレ−ザ光Ｌは、シリンドリカルレンズ１９
に代わり球面レンズで集光してもよい。その場合、細径
ワイヤ１３を照射するレ−ザ光Ｌの、ワイヤ１３の軸線
方向の長さは、そのスポットの大きさによって定まる
が、その長さを十分に長くしたい場合には、ホルダ１８
を第２の駆動源２２で回転させながら所定のストロ−ク
で上下方向にも往復駆動する。それによって、レ−ザ光
Ｌが照射する細径ワイヤ１３の軸方向に沿う長さを変え
ることができる。
７に入射するレ−ザ光Ｌは、シリンドリカルレンズ１９
に代わり球面レンズで集光してもよい。その場合、細径
ワイヤ１３を照射するレ−ザ光Ｌの、ワイヤ１３の軸線
方向の長さは、そのスポットの大きさによって定まる
が、その長さを十分に長くしたい場合には、ホルダ１８
を第２の駆動源２２で回転させながら所定のストロ−ク
で上下方向にも往復駆動する。それによって、レ−ザ光
Ｌが照射する細径ワイヤ１３の軸方向に沿う長さを変え
ることができる。
【００３３】なお、この場合においても、レ−ザ光Ｌは
絶縁被膜３３の周方向に沿って走査するから、その周方
向を全長にわたって均一な強度で照射することができ
る。また、レ−ザ装置２３から出力されるレ−ザ光Ｌは
多少拡散するものの、指向性を有するから、シリンドリ
カルレンズ１９や球面レンズで集束させずに、反射ミラ
−１７に入射させるようにしても、上記絶縁被膜３３を
照射除去することができる。
絶縁被膜３３の周方向に沿って走査するから、その周方
向を全長にわたって均一な強度で照射することができ
る。また、レ−ザ装置２３から出力されるレ−ザ光Ｌは
多少拡散するものの、指向性を有するから、シリンドリ
カルレンズ１９や球面レンズで集束させずに、反射ミラ
−１７に入射させるようにしても、上記絶縁被膜３３を
照射除去することができる。
【００３４】図４と図５はこの発明の第２の実施例を示
す。この第２の実施例においては、上記第１の実施例と
同一部分に同一記号を付して説明を省略する。この第２
の実施例においては、中空楕円体が第１の実施例に示さ
れた筒状楕円体１１に代わり、内面５１ａが反射面に形
成された回転楕円体５１が用いられている。この回転楕
円体５１は短軸方向に沿う両端部、つまり上部と下部と
が除去されて開口しており、一方の焦点Ｆ1 には細径ワ
イヤ１３が位置されている。他方の焦点Ｆ2 にはホルダ
１８が配置され、このホルダ１８には、反射ミラ−１７
と、シリンドリカルレンズ１９に代わって凸球面レンズ
５２が保持されている。この凸球面レンズ５２は、その
焦点位置を上記反射ミラ−１７の反射面１７ａに一致さ
せている。
す。この第２の実施例においては、上記第１の実施例と
同一部分に同一記号を付して説明を省略する。この第２
の実施例においては、中空楕円体が第１の実施例に示さ
れた筒状楕円体１１に代わり、内面５１ａが反射面に形
成された回転楕円体５１が用いられている。この回転楕
円体５１は短軸方向に沿う両端部、つまり上部と下部と
が除去されて開口しており、一方の焦点Ｆ1 には細径ワ
イヤ１３が位置されている。他方の焦点Ｆ2 にはホルダ
１８が配置され、このホルダ１８には、反射ミラ−１７
と、シリンドリカルレンズ１９に代わって凸球面レンズ
５２が保持されている。この凸球面レンズ５２は、その
焦点位置を上記反射ミラ−１７の反射面１７ａに一致さ
せている。
【００３５】上記ホルダ１８の開口した下端面とレ−ザ
装置２３との間には第３の駆動源５３によってレ−ザ光
Ｌの光路に対し進退駆動されるシャッタ５４が設けられ
ている。このシャッタ５４はレ−ザ光Ｌの光路に適時に
進入することで、絶縁被膜３３の照射時間を制御する。
つまり、シャッタ５４を設けることで、レ−ザ装置２３
の発停とホルダ２３の回転とを制御せずに、レ−ザ光Ｌ
の照射時間を制御を制御できる。
装置２３との間には第３の駆動源５３によってレ−ザ光
Ｌの光路に対し進退駆動されるシャッタ５４が設けられ
ている。このシャッタ５４はレ−ザ光Ｌの光路に適時に
進入することで、絶縁被膜３３の照射時間を制御する。
つまり、シャッタ５４を設けることで、レ−ザ装置２３
の発停とホルダ２３の回転とを制御せずに、レ−ザ光Ｌ
の照射時間を制御を制御できる。
【００３６】このような構成によれば、反射ミラ−１７
の反射面１７ａで反射したレ−ザ光Ｌは三次元方向に拡
散しながらホルダ１８の窓部１８ａから出射する。窓部
１８ａから出射したレ−ザ光Ｌは、回転楕円体５１の内
周面５１ａを、反射ミラ−１７の回転角度に応じて照射
する。つまり、反射ミラ−１７が１回転することで、内
周面５１ａの周方向全体を照射する。
の反射面１７ａで反射したレ−ザ光Ｌは三次元方向に拡
散しながらホルダ１８の窓部１８ａから出射する。窓部
１８ａから出射したレ−ザ光Ｌは、回転楕円体５１の内
周面５１ａを、反射ミラ−１７の回転角度に応じて照射
する。つまり、反射ミラ−１７が１回転することで、内
周面５１ａの周方向全体を照射する。
【００３７】上記回転楕円体５１の内周面５１ａで反射
したレ−ザ光Ｌは、細径ワイヤ１３が配置された一方の
焦点Ｆ1 に三次元方向から集光されてその周方向全長を
照射する。細径ワイヤ１３を被覆した絶縁被膜１３ａが
レ−ザ光Ｌによって三次元方向から照射されることで、
その絶縁被膜１３ａを確実かつ迅速に除去することが可
能となる。
したレ−ザ光Ｌは、細径ワイヤ１３が配置された一方の
焦点Ｆ1 に三次元方向から集光されてその周方向全長を
照射する。細径ワイヤ１３を被覆した絶縁被膜１３ａが
レ−ザ光Ｌによって三次元方向から照射されることで、
その絶縁被膜１３ａを確実かつ迅速に除去することが可
能となる。
【００３８】図６は遮光パイプの変形例を示す第３の実
施例である。この実施例では、細径ワイヤ１３を１本の
透光性のパイプ１２Ａに挿通するようにした。この遮光
パイプ１２Ａは、中途部を除く部分が遮光性の塗料やフ
ィルムなど覆われて遮光部１２ｂに形成され、残りの中
途部が透光部１２ｃとなっている。
施例である。この実施例では、細径ワイヤ１３を１本の
透光性のパイプ１２Ａに挿通するようにした。この遮光
パイプ１２Ａは、中途部を除く部分が遮光性の塗料やフ
ィルムなど覆われて遮光部１２ｂに形成され、残りの中
途部が透光部１２ｃとなっている。
【００３９】このような遮光パイプ１２Ａは第１の実施
例と第２の実施例とに示された２本の遮光パイプ１２に
代わって用いることで、上記各実施例と同様の作用効果
が得られる。
例と第２の実施例とに示された２本の遮光パイプ１２に
代わって用いることで、上記各実施例と同様の作用効果
が得られる。
【００４０】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、中空楕円
体の一方の焦点位置に絶縁被膜で被覆された細径ワイヤ
を配置し、他方の焦点位置に反射ミラ−を配置してレ−
ザ光を入射させるとともに、この反射ミラ−を回転させ
るようにした。
体の一方の焦点位置に絶縁被膜で被覆された細径ワイヤ
を配置し、他方の焦点位置に反射ミラ−を配置してレ−
ザ光を入射させるとともに、この反射ミラ−を回転させ
るようにした。
【００４１】そのため、反射ミラ−で反射したレ−ザ光
は中空楕円体の内面を照射し、その内面で反射して上記
一方の焦点に集まり、その焦点に配置された細径ワイヤ
を周方向全体にわたって照射するから、上記細径ワイヤ
を被覆した絶縁被膜を周方向全体にわたって均一かつ確
実に除去することができる。
は中空楕円体の内面を照射し、その内面で反射して上記
一方の焦点に集まり、その焦点に配置された細径ワイヤ
を周方向全体にわたって照射するから、上記細径ワイヤ
を被覆した絶縁被膜を周方向全体にわたって均一かつ確
実に除去することができる。
【図１】この発明の第１の実施例を示す筒状楕円体の長
軸方向に沿う断面図。
軸方向に沿う断面図。
【図２】同じく図１のＸ−Ｘ線方向から見た側面図。
【図３】同じく反射ミラ−を回転させたときのレ−ザ光
の光路を示す説明図。
の光路を示す説明図。
【図４】この発明の第２の実施例を示す回転楕円体の長
軸方向に沿って断面した断面図。
軸方向に沿って断面した断面図。
【図５】同じく平面図。
【図６】この発明の第３の実施例を示す遮光パイプの側
面図。
面図。
【図７】従来のレ−ザ加工装置の斜視図。
【図８】同じく作用を示す説明図。
１１…筒状楕円体（中空楕円体）、１１ａ…反射面、１
２、１２Ａ…遮光パイプ、１３…細径ワイヤ、１３ａ…
絶縁被膜、１７…反射ミラ−、１７ａ…反射面、１９…
シリンドリカルレンズ、２２…第２の駆動源（回転駆動
手段）、２３…レ−ザ装置。
２、１２Ａ…遮光パイプ、１３…細径ワイヤ、１３ａ…
絶縁被膜、１７…反射ミラ−、１７ａ…反射面、１９…
シリンドリカルレンズ、２２…第２の駆動源（回転駆動
手段）、２３…レ−ザ装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２３Ｋ 26/06 Ｊ Ｈ０１Ｒ 43/28 6901−5Ｂ
Claims (5)
- 【請求項１】 細径ワイヤを被覆した高分子絶縁被膜を
レ−ザ光の照射で除去するレ−ザ加工装置において、 内面が反射面に形成され一方の焦点位置に軸線方向に沿
って上記細径ワイヤが挿通された中空楕円体と、この中
空楕円体の他方の焦点位置に軸線方向に対して反射面を
４５度の角度で傾斜して配置された反射ミラ−と、この
反射ミラ−の反射面に入射する上記レ−ザ光を出力する
レ−ザ装置と、上記反射ミラ−を上記中空楕円体の軸線
と平行かつ上記他方の焦点を通る軸線を中心にして回転
させることでその反射面で反射したレ−ザ光を上記中空
楕円体の内面で反射させて上記細径ワイヤが配置された
上記一方の焦点位置に集光させる回転駆動手段とを具備
したことを特徴とするレ−ザ加工装置。 - 【請求項２】 上記中空楕円体は回転楕円体であること
を特徴とする請求項１記載のレ−ザ加工装置。 - 【請求項３】 上記中空楕円体は筒状楕円体であって、
上記レ−ザ装置と上記反射ミラ−との間には、上記反射
ミラ−で反射したレ−ザ光を上記細径ワイヤの軸線方向
と平行な直線状に集束するシリンドリカルレンズが上記
反射ミラ−と一体に回転するよう配置されていることを
特徴とする請求項１記載のレ−ザ加工装置。 - 【請求項４】 上記細径ワイヤは、レ−ザ光によって照
射される軸方向の長さを規制するために、先端面を所定
の間隔で離間させた一対の遮光パイプに挿通されること
を特徴とする請求項１記載のレ−ザ加工装置。 - 【請求項５】 上記細径ワイヤは、一部が上記レ−ザ光
を透過する透光部に形成され残りの部分がレ−ザ光を遮
断する遮光部に形成された遮光パイプに挿通されている
ことを特徴とする請求項１記載のレ−ザ加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14436194A JP3313511B2 (ja) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | レ−ザ加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14436194A JP3313511B2 (ja) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | レ−ザ加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0819139A true JPH0819139A (ja) | 1996-01-19 |
| JP3313511B2 JP3313511B2 (ja) | 2002-08-12 |
Family
ID=15360322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14436194A Expired - Fee Related JP3313511B2 (ja) | 1994-06-27 | 1994-06-27 | レ−ザ加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3313511B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003079067A1 (en) * | 2002-03-18 | 2003-09-25 | Ntt Electronics Corporation | Method and device for manufacturing bare optical fiber |
| WO2007125677A1 (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Phoeton Corp. | シールド導体層の切断方法及びレーザ加工装置 |
| JP2008036639A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
| WO2011013666A1 (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-03 | 新日本製鐵株式会社 | レーザ処理装置及び容器製造装置 |
| CN112164961A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-01-01 | 长春理工大学 | 航空线束端头激光加工设备 |
-
1994
- 1994-06-27 JP JP14436194A patent/JP3313511B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003079067A1 (en) * | 2002-03-18 | 2003-09-25 | Ntt Electronics Corporation | Method and device for manufacturing bare optical fiber |
| WO2007125677A1 (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Phoeton Corp. | シールド導体層の切断方法及びレーザ加工装置 |
| JP2008036639A (ja) * | 2006-08-01 | 2008-02-21 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ加工方法およびレーザ加工装置 |
| US8101885B2 (en) | 2006-08-01 | 2012-01-24 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Laser processing method and laser processing apparatus |
| WO2011013666A1 (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-03 | 新日本製鐵株式会社 | レーザ処理装置及び容器製造装置 |
| JP4719321B2 (ja) * | 2009-07-28 | 2011-07-06 | 新日本製鐵株式会社 | レーザ処理装置及び容器製造装置 |
| CN102470485A (zh) * | 2009-07-28 | 2012-05-23 | 新日本制铁株式会社 | 激光处理装置及容器制造装置 |
| CN102470485B (zh) * | 2009-07-28 | 2014-12-31 | 新日铁住金株式会社 | 激光处理装置及容器制造装置 |
| US9221123B2 (en) | 2009-07-28 | 2015-12-29 | Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation | Laser processing apparatus and container manufacturing apparatus |
| CN112164961A (zh) * | 2020-09-29 | 2021-01-01 | 长春理工大学 | 航空线束端头激光加工设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3313511B2 (ja) | 2002-08-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |