JPH08192121A

JPH08192121A - 洗浄装置

Info

Publication number: JPH08192121A
Application number: JP433595A
Authority: JP
Inventors: Koji Hara; 浩二原; Hiroko Takehara; 裕子竹原; Megumi Hamano; 恵浜野
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1995-01-13
Filing date: 1995-01-13
Publication date: 1996-07-30

Abstract

(57)【要約】【目的】低濃度の薬液でＳｉウエハに付着している金
属不純物を溶解し、かつ再付着させない洗浄装置を提供
する。【構成】Ｓｉウエハ７を浸漬して洗浄し、イオン交換
水もしくは電解質を含む水溶液を収納するために陽イオ
ン交換膜１で区切られた陽極槽２、陰極槽３とからなる
洗浄槽と、前記陽極槽２、陰極槽３とに各々配置した電
極４、５と、前記両電極４、５に接続され、これらに水
の電解電圧以上の電圧を印加し、陽極槽２側でｐＨが低
く酸化還元電位が高い電解水を生成させる直流電源６と
を具備したものである。電解質を含む水溶液を電解処理
して得られる酸性で酸化還元電位の高い電解水で洗浄す
る洗浄装置がえられる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置に係り、電解
質溶液の電解により生成されるｐＨが低く酸化還元電位
の高い電解水を用いて洗浄を行なう洗浄装置に関するも
のである。

【０００２】

【従来の技術】超ＬＳＩ製造プロセスにおいて、Ｓｉウ
エハ上のパ−ティクル、金属不純物、有機汚染物質、表
面被膜などのコンタミネ−ションは、製品の歩留まりや
製品の信頼性に大きな影響を及ぼしている。重金属のよ
うな金属不純物は極微量でもウエハの表面に付着してい
ると、リ−ク電流の増加、絶縁耐圧低下、結晶欠陥誘発
等によるデバイスの電気特性に悪影響をもたらす。その
ため、製造プロセスでの洗浄工程は大変重要である。

【０００３】上記コンタミネ−ションを除去する洗浄方
法には、月刊セミコンダクタ− ワ−ルド（Ｓｅｍｉｃ
ｏｎｄｕｃｔｏｒＷｏｒｌｄ）１９９２．３Ｐ．１０
６〜１１０に記載されているように、ＮＨ₄ＯＨ／Ｈ₂Ｏ
₂溶液、ＨＣｌ／Ｈ₂Ｏ₂溶液、希ＨＦ溶液、Ｈ₂ＳＯ₄／
Ｈ₂Ｏ₂溶液といった薬液を使用するウエット洗浄が一般
的であった。

【０００４】前記ウエット洗浄のうち、Ｓｉウエハに付
着している金属不純物の除去には、主としてＨＣｌ／Ｈ
₂Ｏ₂溶液を使用する方法が用いられているが、前記溶液
は２規定程度と高濃度の溶液が使用されていた。このよ
うな高濃度の薬液を用いて洗浄を行なう場合、被洗浄物
に付着して残留する薬液成分を除去するためには後工程
で大量のリンス水を必要とし、また使用後の薬液の処理
も容易ではない。さらに、洗浄工程は、半導体プロセス
フロー中に繰返し行われるため、全工程の約３０％をし
め、現状の洗浄方法ではコスト、環境面への負荷が大き
いという問題があった。そのため薬液の酸濃度を低減
し、薬液使用量を削減することが望まれている。

【０００５】また、洗浄工程では、コンタミネ−ション
を除去するだけでなく、一旦除去されたパ−ティクルの
再付着を防止することも重要である。この再付着を防止
する対策の一つとして、前記薬液を循環濾過することな
どで、薬液槽内のパ−ティクルを低減を図っていた。し
かし、前記薬液の循環濾過方式では、パ−ティクルの低
減をすることができても、液中に溶出した金属イオンは
フィルタで除去できないので、前記溶出した金属イオン
は蓄積するばかりであった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】一般に金属は、下記
（１）式に示す反応で酸溶液中に溶出する。

【化１】したがって、酸の濃度を低くすると、金属を溶出させる
能力が低下することになる。

【０００７】さらに、酸濃度が低い場合、例えばＨＣｌ
溶液の場合、酸が解離して生成されるＣｌイオンの濃度
が低いため、酸溶液中に溶出してきた金属イオンは上記
Ｃｌイオンと安定な錯イオンを生成しない。例えば、Ｃ
ｌイオンとの錯生成定数が小さいＣｕイオンの場合、１
規定ＨＣｌ中では約５０％が錯イオンを生成するが、
０．０１規定溶液中で錯イオンを生成するＣｕは１％に
すぎない。

【０００８】ところで、Ｓｉウエハの洗浄において、酸
化還元電位の高いＣｕイオンが洗浄液である薬液中に存
在する場合、ウエハ表面のＳｉと反応して、ウエハ表面
にＣｕ金属として析出する。その析出の程度は、酸濃度
の低いときは、上記の如く安定な錯イオンを生成しない
ので著しくなってくる。なお、Ｓｉとの反応は下式によ
る。

【化２】

【０００９】前記ウエハ表面の析出金属を少なくするた
め、前記薬液中に溶出した金属イオンは、可能な限り除
去することが望ましい。この方法としては、前記薬液の
交換頻度を高めたり、高温蒸留による濾過循環したりす
る方法が考えられるが、省エネルギー、コストの面で問
題があった。本発明は、かかる従来技術の問題点を解決
するためになされたもので、酸濃度の低い薬液中で、ウ
エハに付着している金属を溶解し、かつ再付着の少ない
洗浄装置を提供することをその目的とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、被洗浄
物を浸漬して洗浄を行なう洗浄装置において、イオン交
換水もしくは電解質を含む水溶液を収納し、隔膜で区切
られた陽極槽と陰極槽とからなる洗浄槽と、前記陽極槽
と陰極槽とにそれぞれ配設された電極と、前記両電極に
接続され、これらに水の電解電圧以上の電圧を印加させ
る直流電源とを具備することにより達成される。

【００１１】前項記載の洗浄装置において、前記陽極槽
内もしくは前記陰極槽内あるいは前記陽極槽外もしくは
前記陰極槽外のいずれかの少なくとも一箇所に配設さ
れ、前記イオン交換水もしくは前記電解質を含む水溶液
を一定温度に加熱する加熱器を具備することにより達成
される。前項記載のいずれかの洗浄装置において、前記
隔膜に陽イオン交換膜、バイポ−ラ膜、多孔質膜のうち
少なくとも一つの部材を用いることにより達成される。
前項記載のいずれかの洗浄装置において、前記電極の材
質として、白金、白金めっき、チタン、カ−ボンのうち
少なくとも一つの部材を用いることにより達成される。
前項記載のいずれかの洗浄装置において、前記隔膜に替
えてニ枚の隔膜からなる隔室を用い、当該隔室にキレ−
ト樹脂を充填することにより達成される。前項記載のい
ずれかの洗浄装置において、前記洗浄槽を隔膜で上下に
二槽に区切り、前記二槽にそれぞれ電極を配し、かつ、
前記隔膜および当該電極を水平方向に対して傾斜して配
設することにより達成される。

【００１２】本発明の目的は、被洗浄物を浸漬して洗浄
を行なう洗浄装置において、イオン交換水もしくは電解
質を含む水溶液を収納し、隔膜で区切られた陽極槽と陰
極槽とからなる電解槽と、前記陽極槽と前記陰極槽にそ
れぞれ配設された電極と、前記両電極に接続され、これ
らに水の電解電圧以上の電圧を印加させる直流電源とを
備えた電解部と、電解水を収納し、隔膜で区切られた陽
極槽と陰極槽とからなる洗浄槽と、前記陽極槽と前記陰
極槽とにそれぞれ配設された電極と、前記両電極に電圧
を印加させる直流電源とを備えた洗浄部と、前記電解部
で生成される電解水を前記洗浄部に移送する移送部材と
を具備することにより達成される。前項記載の洗浄装置
において、前記洗浄部の陽極槽内もしくは前記陰極槽内
あるいは当該陽極槽外もしくは当該陰極槽外のいずれか
の少なくとも一箇所に配設され、前記の電解部で生成さ
れる電解水を一定温度に加熱する加熱器を具備すること
により達成される。

【００１３】

【作用】上記各技術的手段の働きは下記の通りである。
請求項１記載の発明の構成によれば、陽極側と陰極側と
の水溶液を物理的に混合しないように働く隔膜で区切ら
れた槽に、例えば一規定以下の電解質を含む水溶液をい
れ、電極に水の電解電圧以上の電圧を印加することによ
り、前記電解質が解離して生成する陽イオンは、前記隔
膜を通過して陰極側の槽に移動するため、陽極側の槽で
は陰イオンの割合が増える。前記陽極側の槽では、電気
的に中性を保つように水が解離して水素イオンが生成し
ｐＨが低い酸性の溶液となる。

【００１４】また、陽極の電極表面では、下記（３）式
に示すように、水の電解反応で酸素が生成し、溶液の酸
化還元電位が上昇する。さらに、例えば塩化物イオンを
含む酸や塩を添加した場合は、ＣｌＯマイナスイオンが
生成され、より酸化還元電位が上昇する。

【化３】

【００１５】このため、陽極側の電解水にＳｉウエハを
浸漬すると、上記（１）式に示した溶出反応と同時に、
下記（４）式の反応にしたがって、付着している金属の
溶出がさらに促進される。

【化４】

【００１６】このように、電解処理することによって酸
の力だけでなく、電解中に陽極側で生成する酸素や塩素
酸類などの酸化力の強い化学種によって付着金属を溶出
させることができるため、従来に比べ酸の濃度の低い溶
液で十分な洗浄をすることができる。また、溶出した金
属イオンは陽イオンの形で存在しており、電気透析によ
り陽極側の槽から陽イオン交換膜を通って陰極側の槽へ
移動するため、陽極側の槽から前記金属イオンを取り除
くことができる。

【００１７】また、請求項２記載の発明の構成によれ
ば、加熱器を具備したので、前記洗浄槽に収納するイオ
ン交換水もしくは電解質を含む水溶液を加熱し、高温で
洗浄できるため、洗浄性が向上する。また、請求項３記
載の発明の構成によれば、前記隔膜に陽イオン交換膜も
しくは、金属陽イオンを移動させる機能を有するバイポ
−ラ膜、多孔質膜を用いるので、陽極側で溶出した金属
陽イオンを陰極側に透析することができる。また、請求
項４記載の発明の構成によれば、電極はその材質とし
て、白金、白金めっき、チタン、カ−ボンのうち少なく
とも一つを用いるので電解液中に電極物質が溶出するこ
とがなく、そのため被洗浄物を汚染しない。

【００１８】また、請求項５記載の発明の構成によれ
ば、隔膜に替えてキレ−ト樹脂を充填した隔室を用いた
ので、電気透析により陽極側の槽から陰極側の槽へ移動
する陽イオンのうち、Ｃｕ、Ｆｅなどの重金属イオン
は、二枚の隔膜間のキレ−ト樹脂に捕捉されるので、重
金属イオンが陰極側の槽に移動して陰極の電極表面へ析
出することを防ぐことができる。また、請求項６記載の
発明の構成によれば、前記洗浄槽を隔膜で上下に二槽に
区切り、前記区切られた二槽に電極を配し、かつ、前記
隔膜および当該電極を水平方向に対して傾斜して配設し
たので、電解水の化学的作用のみならず、陽極表面から
の気泡の洗浄作用により、一層洗浄作用を強くすること
ができる。さらに、請求項７記載の発明の構成によれ
ば、電解槽と洗浄槽とを別体としたので、複数の洗浄槽
での洗浄による効率向上と、電解水の加温による高温洗
浄ができる。さらに、請求項８記載の発明の構成によれ
ば、加熱器を具備したので、前記洗浄槽に収納する電解
水を加熱し、高温で洗浄できるため、洗浄性が向上す
る。

【００１９】

【実施例】以下に、本発明の各実施例について図１ない
し図４を参照して説明する。〔実施例１〕図１は本発明の一実施例に係る洗浄装置
の略示説明図である。図１において、１は陽イオン交換
膜の隔膜（以下、陽イオン交換膜という）２は陽極槽、
３は陰極槽、４、５は白金電極（以下、Ｐｔ電極とい
う）、６は直流電源、７はＳｉウエハ、４０はヒータ
ー、５０は洗浄槽である。

【００２０】図１に示すごとく、洗浄槽５０は、陽イオ
ン交換膜１によって陽極槽２、陰極槽３に区切られてい
る。前記陽極槽２、陰極槽３にはＰｔ電極４、５がそれ
ぞれ陽極槽２、陰極槽３の底面に対して垂設されてい
る。前記Ｐｔ電極４、５は、洗浄槽５０の任意の位置に
設置することが可能であるが、前記陽極槽２、陰極槽３
の電解質溶液が低濃度の場合には、電解効率を向上させ
るため前記交換膜１の近傍に設置することが好ましい。
上記Ｐｔ電極４、５には、直流電源６が接続されてい
る。また、ヒーター４０は前記陽極槽２の底面に配設さ
れている。

【００２１】次に、本実施例の各部の働きについて説明
する。陽極槽２、陰極槽３にそれぞれ１規定以下の濃度
の電解質を含む水溶液を収納する。前記陰極槽３では、
上記水溶液の替わりに純水を使用しても差し支えない。
前記陽極槽２の水溶液をヒーター４０により、室温以上
に加温する。直流電源６によりＰｔ電極４に水の電解電
圧以上、すなわち少なくとも２Ｖ程度の電圧が印加され
ると、前記陽極槽２内の水溶液は、酸性で酸化還元電位
の高い溶液となる。

【００２２】前記陽極槽２にＳｉウエハ７を浸漬する
と、このウエハ７に付着している金属不純物は酸ならび
に強い酸化力を持った化学種によって酸化され金属陽イ
オンとなって溶出する。同時に金属陽イオンは電気透析
により陽イオン交換膜１を通過して陰極槽３に移動し、
前記陽極槽２から除去される。なお、陰極槽のＰｔ電極
４の表面に、Ｆｅなどの金属が多量に析出した場合に
は、直流電源６を用いて、極性を逆にして電流を流すこ
とにより前記Ｆｅなどの金属を溶出させ、除去させるこ
とが可能である。

【００２３】次に、本実施例の洗浄装置を使ったＳｉウ
エハ７の金属不純物の洗浄実験結果を説明する。実験
は、以下のような条件で行なった。陽極槽２の容積は２
５０ｍｌ、陽イオン交換膜１およびＰｔ電極４の面積７
０ｃｍ²の槽を用い、陽極槽２、陰極槽３に０．０１Ｎ
ＨＣｌ水溶液を入れた。

【００２４】次いで、ヒーター４０により、前記陽極槽
２のＨＣｌ水溶液を７０℃に加温した。Ｐｔ電極４、５
に直流電源６より７Ｖの電圧を印加し、電流１０Ａを流
しながら陽極槽２に３．５インチのＳｉウエハ７を５分
間浸漬した。前記洗浄方法で、５枚のＳｉウエハを順次
洗浄した。なお、洗浄に使用したＳｉウエハ７は、Ｃｕ
を添加した溶液に浸漬して強制汚染させたウエハであ
る。

【００２５】上記実験条件で電解操作をさせると、陽極
槽２では、ｐＨ２．０、酸化還元電位約１１５０ｍＶの
電解水が得られ、洗浄前、Ｓｉウエハ７に付着した１０
¹⁵ａｔｏｍｓ／ｃｍ²オ−ダ−のＣｕ初期汚染濃度が、
洗浄後は１０¹⁰ａｔｏｍｓ／ｃｍ²以下となった。な
お、ａｔｏｍｓ／ｃｍ²とは、原子量／グラム・ｃｍ²の
略称である。また、陽極水および陰極水中のＣｕ濃度を
原子吸光光度法で測定したところ、陽極槽２からＣｕが
２ｐｐｂ、陰極槽３からＣｕが７ｐｐｂそれぞれ検出さ
れた。これは、陽極槽２側で溶出した金属が薬液から取
り除かれたことを示している。

【００２６】〔実施例２〕次に、本発明に係る他の実
施例を図２を参照して説明する。図２は、本発明の他の
一実施例に係る洗浄装置の略示説明図である。図中、図
１と同一符号は同等部分であるので、説明を省略する。
新たな符号のみを説明する。１ａは、陽極槽２側の隔
膜、１ｂは、陰極槽３側の隔膜、８は、キレ−ト樹脂、
９は、再生液注入口、２０は隔室である。図２の洗浄装
置は、図１に示す〔実施例１〕の一枚の隔膜１の替わ
りに、二枚の隔膜１ａ、１ｂの間にキレ−ト樹脂８を充
填した隔室２０で、陽極槽２と陰極槽３を区切って構成
されている。

【００２７】前記洗浄装置において、〔実施例１〕と
同様の操作で、陽極槽２にＳｉウエハ７を浸漬すると、
前記ウエハ７に付着している金属不純物は、金属陽イオ
ンとなって溶出する。前記溶出した金属陽イオンは、電
気透析により隔膜１ａ、１ｂを通過して陰極槽３に移動
するが、Ｃｕ、Ｆｅなどの重金属イオンは、隔室２０に
充填されているキレ−ト樹脂８に捕捉されるため、陰極
槽３側のＰｔ電極５の表面へ析出することを防ぐことが
できる。また、前記キレ−ト樹脂８は再生液注入口９か
ら高濃度の酸を流すことによって再生し繰り返し使用す
ることができる。このようにして、溶出した金属陽イオ
ンは、陽極槽２、陰極槽３の両方から取り除くことがで
きる。

【００２８】〔実施例３〕次に、本発明に係るさらに他
の実施例を図３を参照して説明する。図３は、本発明の
さらに他の一実施例に係る洗浄装置の略示説明図であ
る。図中、図１と同一符号は同等部分であるので、説明
を省略する。図３に示す本実施例に係る洗浄装置の構成
は、図１の〔実施例１〕とほぼ同一の構成であるが、
洗浄槽５０は、当該洗浄槽の底面に対して斜めに配され
た陽イオン交換膜１で陽極槽２と陰極槽３とに区切ら
れ、前記陽極槽２が上方に配設され、前記陰極槽３が下
方に配設されている。前記陽極槽２、陰極槽３にはそれ
ぞれＰｔ電極４、５が、前記陽イオン交換膜１と平行に
設けられている。

【００２９】陽イオン交換膜１の上方、被洗浄物の下方
にＰｔ電極４を設置することにより陽極槽２で生成され
る電解水の化学的な洗浄力のみならず、陽極であるＰｔ
電極４の表面から発生するガス気泡３０による物理的な
力も利用して洗浄力を高めることができる。また、陽イ
オン交換膜１を斜めに配設することにより、陰極である
Ｐｔ電極５の表面で発生したガスを前記１に沿って上方
に移動させ、洗浄槽５０外に排出することができるた
め、気泡が前記交換膜１に付着して陽極、陰極間の電気
抵抗が大きくなることを防ぐことができる。

【００３０】なお、陰極であるＰｔ電極５で発生する気
泡が陽イオン交換膜１に付着することなく容易に外部に
排出されるためには、前記交換膜１と前記Ｐｔ電極５と
の間隔を５ｍｍ以上取ることが好ましく、したがって、
陰極槽３内の水溶液の電気抵抗を小さくするために、前
記水溶液の電解質濃度は高くすることが望ましい。

【００３１】〔実施例４〕次に、本発明に係るさらに他
の実施例を図４を参照して説明する。図４は、本発明の
さらに他の一実施例に係る洗浄装置の略示説明図であ
る。図中、図１と同一符号は同等部分であるので説明を
省略する。新たな符号のみを説明する。図４において、
１０は、陽イオン交換膜、１１は、陽極槽、１２は、陰
極槽、１３は、陽極槽のＰｔ電極、１４は、陰極槽のＰ
ｔ電極、１５は、直流電源、１６は、電解水生成槽、１
７は洗浄槽である。図４に示す洗浄装置は、図１の〔実
施例１〕に記載した洗浄槽の機能を、電解水生成槽１
６と洗浄槽１７とを設け、分離したものである。

【００３２】図４に示す如く、洗浄槽１７は、陽イオン
交換膜１０によって陽極槽１１、陰極槽１２に区切られ
ている。前記陽極槽１１にはＰｔ電極１３、前記陰極槽
１２にはＰｔ電極１４が配設されている。前記電極１３
および１４は、前記陽極槽１１と陰極槽１２との任意の
位置に設置することが可能であるが、前記陽極槽１１、
陰極槽１２の電解質溶液の濃度が低い場合には交換膜１
０近傍に設置することが好ましい。上記両電極１３、１
４には直流電源１５が接続されている。

【００３３】次に、上記実施例の働きについて説明す
る。図１の〔実施例１〕と同様の操作により、電解水
生成槽１６の陽極槽２には酸性で酸化還元電位の高い電
解水が生成する。当該電解水を洗浄槽１７の陽極槽１１
に供給する。陰極槽１２には、ｌ規定以下の電解質を加
えた水溶液もしくは純水または電解水生成槽１６の陰極
槽３で生成した電解水を供給する。

【００３４】前記陽極槽１１にＳｉウエハ７を浸漬する
と、当該ウエハ７に付着している金属不純物は、金属陽
イオンとなって溶出する。洗浄槽１７の電極１３、１４
には直流電源１５より電気透析が起こる程度の電圧、す
なわち２Ｖ程度の電圧を印加すれば、前記溶出した金属
イオンは、電気透析により前記陽極槽１１から取り除く
ことができる。なお、前記電圧値は電気透析が起こる程
度の電圧以上であればよく、上記値に限定されることは
ない。

【００３５】このように電解水生成槽１６と、別体の洗
浄槽１７を設けることにより、電解槽で電解水を作りな
がら複数の洗浄槽で洗浄を行なうことが可能で、作業効
率を向上できる。また、生成後の電解水を加温して洗浄
槽に供給することにより、高温での洗浄も可能となる。

【００３６】上記実施例においては、前記隔膜に陽イオ
ン交換膜、電極の材質として白金を使用した場合につい
て説明したが、本発明はこれに限定されることがなく、
前記隔膜にはバイポ−ラ膜、多孔質膜、前記電極の材質
としては、白金めっき、チタン、カ−ボン等を使用して
も差し支えないことは云うまでもない。また、上記実施
例においては、ヒーターを前記陽極槽の底面に配設した
場合について説明したが、本発明はこれに限定されるも
のでなく、前記ヒーターを前記陽極槽内もしくは前記陰
極槽内あるいは前記陽極槽外もしくは前記陰極槽外のい
ずれかの少なくとも一箇所、場合によっては複数箇所に
配設して差し支えない。

【００３７】

【発明の効果】以上、詳細に説明した如く、本発明の構
成によれば、酸濃度の低い薬液中で、ウエハに付着して
いる金属を溶解し、かつ再付着の少ない洗浄装置を提供
することができる。より、具体的に説明すれば、本発明
に係る洗浄装置は、一規定以下の電解質を含む水溶液を
電解して陽極側で得られる酸性で酸化還元電位の高い電
解水を利用して、Ｓｉウエハに付着している金属不純物
を溶解させる効果がある。

【００３８】また、従来使用していた酸の１／１０以下
の濃度でウエハに付着している金属不純物の洗浄ができ
るため、従来技術に比べ洗浄にかかるコストを低減する
ことができ、さらに使用後の薬液処理も容易に行えるた
め環境に対する負荷を小さくする効果がある。また、薬
液中に溶出した金属を取り除きながら洗浄することでＳ
ｉウエハへの再付着を防止することができる。そのた
め、製品の歩留まりを向上させる効果がある。

【００３９】前記隔膜に陽イオン交換膜もしくはバイポ
−ラ膜、多孔質膜を用いるので、陽極側で溶出した金属
陽イオンを陰極側に透析し、電極は、白金、白金めっ
き、チタン、カ−ボン等を用いるので電解液中に電極物
質が溶出することがなく、そのため被洗浄物を汚染しな
い効果を生ずる。

【００４０】また、隔膜にキレ−ト樹脂を充填した隔室
を用いたので、電気透析により移動する陽イオンのう
ち、Ｃｕ、Ｆｅなどの重金属イオンを捕捉するので、前
記重金属イオンが陰極の電極表面へ析出することを防ぐ
効果がある。また、前記洗浄槽を隔膜で上下に二槽に区
切り、前記隔膜および前記二槽の電極を傾斜して配設し
たので、陽極表面からの気泡の洗浄作用により、一層洗
浄作用を強くする効果がある。さらに、電解槽と洗浄槽
とを別体としたので、洗浄効率の向上と、電解水加温に
よる高温洗浄効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る洗浄装置の略示説明図
である。

【図２】本発明の他の一実施例に係る洗浄装置の略示説
明図である。

【図３】本発明のさらに他の一実施例に係る洗浄装置の
略示説明図である。

【図４】本発明のさらに他の一実施例に係る洗浄装置の
略示説明図である。

【符号の説明】

１…陽イオン交換膜１ａ…隔膜１ｂ…隔膜２…陽極槽３…陰極槽４、５…電極６…直流電源７…Ｓｉウエハ８…キレ−ト樹脂９…再生液注入口１０…陽イオン交換膜１１…陽極槽１２…陰極槽１３、１４…電極１５…直流電源１６…電解水生成槽１７…洗浄槽２０…隔室３０…気泡４０…ヒーター５０…洗浄槽

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被洗浄物を浸漬して洗浄を行なう洗浄装
置において、イオン交換水もしくは電解質を含む水溶液を収納し、隔
膜で区切られた陽極槽と陰極槽とからなる洗浄槽と、前
記陽極槽と前記陰極槽にそれぞれ配設された電極と、前
記両電極に接続され、これらに水の電解電圧以上の電圧
を印加させる直流電源とを具備することを特徴とする洗
浄装置。
【請求項２】請求項１記載の洗浄装置において、前記陽極槽内もしくは前記陰極槽内あるいは前記陽極槽
外もしくは前記陰極槽外のいずれかの少なくとも一箇所
に配設され、前記イオン交換水もしくは前記電解質を含
む水溶液を一定温度に加熱する加熱器を具備することを
特徴とする洗浄装置。
【請求項３】請求項１、２記載のいずれかの洗浄装置
において、前記隔膜に陽イオン交換膜、バイポ−ラ膜、多孔質膜の
うち少なくとも一つの部材を用いることを特徴とする洗
浄装置。
【請求項４】請求項１、２、３記載のいずれかの洗浄
装置において、前記電極の材質として、白金、白金めっき、チタン、カ
−ボンのうち少なくとも一つの部材を用いることを特徴
とする洗浄装置。
【請求項５】請求項１、２、３、４記載のいずれかの
洗浄装置において、前記隔膜に替えてニ枚の隔膜からなる隔室を用い、当該
隔室にキレ−ト樹脂を充填したことを特徴とする洗浄装
置。
【請求項６】請求項１、２、３、４、５記載のいずれ
かの洗浄装置において、前記洗浄槽を隔膜で上下に二槽に区切り、前記二槽にそ
れぞれ電極を配し、かつ、前記隔膜および当該電極を水
平方向に対して傾斜して配設したことを特徴とする洗浄
装置。
【請求項７】被洗浄物を浸漬して洗浄を行なう洗浄装
置において、イオン交換水もしくは電解質を含む水溶液を収納し、隔
膜で区切られた陽極槽と陰極槽とからなる電解槽と、前
記陽極槽と前記陰極槽にそれぞれ配設された電極と、前
記両電極に接続され、これらに水の電解電圧以上の電圧
を印加させる直流電源とを備えた電解部と、電解水を収納し、隔膜で区切られた陽極槽と陰極槽とか
らなる洗浄槽と、前記陽極槽と前記陰極槽とにそれぞれ
配設された電極と、前記両電極に電圧を印加させる直流
電源とを備えた洗浄部と、前記電解部で生成される電解
水を前記洗浄部に移送する移送部材とを具備することを
特徴とする洗浄装置。
【請求項８】請求項７記載の洗浄装置において、前記洗浄部の陽極槽内もしくは前記陰極槽内あるいは当
該陽極槽外もしくは当該陰極槽外のいずれかの少なくと
も一箇所に配設され、前記の電解部で生成される電解水
を一定温度に加熱する加熱器を具備することを特徴とす
る洗浄装置。