JPH08194101A - 高耐薬防曇性光学素子 - Google Patents
高耐薬防曇性光学素子Info
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- JPH08194101A JPH08194101A JP406995A JP406995A JPH08194101A JP H08194101 A JPH08194101 A JP H08194101A JP 406995 A JP406995 A JP 406995A JP 406995 A JP406995 A JP 406995A JP H08194101 A JPH08194101 A JP H08194101A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐薬品性と防曇性を有した光学素子を製造す
る。 【構成】 ポリマー成分を98.0重量%以上含有し、
その内、40.0重量%以上70.0重量%以下が25
0,000以上500,000以下の重量平均分子量で
ある透明ポリスチレン樹脂に1.0重量%〜10.0重
量%のノニオン系界面活性剤を添加したポリマーを用
い、射出成形により光学素子を成形する。界面活性剤に
より光学素子の表面が親水性となり防曇性となる。ポリ
マーが高重合度のため、耐薬品性を有する。
る。 【構成】 ポリマー成分を98.0重量%以上含有し、
その内、40.0重量%以上70.0重量%以下が25
0,000以上500,000以下の重量平均分子量で
ある透明ポリスチレン樹脂に1.0重量%〜10.0重
量%のノニオン系界面活性剤を添加したポリマーを用
い、射出成形により光学素子を成形する。界面活性剤に
より光学素子の表面が親水性となり防曇性となる。ポリ
マーが高重合度のため、耐薬品性を有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、透明性を有する熱可塑
性樹脂に界面活性剤を添加してなる防曇性光学素子に係
り、特に高耐薬品性を有する防曇性光学素子に関する。
性樹脂に界面活性剤を添加してなる防曇性光学素子に係
り、特に高耐薬品性を有する防曇性光学素子に関する。
【0002】
【従来の技術】光学素子は高い透明性が要求される。し
かし光学素子は使用する環境によって、その表面に水滴
が付着したり、結露して曇りが生じ、これにより、透明
性が失われる。このため、例えば光学機器においては、
鮮明な観察視野が得られないということがあった。
かし光学素子は使用する環境によって、その表面に水滴
が付着したり、結露して曇りが生じ、これにより、透明
性が失われる。このため、例えば光学機器においては、
鮮明な観察視野が得られないということがあった。
【0003】そこで近年、射出成形法によって得られた
透明性を有する光学素子に、防曇性を付与させて使用す
ることが提案されている。例えば特開昭51−1078
41号公報には素材に防曇性を付与する化合物を添加し
たメガネレンズが開示されている。
透明性を有する光学素子に、防曇性を付与させて使用す
ることが提案されている。例えば特開昭51−1078
41号公報には素材に防曇性を付与する化合物を添加し
たメガネレンズが開示されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで光学用途にプ
ラスチックを用いる場合、ほとんどがガラス素材からの
代替であり、その目的は光学機器等の低コスト化あるい
は/及び軽量化である。しかし、特開昭51−1078
41号公報の方法では生産コストがかかりすぎるため実
用的でない。また、これらの防曇性を付与した光学素子
について、薬品への耐性についての考慮はなされておら
ず、耐薬品性に乏しい問題があった。
ラスチックを用いる場合、ほとんどがガラス素材からの
代替であり、その目的は光学機器等の低コスト化あるい
は/及び軽量化である。しかし、特開昭51−1078
41号公報の方法では生産コストがかかりすぎるため実
用的でない。また、これらの防曇性を付与した光学素子
について、薬品への耐性についての考慮はなされておら
ず、耐薬品性に乏しい問題があった。
【0005】本発明は、このような問題点を考慮してな
されたものであり、重量平均分子量(Mw)が250,
000以上、500,000以下のポリマー成分を4
0.0%以上、70.0%以下の割合で含有するポリス
チレン樹脂に、ノニオン系界面活性剤を混練により添加
することで、成形品単体で安定した長期防曇性、あるい
は/及び薬剤に対する耐久性を付与した光学機器用の高
耐薬防曇性光学素子を提供することを目的としている。
されたものであり、重量平均分子量(Mw)が250,
000以上、500,000以下のポリマー成分を4
0.0%以上、70.0%以下の割合で含有するポリス
チレン樹脂に、ノニオン系界面活性剤を混練により添加
することで、成形品単体で安定した長期防曇性、あるい
は/及び薬剤に対する耐久性を付与した光学機器用の高
耐薬防曇性光学素子を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段および作用】本発明の光学
素子は、ポリマー成分を98.0重量%以上含有し、そ
の内、40.0重量%以上70.0重量%以下が25
0,000以上500,000以下の重量平均分子量で
ある透明ポリスチレン樹脂に1.0重量%〜10.0重
量%のノニオン系界面活性剤を添加したポリマーを用
い、射出成形により成形したことを特徴とする。
素子は、ポリマー成分を98.0重量%以上含有し、そ
の内、40.0重量%以上70.0重量%以下が25
0,000以上500,000以下の重量平均分子量で
ある透明ポリスチレン樹脂に1.0重量%〜10.0重
量%のノニオン系界面活性剤を添加したポリマーを用
い、射出成形により成形したことを特徴とする。
【0007】透明ポリスチレン樹脂にノニオン系界面活
性剤を混練により添加したものを用い、射出成形法で光
学素子を成形することにより、樹脂内部に混練された添
加剤が光学素子表面にブリードアウトし、光学素子表面
に薄い均一層を形成する。この均一層は親水性基が表層
に配列するので親水性を示し、光学素子表面の濡れ性が
向上する。その結果、光学素子表面に付着した曇りの要
因である微小水滴等を合着して、曇りのない均一な透明
面とすることができる。これらのノニオン系界面活性剤
としては例えば、グリセリド(脂肪酸のグリセリンエス
テル)、エチレングリコール脂肪酸エステル、プロピレ
ングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレンアルキルフェノール、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアミ
ルエステル等が用いることができる。
性剤を混練により添加したものを用い、射出成形法で光
学素子を成形することにより、樹脂内部に混練された添
加剤が光学素子表面にブリードアウトし、光学素子表面
に薄い均一層を形成する。この均一層は親水性基が表層
に配列するので親水性を示し、光学素子表面の濡れ性が
向上する。その結果、光学素子表面に付着した曇りの要
因である微小水滴等を合着して、曇りのない均一な透明
面とすることができる。これらのノニオン系界面活性剤
としては例えば、グリセリド(脂肪酸のグリセリンエス
テル)、エチレングリコール脂肪酸エステル、プロピレ
ングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステ
ル、ポリオキシエチレンアルキルフェノール、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアミ
ルエステル等が用いることができる。
【0008】また、本発明では、高重合度のポリマー成
分を含有するポリスチレンをベースポリマーとして用い
るため、成形後の応力解放を抑制することができる。こ
のため応力開放によって引き起こされるストレスクラッ
クやクレイズも抑制できる。同時にストレスクラックや
クレイズが存在することに起因した溶剤や活性ガスによ
り誘発されるソルベントクラックも抑制できる。従っ
て、エチレンオキサイドガスによる滅菌や、エタノー
ル、イソプロピルアルコールによる洗浄を行っても、溶
出やソルベントクラック等が発生することがなくなる。
分を含有するポリスチレンをベースポリマーとして用い
るため、成形後の応力解放を抑制することができる。こ
のため応力開放によって引き起こされるストレスクラッ
クやクレイズも抑制できる。同時にストレスクラックや
クレイズが存在することに起因した溶剤や活性ガスによ
り誘発されるソルベントクラックも抑制できる。従っ
て、エチレンオキサイドガスによる滅菌や、エタノー
ル、イソプロピルアルコールによる洗浄を行っても、溶
出やソルベントクラック等が発生することがなくなる。
【0009】一方、高重合度のポリマー成分の重量平均
分子量(Mw)が250,000以下の場合は、十分な
応力開放の抑制ができないため、溶剤や活性ガスにより
ソルベントクラックが発生する。Mwが500,000
より大きい場合、ソルベントクラックや溶出は発生しな
いものの、成形時、及び混練時のシリンダー温度を30
0℃以上にする必要があり、界面活性剤の耐熱温度を越
えて界面活性剤が劣化する。
分子量(Mw)が250,000以下の場合は、十分な
応力開放の抑制ができないため、溶剤や活性ガスにより
ソルベントクラックが発生する。Mwが500,000
より大きい場合、ソルベントクラックや溶出は発生しな
いものの、成形時、及び混練時のシリンダー温度を30
0℃以上にする必要があり、界面活性剤の耐熱温度を越
えて界面活性剤が劣化する。
【0010】Mwが250,000以上500,000
以下の高重合度ポリマー成分の含有率が40.0重量%
未満の場合、高重合度ポリマー成分による応力開放を十
分に抑制できず、ソルベントクラックが発生する。ま
た、70.0重量%以上ではポリマーの分子量分布が狭
くなり、逆にソルベントクラックが発生し易くなる。
以下の高重合度ポリマー成分の含有率が40.0重量%
未満の場合、高重合度ポリマー成分による応力開放を十
分に抑制できず、ソルベントクラックが発生する。ま
た、70.0重量%以上ではポリマーの分子量分布が狭
くなり、逆にソルベントクラックが発生し易くなる。
【0011】また、ノニオン系界面活性剤の添加量が
1.0重量%未満では十分な防曇効果が期待できず1
0.0重量%より多いと、防曇効果は十分に得られるも
のの、従来の一般的な混練機では、樹脂と界面活性剤を
十分に混練できず、収率も悪くなる。これを高収率で得
るには特殊な混練機を使用する必要があるが、材料調製
にコストがかかりすぎてしまい実用的ではない。本発明
は界面活性剤の添加量を1.0重量%〜10.0重量%
とすることで、混練機による界面活性剤と樹脂との混練
を、収率を落とすことなく行うものである。
1.0重量%未満では十分な防曇効果が期待できず1
0.0重量%より多いと、防曇効果は十分に得られるも
のの、従来の一般的な混練機では、樹脂と界面活性剤を
十分に混練できず、収率も悪くなる。これを高収率で得
るには特殊な混練機を使用する必要があるが、材料調製
にコストがかかりすぎてしまい実用的ではない。本発明
は界面活性剤の添加量を1.0重量%〜10.0重量%
とすることで、混練機による界面活性剤と樹脂との混練
を、収率を落とすことなく行うものである。
【0012】
【実施例1】図1は本発明の実施例1の光学素子の斜視
図である。この光学素子1は幅20mm,高さ12m
m,厚さ1mmの矩形形状に成形されている。かかる光
学素子1はポリマー成分を98.5重量%含有する。こ
のポリマー成分の58.0重量%が300,000の重
量平均分子量(Mw)である透明ポリスチレンに、松本
油脂製薬(株)製のノニオン系界面活性剤「TB−37
0」を3.0重量%混練したものを用いて、住友重機
(株)製の射出成形機「ネスタールSG−50」により
一体的に成形したものである。成形時の最高温度は22
0℃に設定した。
図である。この光学素子1は幅20mm,高さ12m
m,厚さ1mmの矩形形状に成形されている。かかる光
学素子1はポリマー成分を98.5重量%含有する。こ
のポリマー成分の58.0重量%が300,000の重
量平均分子量(Mw)である透明ポリスチレンに、松本
油脂製薬(株)製のノニオン系界面活性剤「TB−37
0」を3.0重量%混練したものを用いて、住友重機
(株)製の射出成形機「ネスタールSG−50」により
一体的に成形したものである。成形時の最高温度は22
0℃に設定した。
【0013】リファレンスとして、「TB−370」を
添加していないポリスチレンのみを用いて、同様に光学
素子を成形した。面Aおよび対外面A´は鏡面加工され
た金型より転写された鏡面である。
添加していないポリスチレンのみを用いて、同様に光学
素子を成形した。面Aおよび対外面A´は鏡面加工され
た金型より転写された鏡面である。
【0014】ポリスチレンに混練された「TB−37
0」は、その一部が光学素子1の全表面にブリードアウ
トする。ブリードアウトした「TB−370」は光学素
子1の全表面において均一な親水性層を形成し、光学素
子1の全表面の濡れ性を向上させる。このため、光学素
子1の全表面に付着した微小な水滴等は、濡れ性の良い
光学素子1の全表面上では個々の微小水滴として存在で
きず、各微小水滴が相互に合着するので光学素子1の全
表面は曇りの無い均一な透明面となる。
0」は、その一部が光学素子1の全表面にブリードアウ
トする。ブリードアウトした「TB−370」は光学素
子1の全表面において均一な親水性層を形成し、光学素
子1の全表面の濡れ性を向上させる。このため、光学素
子1の全表面に付着した微小な水滴等は、濡れ性の良い
光学素子1の全表面上では個々の微小水滴として存在で
きず、各微小水滴が相互に合着するので光学素子1の全
表面は曇りの無い均一な透明面となる。
【0015】また、ポリマー成分のうち58.0重量%
について重量平均分子量300,000と高分子量にし
たことで、成形応力の開放が抑制されるため、ストレス
クラックやクレイズが発生しない。このためエチレンオ
キサイドガス等によりソルベントクラックが発生するこ
ともない。
について重量平均分子量300,000と高分子量にし
たことで、成形応力の開放が抑制されるため、ストレス
クラックやクレイズが発生しない。このためエチレンオ
キサイドガス等によりソルベントクラックが発生するこ
ともない。
【0016】防曇効果を確認するために、接触角測定に
よる評価を行った。「TB−370」を添加した光学素
子1は蒸留水による接触角試験で表面の濡れ性の向上が
認められた。結果を表1に示す。
よる評価を行った。「TB−370」を添加した光学素
子1は蒸留水による接触角試験で表面の濡れ性の向上が
認められた。結果を表1に示す。
【0017】
【表1】
【0018】また、耐薬品性を確認するため、エチレン
オキサイドガス(以後EOGと記する。)による耐性試
験を行い、ソルベントクラック、溶出、及び基材変色の
発生の有無を確認した。クラック、溶出については目視
観察で、基材変色については透過率によりそれぞれ評価
した。ガスは、EOG20%と炭酸ガス(CO2 ga
s)80%を混合したものを使用した。表2に目視観察
結果を示す。透過率は、波長域380nm〜480nm
での透過率が80%以上であれば良いという観点から評
価したところ、透過率の低下は確認されず、基材の変色
はないと確認された。表1より、光学素子1の濡れ性が
向上していることが判る。また、表2からEOGでも基
材の溶出、ソルベントクラックの発生がないことが判
る。このこと各種光学機器において、光学素子が結露等
により曇ることが抑制され、あるいは/及びクラック等
の薬剤によるアタックが抑制されるので、鮮明な視野や
必要な観察光量等を維持できる。
オキサイドガス(以後EOGと記する。)による耐性試
験を行い、ソルベントクラック、溶出、及び基材変色の
発生の有無を確認した。クラック、溶出については目視
観察で、基材変色については透過率によりそれぞれ評価
した。ガスは、EOG20%と炭酸ガス(CO2 ga
s)80%を混合したものを使用した。表2に目視観察
結果を示す。透過率は、波長域380nm〜480nm
での透過率が80%以上であれば良いという観点から評
価したところ、透過率の低下は確認されず、基材の変色
はないと確認された。表1より、光学素子1の濡れ性が
向上していることが判る。また、表2からEOGでも基
材の溶出、ソルベントクラックの発生がないことが判
る。このこと各種光学機器において、光学素子が結露等
により曇ることが抑制され、あるいは/及びクラック等
の薬剤によるアタックが抑制されるので、鮮明な視野や
必要な観察光量等を維持できる。
【0019】
【表2】
【0020】
【実施例2】図2は本発明の実施例2の光学素子の斜視
図である。この光学素子2は長さが12mmで高さが7
mmの円弧形状に成形されており、その厚さは8.82
mmである。この実施例の光学素子2は実施例1と同様
の構成で、ノニオン系界面活性剤「TB−370」の添
加量を0.5重量%、1.0重量%、3.0%重量%、
5.0重量%、8.0重量%、10.0重量%、及び1
1.0重量%として、形成したものである。成形時の最
高温度も実施例1と同様に220℃である。
図である。この光学素子2は長さが12mmで高さが7
mmの円弧形状に成形されており、その厚さは8.82
mmである。この実施例の光学素子2は実施例1と同様
の構成で、ノニオン系界面活性剤「TB−370」の添
加量を0.5重量%、1.0重量%、3.0%重量%、
5.0重量%、8.0重量%、10.0重量%、及び1
1.0重量%として、形成したものである。成形時の最
高温度も実施例1と同様に220℃である。
【0021】リファレンスとして、「TB−370」を
添加していない実施例1記載のポリスチレンのみを用い
て、図2と同様の形状の光学素子を成形した。面Bおよ
び対外面B’は実施例1と同様の鏡面加工を施した金型
より転写された鏡面である。
添加していない実施例1記載のポリスチレンのみを用い
て、図2と同様の形状の光学素子を成形した。面Bおよ
び対外面B’は実施例1と同様の鏡面加工を施した金型
より転写された鏡面である。
【0022】本実施例では実施例1と同様に光学素子2
表面の曇り及び薬品による劣化を防止できる。本実施例
における防曇効果を確認するために、接触角測定による
評価を行った。「TB−370」を添加した光学素子は
蒸留水による接触角試験で、添加量が0.5重量%以外
のサンプル全てにおいて表面の濡れ性の向上が認められ
た。また、耐薬品性を確認するため、EOGによる耐性
試験を行い、ソルベントクラック、溶出、及び基材変色
の発生の有無を実施例1と同様の評価法により確認し
た。EOGの組成も実施例1と同様である。
表面の曇り及び薬品による劣化を防止できる。本実施例
における防曇効果を確認するために、接触角測定による
評価を行った。「TB−370」を添加した光学素子は
蒸留水による接触角試験で、添加量が0.5重量%以外
のサンプル全てにおいて表面の濡れ性の向上が認められ
た。また、耐薬品性を確認するため、EOGによる耐性
試験を行い、ソルベントクラック、溶出、及び基材変色
の発生の有無を実施例1と同様の評価法により確認し
た。EOGの組成も実施例1と同様である。
【0023】EOG耐性試験の目視観察結果では全ての
添加量のサンプルにてソルベントクラック等の発生は認
められなかった。透過率についても実施例1と同様に、
波長域380nm〜480nmでの透過率が80%以上
であれば良いという観点から評価したところ、添加量が
11.0重量%以外のサンプルでは透過率の低下が確認
されず、基材の変色はないと確認された。更に、呼気試
験で添加量が0.5重量%のものでは曇りが生じ、1.
0重量%〜11.0重量%のものでは曇りは生じなかっ
た。しかし、添加量が11.0重量%のものでは、光学
素子2にヘイズが発生して、全体が白っぽくなっている
ことが確認された。また、添加量が11.0重量%のも
のを従来の混練機で混練したところ、混練スクリューが
滑って十分に樹脂と界面活性剤を混練するに至らず、収
率が極端に低下した。表3に接触角測定結果、表4に目
視観察結果、及び表5に呼気試験の結果を示す。
添加量のサンプルにてソルベントクラック等の発生は認
められなかった。透過率についても実施例1と同様に、
波長域380nm〜480nmでの透過率が80%以上
であれば良いという観点から評価したところ、添加量が
11.0重量%以外のサンプルでは透過率の低下が確認
されず、基材の変色はないと確認された。更に、呼気試
験で添加量が0.5重量%のものでは曇りが生じ、1.
0重量%〜11.0重量%のものでは曇りは生じなかっ
た。しかし、添加量が11.0重量%のものでは、光学
素子2にヘイズが発生して、全体が白っぽくなっている
ことが確認された。また、添加量が11.0重量%のも
のを従来の混練機で混練したところ、混練スクリューが
滑って十分に樹脂と界面活性剤を混練するに至らず、収
率が極端に低下した。表3に接触角測定結果、表4に目
視観察結果、及び表5に呼気試験の結果を示す。
【0024】
【表3】
【0025】
【表4】
【0026】
【表5】
【0027】以上の結果より、界面活性剤「TB−37
0」の添加量を1.0重量%〜10.0重量%の範囲に
設定することで、ヘイズ等が発生することなく、あるい
は/及び混練時の収率を低下させることなく実施例1と
同様の効果が得られ、各種光学機器において、光学素子
が結露等により曇ることが抑制され、あるいは/及びク
ラック等の薬剤によるアタックが抑制されるので、鮮明
な観察視野や、必要な観察光量等を維持できる。
0」の添加量を1.0重量%〜10.0重量%の範囲に
設定することで、ヘイズ等が発生することなく、あるい
は/及び混練時の収率を低下させることなく実施例1と
同様の効果が得られ、各種光学機器において、光学素子
が結露等により曇ることが抑制され、あるいは/及びク
ラック等の薬剤によるアタックが抑制されるので、鮮明
な観察視野や、必要な観察光量等を維持できる。
【0028】
【実施例3】本実施例は、ポリマー成分を98.5重量
%含有すると共に、その内の59.0重量%が350,
000〜400,000の重量平均分子量を有した高分
子量体からなる透明ポリスチレンに、ミヨシ油脂(株)
製のノニオン系界面活性剤「ミヨコール#324」を実
施例2と同様の構成で添加したものを用い、図2に示す
光学素子2を成形したものである。成形時の最高温度は
210℃である。
%含有すると共に、その内の59.0重量%が350,
000〜400,000の重量平均分子量を有した高分
子量体からなる透明ポリスチレンに、ミヨシ油脂(株)
製のノニオン系界面活性剤「ミヨコール#324」を実
施例2と同様の構成で添加したものを用い、図2に示す
光学素子2を成形したものである。成形時の最高温度は
210℃である。
【0029】この実施例においても、実施例1及び実施
例2と同様に、光学素子2表面の曇り及び薬品による劣
化を防止できる。この実施例においては、実施例2と同
様の効果を有しているが、添加量が11.0重量%でも
ヘイズは発生せず、透過率の低下も認められなかった。
なお、この実施例における11.0重量%の添加量の場
合、界面活性剤混練時の収率が良くないという結果とな
った。表6に接触角測定の結果、表7に目視観察の結
果、表8に呼気試験の結果を示す。これにより各種光学
機器において、光学素子が結露等により曇ることを抑制
し、あるいは/及びクラック等の薬剤によるアタックが
抑制されるので、鮮明な観察視野や、必要な観察光量等
を維持できる。
例2と同様に、光学素子2表面の曇り及び薬品による劣
化を防止できる。この実施例においては、実施例2と同
様の効果を有しているが、添加量が11.0重量%でも
ヘイズは発生せず、透過率の低下も認められなかった。
なお、この実施例における11.0重量%の添加量の場
合、界面活性剤混練時の収率が良くないという結果とな
った。表6に接触角測定の結果、表7に目視観察の結
果、表8に呼気試験の結果を示す。これにより各種光学
機器において、光学素子が結露等により曇ることを抑制
し、あるいは/及びクラック等の薬剤によるアタックが
抑制されるので、鮮明な観察視野や、必要な観察光量等
を維持できる。
【0030】
【表6】
【0031】
【表7】
【0032】
【表8】
【0033】
【発明の効果】以上述べたように本発明は、ポリスチレ
ン樹脂にノニオン系界面活性剤を添加することで、各種
光学機器の光学素子として使用することにより、結露等
により曇ることを抑制し、あるいは薬品による劣化を抑
制することができる。これにより、鮮明な観察視野や、
必要な観察光量等を維持した光学素子とすることができ
る。
ン樹脂にノニオン系界面活性剤を添加することで、各種
光学機器の光学素子として使用することにより、結露等
により曇ることを抑制し、あるいは薬品による劣化を抑
制することができる。これにより、鮮明な観察視野や、
必要な観察光量等を維持した光学素子とすることができ
る。
【図1】本発明の実施例1の光学素子の斜視図。
【図2】実施例2の光学素子の斜視図。
1 光学素子 2 光学素子
Claims (1)
- 【請求項1】 ポリマー成分を98.0重量%以上含有
し、その内、40.0重量%以上70.0重量%以下が
250,000以上500,000以下の重量平均分子
量である透明ポリスチレン樹脂に1.0重量%〜10.
0重量%のノニオン系界面活性剤を添加したポリマーを
用い、射出成形により成形したことを特徴とする高耐薬
防曇性光学素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP406995A JPH08194101A (ja) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | 高耐薬防曇性光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP406995A JPH08194101A (ja) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | 高耐薬防曇性光学素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08194101A true JPH08194101A (ja) | 1996-07-30 |
Family
ID=11574540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP406995A Withdrawn JPH08194101A (ja) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | 高耐薬防曇性光学素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08194101A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999005210A1 (en) * | 1997-07-28 | 1999-02-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition containing vinylic cyclic hydrocarbon polymer and product of molding thereof |
| JP2017061697A (ja) * | 2011-12-20 | 2017-03-30 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
-
1995
- 1995-01-13 JP JP406995A patent/JPH08194101A/ja not_active Withdrawn
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999005210A1 (en) * | 1997-07-28 | 1999-02-04 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition containing vinylic cyclic hydrocarbon polymer and product of molding thereof |
| US6365660B1 (en) | 1997-07-28 | 2002-04-02 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition and molded or formed product comprising vinyl cyclic hydrocarbon polymer |
| US6498215B2 (en) | 1997-07-28 | 2002-12-24 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition comprising vinyl cyclic hydrocarbon polymer and a compound having an alcoholic hydroxy group and an ester linkage |
| US6500899B2 (en) | 1997-07-28 | 2002-12-31 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition comprising vinyl cyclic hydrocarbon polymer |
| EP1413601A3 (en) * | 1997-07-28 | 2004-05-06 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Resin composition and molded or formed product comprising vinyl cyclic hydrocarbon polymer |
| JP2017061697A (ja) * | 2011-12-20 | 2017-03-30 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
| JP2017078172A (ja) * | 2011-12-20 | 2017-04-27 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
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