JPH08198633A - 光ファイバ母材の加熱炉 - Google Patents
光ファイバ母材の加熱炉Info
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- JPH08198633A JPH08198633A JP2109395A JP2109395A JPH08198633A JP H08198633 A JPH08198633 A JP H08198633A JP 2109395 A JP2109395 A JP 2109395A JP 2109395 A JP2109395 A JP 2109395A JP H08198633 A JPH08198633 A JP H08198633A
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- JP
- Japan
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- heating furnace
- chlorine
- optical fiber
- gas
- fiber preform
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
- C03B37/0146—Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、光ファイバ母材の脱水工程におい
て、漏出脱水ガス中の塩素成分を除去する光ファイバ母
材の加熱炉を提供することを目的とする。 【構成】 かゝる本発明は、光ファイバ用母材のガラス
微粉末堆積体１３の脱水を行う加熱炉１１において、脱
水ガス中の塩素成分を除去する塩素トラップ２３を設
け、この中に充填されたＮａＯＨ水溶液と塩素成分を反
応させて、当該塩素成分を容易に除去することができ
る。
て、漏出脱水ガス中の塩素成分を除去する光ファイバ母
材の加熱炉を提供することを目的とする。 【構成】 かゝる本発明は、光ファイバ用母材のガラス
微粉末堆積体１３の脱水を行う加熱炉１１において、脱
水ガス中の塩素成分を除去する塩素トラップ２３を設
け、この中に充填されたＮａＯＨ水溶液と塩素成分を反
応させて、当該塩素成分を容易に除去することができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバ母材の脱水
工程において、漏出脱水ガス中の塩素成分を除去する光
ファイバ母材の加熱炉に関するものである。
工程において、漏出脱水ガス中の塩素成分を除去する光
ファイバ母材の加熱炉に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、光ファイバ用母材のガラス微粉末
堆積体の脱水・焼結を行うには、例えば図２に示した如
き、加熱炉１を用いて行っている。つまり、ダミーロッ
ド２によって吊られたガラス微粉末堆積体３を加熱炉１
のマッフル４内に入れ、上方から降下させて、マッフル
４の外周に設けたヒータなどの加熱部５を通過させる一
方、マッフル４の下端などからは、脱水ガスを供給して
行っている。
堆積体の脱水・焼結を行うには、例えば図２に示した如
き、加熱炉１を用いて行っている。つまり、ダミーロッ
ド２によって吊られたガラス微粉末堆積体３を加熱炉１
のマッフル４内に入れ、上方から降下させて、マッフル
４の外周に設けたヒータなどの加熱部５を通過させる一
方、マッフル４の下端などからは、脱水ガスを供給して
行っている。
【０００３】この脱水ガスとしては、塩素系ガス、例え
ばＣｌ2 ガスあるいは、これらにＮｅガス、Ｎ2 ガス、
Ａｒガスなどを混入したものなどが用いられている。こ
のような成分として供給された脱水ガスの余剰分は、従
来、加熱炉１の上部、すなわちマッフル上部の収納部
に、例えばマッフル４のカバー体６の貫通穴６ａと上記
ダミーロッド２との隙間から漏れる形で、集めた後、こ
の収納部からアルミホースなどを通じて排出させ、さら
に、途中に塩化ビニルパイプなどを介在させて、排ガス
処理装置に送って、処理していた。
ばＣｌ2 ガスあるいは、これらにＮｅガス、Ｎ2 ガス、
Ａｒガスなどを混入したものなどが用いられている。こ
のような成分として供給された脱水ガスの余剰分は、従
来、加熱炉１の上部、すなわちマッフル上部の収納部
に、例えばマッフル４のカバー体６の貫通穴６ａと上記
ダミーロッド２との隙間から漏れる形で、集めた後、こ
の収納部からアルミホースなどを通じて排出させ、さら
に、途中に塩化ビニルパイプなどを介在させて、排ガス
処理装置に送って、処理していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記脱
水ガスの余剰分（漏出脱水ガス）には、微量と言えど
も、塩素成分が含有されているため、上記配管経路部分
で漏れたりする可能性があった。例えばアルミホースな
どは、この塩素成分によって浸食されることがある。こ
のようにして、塩素成分が外部に漏れると、甚だ危険で
あり、その対策には、十分な注意が払われる必要があ
る。
水ガスの余剰分（漏出脱水ガス）には、微量と言えど
も、塩素成分が含有されているため、上記配管経路部分
で漏れたりする可能性があった。例えばアルミホースな
どは、この塩素成分によって浸食されることがある。こ
のようにして、塩素成分が外部に漏れると、甚だ危険で
あり、その対策には、十分な注意が払われる必要があ
る。
【０００５】本発明は、このような従来の実情に鑑みて
なされたもので、漏出脱水ガス中の塩素成分を加熱炉の
上部で処理して、配管経路部分などでの漏れなどの危険
を根本的に解消した光ファイバ母材の加熱炉を提供せん
とするものである。
なされたもので、漏出脱水ガス中の塩素成分を加熱炉の
上部で処理して、配管経路部分などでの漏れなどの危険
を根本的に解消した光ファイバ母材の加熱炉を提供せん
とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】かゝる本発明の特徴とす
る点は、光ファイバ用母材のガラス微粉末堆積体の脱水
を行う加熱炉において、漏出脱水ガス中の塩素成分を除
去する塩素トラップを設けた光ファイバ母材の加熱炉に
ある。また、好ましくは、この塩素トラップを、加熱炉
のマッフル上部に冷却部を介して設け、さらに、この塩
素トラップには、ＮａＯＨ水溶液を充填してなるもので
ある。
る点は、光ファイバ用母材のガラス微粉末堆積体の脱水
を行う加熱炉において、漏出脱水ガス中の塩素成分を除
去する塩素トラップを設けた光ファイバ母材の加熱炉に
ある。また、好ましくは、この塩素トラップを、加熱炉
のマッフル上部に冷却部を介して設け、さらに、この塩
素トラップには、ＮａＯＨ水溶液を充填してなるもので
ある。
【０００７】
【作用】このように漏出脱水ガス中の塩素成分は、加熱
炉の上部で除去処理されるため、当該塩素成分の配管経
路部分での漏れなどの危険は、根本的に解消される。
炉の上部で除去処理されるため、当該塩素成分の配管経
路部分での漏れなどの危険は、根本的に解消される。
【０００８】
【実施例】図１は、本発明に係る光ファイバ母材の加熱
炉の要部の一実施例を示したものである。図中、１１は
加熱炉、１２は上下動されるダミーロッド、１３はこの
ダミーロッド１２によって吊られたガラス微粉末堆積
体、１４は石英ガラスなどからなる筒形の上下方向に伸
びるマッフル、１６はこのマッフル１４の上端開口部分
に蓋された、石英ガラスなどからなるカバー体、２１は
カバー体１６上に設置された、石英ガラスなどの区画室
からなる余剰ガス収納部、２２はこの余剰ガス収納部２
１上に付設された、石英ガラスや金属板などの区画室か
らなる冷却部、２３はこの冷却部２２上に設置された、
石英ガラスや金属板などの容器からなる塩素トラップで
ある。
炉の要部の一実施例を示したものである。図中、１１は
加熱炉、１２は上下動されるダミーロッド、１３はこの
ダミーロッド１２によって吊られたガラス微粉末堆積
体、１４は石英ガラスなどからなる筒形の上下方向に伸
びるマッフル、１６はこのマッフル１４の上端開口部分
に蓋された、石英ガラスなどからなるカバー体、２１は
カバー体１６上に設置された、石英ガラスなどの区画室
からなる余剰ガス収納部、２２はこの余剰ガス収納部２
１上に付設された、石英ガラスや金属板などの区画室か
らなる冷却部、２３はこの冷却部２２上に設置された、
石英ガラスや金属板などの容器からなる塩素トラップで
ある。
【０００９】そして、また、上記余剰ガス収納部２１
は、脱水ガスの余剰分（漏出脱水ガス）が一時的に貯溜
される部分で、本例では、上下に２分割された区画室２
１ａ，２１ｂからなる。この区画室２１ａには、漏出脱
水ガスが、マッフル１４のカバー体１６の貫通穴１６ａ
とダミーロッド１２との隙間から漏れる形で、集めら
れ、引き続き、この漏出脱水ガスは、上記と同様にし
て、仕切板２１ｃの貫通穴２１ｄとダミーロッド１２と
の隙間から漏れる形で、区画室２１ｂに達するようにな
っている。
は、脱水ガスの余剰分（漏出脱水ガス）が一時的に貯溜
される部分で、本例では、上下に２分割された区画室２
１ａ，２１ｂからなる。この区画室２１ａには、漏出脱
水ガスが、マッフル１４のカバー体１６の貫通穴１６ａ
とダミーロッド１２との隙間から漏れる形で、集めら
れ、引き続き、この漏出脱水ガスは、上記と同様にし
て、仕切板２１ｃの貫通穴２１ｄとダミーロッド１２と
の隙間から漏れる形で、区画室２１ｂに達するようにな
っている。
【００１０】上記冷却部２２は、加熱炉１の駆動時にお
けるマッフル１４上部の高温（約１５０℃程度）が、上
記塩素トラップ２３側に伝達されないようにするための
もので、左右の配管経路系２２ａ，２２ａなどを通じ
て、例えば冷却水が導入されるようになっている。
けるマッフル１４上部の高温（約１５０℃程度）が、上
記塩素トラップ２３側に伝達されないようにするための
もので、左右の配管経路系２２ａ，２２ａなどを通じ
て、例えば冷却水が導入されるようになっている。
【００１１】また、上記塩素トラップ２３内には、塩素
成分を除去するための材料として、例えばＮａＯＨ水溶
液２４が充填されており、上記余剰ガス収納部２１の上
段側の区画室２１ｂとは、塩素成分に対して大きな耐蝕
性を有するガラス管などからなる配管経路系２３ａを通
じて、接続され、また、この塩素トラップ２３からは、
配管経路系２３ｂを通じて、塩素成分除去後のガス成分
が排ガス処理装置に送られるようになっている。
成分を除去するための材料として、例えばＮａＯＨ水溶
液２４が充填されており、上記余剰ガス収納部２１の上
段側の区画室２１ｂとは、塩素成分に対して大きな耐蝕
性を有するガラス管などからなる配管経路系２３ａを通
じて、接続され、また、この塩素トラップ２３からは、
配管経路系２３ｂを通じて、塩素成分除去後のガス成分
が排ガス処理装置に送られるようになっている。
【００１２】しかして、この加熱炉１１によると、ガラ
ス微粉末堆積体１３の脱水・焼結中（脱水のみも可）に
おいて、マッフル１４内に供給された脱水ガスの余剰
分、すなわち漏出脱水ガス分は、一旦上下に２分割され
た区画室２１ａ，２１ｂからなる余剰ガス収納部２１に
貯溜され、この部分から徐々に、塩素トラップ２３内に
導かれる。
ス微粉末堆積体１３の脱水・焼結中（脱水のみも可）に
おいて、マッフル１４内に供給された脱水ガスの余剰
分、すなわち漏出脱水ガス分は、一旦上下に２分割され
た区画室２１ａ，２１ｂからなる余剰ガス収納部２１に
貯溜され、この部分から徐々に、塩素トラップ２３内に
導かれる。
【００１３】この塩素トラップ２３内には、ＮａＯＨ水
溶液２４が充填されているため、塩素成分は、ＮａＣｌ
などとして溶解し除去される。そして、この塩素成分の
除去されたガス成分（Ｈｅガス、Ｎ2 ガス、Ａｒガスな
ど）は、排ガス処理装置側に送られる。 一方、この脱
水・焼結中、上記冷却部２２には、冷却水を供給してあ
るため、通常、１５０℃程度までの温度上昇が見られる
加熱炉１１の上部においても、室温程度の低温状態に維
持されるため、上記塩素トラップ２３内における、Ｎａ
ＯＨ水溶液２４と塩素成分との反応は、通常通り行われ
る。
溶液２４が充填されているため、塩素成分は、ＮａＣｌ
などとして溶解し除去される。そして、この塩素成分の
除去されたガス成分（Ｈｅガス、Ｎ2 ガス、Ａｒガスな
ど）は、排ガス処理装置側に送られる。 一方、この脱
水・焼結中、上記冷却部２２には、冷却水を供給してあ
るため、通常、１５０℃程度までの温度上昇が見られる
加熱炉１１の上部においても、室温程度の低温状態に維
持されるため、上記塩素トラップ２３内における、Ｎａ
ＯＨ水溶液２４と塩素成分との反応は、通常通り行われ
る。
【００１４】なお、上記実施例では、塩素トラップ２３
内の塩素成分を除去するための材料として、ＮａＯＨ水
溶液を用いたが、本発明は、これに限定されない。ま
た、冷却部２２の冷媒についても同様で、冷却水に限定
されない。
内の塩素成分を除去するための材料として、ＮａＯＨ水
溶液を用いたが、本発明は、これに限定されない。ま
た、冷却部２２の冷媒についても同様で、冷却水に限定
されない。
【００１５】
【発明の効果】上記のように、本発明に係る光ファイバ
母材の加熱炉によれば、漏出脱水ガス中の塩素成分が、
加熱炉の上部で除去処理されるため、配管経路部分の途
中などで、塩素成分が漏れるなどの危険は、根本的に解
消される。したがって、従来の配管経路部分のアルミホ
ースなどが、この塩素成分によって、浸食されることも
なく、極めて安全性の高い加熱炉が得られる。漏出脱水
ガス中の塩素成分が、簡単な構造の塩素トラップで除去
できるため、経済性に優れ、従来のように、塩素成分の
漏れを皆無にするため、細心の注意と、大きなコストを
払う必要が全く不要となる。
母材の加熱炉によれば、漏出脱水ガス中の塩素成分が、
加熱炉の上部で除去処理されるため、配管経路部分の途
中などで、塩素成分が漏れるなどの危険は、根本的に解
消される。したがって、従来の配管経路部分のアルミホ
ースなどが、この塩素成分によって、浸食されることも
なく、極めて安全性の高い加熱炉が得られる。漏出脱水
ガス中の塩素成分が、簡単な構造の塩素トラップで除去
できるため、経済性に優れ、従来のように、塩素成分の
漏れを皆無にするため、細心の注意と、大きなコストを
払う必要が全く不要となる。
【図１】本発明に係る光ファイバ母材の加熱炉における
要部を示した部分拡大縦断面図である。
要部を示した部分拡大縦断面図である。
【図２】光ファイバ母材の製造用の加熱炉を示した概略
説明図である。
説明図である。
１１ 加熱炉 １２ ダミーロッド １３ ガラス微粉末堆積体 １４ マッフル １６ カバー体 ２１ 余剰ガス収納部 ２２ 冷却部 ２３ 塩素トラップ ２４ ＮａＯＨ水溶液
Claims (3)
- 【請求項１】 光ファイバ用母材のガラス微粉末堆積体
の脱水を行う加熱炉において、漏出脱水ガス中の塩素成
分を除去する塩素トラップを設けたことを特徴とする光
ファイバ母材の加熱炉。 - 【請求項２】 前記塩素トラップを、加熱炉のマッフル
上部に冷却部を介して、設けたことを特徴とする請求項
１記載の光ファイバ母材の加熱炉。 - 【請求項３】 前記塩素トラップには、ＮａＯＨ水溶液
が充填されるていることを特徴とする請求項１又は２記
載の光ファイバ母材の加熱炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2109395A JP3647917B2 (ja) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | 光ファイバ母材の加熱炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2109395A JP3647917B2 (ja) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | 光ファイバ母材の加熱炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08198633A true JPH08198633A (ja) | 1996-08-06 |
| JP3647917B2 JP3647917B2 (ja) | 2005-05-18 |
Family
ID=12045265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2109395A Expired - Fee Related JP3647917B2 (ja) | 1995-01-13 | 1995-01-13 | 光ファイバ母材の加熱炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3647917B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1650171A4 (en) * | 2003-06-25 | 2011-08-10 | Fujikura Ltd | METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING LIGHT FIBER BASIC MATERIAL |
-
1995
- 1995-01-13 JP JP2109395A patent/JP3647917B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1650171A4 (en) * | 2003-06-25 | 2011-08-10 | Fujikura Ltd | METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING LIGHT FIBER BASIC MATERIAL |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3647917B2 (ja) | 2005-05-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041006 |
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