JPH08193076A - N−アシル助剤を合成する方法 - Google Patents
N−アシル助剤を合成する方法Info
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- JPH08193076A JPH08193076A JP7190300A JP19030095A JPH08193076A JP H08193076 A JPH08193076 A JP H08193076A JP 7190300 A JP7190300 A JP 7190300A JP 19030095 A JP19030095 A JP 19030095A JP H08193076 A JPH08193076 A JP H08193076A
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 アシル側鎖が反応性置換基を有する場合にも
有用であり、かつ反応の完了までにさほど時間の掛から
ないN−アシル助剤合成方法の提供。 【解決手段】 式(1)のN−アシル助剤化合物を合成
する方であって、リチウム塩及びアミン塩の存在下に式
(2)の化合物を式(3)の酸無水物と反応させること
を含む方法。 〔式中、RはC1〜C6アルキル、−NH2,−OH,
−COOR1,−OR2,−CO−R3,−NH−
R4、置換されていてもよいアリール、置換されていて
もよいヘテロアリール等であり、R1は水素またはC1
〜C3アルキル、R2,R3はC1〜C4アルキル、R
4はC1〜C6アルキルを意味する〕
有用であり、かつ反応の完了までにさほど時間の掛から
ないN−アシル助剤合成方法の提供。 【解決手段】 式(1)のN−アシル助剤化合物を合成
する方であって、リチウム塩及びアミン塩の存在下に式
(2)の化合物を式(3)の酸無水物と反応させること
を含む方法。 〔式中、RはC1〜C6アルキル、−NH2,−OH,
−COOR1,−OR2,−CO−R3,−NH−
R4、置換されていてもよいアリール、置換されていて
もよいヘテロアリール等であり、R1は水素またはC1
〜C3アルキル、R2,R3はC1〜C4アルキル、R
4はC1〜C6アルキルを意味する〕
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、N−アシル助剤を
合成する方法に関する。より具体的には、本発明は有機
化合物の不斉合成に有用なキラル助剤を合成する方法に
関する。かかるキラル助剤は、例えばペネム系もしくは
カルバペネム系抗生物質の全合成もしくは半合成に際し
て使用することができる。
合成する方法に関する。より具体的には、本発明は有機
化合物の不斉合成に有用なキラル助剤を合成する方法に
関する。かかるキラル助剤は、例えばペネム系もしくは
カルバペネム系抗生物質の全合成もしくは半合成に際し
て使用することができる。
【0002】
【従来の技術】キラル助剤は不斉合成法において広く用
いられている。従来、NaHで脱プロトン化し、その後
塩化アシルでN−アシル化することによってN−アシル
スルタムが合成されている。スルタムをトリメチルシリ
ル誘導体に変換してから還流トルエン中で過剰量の塩化
アシルと反応させる二段階操作も用いられている。これ
らの合成法はいずれも、アシル側鎖が反応性置換基を有
する場合はさほど有用でない。また、反応が完了するま
でに甚だしく時間が掛かる。
いられている。従来、NaHで脱プロトン化し、その後
塩化アシルでN−アシル化することによってN−アシル
スルタムが合成されている。スルタムをトリメチルシリ
ル誘導体に変換してから還流トルエン中で過剰量の塩化
アシルと反応させる二段階操作も用いられている。これ
らの合成法はいずれも、アシル側鎖が反応性置換基を有
する場合はさほど有用でない。また、反応が完了するま
でに甚だしく時間が掛かる。
【0003】
【本発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよ
うな従来方法の欠点を克服することを目的とする。
うな従来方法の欠点を克服することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】式
【0005】
【化8】
【0006】のN−アシル助剤化合物を合成する方法が
ここに開示される。
ここに開示される。
【0007】上記式中Rは、(a)C1〜C6アルキル、
C2〜C6アルケニルまたはC2〜C6アルキニル、(b)
−NH2; −OH; −COOH、−COO(C1〜C
3)アルキル、−OC1〜C4アルキル; −C(O)−
C1〜C4アルキル; −NH(C1〜C6アルキル);
−NH(C2〜C6アルケニル); −NH(C2〜C6ア
ルキニル); −N(C1〜C6アルキル)2; −N
(C2〜C6アルケニル)2; −N(C2〜C6アルキニ
ル)2; −OC(O)NH2; −OC(O)NHC1
〜C4アルキル; −OC(O)N(C1〜C4アルキ
ル)2; アリール; ヘテロアリール; C3〜C8シ
クロアルキル; ヘテロシクリル; ハロゲン; −N
HC(O)OC1〜C6アルキル; N(C1〜C3アルキ
ル)C(O)OC1〜C6アルキル; 並びに、ハロゲ
ン、ヒドロキシ、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキ
シ、ヒドロキシ−C1〜C3アルキル、アミノ、C1〜C3
アルキルアミノ及びジ−C1〜C3アルキルアミノの中か
ら選択された1〜3個の基で置換されていないかまたは
置換されたアリール、ヘテロアリール、C3〜C8シクロ
アルキルまたはヘテロシクリルの中から選択された1〜
3個の基で置換されたC1〜C6アルキル、C2〜C6アル
ケニルまたはC2〜C6アルキニル、及び(c)ハロゲ
ン、ヒドロキシ、C1〜C3アルコキシ、ヒドロキシ−C
1〜C3アルキル、アミノ、C1〜C3アルキルアミノ及び
ジ−C1〜C3アルキルアミノの中から選択された1〜3
個の基で置換されていないかまたは置換されたアリー
ル、ヘテロアリール、C3〜C8シクロアルキルまたはヘ
テロシクリルの中から選択される。
C2〜C6アルケニルまたはC2〜C6アルキニル、(b)
−NH2; −OH; −COOH、−COO(C1〜C
3)アルキル、−OC1〜C4アルキル; −C(O)−
C1〜C4アルキル; −NH(C1〜C6アルキル);
−NH(C2〜C6アルケニル); −NH(C2〜C6ア
ルキニル); −N(C1〜C6アルキル)2; −N
(C2〜C6アルケニル)2; −N(C2〜C6アルキニ
ル)2; −OC(O)NH2; −OC(O)NHC1
〜C4アルキル; −OC(O)N(C1〜C4アルキ
ル)2; アリール; ヘテロアリール; C3〜C8シ
クロアルキル; ヘテロシクリル; ハロゲン; −N
HC(O)OC1〜C6アルキル; N(C1〜C3アルキ
ル)C(O)OC1〜C6アルキル; 並びに、ハロゲ
ン、ヒドロキシ、C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキ
シ、ヒドロキシ−C1〜C3アルキル、アミノ、C1〜C3
アルキルアミノ及びジ−C1〜C3アルキルアミノの中か
ら選択された1〜3個の基で置換されていないかまたは
置換されたアリール、ヘテロアリール、C3〜C8シクロ
アルキルまたはヘテロシクリルの中から選択された1〜
3個の基で置換されたC1〜C6アルキル、C2〜C6アル
ケニルまたはC2〜C6アルキニル、及び(c)ハロゲ
ン、ヒドロキシ、C1〜C3アルコキシ、ヒドロキシ−C
1〜C3アルキル、アミノ、C1〜C3アルキルアミノ及び
ジ−C1〜C3アルキルアミノの中から選択された1〜3
個の基で置換されていないかまたは置換されたアリー
ル、ヘテロアリール、C3〜C8シクロアルキルまたはヘ
テロシクリルの中から選択される。
【0008】本発明の方法によれば、リチウム塩及びア
ミン塩基の存在下に式
ミン塩基の存在下に式
【0009】
【化9】
【0010】の化合物を式
【0011】
【化10】
【0012】〔式中各Rは先に規定したとおりのもの
で、互いに同じであるかまたは異なる〕によって表わさ
れる無水物と反応させて
で、互いに同じであるかまたは異なる〕によって表わさ
れる無水物と反応させて
【0013】
【化11】
【0014】を生成させる。
【0015】
【発明の実施の形態】本明細書中に用いた次の語は、特
に断らないかぎり以下のような定義を有する。
に断らないかぎり以下のような定義を有する。
【0016】“アルキル”という語は、特に断らないか
ぎり1〜6個の炭素原子を有する、一価のアルカン(炭
化水素)由来の基を意味する。この基は直鎖状、分枝鎖
状または環状であり得る。好ましいアルキル基には、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−
ブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシルが含まれ
る。置換のある場合のアルキル基は4個以下の置換基
で、任意の利用可能な結合点において置換され得る。ア
ルキル基が“アルキル基で置換された”と言われる時、
これは“分枝鎖アルキル基”と相互に同義である。
ぎり1〜6個の炭素原子を有する、一価のアルカン(炭
化水素)由来の基を意味する。この基は直鎖状、分枝鎖
状または環状であり得る。好ましいアルキル基には、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−
ブチル、シクロペンチル及びシクロヘキシルが含まれ
る。置換のある場合のアルキル基は4個以下の置換基
で、任意の利用可能な結合点において置換され得る。ア
ルキル基が“アルキル基で置換された”と言われる時、
これは“分枝鎖アルキル基”と相互に同義である。
【0017】“アルコキシ”という語は、C1〜C4アル
コキシ基:−OC1〜C4アルキルを意味する。好ましい
アルコキシ基はメトキシ基である。
コキシ基:−OC1〜C4アルキルを意味する。好ましい
アルコキシ基はメトキシ基である。
【0018】“シクロアルキル”は、炭素原子同士の交
互もしくは共鳴二重結合を伴わずに3〜15個の炭素原
子を有する一種のアルキルである。シクロアルキルは1
〜4個の縮合する環を含み得る。好ましいシクロアルキ
ル基はシクロペンチル及びシクロヘキシルである。
互もしくは共鳴二重結合を伴わずに3〜15個の炭素原
子を有する一種のアルキルである。シクロアルキルは1
〜4個の縮合する環を含み得る。好ましいシクロアルキ
ル基はシクロペンチル及びシクロヘキシルである。
【0019】“アルケニル”という語は、2〜6個の炭
素原子を有し、かつ少なくとも1個の炭素−炭素二重結
合を有する直鎖状、分枝鎖状または環状炭化水素基を意
味する。好ましいアルケニル基にはエテニル、プロペニ
ル、ブテニル及びシクロヘキセニルが含まれる。
素原子を有し、かつ少なくとも1個の炭素−炭素二重結
合を有する直鎖状、分枝鎖状または環状炭化水素基を意
味する。好ましいアルケニル基にはエテニル、プロペニ
ル、ブテニル及びシクロヘキセニルが含まれる。
【0020】“アルキニル”という語は、2〜6個の炭
素原子を有し、かつ少なくとも1個の炭素−炭素三重結
合を有する直鎖状または分枝鎖状炭化水素基を意味す
る。好ましいアルキニル基にはエチニル、プロピニル及
びブチニルが含まれる。
素原子を有し、かつ少なくとも1個の炭素−炭素三重結
合を有する直鎖状または分枝鎖状炭化水素基を意味す
る。好ましいアルキニル基にはエチニル、プロピニル及
びブチニルが含まれる。
【0021】“アリール”とは、例えばフェニル、置換
フェニル及び類似基、並びに例えばナフチル、フェナン
トレニル等の縮合環などの芳香族環のことである。即
ち、アリール基は少なくとも6個の原子を有する環を少
なくとも1個含み、その際前記環は5個以下の数で存在
し、これらの環が有する原子の数は22以下であり、互
いに隣接する炭素原子または適当なヘテロ原子の間には
交互(共鳴)二重結合が存在する。好ましいアリール基
はフェニル、ナフチル及びフェナントレニルである。ア
リール基は、先に規定したように置換されていてもよ
い。好ましい置換アリールにはフェニル及びナフチルが
含まれる。
フェニル及び類似基、並びに例えばナフチル、フェナン
トレニル等の縮合環などの芳香族環のことである。即
ち、アリール基は少なくとも6個の原子を有する環を少
なくとも1個含み、その際前記環は5個以下の数で存在
し、これらの環が有する原子の数は22以下であり、互
いに隣接する炭素原子または適当なヘテロ原子の間には
交互(共鳴)二重結合が存在する。好ましいアリール基
はフェニル、ナフチル及びフェナントレニルである。ア
リール基は、先に規定したように置換されていてもよ
い。好ましい置換アリールにはフェニル及びナフチルが
含まれる。
【0022】“ヘテロ原子”という語は、独立に選択さ
れたO、SまたはNを意味する。
れたO、SまたはNを意味する。
【0023】“ヘテロアリール”という語は、少なくと
も1個のヘテロ原子O、SまたはNを有する、5個また
は6個の環構成原子を有する単環式芳香族炭化水素基か
または8〜10個の原子を有する二環式芳香族基であっ
て、その炭素原子または窒素原子が結合点であり、その
1個または2個の炭素原子がさらにヘテロ原子Oまたは
Sによって任意に置換され、かつ1〜3個の炭素原子が
さらに窒素原子によって任意に置換されている基を意味
する。ヘテロアリール基は場合によっては、本明細書中
に述べたように置換されている。
も1個のヘテロ原子O、SまたはNを有する、5個また
は6個の環構成原子を有する単環式芳香族炭化水素基か
または8〜10個の原子を有する二環式芳香族基であっ
て、その炭素原子または窒素原子が結合点であり、その
1個または2個の炭素原子がさらにヘテロ原子Oまたは
Sによって任意に置換され、かつ1〜3個の炭素原子が
さらに窒素原子によって任意に置換されている基を意味
する。ヘテロアリール基は場合によっては、本明細書中
に述べたように置換されている。
【0024】即ち、ヘテロアリールは1個以上のヘテロ
原子を有する芳香族基及び部分芳香族基を包含する。こ
の種の例にはピロール、ピリジン、オキサゾール、チア
ゾール及びオキサジンが有る。追加の窒素原子が第一の
窒素及び酸素または硫黄と共に存在して、例えばチアジ
アゾールをもたらし得る。好ましいヘテロアリール基は
チアゾリル、イミダゾリル、ピリジル及びピロリルであ
る。
原子を有する芳香族基及び部分芳香族基を包含する。こ
の種の例にはピロール、ピリジン、オキサゾール、チア
ゾール及びオキサジンが有る。追加の窒素原子が第一の
窒素及び酸素または硫黄と共に存在して、例えばチアジ
アゾールをもたらし得る。好ましいヘテロアリール基は
チアゾリル、イミダゾリル、ピリジル及びピロリルであ
る。
【0025】“ヘテロシクロアルキル”という語は、環
を構成する炭素原子のうちの1個がヘテロ原子によって
置換されており、かつ3個以下の炭素原子がさらにヘテ
ロ原子によって置換され得るシクロアルキル基(非芳香
族)を意味する。好ましいヘテロシクロアルキル基には
ピペリジニル、ピロリジニル及びテトラヒドロフラニル
が含まれる。
を構成する炭素原子のうちの1個がヘテロ原子によって
置換されており、かつ3個以下の炭素原子がさらにヘテ
ロ原子によって置換され得るシクロアルキル基(非芳香
族)を意味する。好ましいヘテロシクロアルキル基には
ピペリジニル、ピロリジニル及びテトラヒドロフラニル
が含まれる。
【0026】“ハロゲン”及び“ハロ”とは、臭素、塩
素、フッ素及びヨウ素のことである。
素、フッ素及びヨウ素のことである。
【0027】“リチウム塩”という語は通常の意味で用
いてあり、実質的に非塩基性のリチウム塩を意味する。
好ましい塩は塩化リチウム塩及び臭化リチウム塩であ
る。
いてあり、実質的に非塩基性のリチウム塩を意味する。
好ましい塩は塩化リチウム塩及び臭化リチウム塩であ
る。
【0028】本明細書中に用いた“アミン塩基”という
語は、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエ
チルアミン、ルチジン、1,8−ジアゾビシクロ[5.
4.0]ウンデク−7−エン及び1,5−ジアザビシク
ロ[4.3.0]ノン−5−エンを意味する。
語は、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエ
チルアミン、ルチジン、1,8−ジアゾビシクロ[5.
4.0]ウンデク−7−エン及び1,5−ジアザビシク
ロ[4.3.0]ノン−5−エンを意味する。
【0029】官能基が“保護されている”と言われる
時、これは前記官能基が、保護された部位における望ま
しくない副反応を予防するべく改変された形態に有ると
いう意味である。本発明の化合物に適した保護基は、当
分野の技術レベルを勘案すれば本出願から認識されよう
し、またT. W. Greene等, Protec
tive Groups in Organic Sy
nthesis, Wiley, New York,
1991などの標準的な教本からも明らかとなろう。
適当な保護基の例は本明細書中に示してある。
時、これは前記官能基が、保護された部位における望ま
しくない副反応を予防するべく改変された形態に有ると
いう意味である。本発明の化合物に適した保護基は、当
分野の技術レベルを勘案すれば本出願から認識されよう
し、またT. W. Greene等, Protec
tive Groups in Organic Sy
nthesis, Wiley, New York,
1991などの標準的な教本からも明らかとなろう。
適当な保護基の例は本明細書中に示してある。
【0030】本明細書中に述べた合成で用い得る適当な
ヒドロキシル保護基の例には、t−ブチルメトキシフェ
ニルシリル、t−ブトキシジフェニルシリル、トリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、o−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、
ベンジルオキシカルボニル、t−ブチルオキシカルボニ
ル、2,2,2−トリクロロエチルオキシカルボニル及
びアリルオキシカルボニルが有る。好ましいヒドロキシ
ル保護基はトリメチルシリル及びトリエチルシリルであ
る。
ヒドロキシル保護基の例には、t−ブチルメトキシフェ
ニルシリル、t−ブトキシジフェニルシリル、トリメチ
ルシリル、トリエチルシリル、o−ニトロベンジルオキ
シカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、
ベンジルオキシカルボニル、t−ブチルオキシカルボニ
ル、2,2,2−トリクロロエチルオキシカルボニル及
びアリルオキシカルボニルが有る。好ましいヒドロキシ
ル保護基はトリメチルシリル及びトリエチルシリルであ
る。
【0031】適当なカルボキシル保護基は、ベンズヒド
リル、o−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、2−
ナフチルメチル、アリル、2−クロロアリル、ベンジ
ル、2,2,2−トリクロロエチル、トリメチルシリ
ル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニル
シリル、2−(トリメチルシリル)エチル、フェナシ
ル、p−メトキシベンジル、アセトニル、p−メトキシ
フェニル、4−ピリジルメチル及びt−ブチルなどであ
る。好ましいカルボキシル保護基はp−ニトロベンジル
である。
リル、o−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、2−
ナフチルメチル、アリル、2−クロロアリル、ベンジ
ル、2,2,2−トリクロロエチル、トリメチルシリ
ル、t−ブチルジメチルシリル、t−ブチルジフェニル
シリル、2−(トリメチルシリル)エチル、フェナシ
ル、p−メトキシベンジル、アセトニル、p−メトキシ
フェニル、4−ピリジルメチル及びt−ブチルなどであ
る。好ましいカルボキシル保護基はp−ニトロベンジル
である。
【0032】本発明の方法の一特定例では、スルタム出
発物質を混合無水物と反応させる。この場合、無水物の
特徴をR1−C(O)−O−C(O)−R2〔式中R1と
R2とは異なる基Rである〕と表記することができる。
好ましい具体例において、R1及びR2の一方はピバル酸
残基(CH3)3C−である。
発物質を混合無水物と反応させる。この場合、無水物の
特徴をR1−C(O)−O−C(O)−R2〔式中R1と
R2とは異なる基Rである〕と表記することができる。
好ましい具体例において、R1及びR2の一方はピバル酸
残基(CH3)3C−である。
【0033】スルタム出発物質を上述の混合無水物と反
応させる際にはリチウム塩及びアミン塩基を存在させ
る。この特定例において用い得るリチウム塩にはハロゲ
ン化物塩、例えばLiCl及びLiBrが含まれる。
応させる際にはリチウム塩及びアミン塩基を存在させ
る。この特定例において用い得るリチウム塩にはハロゲ
ン化物塩、例えばLiCl及びLiBrが含まれる。
【0034】本発明で用いるのに適したアミン塩基には
トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチルア
ミン、ルチジン、1,8−ジアゾビシクロ[5.4.
0]ウンデク−7−エン及び1,5−ジアザビシクロ
[4.3.0]ノン−5−エンが含まれる。好ましいア
ミン塩基はトリエチルアミンである。
トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチルア
ミン、ルチジン、1,8−ジアゾビシクロ[5.4.
0]ウンデク−7−エン及び1,5−ジアザビシクロ
[4.3.0]ノン−5−エンが含まれる。好ましいア
ミン塩基はトリエチルアミンである。
【0035】本発明の別の具体例において、無水物は反
応性基を含む対称無水物である。このような合成の際の
無水物の一例に、任意の助剤と反応してN−アシル化を
行ない得るアクリル酸無水物が有る。
応性基を含む対称無水物である。このような合成の際の
無水物の一例に、任意の助剤と反応してN−アシル化を
行ない得るアクリル酸無水物が有る。
【0036】典型的には、無水物とキラル助剤出発物質
との反応は約−20℃から約20℃までの温度において
約4時間で完了し得る。
との反応は約−20℃から約20℃までの温度において
約4時間で完了し得る。
【0037】アシル化反応は任意の適当な有機溶媒中で
実現可能である。本発明で好ましく用いる溶媒はテトラ
ヒドロフランである。
実現可能である。本発明で好ましく用いる溶媒はテトラ
ヒドロフランである。
【0038】
【実施例】本発明を、以下の非限定的実施例との関連で
更に詳述する。
更に詳述する。
【0039】調製例1:アクリル酸無水物の調製 アクリル酸(1.3当量)及びEt3N(2.5当量)
をTHFに溶解させた溶液に、−20℃において塩化ア
クリロイル(1.2当量)を添加した。白色固体が生じ
た。混合物を約−20℃で1時間攪拌して反応を完了さ
せ、生成したアクリル酸無水物1aを回収した。
をTHFに溶解させた溶液に、−20℃において塩化ア
クリロイル(1.2当量)を添加した。白色固体が生じ
た。混合物を約−20℃で1時間攪拌して反応を完了さ
せ、生成したアクリル酸無水物1aを回収した。
【0040】調製例2:対称及び混合無水物の調製
【0041】
【化12】
【0042】調製例1に示した操作を用いて、無水物を
次表に従い調製し得る。
次表に従い調製し得る。
【0043】
【表1】
【0044】実施例1 (−)−N−プロペノイルボルナン−2,10−スルタ
ム
ム
【0045】
【化13】
【0046】調製例1により調製したアクリル酸無水物
1aを−20℃で1時間攪拌し、これに塩化リチウム
(1当量)を添加し、続いてボルナン−2,10−スル
タム(d′)(1.72g)を添加して反応させた。粗
生成物をトルエン/ヘキサンから晶出させて標記化合物
4を白色結晶質固体(1.71g)として得た。濾液を
蒸発させ、かつ沸騰ヘキサンの存在下に粉砕を行なって
第二の収穫物(0.215g)を得た。
1aを−20℃で1時間攪拌し、これに塩化リチウム
(1当量)を添加し、続いてボルナン−2,10−スル
タム(d′)(1.72g)を添加して反応させた。粗
生成物をトルエン/ヘキサンから晶出させて標記化合物
4を白色結晶質固体(1.71g)として得た。濾液を
蒸発させ、かつ沸騰ヘキサンの存在下に粉砕を行なって
第二の収穫物(0.215g)を得た。
【0047】m.p. 184℃(分解); 文献値
m.p. >170℃; [α]D(c) −98.5°(1.05); 文献値
[α]D(c) −100.9°(0.983)。
m.p. >170℃; [α]D(c) −98.5°(1.05); 文献値
[α]D(c) −100.9°(0.983)。
【0048】実施例2 (−)−N−プロピオニル−ボルナン−2,10−スル
タム
タム
【0049】
【化14】
【0050】ボルナン−2,10−スルタム(d′)
(1.08g; 5.0mmol)、塩化リチウム
(1.0当量)及びトリエチルアミン(1.3当量)を
THF(0.2M)に溶解させた溶液に、−20℃にお
いてプロピオン酸無水物4a(1.2当量)を添加し
た。混合物の温度を室温まで上昇させ、該混合物を4時
間攪拌した。THFを真空下に除去し、残留物をEtO
Acと0.2N水性HClとに分配した。その後、有機
層をブライン、1M NaHCO3及びブラインで洗浄
した。有機溶液を硫酸ナトリウムで脱水し、濾過した。
酢酸エチルを真空下に除去し、残留物を沸騰ヘキサン存
在下での粉砕により結晶化して、白色結晶質固体状の標
記化合物7(1.29g)を製造した。
(1.08g; 5.0mmol)、塩化リチウム
(1.0当量)及びトリエチルアミン(1.3当量)を
THF(0.2M)に溶解させた溶液に、−20℃にお
いてプロピオン酸無水物4a(1.2当量)を添加し
た。混合物の温度を室温まで上昇させ、該混合物を4時
間攪拌した。THFを真空下に除去し、残留物をEtO
Acと0.2N水性HClとに分配した。その後、有機
層をブライン、1M NaHCO3及びブラインで洗浄
した。有機溶液を硫酸ナトリウムで脱水し、濾過した。
酢酸エチルを真空下に除去し、残留物を沸騰ヘキサン存
在下での粉砕により結晶化して、白色結晶質固体状の標
記化合物7(1.29g)を製造した。
【0051】m.p. 151〜152℃; 文献値
m.p. 153〜154℃; [α]D(c) −113°(1.34); 文献値
[α]D(c) −108.4°(2.65)。
m.p. 153〜154℃; [α]D(c) −113°(1.34); 文献値
[α]D(c) −108.4°(2.65)。
【0052】実施例3 (−)−N−[(E)−2−ブテノイル]−ボルナン−
2,10−スルタム
2,10−スルタム
【0053】
【化15】
【0054】実施例2に示した操作においてプロピオン
酸無水物4aの代わりに(E)−2−ブテン酸無水物5
aを用いて、白色結晶質固体状の標記化合物9(1.2
3g)を製造した。
酸無水物4aの代わりに(E)−2−ブテン酸無水物5
aを用いて、白色結晶質固体状の標記化合物9(1.2
3g)を製造した。
【0055】m.p. 182〜183℃; 文献値
m.p. 186〜187℃; [α]D(c) −82.3°(1.15); 文献値
[α]D(c) −99.5°(1.04)。
m.p. 186〜187℃; [α]D(c) −82.3°(1.15); 文献値
[α]D(c) −99.5°(1.04)。
【0056】実施例4 (−)−N−(2−メチルプロペノイル)−ボルナン−
2,10−スルタム
2,10−スルタム
【0057】
【化16】
【0058】実施例2に示した操作においてプロピオン
酸無水物4aの代わりに2−メチル−2−プロペン酸無
水物6aを用いて、白色結晶質固体状の標記化合物
(1.35g)を製造した。
酸無水物4aの代わりに2−メチル−2−プロペン酸無
水物6aを用いて、白色結晶質固体状の標記化合物
(1.35g)を製造した。
【0059】m.p. 147〜148℃; [α]D(c) −95.6°(1.23); 文献値
[α]D(c) −93°(1.00);1 H NMR: δ 5.67(m,2H)、4.05
(m,1H)、3.51(d,1H,J=14Hz)、
3.40(d,1H,J=14Hz)、2.00(s,
3H)、1.95(m,5H)、1.40(m,2
H)、1.21(s,3H)、1.00(s,3H)。
[α]D(c) −93°(1.00);1 H NMR: δ 5.67(m,2H)、4.05
(m,1H)、3.51(d,1H,J=14Hz)、
3.40(d,1H,J=14Hz)、2.00(s,
3H)、1.95(m,5H)、1.40(m,2
H)、1.21(s,3H)、1.00(s,3H)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デイビツド・ジエー・メイサー アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 08558、スキルマン、グランビユー・ロー ド・317
Claims (2)
- 【請求項1】 式 【化1】 〔式中Rは(a)C1〜C6アルキル、C2〜C6アルケニ
ルまたはC2〜C6アルキニル、(b)−NH2; −O
H; −COOH、−COO(C1〜C3)アルキル、−
OC1〜C4アルキル; −C(O)−C1〜C4アルキ
ル; −NH(C1〜C6アルキル); −NH(C2〜
C6アルケニル); −NH(C2〜C6アルキニル);
−N(C1〜C6アルキル)2; −N(C2〜C6アル
ケニル)2; −N(C2〜C6アルキニル)2; −OC
(O)NH2; −OC(O)NHC1〜C4アルキル;
−OC(O)N(C1〜C4アルキル)2; アリー
ル; ヘテロアリール; C3〜C8シクロアルキル;
ヘテロシクリル; ハロゲン; −NHC(O)OC1
〜C6アルキル; N(C1〜C3アルキル)C(O)O
C1〜C6アルキル; 並びに、ハロゲン、ヒドロキシ、
C1〜C3アルキル、C1〜C3アルコキシ、ヒドロキシ−
C1〜C3アルキル、アミノ、C1〜C3アルキルアミノ及
びジ−C1〜C3アルキルアミノの中から選択された1〜
3個の基で置換されたアリール、ヘテロアリール、C3
〜C8シクロアルキルまたはヘテロシクリル基の中から
選択された1〜3個の基で置換されたC1〜C6アルキ
ル、C2〜C6アルケニルまたはC2〜C6アルキニル、及
び(c)ハロゲン、ヒドロキシ、C1〜C3アルコキシ、
ヒドロキシ−C1〜C3アルキル、アミノ、C1〜C3アル
キルアミノ及びジ−C1〜C3アルキルアミノの中から選
択された1〜3個の基で置換されていないかまたは置換
されたアリール、ヘテロアリール、C3〜C8シクロアル
キルまたはヘテロシクリルの中から選択される〕のN−
アシル助剤化合物を合成する方法であって、リチウム塩
及びアミン塩基の存在下に式 【化2】 の化合物を式 【化3】 〔式中各基Rは先に規定したとおりのもので、互いに同
じであるかまたは異なる〕によって表わされる無水物と
反応させて 【化4】 を生成させることを含む方法。 - 【請求項2】 LiCl及びEt3Nの存在下に式 【化5】 の化合物を式 【化6】 の無水物と反応させて式 【化7】 の化合物を生成させることを特徴とする請求項1に記載
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US281394 | 1994-07-27 | ||
| US08/281,394 US5461162A (en) | 1994-07-27 | 1994-07-27 | Process of synthesizing n-acyl auxiliaries |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08193076A true JPH08193076A (ja) | 1996-07-30 |
| JP2708117B2 JP2708117B2 (ja) | 1998-02-04 |
Family
ID=23077117
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7190299A Expired - Fee Related JP2674738B2 (ja) | 1994-07-27 | 1995-07-26 | N−アシル助剤を合成する方法 |
| JP7190300A Expired - Fee Related JP2708117B2 (ja) | 1994-07-27 | 1995-07-26 | N−アシル助剤を合成する方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7190299A Expired - Fee Related JP2674738B2 (ja) | 1994-07-27 | 1995-07-26 | N−アシル助剤を合成する方法 |
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|---|---|
| US (1) | US5461162A (ja) |
| JP (2) | JP2674738B2 (ja) |
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| US5594134A (en) * | 1995-03-31 | 1997-01-14 | Merck & Co., Inc. | Process of synthesizing N-acyl auxiliaries |
| US6159990A (en) * | 1997-06-18 | 2000-12-12 | Synaptic Pharmaceutical Corporation | Oxazolidinones as α1A receptor antagonists |
| US6150537A (en) * | 1997-12-12 | 2000-11-21 | Emory University | Methods for the esterification of alcohols and compounds useful therefor as potential anticancer agents |
| JP4576649B2 (ja) * | 1999-10-29 | 2010-11-10 | 東ソー株式会社 | 新規オキサゾリジノン誘導体及びその用途 |
| US7220881B2 (en) * | 2001-08-01 | 2007-05-22 | Tokuyama Corporation | Process for production of acid anhydride |
| EP1371658B1 (fr) * | 2002-06-13 | 2007-09-12 | L'oreal | Dérivé du glucose et de vitamine F, compositions le comprenant, utilisations et procédé de préparation |
| JP5059355B2 (ja) * | 2006-08-01 | 2012-10-24 | 壽製薬株式会社 | オキサゾリジン誘導体の製造方法 |
| PA8789801A1 (es) * | 2007-07-16 | 2009-02-09 | Wyeth Corp | Procesos e intermadiarios para la preparacion de compuestos de silfonamida heterocíclica |
| TW200911778A (en) * | 2007-07-16 | 2009-03-16 | Wyeth Corp | Process for the preparation of trifluoroalkyl-phenyl and heterocyclic sulfonamides |
| JP2011140445A (ja) * | 2010-01-05 | 2011-07-21 | Savior Lifetec Corp | キラル補助剤を用い、ステレオ選択的に4−bmaを製造する方法、及びキラル補助剤 |
| CN104387270A (zh) * | 2014-10-31 | 2015-03-04 | 上海博康精细化工有限公司 | 1-异丙基环己醇甲基丙酸酯及其制备方法 |
| EP3524589A1 (en) * | 2018-02-09 | 2019-08-14 | 3M Innovative Properties Company | Process for the manufacturing of a (meth)acrylic anhydride in a flow reactor |
-
1994
- 1994-07-27 US US08/281,394 patent/US5461162A/en not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-07-26 JP JP7190299A patent/JP2674738B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-26 JP JP7190300A patent/JP2708117B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US5461162A (en) | 1995-10-24 |
| JP2674738B2 (ja) | 1997-11-12 |
| JP2708117B2 (ja) | 1998-02-04 |
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