JPH08192044A - シートの連続表面処理方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 大気圧近傍の圧力下においても、かつシート
走行速度を速くしても、連続的にシートの表面処理が可
能であるシートの連続表面処理方法及びその装置を提供
する。 【構成】 不活性ガスと処理ガスとの混合ガスを大気圧
近傍の圧力下で充満させた処理容器内に、一対の金属対
向電極を配設し、前記金属対向電極の間にシートを連続
的に走行させつつ、前記金属対向電極間に電圧を印加し
て放電プラズマを発生させることにより前記シート表面
を処理するシートの連続表面処理方法において、前記処
理容器内へのシート導入口及び前記処理容器内からのシ
ート排出口が、混合ガスの漏れを許容しうる程度の非気
密状態にシールされており、前記金属対向電極のうちの
少なくとも一方の対向面の表面が、固体誘電体により完
全に覆われており、前記混合ガスを、前記シートの表面
にその走行方向と逆の方向から連続的に接触させること
を特徴とするシートの連続表面処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シートの連続表面処理
方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラスチック、金属、紙、繊維等からな
るシートは、家電部材、自動車部品等として汎用されて
いるが、これらシートの利用価値を高める目的で、シー
ト成形後にその表面処理が行われることが多い。このよ
うな表面処理としては、例えば、シート表面に官能基層
を形成したり、放電プラズマによりラジカル層を形成し
たりしてシート表面エネルギーを制御し、また、親水
性、撥水性等を付与して濡れ性、接着性等を改質し、更
には、電気特性、光学特性等に優れた機能を有する膜を
形成させる等が挙げられる。

【０００３】従来、シートの表面を改質し、優れた機能
を有する膜を表面に形成する方法としては、大気圧下で
のコロナ放電処理による方法、減圧下でのグロー放電に
よるプラズマ処理法、プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ
法等が知られている。

【０００４】大気圧下でのコロナ放電処理による方法
は、シートの表面処理のドライプロセスとして実用化さ
れているが、この方法は、シートの表面を酸化させ、親
水化させるのみであり、例えば、撥水性に改良したり、
薄膜をコーティングする等は困難であった。

【０００５】減圧下でのグロー放電によるプラズマ処理
法は、表面処理の種々の目的に対応し得る処理方法とし
て、産業的にも広く応用されている。しかし、この処理
方法は、０．０１〜１０Ｔｏｒｒの低圧領域でのグロー
放電プラズマを用いるので、密閉槽、ポンプ等が必要に
なり、装置が大掛かりなものになる等の欠点を有してい
た。

【０００６】また、連続的にシートの表面処理を行う方
法としては、長尺のシートをロール状に巻き上げたもの
を真空チャンバー内に入れ、チャンバー内でロールから
シートを随時に引き出してシート表面に随時処理を施す
バッチ方式、大気圧下から減圧下へ徐々に排気を行う差
動排気方式により処理する方法等が知られている。しか
し、これらの連続処理方法についても、処理室内を排気
するために大容量を有する非常に大きなポンプが必要に
なるので、処理装置の大型化が避けられない欠点を有し
ている。

【０００７】例えば、シート表面の連続処理を、種々の
目的に対応し得るように減圧下でのグロー放電により行
う場合には、上述のバッチ方式が用いられるが、この処
理方法では、例えば、表面処理を施すシートが吸水性の
高いプラスチック製シート等である場合、真空引きに長
時間を要したり、ロール等の走行系が高価になるため
に、処理品がコスト高となる欠点があった。

【０００８】特開平３−１４３９３０号公報には、大気
圧下でシートを連続的に表面処理するために、処理容器
内をヘリウムガス等の混合ガスに置換した後、混合ガス
を連続的に導入しつつ大気圧下にシートを非気密状態に
シールされた導入口から導入してプラズマ放電処理を連
続的に施す技術が開示されている。しかしながら、この
方法では、シートの走行速度が約３ｍ／分を超えると、
外部空気の巻き込みにより、放電プラズマ中に空気が混
入し、目的を達成することが困難となる欠点を有してい
た。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記に鑑
み、大気圧近傍の圧力下においても、かつシート走行速
度を速くしても、連続的にシートの表面処理が可能であ
るシートの連続表面処理方法及びその装置を提供するこ
とを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、不活性
ガスと処理ガスとの混合ガスを大気圧近傍の圧力下で充
満させた処理容器内に、一対の金属対向電極を配設し、
前記金属対向電極の間にシートを連続的に走行させつ
つ、前記金属対向電極間に電圧を印加して放電プラズマ
を発生させることにより前記シート表面を処理するシー
トの連続表面処理方法において、前記処理容器内へのシ
ート導入口及び前記処理容器内からのシート排出口が、
混合ガスの漏れを許容しうる程度の非気密状態にシール
されており、前記金属対向電極のうちの少なくとも一方
の対向面の表面が、固体誘電体により完全に覆われてお
り、前記混合ガスを、前記シートの表面にその走行方向
と逆の方向から連続的に接触させるところに存する。

【００１１】本発明で使用される不活性ガスとしては特
に限定されず、例えば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、
キセノン等の希ガス；窒素ガス等が挙げられるが、好ま
しくは、ヘリウムガスである。ヘリウムガスは、準安定
状態の寿命が長いので、上記処理ガスを励起するのに有
利である。上記不活性ガスは、単独で用いてもよく、２
種以上を併用してもよい。上記不活性ガスとしてヘリウ
ムガス以外のガスを用いる場合には、例えば、アセト
ン、メタノール等の有機物蒸気；メタン、エタン等の炭
化水素ガス等を、０〜２体積％混合するのが好ましい。

【００１２】本発明では、上記不活性ガスに処理ガスを
混合して処理容器内に充満させる。上記処理ガスは、表
面処理の目的に応じて選択する。上記処理ガスとして
は、表面エネルギーを低くし、撥水性を付与する場合に
は、基板表面にふっ素を化学結合させる含ふっ素ガスを
選択する。上記含ふっ素ガスとしては特に限定されず、
例えば、４ふっ化炭素、６ふっ化炭素、６ふっ化プロピ
レン等のふっ化炭化水素ガス；１塩素化３ふっ素化炭素
ガス等のハロゲン化炭化水素ガス；６ふっ化硫黄等のふ
っ化硫黄化合物等が挙げられるが、好ましくは、４ふっ
化炭素、６ふっ化炭素、６ふっ化プロピレン等である。
これらは安全であり、ふっ化水素等の有害なガスが生成
しない。

【００１３】また上記処理ガスとしては、表面エネルギ
ーを高くし、親水性を付与する場合には、例えば、カル
ボニル基、ヒドロキシル基、アミノ基等の官能基を有す
る層を表面に形成させる炭化水素化合物のガスやその蒸
気を選択する。

【００１４】上記カルボニル基、ヒドロキシル基、アミ
ノ基等の官能基を有する層を表面に形成させる炭化水素
化合物のガスとしては特に限定されず、例えば、メタ
ン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン等
のアルカン系ガス類；エチレン、プロピレン、ブテン、
ペンテン等のアルケン系ガス類；ペンタジエン、ブタジ
エン等のアルカジエン系ガス類；アセチレン、メチルア
セチレン等のアルキン系ガス類；ベンゼン、トルエン、
キシレン、インデン、ナフタレン、フェナントレン等の
芳香族炭化水素系ガス類；シクロプロパン、シクロヘキ
サン等のシクロアルカン系ガス類；シクロベンテン、シ
クロヘキセン等のシクロアルケン系ガス類；メタノー
ル、エタノール等のアルコール系ガス類；アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン系ガス類；メタナール、エ
タナール等のアルデヒド系ガス類等が挙げられる。これ
らは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
また、酸素ガス、酸素ガスと水素ガスとの混合ガスやそ
の蒸気、窒素ガスと水素ガスとの混合ガス、アンモニア
ガス等を用いてもよい。

【００１５】電気的、光学的に高機能である二酸化けい
素、二酸化チタン、酸化第二すず等の金属酸化物薄膜を
表面に形成する場合には、上記処理ガスとしては、例え
ば、金属水素ガス；金属ハロゲン化ガス；金属アルコラ
ート等の金属有機化合物のガスやその蒸気等を選択す
る。

【００１６】上記不活性ガス及び上記処理ガスの混合比
は、用いられるガスの種類により適宜選択される。好ま
しくは、上記処理ガスの濃度が、０〜１０体積％であ
り、より好ましくは、０．１〜５体積％である。１０体
積％を超えると、高電圧を印加しても、放電プラズマが
発生し難くなる。

【００１７】本発明においては、上記混合ガスの処理容
器内における圧力を、大気圧近傍の圧力下に維持する。
上記大気圧近傍の圧力下の圧力としては、１００〜８０
０Ｔｏｒｒが好ましく、より好ましくは、７００〜７８
０Ｔｏｒｒである。７００〜７８０Ｔｏｒｒであると、
圧力調整が容易になり、装置が簡便になる。

【００１８】本発明においては、処理容器内に一対の金
属対向電極を配設する。上記金属対向電極としては特に
限定されず、例えば、ステンレス、真ちゅう等の多成分
系の金属からなるもの；銅、アルミニウム等の純金属か
らなるもの等が挙げられる。

【００１９】上記一対の金属対向電極は、その少なくと
も一方の対抗面の表面が、固体誘電体により完全に覆わ
れている。上記一対の金属対向電極の間への印加によ
り、上記金属対向電極間に所望の放電プラズマを発生さ
せることができる。上記固体誘電体が、上記一対の金属
対向電極のうちの少なくとも一方の対向面の表面を完全
に覆っていない場合には、その部分からアーク放電が生
じるので、上記固体誘電体の配設は、上記の構造に限定
される。

【００２０】上記固体誘電体の材質としては特に限定さ
れず、例えば、ポリフルオロエチレン、ポリエチレンテ
レフタレート等のプラスチック；二酸化けい素、パイレ
ックスガラス、酸化アルミニウム、二酸化チタン等のガ
ラスやセラミックス等が挙げられる。これらは、シート
状で用いてもよく、フィルム状で用いてもよい。上記固
体誘電体の厚みは、０．０５〜４ｍｍが好ましい。０．
０５ｍｍ未満であると、高電圧印加時に、絶縁破壊が起
こりアーク放電が生じ、４ｍｍを超えると、放電し難く
なる。

【００２１】本発明においては、表面処理に供されるシ
ートは、上記金属対向電極の間を連続的に走行させるよ
うに処理容器内に導入され、排出される。上記シートの
導入及び排出は、公知の通常の方法により行うことがで
きる。処理容器へのシート導入口、及び、処理容器から
のシート排出口は、混合ガスの漏れを許容しうる程度の
非気密状態にシールされる。処理容器内の混合ガスは大
気圧近傍の圧力下にあり、上記シールにより、混合ガス
が処理容器の外に漏れることを遮断する必要性はない。

【００２２】本発明においては、上記混合ガスにより処
理容器内の空気を置換した後、上記混合ガスを上記処理
容器内に連続的に導入する。上記混合ガスの導入は、上
記シートを上記金属対向電極の間に連続的に走行させつ
つ、上記混合ガスを、上記シートの表面にその走行方向
と逆の方向から連続的に接触させることにより行う。上
記逆の方向については、後に詳しく例示をもって説明す
る。本発明においては、シートの表面に接触させるよう
に上記混合ガスを供給することにより、放電プラズマ中
に空気が巻き込むことを減少させることができ、これに
より処理能力の低下を未然に防ぐことができる。

【００２３】本発明２のシートの連続表面処理装置は、
不活性ガスと処理ガスとの混合ガスを大気圧近傍の圧力
下で充満させた処理容器内に、一対の金属対向電極を配
設し、前記金属対向電極の間にシートを連続的に走行さ
せつつ、前記金属対向電極間に電圧を印加して放電プラ
ズマを発生させることにより前記シート表面を処理する
ように構成したシートの連続表面処理装置において、前
記処理容器内へのシート導入口及び前記処理容器内から
のシート排出口が、混合ガスの漏れを許容しうる程度の
非気密状態にシールされており、前記金属対向電極のう
ちの少なくとも一方の対向面の表面が、固体誘電体によ
り完全に覆われており、前記混合ガスを前記シートの表
面にその走行方向と逆の方向から連続的に接触させるよ
うに配設したガス流発生機構を有することよりなるもの
である。

【００２４】上記シートの連続表面処理装置としては、
例えば、次のようなものが挙げられる。図１は、上記シ
ートの連続表面処理装置の一例の断面図である。図１の
装置は、電源部１、処理容器２、上部電極３、下部電極
４、ターボブロアーによるガス流発生機構５、シート
６、シート導入口７、シート排出口８、固体誘電体９、
ガス導入管１０、ガス排出口１１、固体誘電体製側壁１
２、ガス流路１３、及び、シート走行系一式から構成さ
れる。

【００２５】上記電源部１は、ｋＨｚ台の周波数の電圧
が印加可能であれば特に限定されず、例えば、耐熱性の
低いプラスチック製シートの表面処理を行う場合には、
１〜３０ｋＨｚの電圧が印加可能であるものが好まし
い。放電プラズマは、上記電源部１による電圧の印加に
よって発生させる。上記電圧は、例えば、上記上部電極
３及び上記下部電極４の形状、上記固体誘電体９の厚み
や種類、上記上部電極３と上記下部電極４との間の距離
等により適宜決められる。好ましくは、電界強度が、１
〜４０ｋＶ／ｃｍである。１ｋＶ／ｃｍ未満であると、
処理に時間がかかり、上記シート６の走行時間が遅くな
り、４０ｋＶ／ｃｍを超えると、アーク放電に移行する
挙動を示す。

【００２６】上記処理容器２としては特に限定されず、
例えば、ステンレス製のもの（ＳＵＳ３０４）、他の金
属製のもの、ガラス製のもの、プラスチック製のもの等
があげらる。上記処理容器２には、その両側壁に、上記
シート６が導入されるシート導入口７と上記シート６の
表面処理終了部が排出されるシート排出口８とがそれぞ
れ設けられている。

【００２７】上記シート６は、上記処理容器２外部に設
けられたロールによって、上記シート導入口７から上記
シート排出口８へと搬送される。上記シート導入口７及
び上記シート排出口８は、上記処理容器２内部の充満ガ
スの漏れを許容しうる程度の非気密状態にシールされて
おり、例えば、ポンプによりわずかに連続的に排気可能
である構造を有しているもの等が好ましい。また、上記
シート導入口７及び上記シート排出口８は、バルブによ
り開閉可能である機構を有しており、開状態で上記シー
ト６を配置及び撤去し、閉状態で表面処理を行う。

【００２８】上記上部電極３及び上記下部電極４の配置
構造としては特に限定されず、図１に示された平行平板
型構造のほか、例えば、平行平板型構造、同軸円筒型構
造、円筒対向平板型構造、球対向平板型構造、双曲面対
向型構造、複数の細線と対向する平板からなる構造等が
挙げられる。上記上部電極３と上記下部電極４との間の
距離は、固体誘電体９の厚み、シート６の厚み、印加電
圧の大きさ等により適宜決定される。好ましくは、１〜
３０ｍｍである。１ｍｍ未満であると、上記シート６
が、走行中に上記上部電極３に触れ傷つく可能性があ
り、３０ｍｍを超えると、放電プラズマの均一性が損な
われる。

【００２９】上記上部電極３及び上記下部電極４は、図
１に示されたように上記上部電極３を接地側として、上
記下部電極４を負荷側としてもよく、上記上部電極３を
負荷側して、上記下部電極４を接地側としてもよい。

【００３０】上記上部電極３の幅及び上記下部電極４の
幅は、上記シート６の幅と同等又はそれ以上が好まし
い。上記上部電極３の長さ及び上記下部電極４の長さ
は、適宜決定され、好ましくは、上記上部電極３の幅又
は上記下部電極４の幅以下である。上記上部電極３の幅
又は上記下部電極４の幅を超えると、放電プラズマの均
一性が損なわれる。また、上記上部電極３の長さ及び上
記下部電極４の長さがより長くなると、上記上部電極３
の面積及び上記下部電極４の面積が大きくなり、上記シ
ート６が放電プラズマに接触する距離が長くなるので、
走行速度が高めるられるが、面積増加に伴い、印加電圧
が大きくなるので、電源、安全設備等の装置が高価にな
る。

【００３１】図１では、１組の電極しか示されていない
が、必要に応じて、多数組の電極を設置し、上記シート
６が放電プラズマに接触する距離を長くし、高速で上記
シートを走行させてもよい。

【００３２】上記固体誘電体９は、上記金属電極のうち
少なくとも一方の対向面の表面を完全に覆っている。上
記固体誘電体９は、図１に示されるように上記下部電極
４の上記上部電極３に臨む面に配設されてもよく、上記
上部電極３の上記下部電極４に臨む面に配設されてもよ
い。上記シート６が金属等の導電性材料の場合には、上
記上部電極３側及び上記下部電極４側に配設することが
好ましい。

【００３３】図１のシートの連続表面処理装置は、上記
混合ガスを上記シート６の表面にその走行方向と逆の方
向から連続的に接触させるように配設したガス流発生機
構を有している。上記ガス流発生機構としては、例え
ば、図１に示されるシート排出側から導入側にポンプや
ブロアー等で電極間の空間に存在する混合ガスを循環さ
せるガス流発生機構５のほか、例えば、図２に示される
ノズル状のガス供給器によってガスを吹き出すガス流発
生機構、図３に示されるシートの処理面に対向する電極
に所望の方向に上記混合ガスを供給する孔を設けて、ガ
スを吹き出すガス流発生機構、図４に示されるシート導
入側電極端部付近からポンプで吸い込むガス流発生機
構、図５に示されるシート排出側電極端部付近からポン
プやブロアー等でガスを吹き出すガス流発生機構、図６
に示されるファンで送風するガス流発生機構等が挙げら
れる。

【００３４】図２の１４、図３の１５、図４、図５の１
６、図６の１７は、上記ガス流発生機構をそれぞれ表
す。図６の１７は、送風機である。

【００３５】処理容器側壁に反射するガス流の影響が少
なく、ガスの再利用が容易であるので、上記ガス流発生
機構５が、特に好ましい。上記ガス発生機構５は、シー
ト導入口７側にガス吹き出し口より口径が大きいガス吸
い込み口を有し、シート排出口８側にスリット状のガス
吹き出し口を有しているものが好ましい。こうすると、
均一な高速ガス流が発生しやすくなり、混合ガスの消費
効率がよい。上記ガス流を効率良く発生させるために、
図１に示されるように、ガス流が通らない側には、上記
固体誘電体を用いた固体誘電体製側壁を設けてもよい。

【００３６】図１の連続表面処理装置は、上記シート６
の処理を行う片面側にガス流を発生させているが、両面
処理を行う場合には、上記シート６の両側で上記ガス流
を発生させてもよい。また、ガス流路１３の途中に処理
用ガス濃度検出用センサーを配置し、ガス流中の混合ガ
ス濃度制御を行ったり、不要ガスの分離器を設けて混合
ガスの純度制御等を行ってもよい。

【００３７】上記混合ガスは、流量制御され、ガス導入
管１０から処理容器２内部に導入される。上記混合ガス
は、不活性ガスの流量や質量と、処理用ガスの流量や質
量とが異なるので、ガス混合器で充分混合してから上記
処理容器２内に導入するのが好ましい。上記処理容器２
内の過剰な混合ガスは、ガス排出口１１から排出され、
その後、大気放出されてもよいし、再び上記処理容器２
内に導入されてもよい。

【００３８】上記ガス流発生機構から供給される上記混
合ガスの流速は、上記シートの走行速度、上記シートの
導入に要する導入口の気密性、上記シートの種類等によ
って適宜選択される。好ましくは、上記シートの走行速
度以上である。

【００３９】本発明のシートの連続表面処理方法及び装
置の対象となるシートとしては特に限定されず、例え
ば、プラスチック、金属、ガラス、紙、繊維、不織布等
が挙げられる。これらは、緻密でもよく、多孔質でもよ
い。

【００４０】上記プラスチックとしては、例えば、ポリ
エチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等
のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン；ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビ
ニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル等が挙
げられる。

【００４１】上記プラスチックがフィルムである場合、
上記フィルムは、延伸でもよく、未延伸でもよい。上記
金属としては、例えば、ステンレス系鋼、炭素鋼、超鋼
等の汎用合金；アルミニウム、銅、ニッケル等の単成分
からなる金属等が挙げられる。

【００４２】上記シートの厚みは、用途に応じて適宜選
択される。好ましくは、０〜２００μｍである。２００
μｍを超えると、上記シート導入口のシール又は上記シ
ート排出口のシールで起こる外部空気の侵入や上記混合
ガスの漏れが、許容範囲以上になる可能性がある。

【００４３】上記シートは、公知の方法により、表面洗
浄や表面活性化の処理が行われたものでもよい。上記シ
ートは、必要に応じて加熱又は冷却されてもよいが、撥
水性や親水性を付与する場合は、室温以下で充分であ
る。

【００４４】

【作用】本発明のシートの連続表面処理方法は、混合ガ
スをシートの表面にその走行方向と逆の方向から連続的
に接触させるので、放電プラズマ中の巻き込み空気が減
少され、大気圧近傍の圧力下で高速で連続的にシートの
連続表面処理を行うことができる。

【００４５】

【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。

【００４６】実施例１〜３ ガス流発生器５としてターボブロアーで循環させる機構
を具した図２に示した装置（電極幅３５０×長さ１５０
ｍｍ）を用い、以下に示した操作により、厚み５０μ
ｍ、幅３００ｍｍのポリエチレンテレフタレート（東レ
社製ルミラーＴ５０、接触角７０度）フィルムの表面に
表１に示した処理条件で撥水処理を施した。処理後のフ
ィルム表面の静的接触角を測定した。

【００４７】静的接触角の測定は、処理後のフィルムか
ら任意に１ｍ切り出し、２ｍｍの水滴を１０ｃｍ間隔で
液滴し共和界面科学社製の接触角測定装置（商品名ＣＡ
−Ｘ１５０）を用いて静的接触角を測定し、最大値及び
最小値を表１に併記した。

【００４８】＜操作＞まず、被処理体であるポリエチレ
ンテレフタレートフィルム巻重体を巻き出しロールにセ
ットし、フィルムを導入口７→電極間→排出口８の順で
通し、巻き取りロールに固定した。その後、導入口７、
排出口８を閉じ、処理容器２内部の空気をガス導入管１
１から所定のガス流量の混合ガスを供給して置換し大気
圧とした。続いて、ガス流発生器５によって電極間に所
望の流速のガス流を発生させ、巻き取りロールを回転し
導入口７から排出口８の方向に所定の速度でフィルムを
連続的走行させた後、電圧を印加し電極間に放電プラズ
マを発生させ連続的に処理した。

【００４９】比較例１ ガス流発生器５を具していないこと以外は、実施例と同
様な装置で、実施例１の操作及び条件で同様にして表面
処理を行った。その結果、静的接触角は、４５〜５８度
を示し、親水化されていることが明らかとなった。そこ
で、走行速度３ｍ／分で同様に処理を行ったところ、１
００〜１０７度の接触角を示し、撥水性に表面処理され
た。

【００５０】実施例４及び５ 親水化処理を目的に、実施例１〜３で用いた装置、操作
で、表１に示す条件で表面処理を行った。接触角測定の
結果も表１に併記した。

【００５１】

【表１】

【００５２】実施例から明らかなように、本発明は、従
来技術に比べ高速で均一な連続的な表面処理が可能であ
る。

【００５３】

【発明の効果】本発明のシートの連続表面処理方法及び
装置は、上述の構成よりなるので、シートの表面を均一
かつ比較的高速で連続的に表面処理でき、容易に表面処
理工程をインライン化できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のシートの連続表面処理装置の模式断面
図。

【図２】ガス流発生機構の例を示す模式図。

【図３】ガス流発生機構の例を示す模式図。

【図４】ガス流発生機構の例を示す模式図。

【図５】ガス流発生機構の例を示す模式図。

【図６】ガス流発生機構の例を示す模式図。

【符号の説明】 １ 電源部 ２ 処理容器 ３ 上部電極 ４ 下部電極 ５ ターボブロアーによるガス流発生機構 ６ シート ７ シート導入口 ８ シート排出口 ９ 固体誘電体 １０ ガス導入管 １１ ガス排出口 １２ 固体誘電体製側壁 １３ ガス流路 １４ ノズル １５ 多数の孔が設けられた電極 １６ ポンプ １７ 送風器

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 不活性ガスと処理ガスとの混合ガスを大
   気圧近傍の圧力下で充満させた処理容器内に、一対の金
   属対向電極を配設し、前記金属対向電極の間にシートを
   連続的に走行させつつ、前記金属対向電極間に電圧を印
   加して放電プラズマを発生させることにより前記シート
   表面を処理するシートの連続表面処理方法において、前
   記処理容器内へのシート導入口及び前記処理容器内から
   のシート排出口が、混合ガスの漏れを許容しうる程度の
   非気密状態にシールされており、前記金属対向電極のう
   ちの少なくとも一方の対向面の表面が、固体誘電体によ
   り完全に覆われており、前記混合ガスを、前記シートの
   表面にその走行方向と逆の方向から連続的に接触させる
   ことを特徴とするシートの連続表面処理方法。
2. 【請求項２】 不活性ガスと処理ガスとの混合ガスを大
   気圧近傍の圧力下で充満させた処理容器内に、一対の金
   属対向電極を配設し、前記金属対向電極の間にシートを
   連続的に走行させつつ、前記金属対向電極間に電圧を印
   加して放電プラズマを発生させることにより前記シート
   表面を処理するように構成したシートの連続表面処理装
   置において、前記処理容器内へのシート導入口及び前記
   処理容器内からのシート排出口が、混合ガスの漏れを許
   容しうる程度の非気密状態にシールされており、前記金
   属対向電極のうちの少なくとも一方の対向面の表面が、
   固体誘電体により完全に覆われており、前記混合ガスを
   前記シートの表面にその走行方向と逆の方向から連続的
   に接触させるように配設したガス流発生機構を有するこ
   とを特徴とするシートの連続表面処理装置。