JPH08202045A - 露光方法 - Google Patents
露光方法Info
- Publication number
- JPH08202045A JPH08202045A JP6333146A JP33314694A JPH08202045A JP H08202045 A JPH08202045 A JP H08202045A JP 6333146 A JP6333146 A JP 6333146A JP 33314694 A JP33314694 A JP 33314694A JP H08202045 A JPH08202045 A JP H08202045A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- liquid crystal
- crystal display
- exposed
- display substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 27
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000016496 Panda oleosa Nutrition 0.000 description 1
- 240000000220 Panda oleosa Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ホトマスクとして液晶表示基板を装着した露
光装置を用いて露光する場合において、液晶表示基板の
ブラックマスク部（画素同士間の透光し得ないマトリク
ス電極部）によるノイズ的影響を緩和して良好に露光す
る。 【構成】 光源の超高圧水銀ランプ５からの光線は、防
熱フイルタ６、第１コンデンサレンズ７、シャッター
８、フィルタ９、ミラー１０、第２コンデンサレンズ１
１、エリア決め用マスク１２を経て、ホトマスクとして
の液晶表示基板１３（液晶レチクル）に照射され、そし
て、液晶表示基板１３の表示コードを得た光線は、縮小
レンズ１４を経て被露光体４に露光されるが、その際、
被露光体４にぼかし状態に結像又は露光箇所を変位させ
た状態で露光される。
光装置を用いて露光する場合において、液晶表示基板の
ブラックマスク部（画素同士間の透光し得ないマトリク
ス電極部）によるノイズ的影響を緩和して良好に露光す
る。 【構成】 光源の超高圧水銀ランプ５からの光線は、防
熱フイルタ６、第１コンデンサレンズ７、シャッター
８、フィルタ９、ミラー１０、第２コンデンサレンズ１
１、エリア決め用マスク１２を経て、ホトマスクとして
の液晶表示基板１３（液晶レチクル）に照射され、そし
て、液晶表示基板１３の表示コードを得た光線は、縮小
レンズ１４を経て被露光体４に露光されるが、その際、
被露光体４にぼかし状態に結像又は露光箇所を変位させ
た状態で露光される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ホトマスクとして液晶
表示基板（液晶レチクル）を装着した露光装置を用いて
の露光方法に関するものである。
表示基板（液晶レチクル）を装着した露光装置を用いて
の露光方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、ホトマスクとして液晶表示基板
（液晶レチクル）を装着した露光装置を用いての露光方
法は公知である。例えば、特開昭６１−２１２８４３号
公報においては、水銀ランプ（光源）からの光線が、コ
ンデンサレンズを経て照射されるホトマスクを液晶表示
基板で構成し、かつ、この液晶表示基板を、パターン信
号発生部からの設計データに基くパターン信号でマトリ
クス駆動することにより、透明、不透明のパターンをマ
スクパターンとして被露光体に露光する方法が開示され
ている。また、特開平６−２３２０２４号公報において
は、かかる液晶表示基板（液晶レチクル）をコンピュー
タで制御することが開示されている。
（液晶レチクル）を装着した露光装置を用いての露光方
法は公知である。例えば、特開昭６１−２１２８４３号
公報においては、水銀ランプ（光源）からの光線が、コ
ンデンサレンズを経て照射されるホトマスクを液晶表示
基板で構成し、かつ、この液晶表示基板を、パターン信
号発生部からの設計データに基くパターン信号でマトリ
クス駆動することにより、透明、不透明のパターンをマ
スクパターンとして被露光体に露光する方法が開示され
ている。また、特開平６−２３２０２４号公報において
は、かかる液晶表示基板（液晶レチクル）をコンピュー
タで制御することが開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの露光
方法は、ホトマスクとして液晶表示基板を用いることに
基いて、マスクパターンの変更を容易に行うことができ
る等の各種の優れた特性が得られる反面において、通常
の露光のように、コンデンサレンズを正規の焦点位置に
移動して被露光体に鮮明に結像させた状態で露光する
と、例えば、図３において示されているように、Ｎ個の
画素を透光状態にして一つの図柄として認識しようとす
る場合等に、液晶表示基板のブラックマスク部１（画素
２同士間の透光し得ないマトリクス電極部）がノイズと
なって良好に露光できないといった欠点を有していた。
方法は、ホトマスクとして液晶表示基板を用いることに
基いて、マスクパターンの変更を容易に行うことができ
る等の各種の優れた特性が得られる反面において、通常
の露光のように、コンデンサレンズを正規の焦点位置に
移動して被露光体に鮮明に結像させた状態で露光する
と、例えば、図３において示されているように、Ｎ個の
画素を透光状態にして一つの図柄として認識しようとす
る場合等に、液晶表示基板のブラックマスク部１（画素
２同士間の透光し得ないマトリクス電極部）がノイズと
なって良好に露光できないといった欠点を有していた。
【０００４】本発明は、このような欠点に鑑み、それを
解消すべく鋭意検討の結果、その第１の解決手段とし
て、光源側からの光線を液晶表示基板に照射するコンデ
ンサレンズを、正規の焦点位置と異なる位置に移動せし
めて被露光体にぼかし状態に結像して露光すればよいこ
とを見い出すと共に、その第２解決手段として、被露光
体を、露光工程の途中において液晶表示基板の各画素の
対向コーナを結ぶ方向に移動せしめて露光箇所を変位さ
せた状態で露光すればよいことを見い出したものであ
る。
解消すべく鋭意検討の結果、その第１の解決手段とし
て、光源側からの光線を液晶表示基板に照射するコンデ
ンサレンズを、正規の焦点位置と異なる位置に移動せし
めて被露光体にぼかし状態に結像して露光すればよいこ
とを見い出すと共に、その第２解決手段として、被露光
体を、露光工程の途中において液晶表示基板の各画素の
対向コーナを結ぶ方向に移動せしめて露光箇所を変位さ
せた状態で露光すればよいことを見い出したものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明に係る
第１の露光方法は、ホトマスクとして液晶表示基板を装
着した露光装置を用いての露光方法において、光源から
の照射光を前記液晶表示基板に照射するコンデンサレン
ズを、正規の焦点位置と異なる位置に移動せしめて被露
光体にぼかし状態に結像して露光することを特徴とする
ものである。また、本発明に係る第２の露光方法は、ホ
トマスクとして液晶表示基板を装着した露光装置を用い
ての露光方法において、被露光体を、露光工程の途中に
おいて前記液晶表示基板の各画素の対向コーナを結ぶ方
向に移動せしめて露光箇所を変位させた状態で露光する
ことを特徴とするものである。
第１の露光方法は、ホトマスクとして液晶表示基板を装
着した露光装置を用いての露光方法において、光源から
の照射光を前記液晶表示基板に照射するコンデンサレン
ズを、正規の焦点位置と異なる位置に移動せしめて被露
光体にぼかし状態に結像して露光することを特徴とする
ものである。また、本発明に係る第２の露光方法は、ホ
トマスクとして液晶表示基板を装着した露光装置を用い
ての露光方法において、被露光体を、露光工程の途中に
おいて前記液晶表示基板の各画素の対向コーナを結ぶ方
向に移動せしめて露光箇所を変位させた状態で露光する
ことを特徴とするものである。
【０００６】
【実施例】以下、本発明に係る実施例について述べる
と、図１において、ＸＹテーブルで構成された作業テー
ブル３上にセットされている被露光体４（例えば、液晶
表示基板やシリコンウエハ等）の上面に結像させて露光
するが、その際、光源の超高圧水銀ランプ５からの光線
は、防熱フイルタ６、第１コンデンサレンズ７、シャッ
ター８、フィルタ９、ミラー１０、第２コンデンサレン
ズ１１、エリア決め用マスク１２を経て、ホトマスクと
しての液晶表示基板１３（液晶レチクル）に照射され、
そして、液晶表示基板１３（液晶レチクル）の表示コー
ドを得た光線は、縮小レンズ１４を経て被露光体４に露
光される。
と、図１において、ＸＹテーブルで構成された作業テー
ブル３上にセットされている被露光体４（例えば、液晶
表示基板やシリコンウエハ等）の上面に結像させて露光
するが、その際、光源の超高圧水銀ランプ５からの光線
は、防熱フイルタ６、第１コンデンサレンズ７、シャッ
ター８、フィルタ９、ミラー１０、第２コンデンサレン
ズ１１、エリア決め用マスク１２を経て、ホトマスクと
しての液晶表示基板１３（液晶レチクル）に照射され、
そして、液晶表示基板１３（液晶レチクル）の表示コー
ドを得た光線は、縮小レンズ１４を経て被露光体４に露
光される。
【０００７】なお、液晶表示基板１３（液晶レチクル）
は、ＣＰＵ１５及びインターフェースユニット１６を介
してマトリクス駆動されて所定のコードが表示され、か
かるコードは、バーコード、二次元コード、英数字、か
な、漢字或いは図形など任意に選択することができる。
また、第２コンデンサレンズ１１は、鮮明に結像し得る
正規の焦点位置と異なる位置、すなわち、実線で示され
ている正規の焦点位置ａに対して、その上方位置ｂ又は
下方位置ｃに移動されているが、これは、露光に先立っ
て行われ、被露光体４にぼかし状態に結像し得るように
調整される。その為、この露光によると、液晶表示基板
１３（液晶レチクル）のブラックマスク部１（画素２同
士間の透光し得ないマトリクス電極部）によるノイズ的
影響を緩和して結果的にブラックマスク部１が見えない
状態に露光することができる。
は、ＣＰＵ１５及びインターフェースユニット１６を介
してマトリクス駆動されて所定のコードが表示され、か
かるコードは、バーコード、二次元コード、英数字、か
な、漢字或いは図形など任意に選択することができる。
また、第２コンデンサレンズ１１は、鮮明に結像し得る
正規の焦点位置と異なる位置、すなわち、実線で示され
ている正規の焦点位置ａに対して、その上方位置ｂ又は
下方位置ｃに移動されているが、これは、露光に先立っ
て行われ、被露光体４にぼかし状態に結像し得るように
調整される。その為、この露光によると、液晶表示基板
１３（液晶レチクル）のブラックマスク部１（画素２同
士間の透光し得ないマトリクス電極部）によるノイズ的
影響を緩和して結果的にブラックマスク部１が見えない
状態に露光することができる。
【０００８】このように、本発明に係る第１の露光方法
（請求項１に記載の露光方法）は、第２コンデンサレン
ズ１１を、正規の焦点位置ａと異なる位置に移動させて
行うものであるが、これに対して、本発明に係る第２の
露光方法（請求項２に記載の露光方法）は、第２コンデ
ンサレンズ１１を、正規の焦点位置ａに位置させたまま
にして被露光体４の方を移動させて行う。従って、この
露光方法においては、上述の第１の露光方法における、
第２コンデンサレンズ１１を正規の焦点位置ａに対して
その上方位置ｂ又は下方位置ｃに移動させる工程を省く
ことができるが、その一方において、露光途中において
被露光体４を移動させる工程が必要とされる。
（請求項１に記載の露光方法）は、第２コンデンサレン
ズ１１を、正規の焦点位置ａと異なる位置に移動させて
行うものであるが、これに対して、本発明に係る第２の
露光方法（請求項２に記載の露光方法）は、第２コンデ
ンサレンズ１１を、正規の焦点位置ａに位置させたまま
にして被露光体４の方を移動させて行う。従って、この
露光方法においては、上述の第１の露光方法における、
第２コンデンサレンズ１１を正規の焦点位置ａに対して
その上方位置ｂ又は下方位置ｃに移動させる工程を省く
ことができるが、その一方において、露光途中において
被露光体４を移動させる工程が必要とされる。
【０００９】すなわち、この移動工程は、露光を開始
後、所定時間（例えば、露光のトータル時間Ｔの１／２
時間）経過した時点で作業テーブル３を移動制御して行
われ、これにより、被露光体４が図３において示されて
いるように、液晶表示基板１３（液晶レチクル）の各画
素２の対向コーナを結ぶ方向（図示矢印方向）、換言す
るならば、対角線方向に移動せしめられる。よって、図
中、鎖線で示されている位置に各画素２を移動したのと
同様の状態になり、この状態において残りの時間、露光
する。
後、所定時間（例えば、露光のトータル時間Ｔの１／２
時間）経過した時点で作業テーブル３を移動制御して行
われ、これにより、被露光体４が図３において示されて
いるように、液晶表示基板１３（液晶レチクル）の各画
素２の対向コーナを結ぶ方向（図示矢印方向）、換言す
るならば、対角線方向に移動せしめられる。よって、図
中、鎖線で示されている位置に各画素２を移動したのと
同様の状態になり、この状態において残りの時間、露光
する。
【００１０】その為、移動前の露光（初期の露光）にお
いては、非露光部分であったブラックマスク部１のう
ち、斜線部分を露光することができ、従って、非露光部
分を減らすことができてノイズ的影響を緩和することが
できる。なお、かかる後期の露光を行うに当っての基板
移動は、図示矢印と直交する方向に行ってもよい。ま
た、作業テーブルは、ＸＹテーブル以外の、例えば、Ｘ
ＹＺやＸＹＺθテーブル等で構成してもよい。
いては、非露光部分であったブラックマスク部１のう
ち、斜線部分を露光することができ、従って、非露光部
分を減らすことができてノイズ的影響を緩和することが
できる。なお、かかる後期の露光を行うに当っての基板
移動は、図示矢印と直交する方向に行ってもよい。ま
た、作業テーブルは、ＸＹテーブル以外の、例えば、Ｘ
ＹＺやＸＹＺθテーブル等で構成してもよい。
【００１１】
【発明の効果】上述の如く、本発明に係る第１，２の露
光方法（請求項１，２に記載の露光方法）によると、ホ
トマスクとして液晶表示基板（液晶レチクル）を装着し
た露光装置を用いて露光する場合において、液晶表示基
板のブラックマスク部（画素同士間の透光し得ないマト
リクス電極部）によるノイズ的影響を緩和して良好に露
光することができる。
光方法（請求項１，２に記載の露光方法）によると、ホ
トマスクとして液晶表示基板（液晶レチクル）を装着し
た露光装置を用いて露光する場合において、液晶表示基
板のブラックマスク部（画素同士間の透光し得ないマト
リクス電極部）によるノイズ的影響を緩和して良好に露
光することができる。
【図１】露光装置の光学系を示す図である。
【図２】露光途中において被露光体を移動させて露光し
た状態を示す平面図である。
た状態を示す平面図である。
【図３】従来方法による露光状態を示す平面図である。
ａ 正規の焦点位置 １ ブラックマスク部 ２ 画素 ３ 作業テーブル ４ 被露光体 ５ 超高圧水銀ランプ １１ 第２コンデンサレンズ １３ 液晶表示基板
Claims (2)
- 【請求項１】 ホトマスクとして液晶表示基板を装着し
た露光装置を用いての露光方法において、光源からの光
線を前記液晶表示基板に照射するコンデンサレンズを、
正規の焦点位置と異なる位置に移動せしめて被露光体に
ぼかし状態に結像して露光することを特徴とする露光方
法。 - 【請求項２】 ホトマスクとして液晶表示基板を装着し
た露光装置を用いての露光方法において、被露光体を、
露光工程の途中において前記液晶表示基板の各画素の対
向コーナを結ぶ方向に移動せしめて露光箇所を変位させ
た状態で露光することを特徴とする露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6333146A JP2843968B2 (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | 露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6333146A JP2843968B2 (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | 露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08202045A true JPH08202045A (ja) | 1996-08-09 |
| JP2843968B2 JP2843968B2 (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=18262814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6333146A Expired - Lifetime JP2843968B2 (ja) | 1994-12-13 | 1994-12-13 | 露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2843968B2 (ja) |
-
1994
- 1994-12-13 JP JP6333146A patent/JP2843968B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2843968B2 (ja) | 1999-01-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3339149B2 (ja) | 走査型露光装置ならびに露光方法 | |
| US5437946A (en) | Multiple reticle stitching for scanning exposure system | |
| KR950001856A (ko) | 노광장치 | |
| JP3642801B2 (ja) | 露光用マスクおよびその製造方法・露光用マスクを用いる表面形状形成方法および露光用マスク製造装置 | |
| TWI387844B (zh) | 灰階遮罩的缺陷檢查方法及缺陷檢查裝置、光罩的缺陷檢查方法、灰階遮罩的製造方法以及圖案轉印方法 | |
| US7158210B2 (en) | Projection exposure apparatus | |
| JP3384068B2 (ja) | 走査型露光装置 | |
| JP4748353B2 (ja) | 異物検査装置 | |
| JP3097620B2 (ja) | 走査型縮小投影露光装置 | |
| CN1151034A (zh) | 光刻方法和用于实现此方法的光刻系统 | |
| JPH08202045A (ja) | 露光方法 | |
| JPH0757991A (ja) | 走査型投影露光装置 | |
| JPWO2011111479A1 (ja) | フォトマスク、露光装置及び液晶表示パネルの製造方法 | |
| US6195155B1 (en) | Scanning type exposure method | |
| JPH08167570A (ja) | 露光方法 | |
| JP4759290B2 (ja) | 露光装置及び方法 | |
| JP3351013B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
| JPH08274000A (ja) | 露光方法 | |
| JPH07273003A (ja) | パターン転写装置 | |
| JPH0645221A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2738445B2 (ja) | 液晶シャッターマトリクスパネルを用いたプリンティングシステム | |
| JP3473767B2 (ja) | 走査型投影露光装置、及び該装置を用いる素子製造方法 | |
| JPH0527413A (ja) | 露光装置用ホトマスク | |
| JP2003197512A (ja) | 露光方法および装置 | |
| JPH06324473A (ja) | フオトマスク及び露光方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081030 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091030 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091030 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101030 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111030 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111030 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131030 Year of fee payment: 15 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |