JPH08204638A - 光アナログ伝送システム - Google Patents
光アナログ伝送システムInfo
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- JPH08204638A JPH08204638A JP7010671A JP1067195A JPH08204638A JP H08204638 A JPH08204638 A JP H08204638A JP 7010671 A JP7010671 A JP 7010671A JP 1067195 A JP1067195 A JP 1067195A JP H08204638 A JPH08204638 A JP H08204638A
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- optical
- wavelength
- operating point
- optical component
- signal
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 分散を有する光ファイバによって生じた3次
変調歪みを補償し、高品質な光伝送が得られる光アナロ
グ伝送システムを得るものである。 【構成】 半導体レーザと、半導体レーザの発振波長に
おいて分散を有する光伝送路と、光信号を電気信号に変
換するフォトダイオードからなり、半導体レーザとフォ
トダイオードの間に波長によって透過率の異なる光学部
品を設け、光伝送路において生じた3次変調歪みを補償
する。
変調歪みを補償し、高品質な光伝送が得られる光アナロ
グ伝送システムを得るものである。 【構成】 半導体レーザと、半導体レーザの発振波長に
おいて分散を有する光伝送路と、光信号を電気信号に変
換するフォトダイオードからなり、半導体レーザとフォ
トダイオードの間に波長によって透過率の異なる光学部
品を設け、光伝送路において生じた3次変調歪みを補償
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、低歪みな光アナログ
伝送装置並びに光アナログ伝送システムに関するもので
ある。
伝送装置並びに光アナログ伝送システムに関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来の光アナログ伝送システムは、1.
3μmの半導体レーザを光源として用い、また、低損失
な光ファイバを伝送路として用いているため、数百メー
トルごとに増幅器を用いて損失を補うメタル同軸線路を
用いたアナログ伝送方式に比べ、増幅器による雑音や歪
みの蓄積がないため低雑音・低歪みな信号を長距離伝送
することができる。
3μmの半導体レーザを光源として用い、また、低損失
な光ファイバを伝送路として用いているため、数百メー
トルごとに増幅器を用いて損失を補うメタル同軸線路を
用いたアナログ伝送方式に比べ、増幅器による雑音や歪
みの蓄積がないため低雑音・低歪みな信号を長距離伝送
することができる。
【0003】このように高品質な光信号を多数分配して
伝送する必要から、近年、光信号を増幅する光ファイバ
増幅器が開発された。しかし、この光ファイバ増幅器が
機能する波長帯は1.55μm帯であり、1.3μm帯
の光を増幅する実用的な光増幅器は未だに開発されてい
ない。このため従来の1.3μm用の光ファイバ(1.
3μm零分散ファイバ)を伝送路として用いて、1.5
5μm帯の光信号を伝送することになる。このように零
分散波長と異なる波長で光アナログ信号を伝送した場
合、例えば、E.E.Bergmann他によりIEEE Photonics Tec
hnology Letter,Vol.3, pp59-61, 1991に示されている
ように、分散を有する光ファイバによって歪み特性の劣
化が起こることが知られている。また、伝送されるアナ
ログ信号の最も高い周波数が、最も低い周波数の2倍以
下である光アナログ伝送システムにおいては、2次変調
歪みは信号の伝送帯域外になるので、3次変調歪みが特
性劣化要因となる。分散を有する光ファイバによって生
じる3次変調歪みIM3CDは次式のように表わされる。
伝送する必要から、近年、光信号を増幅する光ファイバ
増幅器が開発された。しかし、この光ファイバ増幅器が
機能する波長帯は1.55μm帯であり、1.3μm帯
の光を増幅する実用的な光増幅器は未だに開発されてい
ない。このため従来の1.3μm用の光ファイバ(1.
3μm零分散ファイバ)を伝送路として用いて、1.5
5μm帯の光信号を伝送することになる。このように零
分散波長と異なる波長で光アナログ信号を伝送した場
合、例えば、E.E.Bergmann他によりIEEE Photonics Tec
hnology Letter,Vol.3, pp59-61, 1991に示されている
ように、分散を有する光ファイバによって歪み特性の劣
化が起こることが知られている。また、伝送されるアナ
ログ信号の最も高い周波数が、最も低い周波数の2倍以
下である光アナログ伝送システムにおいては、2次変調
歪みは信号の伝送帯域外になるので、3次変調歪みが特
性劣化要因となる。分散を有する光ファイバによって生
じる3次変調歪みIM3CDは次式のように表わされる。
【0004】
【数1】
【0005】従来、このような分散を有する光ファイバ
によって生じる変調歪みの補償には電気的な補償方法が
採用されていた。このような電気的な補償方法は、あら
かじめ補償したい変調歪みと逆特性(歪みの強度が等し
く、位相が逆相)を持った変調波を電気回路により作り
出し、もとの電気信号に合波して半導体レーザへ入力
し、変調歪みを補償する方法である。
によって生じる変調歪みの補償には電気的な補償方法が
採用されていた。このような電気的な補償方法は、あら
かじめ補償したい変調歪みと逆特性(歪みの強度が等し
く、位相が逆相)を持った変調波を電気回路により作り
出し、もとの電気信号に合波して半導体レーザへ入力
し、変調歪みを補償する方法である。
【0006】例えば、図22は、C.Y.Kuo他により JOUR
NAL OF LIGHTWAVE TECHNOLOGY, VOL.10, NO.11, pp1751
-1759, 1992 に示された分散によって生じる変調歪みを
補償するための電気回路図である。図において、89は
電気信号を分波する分波器、90は3次変調歪みを発生
する3乗回路、91は3次変調歪みの強度を調整する可
変減衰器、92は3次変調歪みと信号の位相を合わせる
遅延線路、93は3乗回路と遅延線路からの電気信号を
合波するための合波器である。この例では、電気信号
を、分散による3次変調歪みの補償用回路と信号線路に
分波し、逆特性を持った歪みを発生させる変調波を作り
出してから再び合波して半導体レーザへの入力信号を得
る。各回路の構成および機能は次のようになっている。
分散による3次変調歪みの補償用回路は3乗回路90,
可変減衰器91により構成されており、分波器89によ
り分波された信号を3乗回路90に入れて、式(1)に
相当する歪み成分を発生させ、分散を有する光ファイバ
による3次変調歪みと強度が等しくなるように可変減衰
器91で強度の調整を行う。信号線路は遅延線路92に
より構成されており、信号に対する歪み補償回路で作り
出した変調波の位相が分散を有する光ファイバにより生
じる歪みと逆相になるように信号の位相を調整し、合波
器93により補償用回路と信号線路からの電気信号を合
波している。このように、分散を有する光ファイバによ
って生じる3次変調歪みと逆特性を持った変調歪みを発
生させて、歪みを補償している。
NAL OF LIGHTWAVE TECHNOLOGY, VOL.10, NO.11, pp1751
-1759, 1992 に示された分散によって生じる変調歪みを
補償するための電気回路図である。図において、89は
電気信号を分波する分波器、90は3次変調歪みを発生
する3乗回路、91は3次変調歪みの強度を調整する可
変減衰器、92は3次変調歪みと信号の位相を合わせる
遅延線路、93は3乗回路と遅延線路からの電気信号を
合波するための合波器である。この例では、電気信号
を、分散による3次変調歪みの補償用回路と信号線路に
分波し、逆特性を持った歪みを発生させる変調波を作り
出してから再び合波して半導体レーザへの入力信号を得
る。各回路の構成および機能は次のようになっている。
分散による3次変調歪みの補償用回路は3乗回路90,
可変減衰器91により構成されており、分波器89によ
り分波された信号を3乗回路90に入れて、式(1)に
相当する歪み成分を発生させ、分散を有する光ファイバ
による3次変調歪みと強度が等しくなるように可変減衰
器91で強度の調整を行う。信号線路は遅延線路92に
より構成されており、信号に対する歪み補償回路で作り
出した変調波の位相が分散を有する光ファイバにより生
じる歪みと逆相になるように信号の位相を調整し、合波
器93により補償用回路と信号線路からの電気信号を合
波している。このように、分散を有する光ファイバによ
って生じる3次変調歪みと逆特性を持った変調歪みを発
生させて、歪みを補償している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従来の、分散を有する
光ファイバによる変調歪みを補償するアナログ伝送装置
ならびにアナログ伝送システムでは歪み補償を上記のよ
うに行っているため、ある特定の周波数の信号に対して
は信号と歪み補償の変調波の強度と位相を所定の関係に
合わせて歪み補償を行うことができるが、周波数の異な
る複数の信号を入力した場合には、遅延線路での位相変
化が異なるため、十分な歪み補償効果が得られないとい
う問題点があった。また、電気的に歪み補償を行ってい
るため、信号の周波数が高くなると歪み補償回路をつく
ることが難しいという問題点があった。さらに、このよ
うな電気的歪み補償方法は送信装置で行わなければなら
ず、例えば、局(一つの光源)から伝送距離の異なる多
数の加入者(受信装置)に信号を伝送する場合において
は、特定の伝送距離にある受信装置でしか最適な歪み補
償は実現できず、伝送距離の異なる受信装置に高品質な
信号を送ることができなかった。
光ファイバによる変調歪みを補償するアナログ伝送装置
ならびにアナログ伝送システムでは歪み補償を上記のよ
うに行っているため、ある特定の周波数の信号に対して
は信号と歪み補償の変調波の強度と位相を所定の関係に
合わせて歪み補償を行うことができるが、周波数の異な
る複数の信号を入力した場合には、遅延線路での位相変
化が異なるため、十分な歪み補償効果が得られないとい
う問題点があった。また、電気的に歪み補償を行ってい
るため、信号の周波数が高くなると歪み補償回路をつく
ることが難しいという問題点があった。さらに、このよ
うな電気的歪み補償方法は送信装置で行わなければなら
ず、例えば、局(一つの光源)から伝送距離の異なる多
数の加入者(受信装置)に信号を伝送する場合において
は、特定の伝送距離にある受信装置でしか最適な歪み補
償は実現できず、伝送距離の異なる受信装置に高品質な
信号を送ることができなかった。
【0008】この発明は、このような問題点を解消する
ためになされたもので、第1の目的は高い周波数の信号
を入力した場合においても十分な歪み補償効果が得られ
るアナログ伝送装置ならびにアナログ伝送システムを得
るものである。また、第2の目的は伝送距離の異なる受
信装置においても高品質な信号が得られるアナログ伝送
装置ならびにアナログ伝送システムを得るものである。
さらに、第3の目的は、アナログ伝送装置ならびにアナ
ログ伝送システムの歪み補償状態を容易に調整する方法
を得るものである。第4の目的は、アナログ伝送装置な
らびにアナログ伝送システムを、良好な歪み補償状態が
安定に得られるように制御する方法を得るものである。
ためになされたもので、第1の目的は高い周波数の信号
を入力した場合においても十分な歪み補償効果が得られ
るアナログ伝送装置ならびにアナログ伝送システムを得
るものである。また、第2の目的は伝送距離の異なる受
信装置においても高品質な信号が得られるアナログ伝送
装置ならびにアナログ伝送システムを得るものである。
さらに、第3の目的は、アナログ伝送装置ならびにアナ
ログ伝送システムの歪み補償状態を容易に調整する方法
を得るものである。第4の目的は、アナログ伝送装置な
らびにアナログ伝送システムを、良好な歪み補償状態が
安定に得られるように制御する方法を得るものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】この発明に係わるアナロ
グ伝送システムにおいては、伝送される信号の最も高い
周波数が、最も低い周波数の2倍以下である光アナログ
伝送システムにおいて、少なくとも電気信号を光信号に
変換する半導体レーザと、上記半導体レーザの発振波長
において分散を有する光伝送路と、上記半導体レーザか
らの光信号を電気信号に変換するフォトダイオードから
なり、上記半導体レーザと上記フォトダイオードの間に
波長によって透過率の異なる光学部品を設け、上記光伝
送路において生じた3次変調歪みを補償するものであ
る。
グ伝送システムにおいては、伝送される信号の最も高い
周波数が、最も低い周波数の2倍以下である光アナログ
伝送システムにおいて、少なくとも電気信号を光信号に
変換する半導体レーザと、上記半導体レーザの発振波長
において分散を有する光伝送路と、上記半導体レーザか
らの光信号を電気信号に変換するフォトダイオードから
なり、上記半導体レーザと上記フォトダイオードの間に
波長によって透過率の異なる光学部品を設け、上記光伝
送路において生じた3次変調歪みを補償するものであ
る。
【0010】また、波長によって透過率の異なる上記光
学部品として、ファブリぺロー干渉計を用いるものであ
る。
学部品として、ファブリぺロー干渉計を用いるものであ
る。
【0011】また、波長によって透過率の異なる前記光
学部品として、プラスチックからなるソリッドエタロン
を用いるものである。
学部品として、プラスチックからなるソリッドエタロン
を用いるものである。
【0012】さらに、前記プラスチックからなるソリッ
ドエタロンの側面の一部を、ソリッドエタロンの熱膨張
係数と異なる熱膨張係数の保持具に固定するものであ
る。
ドエタロンの側面の一部を、ソリッドエタロンの熱膨張
係数と異なる熱膨張係数の保持具に固定するものであ
る。
【0013】また、波長によって透過率の異なる前記光
学部品として、対向する2つの反射面の間隔をプラスチ
ックにより設定したファブリペロー干渉計を用いるもの
である。
学部品として、対向する2つの反射面の間隔をプラスチ
ックにより設定したファブリペロー干渉計を用いるもの
である。
【0014】また、波長によって透過率の異なる光学部
品として、半導体導波路を用いるものである。
品として、半導体導波路を用いるものである。
【0015】さらに、半導体導波路をフォトダイオード
と集積化したのもを用いるものである。
と集積化したのもを用いるものである。
【0016】また、波長によって透過率の異なる光学部
品として、ファイバグレーティングを用いるものであ
る。
品として、ファイバグレーティングを用いるものであ
る。
【0017】また、波長によって透過率の異なる光学部
品として、マッハツェンダ干渉計を用いるものである。
品として、マッハツェンダ干渉計を用いるものである。
【0018】また、半導体導波路に流す電流を調整して
歪補償状態を調整するのもである。
歪補償状態を調整するのもである。
【0019】また、半導体導波路に印加する電圧を調整
して歪補償状態を調整するのもである。
して歪補償状態を調整するのもである。
【0020】また、波長によって透過率の異なる光学部
品の温度を、加熱または冷却手段によって調整し、歪補
償状態を調整するものである。
品の温度を、加熱または冷却手段によって調整し、歪補
償状態を調整するものである。
【0021】また、波長によって透過率の異なる光学部
品に入射し、フォトダイオードへ伝搬する半導体レーザ
からの光信号の透過光を受光し、信号を含まない周波数
帯域に発生する3次変調歪みが小さくなるように上記光
学部品の動作点を制御するものである。
品に入射し、フォトダイオードへ伝搬する半導体レーザ
からの光信号の透過光を受光し、信号を含まない周波数
帯域に発生する3次変調歪みが小さくなるように上記光
学部品の動作点を制御するものである。
【0022】また、波長によって透過率の異なる光学部
品に入射し、フォトダイオードへ伝搬する半導体レーザ
からの光信号の透過光を受光し、上記透過光出力が小さ
くなるように上記光学部品の動作点を制御するものであ
る。
品に入射し、フォトダイオードへ伝搬する半導体レーザ
からの光信号の透過光を受光し、上記透過光出力が小さ
くなるように上記光学部品の動作点を制御するものであ
る。
【0023】また、波長によって透過率の異なる光学部
品に入射し、上記光学部品により反射または分岐され、
フォトダイオードへ伝搬しない半導体レーザからの光信
号を受光し、上記受光信号の3次変調歪みが大きくなる
ように上記光学部品の動作点を制御するものである。
品に入射し、上記光学部品により反射または分岐され、
フォトダイオードへ伝搬しない半導体レーザからの光信
号を受光し、上記受光信号の3次変調歪みが大きくなる
ように上記光学部品の動作点を制御するものである。
【0024】また、波長によって透過率の異なる光学部
品に入射し、上記光学部品により反射または分岐され、
フォトダイオードへ伝搬しない半導体レーザからの光信
号を受光し、上記受光信号が大きくなるように上記光学
部品の動作点を制御するものである。
品に入射し、上記光学部品により反射または分岐され、
フォトダイオードへ伝搬しない半導体レーザからの光信
号を受光し、上記受光信号が大きくなるように上記光学
部品の動作点を制御するものである。
【0025】
【作用】上記のように構成されたアナログ伝送システム
においては、半導体レーザとフォトダイオードの間に波
長によって透過率の異なる光学部品を設けることによ
り、分散を有する光ファイバによって生じた3次変調歪
みと逆特性の3次変調歪みを発生することができ、これ
により分散を有する光ファイバによって生じる3次変調
歪みを補償することができる。
においては、半導体レーザとフォトダイオードの間に波
長によって透過率の異なる光学部品を設けることによ
り、分散を有する光ファイバによって生じた3次変調歪
みと逆特性の3次変調歪みを発生することができ、これ
により分散を有する光ファイバによって生じる3次変調
歪みを補償することができる。
【0026】また、ファブリぺロー干渉計の透過率は波
長によって異なるため、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みと逆特性の3次変調歪みを発生す
ることができる。これにより、分散を有する光ファイバ
によって生じる3次変調歪みを補償することができる。
長によって異なるため、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みと逆特性の3次変調歪みを発生す
ることができる。これにより、分散を有する光ファイバ
によって生じる3次変調歪みを補償することができる。
【0027】また、プラスチックからなるソリッドエタ
ロンの透過率は波長によって異なるため、分散を有する
光ファイバによって生じる3次変調歪みと逆特性の3次
変調歪みを発生することができる。これにより、分散を
有する光ファイバによって生じる3次変調歪みを補償す
ることができる。
ロンの透過率は波長によって異なるため、分散を有する
光ファイバによって生じる3次変調歪みと逆特性の3次
変調歪みを発生することができる。これにより、分散を
有する光ファイバによって生じる3次変調歪みを補償す
ることができる。
【0028】さらに、プラスチックからなるソリッドエ
タロンの側面の一部を、熱膨張係数の異なる保持具に固
定するため、温度を変えたときに干渉計のフィネスを変
えることができ、容易に歪み補償状態が調整できる。
タロンの側面の一部を、熱膨張係数の異なる保持具に固
定するため、温度を変えたときに干渉計のフィネスを変
えることができ、容易に歪み補償状態が調整できる。
【0029】また、波長によって透過率の異なる光学部
品として、対向する2つの反射面の間隔をプラスチック
により設定したファブリペロー干渉計を用いるため、干
渉計の温度に対する透過特性(動作点)の変化が大き
く、容易に歪み補償状態が調整できる。
品として、対向する2つの反射面の間隔をプラスチック
により設定したファブリペロー干渉計を用いるため、干
渉計の温度に対する透過特性(動作点)の変化が大き
く、容易に歪み補償状態が調整できる。
【0030】また、波長によって透過率の異なる光学部
品として、半導体導波路を用いるため、分散を有する光
ファイバによって生じる3次変調歪みと逆特性の3次変
調歪みを発生することができる。これにより、分散を有
する光ファイバによって生じる3次変調歪みを補償する
ことができる。
品として、半導体導波路を用いるため、分散を有する光
ファイバによって生じる3次変調歪みと逆特性の3次変
調歪みを発生することができる。これにより、分散を有
する光ファイバによって生じる3次変調歪みを補償する
ことができる。
【0031】さらに、前記半導体導波路をフォトダイオ
ードと集積化するため、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みを、受信装置において補償し、伝
送距離によらず最適な歪補償を行うことができる。
ードと集積化するため、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みを、受信装置において補償し、伝
送距離によらず最適な歪補償を行うことができる。
【0032】また、ファイバグレーティングの透過率は
波長によって異なるため、分散を有する光ファイバによ
って生じる3次変調歪みと逆特性の3次変調歪みを発生
することができる。これにより、分散を有する光ファイ
バによって生じる3次変調歪みを補償することができ
る。
波長によって異なるため、分散を有する光ファイバによ
って生じる3次変調歪みと逆特性の3次変調歪みを発生
することができる。これにより、分散を有する光ファイ
バによって生じる3次変調歪みを補償することができ
る。
【0033】また、マッハツェンダ干渉計の透過率は波
長によって異なるため、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みと逆特性の変調歪みを発生するこ
とができる。これにより、分散を有する光ファイバによ
って生じる3次変調歪みを補償することができる。
長によって異なるため、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みと逆特性の変調歪みを発生するこ
とができる。これにより、分散を有する光ファイバによ
って生じる3次変調歪みを補償することができる。
【0034】また、前記半導体導波路に電流を流すこと
により半導体フィルタの透過特性を変えることができ、
容易に歪み補償状態が調整できる。
により半導体フィルタの透過特性を変えることができ、
容易に歪み補償状態が調整できる。
【0035】また、前記半導体導波路に電圧を印加する
ことにより半導体フィルタの透過特性を変えることがで
き、容易に歪み補償状態が調整できる。
ことにより半導体フィルタの透過特性を変えることがで
き、容易に歪み補償状態が調整できる。
【0036】また、波長によって透過率の異なる前記光
学部品を、ヒータまたは熱電素子によって温度を変える
ことにより前記光学部品の透過特性を変えることがで
き、容易に歪補償状態が調整できる。
学部品を、ヒータまたは熱電素子によって温度を変える
ことにより前記光学部品の透過特性を変えることがで
き、容易に歪補償状態が調整できる。
【0037】また、波長によって透過率の異なる前記光
学部品からの透過光の信号を含まない帯域の3次変調歪
みが小さくなるように制御するため、良好な歪み補償が
安定に得られる。
学部品からの透過光の信号を含まない帯域の3次変調歪
みが小さくなるように制御するため、良好な歪み補償が
安定に得られる。
【0038】また、波長によって透過率の異なる前記光
学部品からの透過光出力が小さくなるように制御するた
め、透過光の3次変調歪みが小さくなるように制御さ
れ、良好な歪み補償が安定に得られる。
学部品からの透過光出力が小さくなるように制御するた
め、透過光の3次変調歪みが小さくなるように制御さ
れ、良好な歪み補償が安定に得られる。
【0039】また、波長によって透過率の異なる前記光
学部品からの反射光または分岐された光を受光し、3次
変調歪みが大きくなるように制御するため、透過光の3
次変調歪みが小さくなるように制御され、良好な歪み補
償が安定に得られる。
学部品からの反射光または分岐された光を受光し、3次
変調歪みが大きくなるように制御するため、透過光の3
次変調歪みが小さくなるように制御され、良好な歪み補
償が安定に得られる。
【0040】また、波長によって透過率の異なる前記光
学部品からの反射光または分岐された光が大きくなるよ
うに制御するため、透過光の3次変調歪みが小さくなる
ように制御され、良好な歪み補償が安定に得られる。
学部品からの反射光または分岐された光が大きくなるよ
うに制御するため、透過光の3次変調歪みが小さくなる
ように制御され、良好な歪み補償が安定に得られる。
【0041】
実施例1.図1は請求項1の発明による光アナログ伝送
システムの一実施例である。図において、1はアナログ
電気信号を光信号に変換して出力する半導体レーザ、2
はアナログ光信号を電気信号に変換するフォトダイオー
ド、3は半導体レーザ1の発振波長において分散を有す
る光ファイバ、4は波長によって透過率の異なる光学部
品である。図2は波長によって透過率の異なる光学部品
4で発生する3次変調歪みを説明するための説明図であ
る。図において、5は光学部品4の透過率、6は半導体
レーザ1への入力電気信号に応じて発生する周波数変化
であるチャーピングである。
システムの一実施例である。図において、1はアナログ
電気信号を光信号に変換して出力する半導体レーザ、2
はアナログ光信号を電気信号に変換するフォトダイオー
ド、3は半導体レーザ1の発振波長において分散を有す
る光ファイバ、4は波長によって透過率の異なる光学部
品である。図2は波長によって透過率の異なる光学部品
4で発生する3次変調歪みを説明するための説明図であ
る。図において、5は光学部品4の透過率、6は半導体
レーザ1への入力電気信号に応じて発生する周波数変化
であるチャーピングである。
【0042】次に動作について説明する。半導体レーザ
1は入力電気信号に応じてその発振波長が変化するチャ
ーピング6という特性を有している。このため半導体レ
ーザ1の出射光を、波長によって透過率の異なる光学部
品4に通すと、図2に示すように、信号に応じて透過率
が変化し、3次変調歪みが発生する。このように、透過
率の波長依存性を有する光学部品を透過させることによ
って発生する3次変調歪みIM3OPは次式のように表わ
される。
1は入力電気信号に応じてその発振波長が変化するチャ
ーピング6という特性を有している。このため半導体レ
ーザ1の出射光を、波長によって透過率の異なる光学部
品4に通すと、図2に示すように、信号に応じて透過率
が変化し、3次変調歪みが発生する。このように、透過
率の波長依存性を有する光学部品を透過させることによ
って発生する3次変調歪みIM3OPは次式のように表わ
される。
【0043】
【数2】
【0044】この式より、透過率の波長(光周波数)に
ついての2次微分が正になれば、式(1)により表わさ
れる分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みと逆相になり、分散を有する光ファイバによって生じ
る3次変調歪みを補償することができる。また、透過率
の波長に対する2次微分の大きさを調整し、透過率が波
長により異なる光学部品4によって生じる3次変調歪み
の大きさと、分散を有する光ファイバによって生じる3
次変調歪みの大きさを等しくすることによって、分散を
有する光ファイバによって生じる3次変調歪みを完全に
補償することができる。
ついての2次微分が正になれば、式(1)により表わさ
れる分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みと逆相になり、分散を有する光ファイバによって生じ
る3次変調歪みを補償することができる。また、透過率
の波長に対する2次微分の大きさを調整し、透過率が波
長により異なる光学部品4によって生じる3次変調歪み
の大きさと、分散を有する光ファイバによって生じる3
次変調歪みの大きさを等しくすることによって、分散を
有する光ファイバによって生じる3次変調歪みを完全に
補償することができる。
【0045】このように、本発明によれば、電気的な補
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、光学部品4は半導体レーザ1とフォトダ
イオード2の間の任意の場所に入れることができるた
め、フォトダイオードの直前、すなわち受信装置におい
て歪補償を行うことができるため、伝送距離の異なる受
信装置においても高品質な信号が得られる光アナログ伝
送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることがで
きる。
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、光学部品4は半導体レーザ1とフォトダ
イオード2の間の任意の場所に入れることができるた
め、フォトダイオードの直前、すなわち受信装置におい
て歪補償を行うことができるため、伝送距離の異なる受
信装置においても高品質な信号が得られる光アナログ伝
送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることがで
きる。
【0046】実施例2.図3は請求項2の発明による光
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の説明図である。図において、7は波
長によって透過率の異なるファブリぺロー干渉計、8は
ファブリぺロー干渉計7の反射面(反射膜)、9は半導
体レーザ1の発振波長における透過率(以下、動作点と
する)である。
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の説明図である。図において、7は波
長によって透過率の異なるファブリぺロー干渉計、8は
ファブリぺロー干渉計7の反射面(反射膜)、9は半導
体レーザ1の発振波長における透過率(以下、動作点と
する)である。
【0047】次に動作について説明する。ファブリぺロ
ー干渉計7の透過率は、図3(b)に示すように、波長
に対して周期的に変化する。ファブリぺロー干渉計7の
動作点9を、波長に対する透過率変化の谷の部分にする
ことによって、透過率の波長に対する2次微分を正にす
ることができ、分散を有する光ファイバによって生じる
3次変調歪みを補償することができる。また、ファブリ
ぺロー干渉計の反射面8の反射率、反射面8の間の平行
度および反射面8の間の距離を変えることによって、透
過率の波長に対する2次微分の大きさを容易に調整する
ことができる。このため、ファブリぺロー干渉計7によ
って生じる3次変調歪みの大きさと、分散を有する光フ
ァイバによって生じる3次変調歪みの大きさを等しく
し、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みを完全に補償することができる。
ー干渉計7の透過率は、図3(b)に示すように、波長
に対して周期的に変化する。ファブリぺロー干渉計7の
動作点9を、波長に対する透過率変化の谷の部分にする
ことによって、透過率の波長に対する2次微分を正にす
ることができ、分散を有する光ファイバによって生じる
3次変調歪みを補償することができる。また、ファブリ
ぺロー干渉計の反射面8の反射率、反射面8の間の平行
度および反射面8の間の距離を変えることによって、透
過率の波長に対する2次微分の大きさを容易に調整する
ことができる。このため、ファブリぺロー干渉計7によ
って生じる3次変調歪みの大きさと、分散を有する光フ
ァイバによって生じる3次変調歪みの大きさを等しく
し、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みを完全に補償することができる。
【0048】このように、本発明によれば、電気的な補
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、ファブリぺロー干渉計7は半導体レーザ
1とフォトダイオード2の間の任意の場所に入れること
ができるため、フォトダイオードの直前、すなわち受信
装置において歪補償を行うことができるため、伝送距離
の異なる受信装置においても高品質な信号が得られる光
アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得
ることができる。
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、ファブリぺロー干渉計7は半導体レーザ
1とフォトダイオード2の間の任意の場所に入れること
ができるため、フォトダイオードの直前、すなわち受信
装置において歪補償を行うことができるため、伝送距離
の異なる受信装置においても高品質な信号が得られる光
アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得
ることができる。
【0049】実施例3.図4は請求項3の発明による光
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の説明図である。図において、10は
プラスチックからなるソリッドエタロン、11はソリッ
ドエタロン10の反射面(反射膜)、12はソリッドエ
タロン10の波長に対する透過率である。
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の説明図である。図において、10は
プラスチックからなるソリッドエタロン、11はソリッ
ドエタロン10の反射面(反射膜)、12はソリッドエ
タロン10の波長に対する透過率である。
【0050】次に動作について説明する。ソリッドエタ
ロン10の透過率は、図4(b)に示すように、波長に
対して周期的に変化する。ソリッドエタロン10の動作
点を、波長に対する透過率変化の谷の部分にすることに
よって、透過率の波長に対する2次微分を正にすること
ができ、分散を有する光ファイバによって生じる3次変
調歪みを補償することができる。また、ソリッドエタロ
ンの反射面11の反射率、反射面11の間の平行度およ
び反射面11の間の距離を変えることによって、透過率
の波長に対する2次微分の大きさを容易に調整すること
ができる。このため、ソリッドエタロン10によって生
じる3次変調歪みの大きさと、分散を有する光ファイバ
によって生じる3次変調歪みの大きさを等しくし、分散
を有する光ファイバによって生じる3次変調歪みを完全
に補償することができる。
ロン10の透過率は、図4(b)に示すように、波長に
対して周期的に変化する。ソリッドエタロン10の動作
点を、波長に対する透過率変化の谷の部分にすることに
よって、透過率の波長に対する2次微分を正にすること
ができ、分散を有する光ファイバによって生じる3次変
調歪みを補償することができる。また、ソリッドエタロ
ンの反射面11の反射率、反射面11の間の平行度およ
び反射面11の間の距離を変えることによって、透過率
の波長に対する2次微分の大きさを容易に調整すること
ができる。このため、ソリッドエタロン10によって生
じる3次変調歪みの大きさと、分散を有する光ファイバ
によって生じる3次変調歪みの大きさを等しくし、分散
を有する光ファイバによって生じる3次変調歪みを完全
に補償することができる。
【0051】このように、本発明によれば、電気的な補
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、ソリッドエタロン10は半導体レーザ1
とフォトダイオード2の間の任意の場所に入れることが
できるため、フォトダイオードの直前、すなわち受信装
置において歪補償を行うことができるため、伝送距離の
異なる受信装置においても高品質な信号が得られる光ア
ナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得る
ことができる。
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、ソリッドエタロン10は半導体レーザ1
とフォトダイオード2の間の任意の場所に入れることが
できるため、フォトダイオードの直前、すなわち受信装
置において歪補償を行うことができるため、伝送距離の
異なる受信装置においても高品質な信号が得られる光ア
ナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得る
ことができる。
【0052】実施例4.図5は請求項4の発明による光
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の実装構造図である。図において、1
3はプラスチックからなるソリッドエタロン10の室温
における形状、14はプラスチックと異なる熱膨張係数
を持ち、ソリッドエタロン10を固定・実装する保持
具、15はソリッドエタロン10の温度を変えたときの
形状、16はソリッドエタロン10の室温における透過
率の波長依存性、17はソリッドエタロン10の温度を
変えたときの透過率の波長依存性である。10、11は
図4に示した実施例3と同様のものである。
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の実装構造図である。図において、1
3はプラスチックからなるソリッドエタロン10の室温
における形状、14はプラスチックと異なる熱膨張係数
を持ち、ソリッドエタロン10を固定・実装する保持
具、15はソリッドエタロン10の温度を変えたときの
形状、16はソリッドエタロン10の室温における透過
率の波長依存性、17はソリッドエタロン10の温度を
変えたときの透過率の波長依存性である。10、11は
図4に示した実施例3と同様のものである。
【0053】次に動作について説明する。ソリッドエタ
ロン10は、熱膨張係数の異なる保持具14に固定され
ているため、ソリッドエタロン10の温度が変わると形
状が変化する。室温における形状13では、反射面11
は平行であるが、ソリッドエタロン10の温度を変える
ことによって形状15のように変形し、反射面11は平
行状態からずれる。ソリッドエタロン10の室温におけ
る透過率16は、図5(b)に示すように、波長に対し
て周期的に変化する。ソリッドエタロン10の温度を変
えると、反射面11が平行状態からずれるため、干渉の
効果が弱くなり、波長に対する透過率17の変化は小さ
くなる。すなわち透過率の波長に対する2次微分の大き
さを調整することができる。このため、ソリッドエタロ
ン10によって生じる3次変調歪みの大きさと、分散を
有する光ファイバによって生じる3次変調歪みの大きさ
を等しくし、分散を有する光ファイバによって生じる3
次変調歪みを完全に補償することができる。
ロン10は、熱膨張係数の異なる保持具14に固定され
ているため、ソリッドエタロン10の温度が変わると形
状が変化する。室温における形状13では、反射面11
は平行であるが、ソリッドエタロン10の温度を変える
ことによって形状15のように変形し、反射面11は平
行状態からずれる。ソリッドエタロン10の室温におけ
る透過率16は、図5(b)に示すように、波長に対し
て周期的に変化する。ソリッドエタロン10の温度を変
えると、反射面11が平行状態からずれるため、干渉の
効果が弱くなり、波長に対する透過率17の変化は小さ
くなる。すなわち透過率の波長に対する2次微分の大き
さを調整することができる。このため、ソリッドエタロ
ン10によって生じる3次変調歪みの大きさと、分散を
有する光ファイバによって生じる3次変調歪みの大きさ
を等しくし、分散を有する光ファイバによって生じる3
次変調歪みを完全に補償することができる。
【0054】このように、本発明によれば、ソリッドエ
タロン10の温度を変えることによって歪補償状態を容
易に調整できる光アナログ伝送装置ならびに光アナログ
伝送システムが得られる。
タロン10の温度を変えることによって歪補償状態を容
易に調整できる光アナログ伝送装置ならびに光アナログ
伝送システムが得られる。
【0055】実施例5.図6は請求項5の発明による光
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の構造図である。図において、18は
波長によって透過率の異なるファブリペロー干渉計、1
9はファブリペロー干渉計18の反射面(反射膜)、2
0はプラスチックからなるファブリペロー干渉計18の
スペーサである。
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の構造図である。図において、18は
波長によって透過率の異なるファブリペロー干渉計、1
9はファブリペロー干渉計18の反射面(反射膜)、2
0はプラスチックからなるファブリペロー干渉計18の
スペーサである。
【0056】次に動作について説明する。ファブリペロ
ー干渉計のスペーサ20はプラスチックからなるため、
熱膨張係数が大きく、わずかに温度を変えるだけで容易
に動作点を変えることができる。波長に対して周期的に
変化するファブリペロー干渉計の透過率のうち、波長に
対する2次微分がもっとも大きくなるのは谷の部分であ
る。ファブリペロー干渉計の透過率を1周期変えるには
スペーサ20の長さが、半導体レーザ1の発振波長の半
分変わればよい。逆に、スペーサ20の長さを半波長分
変えれば、必ずファブリペロー干渉計の透過率の谷の部
分に動作点を調整することができる。
ー干渉計のスペーサ20はプラスチックからなるため、
熱膨張係数が大きく、わずかに温度を変えるだけで容易
に動作点を変えることができる。波長に対して周期的に
変化するファブリペロー干渉計の透過率のうち、波長に
対する2次微分がもっとも大きくなるのは谷の部分であ
る。ファブリペロー干渉計の透過率を1周期変えるには
スペーサ20の長さが、半導体レーザ1の発振波長の半
分変わればよい。逆に、スペーサ20の長さを半波長分
変えれば、必ずファブリペロー干渉計の透過率の谷の部
分に動作点を調整することができる。
【0057】このように、本発明によれば、プラスチッ
クからなるファブリペロー干渉計のスペーサ20を用い
ているので、わずかに温度を変えることによって歪補償
状態を容易に調整できる光アナログ伝送装置ならびに光
アナログ伝送システムが得られる。
クからなるファブリペロー干渉計のスペーサ20を用い
ているので、わずかに温度を変えることによって歪補償
状態を容易に調整できる光アナログ伝送装置ならびに光
アナログ伝送システムが得られる。
【0058】実施例6.図7は請求項6の発明による光
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の構造図である。図において、21は
入出力面に反射部を有する半導体導波路、22は半導体
基板に形成された導波路、23は導波路の入出力面に設
けられた反射部、24は半導体導波路21の波長に対す
る透過率である。
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の構造図である。図において、21は
入出力面に反射部を有する半導体導波路、22は半導体
基板に形成された導波路、23は導波路の入出力面に設
けられた反射部、24は半導体導波路21の波長に対す
る透過率である。
【0059】次に動作について説明する。半導体導波路
21の透過率は、図7(b)に示すように、波長に対し
て周期的に変化する。半導体導波路21の動作点を、波
長に対する透過率変化の谷の部分にすることによって、
透過率の波長に対する2次微分を正にすることができ、
分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪みを
補償することができる。また、半導体導波路の導波路2
2の光路長および半導体導波路の導波路22の損失を変
えることによって、透過率の波長に対する2次微分の大
きさを容易に調整することができる。このため、半導体
導波路21によって生じる3次変調歪みの大きさと、分
散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪みの大
きさを等しくし、分散を有する光ファイバによって生じ
る3次変調歪みを完全に補償することができる。
21の透過率は、図7(b)に示すように、波長に対し
て周期的に変化する。半導体導波路21の動作点を、波
長に対する透過率変化の谷の部分にすることによって、
透過率の波長に対する2次微分を正にすることができ、
分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪みを
補償することができる。また、半導体導波路の導波路2
2の光路長および半導体導波路の導波路22の損失を変
えることによって、透過率の波長に対する2次微分の大
きさを容易に調整することができる。このため、半導体
導波路21によって生じる3次変調歪みの大きさと、分
散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪みの大
きさを等しくし、分散を有する光ファイバによって生じ
る3次変調歪みを完全に補償することができる。
【0060】このように、本発明によれば、電気的な補
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、半導体導波路21は半導体レーザ1とフ
ォトダイオード2の間の任意の場所に入れることができ
るため、フォトダイオードの直前、すなわち受信装置に
おいて歪補償を行うことができるため、伝送距離の異な
る受信装置においても高品質な信号が得られる光アナロ
グ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ること
ができる。
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、半導体導波路21は半導体レーザ1とフ
ォトダイオード2の間の任意の場所に入れることができ
るため、フォトダイオードの直前、すなわち受信装置に
おいて歪補償を行うことができるため、伝送距離の異な
る受信装置においても高品質な信号が得られる光アナロ
グ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ること
ができる。
【0061】実施例7.図8は請求項6の発明による光
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の構造図である。図において、25は
半導体フィルタ、26は半導体フィルタ25の導波路、
27は導波路26に施したグレーティング、28は半導
体フィルタ25の波長に対する透過率である。
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の構造図である。図において、25は
半導体フィルタ、26は半導体フィルタ25の導波路、
27は導波路26に施したグレーティング、28は半導
体フィルタ25の波長に対する透過率である。
【0062】次に動作について説明する。半導体フィル
タ25は、導波路26にグレーティング27にが施して
ある光学部品であり、グレーティングの一つ一つがエタ
ロンに相当し、その波長に対する透過率28は、図8
(b)に示すように、特定の波長において透過率が低く
なるようにすることができる。半導体フィルタ25の動
作点を、波長に対する透過率変化の谷の部分にすること
によって、透過率の波長に対する2次微分を正にするこ
とができ、式(1)と式(2)より、分散によって生じ
る3次変調歪みを補償することができる。また、半導体
フィルタのグレーティングのピッチやグレーティングの
深さを変えることによって、透過率の波長に対する2次
微分の大きさを調整することができる。このため、半導
体フィルタ25によって生じる3次変調歪みの大きさ
と、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みの大きさを等しくし、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みを完全に補償することができる。
タ25は、導波路26にグレーティング27にが施して
ある光学部品であり、グレーティングの一つ一つがエタ
ロンに相当し、その波長に対する透過率28は、図8
(b)に示すように、特定の波長において透過率が低く
なるようにすることができる。半導体フィルタ25の動
作点を、波長に対する透過率変化の谷の部分にすること
によって、透過率の波長に対する2次微分を正にするこ
とができ、式(1)と式(2)より、分散によって生じ
る3次変調歪みを補償することができる。また、半導体
フィルタのグレーティングのピッチやグレーティングの
深さを変えることによって、透過率の波長に対する2次
微分の大きさを調整することができる。このため、半導
体フィルタ25によって生じる3次変調歪みの大きさ
と、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みの大きさを等しくし、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みを完全に補償することができる。
【0063】このように、本発明によれば、電気的な補
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、半導体フィルタ25は半導体レーザ1と
フォトダイオード2の間の任意の場所に入れることがで
きるため、フォトダイオードの直前、すなわち受信装置
において歪補償を行うことができるため、伝送距離の異
なる受信装置においても高品質な信号が得られる光アナ
ログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得るこ
とができる。
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、半導体フィルタ25は半導体レーザ1と
フォトダイオード2の間の任意の場所に入れることがで
きるため、フォトダイオードの直前、すなわち受信装置
において歪補償を行うことができるため、伝送距離の異
なる受信装置においても高品質な信号が得られる光アナ
ログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得るこ
とができる。
【0064】実施例8.図9は請求項7の発明による光
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の構造図である。図において、29は
半導体導波路21と受信装置のフォトダイオード2を集
積化した集積化素子である。2は図1に示した実施例1
と同様のものであり、21は図7に示した実施例6と同
様のものである。
アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率の
異なる光学部品4の構造図である。図において、29は
半導体導波路21と受信装置のフォトダイオード2を集
積化した集積化素子である。2は図1に示した実施例1
と同様のものであり、21は図7に示した実施例6と同
様のものである。
【0065】次に動作について説明する。集積化素子2
9は半導体導波路21とフォトダイオード2が集積化さ
れているが、半導体導波路21の波長に対する透過率
は、図7(b)に示す実施例6と同様に、周期的に透過
率が変わる特性を有している。半導体導波路21の動作
点を、波長に対する透過率変化の谷の部分にすることに
よって、透過率の波長に対する2次微分を正にすること
ができ、分散を有する光ファイバによって生じる3次変
調歪みを補償することができる。
9は半導体導波路21とフォトダイオード2が集積化さ
れているが、半導体導波路21の波長に対する透過率
は、図7(b)に示す実施例6と同様に、周期的に透過
率が変わる特性を有している。半導体導波路21の動作
点を、波長に対する透過率変化の谷の部分にすることに
よって、透過率の波長に対する2次微分を正にすること
ができ、分散を有する光ファイバによって生じる3次変
調歪みを補償することができる。
【0066】このように、本発明によれば、電気的な補
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、半導体導波路21は受信装置のフォトダ
イオード2と集積化されているため、受信装置において
歪補償を行うことができる。このため、伝送距離の異な
る受信装置においても高品質な信号が得られる光アナロ
グ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ること
ができる。
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、半導体導波路21は受信装置のフォトダ
イオード2と集積化されているため、受信装置において
歪補償を行うことができる。このため、伝送距離の異な
る受信装置においても高品質な信号が得られる光アナロ
グ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ること
ができる。
【0067】実施例9.図10は請求項8の発明による
光アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率
の異なる光学部品4の構造図である。図において、30
はファイバグレーティング、31は光ファイバ、32は
光ファイバ31に施したグレーティング、33はファイ
バグレーティング32の波長に対する透過率である。
光アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過率
の異なる光学部品4の構造図である。図において、30
はファイバグレーティング、31は光ファイバ、32は
光ファイバ31に施したグレーティング、33はファイ
バグレーティング32の波長に対する透過率である。
【0068】次に動作について説明する。ファイバグレ
ーティング30は、光ファイバ31にグレーティング3
2が施してある光学部品であり、グレーティングの一つ
一つがエタロンに相当し、その波長に対する透過率33
は、図10(b)に示すように、特定の波長において透
過率が低くなるようにすることができる。ファイバグレ
ーティング30の動作点を、波長に対する透過率変化の
谷の部分にすることによって、透過率の波長に対する2
次微分を正にすることができ、式(1)と式(2)よ
り、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みを補償することができる。また、ファイバグレーティ
ングのグレーティングのピッチやグレーティングの深さ
を変えることによって、透過率の波長に対する2次微分
の大きさを調整することができる。このため、ファイバ
グレーティング30によって生じる3次変調歪みの大き
さと、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調
歪みの大きさを等しくし、分散を有する光ファイバによ
って生じる3次変調歪みを完全に補償することができ
る。
ーティング30は、光ファイバ31にグレーティング3
2が施してある光学部品であり、グレーティングの一つ
一つがエタロンに相当し、その波長に対する透過率33
は、図10(b)に示すように、特定の波長において透
過率が低くなるようにすることができる。ファイバグレ
ーティング30の動作点を、波長に対する透過率変化の
谷の部分にすることによって、透過率の波長に対する2
次微分を正にすることができ、式(1)と式(2)よ
り、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みを補償することができる。また、ファイバグレーティ
ングのグレーティングのピッチやグレーティングの深さ
を変えることによって、透過率の波長に対する2次微分
の大きさを調整することができる。このため、ファイバ
グレーティング30によって生じる3次変調歪みの大き
さと、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調
歪みの大きさを等しくし、分散を有する光ファイバによ
って生じる3次変調歪みを完全に補償することができ
る。
【0069】このように、本発明によれば、電気的な補
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、ファイバグレーティング30は半導体レ
ーザ1とフォトダイオード2の間の任意の場所に入れる
ことができるため、フォトダイオードの直前、すなわち
受信装置において歪補償を行うことができるため、伝送
距離の異なる受信装置においても高品質な信号が得られ
る光アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システム
を得ることができる。
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、ファイバグレーティング30は半導体レ
ーザ1とフォトダイオード2の間の任意の場所に入れる
ことができるため、フォトダイオードの直前、すなわち
受信装置において歪補償を行うことができるため、伝送
距離の異なる受信装置においても高品質な信号が得られ
る光アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システム
を得ることができる。
【0070】実施例10.図11は請求項9の発明によ
る光アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過
率の異なる光学部品4の構造図である。図において、3
4はマッハツェンダ干渉計、35はマッハツェンダ干渉
計34の分岐部、36はマッハツェンダ干渉計34の合
波部、37はマッハツェンダ干渉計34の光信号伝送導
波路、38はマッハツェンダ干渉計34の遅延導波路、
39はマッハツェンダ干渉計34の波長に対する透過率
である。
る光アナログ伝送システムに用いる、波長によって透過
率の異なる光学部品4の構造図である。図において、3
4はマッハツェンダ干渉計、35はマッハツェンダ干渉
計34の分岐部、36はマッハツェンダ干渉計34の合
波部、37はマッハツェンダ干渉計34の光信号伝送導
波路、38はマッハツェンダ干渉計34の遅延導波路、
39はマッハツェンダ干渉計34の波長に対する透過率
である。
【0071】次に動作について説明する。マッハツェン
ダ干渉計34は、入射してきた光信号を分岐部35にお
いて光信号伝送導波路37と光信号伝送導波路に対して
遅延を有する遅延導波路38に分岐し、合波部36にお
いて再び2つの導波路の光を合波する。このように遅延
した光を合波することによって、図11(b)に示すよ
うに、波長に対して周期的に透過率が透過率が変わる特
性を有している。マッハツェンダ干渉計34の動作点
を、波長に対する透過率変化の谷の部分にすることによ
って、透過率の波長に対する2次微分を正にすることが
でき、式(1)と式(2)より、分散を有する光ファイ
バによって生じる3次変調歪みを補償することができ
る。また、マッハツェンダ干渉計34の分岐部や合波部
における2つの導波路の間隔および屈折率、遅延長など
を変えることによって、透過率の波長に対する2次微分
の大きさを調整することができる。このため、マッハツ
ェンダ干渉計34によって生じる3次変調歪みの大きさ
と、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みの大きさを等しくし、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みを完全に補償することができる。
ダ干渉計34は、入射してきた光信号を分岐部35にお
いて光信号伝送導波路37と光信号伝送導波路に対して
遅延を有する遅延導波路38に分岐し、合波部36にお
いて再び2つの導波路の光を合波する。このように遅延
した光を合波することによって、図11(b)に示すよ
うに、波長に対して周期的に透過率が透過率が変わる特
性を有している。マッハツェンダ干渉計34の動作点
を、波長に対する透過率変化の谷の部分にすることによ
って、透過率の波長に対する2次微分を正にすることが
でき、式(1)と式(2)より、分散を有する光ファイ
バによって生じる3次変調歪みを補償することができ
る。また、マッハツェンダ干渉計34の分岐部や合波部
における2つの導波路の間隔および屈折率、遅延長など
を変えることによって、透過率の波長に対する2次微分
の大きさを調整することができる。このため、マッハツ
ェンダ干渉計34によって生じる3次変調歪みの大きさ
と、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みの大きさを等しくし、分散を有する光ファイバによっ
て生じる3次変調歪みを完全に補償することができる。
【0072】このように、本発明によれば、電気的な補
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、マッハツェンダ干渉計34は半導体レー
ザ1とフォトダイオード2の間の任意の場所に入れるこ
とができるため、フォトダイオードの直前、すなわち受
信装置において歪補償を行うことができるため、伝送距
離の異なる受信装置においても高品質な信号が得られる
光アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを
得ることができる。
償を行っていないため、高い周波数の信号を入力した場
合においても十分な歪み補償効果が得られる光アナログ
伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを得ることが
できる。また、マッハツェンダ干渉計34は半導体レー
ザ1とフォトダイオード2の間の任意の場所に入れるこ
とができるため、フォトダイオードの直前、すなわち受
信装置において歪補償を行うことができるため、伝送距
離の異なる受信装置においても高品質な信号が得られる
光アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムを
得ることができる。
【0073】実施例11.図12は請求項10の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態調整法の説明
図である。40は半導体導波路21に設けられた電極、
41は半導体導波路21の屈折率を変えるための電流、
42は電流41によって半導体導波路21の屈折率を変
える前の半導体導波路21の透過率、43は電流41に
よって半導体導波路21の屈折率を変えた後の半導体導
波路21の透過率である。21は図7に示した実施例6
と同様のものである。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態調整法の説明
図である。40は半導体導波路21に設けられた電極、
41は半導体導波路21の屈折率を変えるための電流、
42は電流41によって半導体導波路21の屈折率を変
える前の半導体導波路21の透過率、43は電流41に
よって半導体導波路21の屈折率を変えた後の半導体導
波路21の透過率である。21は図7に示した実施例6
と同様のものである。
【0074】次に動作について説明する。電流41によ
り半導体導波路21の屈折率を変えることによって半導
体導波路21の光路長を変え、透過率42から透過率4
3に、波長に対する特性(動作点)を変えることができ
る。半導体導波路21の透過率は、波長に対して透過率
が周期的に変わり、波長に対する2次微分がもっとも大
きくなるのは透過率の谷の部分であり、電流を流すこと
によって谷になる波長を変えることができる。
り半導体導波路21の屈折率を変えることによって半導
体導波路21の光路長を変え、透過率42から透過率4
3に、波長に対する特性(動作点)を変えることができ
る。半導体導波路21の透過率は、波長に対して透過率
が周期的に変わり、波長に対する2次微分がもっとも大
きくなるのは透過率の谷の部分であり、電流を流すこと
によって谷になる波長を変えることができる。
【0075】このように、本発明によれば、半導体導波
路21に電流を流すため、半導体導波路21の屈折率を
変えることができるので、歪補償状態を容易に調整でき
る光アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システム
が得られる。
路21に電流を流すため、半導体導波路21の屈折率を
変えることができるので、歪補償状態を容易に調整でき
る光アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システム
が得られる。
【0076】実施例12.図13は請求項11の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態調整法の説明
図である。図において、44は半導体導波路21の吸収
率を変えるための電圧、45は半導体導波路21への印
加電圧を変える前の波長に対する透過率、46は半導体
導波路21への印加電圧を変えた後の波長に対する透過
率である。21、23は図7に示した実施例6と同様の
ものであり、40は図12に示した実施例11と同様の
ものである。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態調整法の説明
図である。図において、44は半導体導波路21の吸収
率を変えるための電圧、45は半導体導波路21への印
加電圧を変える前の波長に対する透過率、46は半導体
導波路21への印加電圧を変えた後の波長に対する透過
率である。21、23は図7に示した実施例6と同様の
ものであり、40は図12に示した実施例11と同様の
ものである。
【0077】次に動作について説明する。半導体導波路
21に電圧44を印加することによって半導体導波路2
1の吸収率を変えることができる。これにより反射部2
3による干渉の効果が弱くなり、波長に対する透過率の
変化は、透過率45から透過率46のように、小さくな
る。すなわち透過率の波長に対する2次微分の大きさを
調整することができる。このため半導体導波路21によ
って生じる3次変調歪みの大きさと、分散を有する光フ
ァイバによって生じる3次変調歪みの大きさを等しく
し、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みを完全に補償することができる。
21に電圧44を印加することによって半導体導波路2
1の吸収率を変えることができる。これにより反射部2
3による干渉の効果が弱くなり、波長に対する透過率の
変化は、透過率45から透過率46のように、小さくな
る。すなわち透過率の波長に対する2次微分の大きさを
調整することができる。このため半導体導波路21によ
って生じる3次変調歪みの大きさと、分散を有する光フ
ァイバによって生じる3次変調歪みの大きさを等しく
し、分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪
みを完全に補償することができる。
【0078】このように、本発明によれば、半導体導波
路21への印加電圧を変えることによって歪補償状態を
容易に調整できるアナログ伝送装置ならびに光アナログ
伝送システムが得られる。
路21への印加電圧を変えることによって歪補償状態を
容易に調整できるアナログ伝送装置ならびに光アナログ
伝送システムが得られる。
【0079】実施例13.図14は請求項12の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態調整法の説明
図である。図において、47は波長によって透過率の異
なる光学部品4の側面に設けたヒータ、48はヒータ4
7で温度を変える前の光学部品4の透過率、49はヒー
タ47で温度を変えた後の光学部品4の透過率である。
4は図1に示した実施例1と同様のものであり、8は図
3に示した実施例2と同様のものである。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態調整法の説明
図である。図において、47は波長によって透過率の異
なる光学部品4の側面に設けたヒータ、48はヒータ4
7で温度を変える前の光学部品4の透過率、49はヒー
タ47で温度を変えた後の光学部品4の透過率である。
4は図1に示した実施例1と同様のものであり、8は図
3に示した実施例2と同様のものである。
【0080】次に動作について説明する。光学部品4の
側面に設けたヒータ47により光学部品4に熱を加え、
光学部品4の熱膨張によって反射面8の距離(またはグ
レーティングのピッチ)を変えることができる。これに
より透過率48から透過率49に、波長に対する特性
(動作点)を変えることができる。光学部品4の透過率
は、波長に対して周期的に変化し、波長に対する2次微
分がもっとも大きくなるのは谷の部分である。光学部品
4の透過率を1周期変えるには反射面の距離が、半導体
レーザ1の発振波長の半分変わればよく、半波長分変え
れば、必ず光学部品4の透過率の谷の部分に動作点を調
整することができる。
側面に設けたヒータ47により光学部品4に熱を加え、
光学部品4の熱膨張によって反射面8の距離(またはグ
レーティングのピッチ)を変えることができる。これに
より透過率48から透過率49に、波長に対する特性
(動作点)を変えることができる。光学部品4の透過率
は、波長に対して周期的に変化し、波長に対する2次微
分がもっとも大きくなるのは谷の部分である。光学部品
4の透過率を1周期変えるには反射面の距離が、半導体
レーザ1の発振波長の半分変わればよく、半波長分変え
れば、必ず光学部品4の透過率の谷の部分に動作点を調
整することができる。
【0081】このように、本発明によれば、光学部品4
の側面にヒータを設けるため、光学部品4の温度を変え
ることができるので、歪補償状態を容易に調整できるア
ナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムが得ら
れる。
の側面にヒータを設けるため、光学部品4の温度を変え
ることができるので、歪補償状態を容易に調整できるア
ナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムが得ら
れる。
【0082】実施例14.図15は請求項12の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態調整法の説明
図である。図において、50はマッハツェンダ干渉計の
分岐部35、光信号伝送導波路37または遅延導波路3
8の少なくとも一方の導波路および合波部36の少なく
とも一部の温度を変えるためのヒータ、51はヒータ5
0で温度を変える前のマッハツェンダ干渉計34の透過
率、52はヒータ50で温度を変えた後のマッハツェン
ダ干渉計34の透過率である。34〜38は図11に示
した実施例10と同様のものである。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態調整法の説明
図である。図において、50はマッハツェンダ干渉計の
分岐部35、光信号伝送導波路37または遅延導波路3
8の少なくとも一方の導波路および合波部36の少なく
とも一部の温度を変えるためのヒータ、51はヒータ5
0で温度を変える前のマッハツェンダ干渉計34の透過
率、52はヒータ50で温度を変えた後のマッハツェン
ダ干渉計34の透過率である。34〜38は図11に示
した実施例10と同様のものである。
【0083】次に動作について説明する。ヒータ50に
より、マッハツェンダ干渉計の分岐部35、光信号伝送
導波路37、遅延導波路38、合波部36を加熱するこ
とによって、マッハツェンダ干渉計の分岐比、遅延長、
合波比を変え、透過率51から透過率52に、波長に対
する特性(動作点)を変えることができる。マッハツェ
ンダ干渉計34の透過率は、波長に対して透過率が周期
的に変わり、波長に対する2次微分がもっとも大きくな
るのは透過率の谷の部分であり、温度を変えることによ
って谷になる波長を変えることができる。
より、マッハツェンダ干渉計の分岐部35、光信号伝送
導波路37、遅延導波路38、合波部36を加熱するこ
とによって、マッハツェンダ干渉計の分岐比、遅延長、
合波比を変え、透過率51から透過率52に、波長に対
する特性(動作点)を変えることができる。マッハツェ
ンダ干渉計34の透過率は、波長に対して透過率が周期
的に変わり、波長に対する2次微分がもっとも大きくな
るのは透過率の谷の部分であり、温度を変えることによ
って谷になる波長を変えることができる。
【0084】このように、本発明によれば、マッハツェ
ンダ干渉計の分岐部35、光信号伝送導波路37または
遅延導波路38の少なくと一方の導波路および合波部3
6の少なくとも一部にヒータ設けているため、分岐比、
遅延長および合波比を変えることができるので、歪補償
状態を容易に調整できるアナログ伝送装置ならびに光ア
ナログ伝送システムが得られる。
ンダ干渉計の分岐部35、光信号伝送導波路37または
遅延導波路38の少なくと一方の導波路および合波部3
6の少なくとも一部にヒータ設けているため、分岐比、
遅延長および合波比を変えることができるので、歪補償
状態を容易に調整できるアナログ伝送装置ならびに光ア
ナログ伝送システムが得られる。
【0085】実施例15.図16は請求項13の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、53は波長によって透過率の異
なる光学部品4からの透過光の信号帯域外の3次変調歪
みをモニタするためのフォトダイオード、54は光学部
品4の動作点を調整するための動作点調整手段、55は
光学部品4の動作点をわずかに変化させるための動作点
変調手段、56はフォトダイオード53で検出した光学
部品4からの透過光の信号帯域外の3次変調歪みが小さ
くなるように光学部品4の動作点を制御するための歪補
償状態制御回路、57は光学部品4の波長に対する透過
率、58は光学部品4の動作点を変えたときの、光学部
品4によって生じる3次変調歪みと分散を有する光ファ
イバによって生じる3次変調歪みを複合した3次変調歪
み、59は良好な歪補償状態が得られる動作点の範囲、
60aは動作点の範囲59の左側の動作点、60bは動
作点の範囲59の右側の動作点、61は動作点変調手段
55による動作点の変調信号、62aは動作点60aに
おける3次変調歪みの変化、62bは動作点60bにお
ける3次変調歪みの変化である。1、2、4は図1に示
した実施例1と同様のものである。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、53は波長によって透過率の異
なる光学部品4からの透過光の信号帯域外の3次変調歪
みをモニタするためのフォトダイオード、54は光学部
品4の動作点を調整するための動作点調整手段、55は
光学部品4の動作点をわずかに変化させるための動作点
変調手段、56はフォトダイオード53で検出した光学
部品4からの透過光の信号帯域外の3次変調歪みが小さ
くなるように光学部品4の動作点を制御するための歪補
償状態制御回路、57は光学部品4の波長に対する透過
率、58は光学部品4の動作点を変えたときの、光学部
品4によって生じる3次変調歪みと分散を有する光ファ
イバによって生じる3次変調歪みを複合した3次変調歪
み、59は良好な歪補償状態が得られる動作点の範囲、
60aは動作点の範囲59の左側の動作点、60bは動
作点の範囲59の右側の動作点、61は動作点変調手段
55による動作点の変調信号、62aは動作点60aに
おける3次変調歪みの変化、62bは動作点60bにお
ける3次変調歪みの変化である。1、2、4は図1に示
した実施例1と同様のものである。
【0086】次に動作について説明する。まず、図16
(b)に示す光学部品4の透過率の波長依存性と分散を
有する光ファイバによって生じる3次変調歪みの補償状
態との関係について説明を行う。光学部品4の波長に対
する透過率57によって生じる3次変調歪みは式(2)
により表わされる。透過率の波長に対する2次微分の符
号は山の部分で負になり、谷の部分で正になる。一方、
分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪みは
式(1)によって表わされるため、光学部品4によって
生じる3次変調歪みと分散を有する光ファイバによって
生じる3次変調歪みを合わせた受信装置での3次変調歪
みは、透過率57の山の部分では分散を有する光ファイ
バによって生じる3次変調歪みのみの場合よりも3次変
調歪みが大きくなり、透過率57の谷の部分では2つの
3次変調歪みが打ち消し合って分散を有する光ファイバ
によって生じる3次変調歪みが補償される。
(b)に示す光学部品4の透過率の波長依存性と分散を
有する光ファイバによって生じる3次変調歪みの補償状
態との関係について説明を行う。光学部品4の波長に対
する透過率57によって生じる3次変調歪みは式(2)
により表わされる。透過率の波長に対する2次微分の符
号は山の部分で負になり、谷の部分で正になる。一方、
分散を有する光ファイバによって生じる3次変調歪みは
式(1)によって表わされるため、光学部品4によって
生じる3次変調歪みと分散を有する光ファイバによって
生じる3次変調歪みを合わせた受信装置での3次変調歪
みは、透過率57の山の部分では分散を有する光ファイ
バによって生じる3次変調歪みのみの場合よりも3次変
調歪みが大きくなり、透過率57の谷の部分では2つの
3次変調歪みが打ち消し合って分散を有する光ファイバ
によって生じる3次変調歪みが補償される。
【0087】次に、図16(a)について説明を行う。
半導体レーザ1と受信装置のフォトダイオード2の間に
設けた光学部品4の透過光の変調歪みをモニタ用のフォ
トダイオード53によって検出し、歪補償状態制御手段
56によって信号帯域外の3次変調歪みが小さくなるよ
うに動作点調整手段54により光学部品4の動作点を調
整・制御する。制御は以下のように行う。まず、動作点
は動作点変調手段55によって、わずかであるが常に変
化させる。さらに、この動作点変調手段55による動作
点変調信号61とフォトダイオード53によって検出し
た3次変調歪みの変化62の位相関係を調べる。そし
て、この位相関係から信号帯域外の3次変調歪みが小さ
くなるように動作点調整手段54により光学部品4の動
作点を調整・制御する。具体的には、図16(b)にお
いて、良好な歪補償状態が得られる範囲59の左側(ま
たは右側)に動作点60a(または動作点60b)があ
る場合を考える。動作点60a(または動作点60b)
を大きくすると3次変調歪みが小さく(または大きく)
なるため、動作点変調信号61に対する3次変調歪み6
2a(または3次変調歪み62b)の変化の位相は逆相
(または同相)になり、動作点を大きく(または小さ
く)なるように制御する。このように、動作点変調信号
に対する3次変調歪みの変化の位相が逆相の場合には動
作点を大きく、すなわち右側に、また同相の場合には動
作点を小さく、すなわち左側になるように動作点を調整
するすることによって良好な歪補償状態が得られる範囲
59に動作点をもっていくことができる。
半導体レーザ1と受信装置のフォトダイオード2の間に
設けた光学部品4の透過光の変調歪みをモニタ用のフォ
トダイオード53によって検出し、歪補償状態制御手段
56によって信号帯域外の3次変調歪みが小さくなるよ
うに動作点調整手段54により光学部品4の動作点を調
整・制御する。制御は以下のように行う。まず、動作点
は動作点変調手段55によって、わずかであるが常に変
化させる。さらに、この動作点変調手段55による動作
点変調信号61とフォトダイオード53によって検出し
た3次変調歪みの変化62の位相関係を調べる。そし
て、この位相関係から信号帯域外の3次変調歪みが小さ
くなるように動作点調整手段54により光学部品4の動
作点を調整・制御する。具体的には、図16(b)にお
いて、良好な歪補償状態が得られる範囲59の左側(ま
たは右側)に動作点60a(または動作点60b)があ
る場合を考える。動作点60a(または動作点60b)
を大きくすると3次変調歪みが小さく(または大きく)
なるため、動作点変調信号61に対する3次変調歪み6
2a(または3次変調歪み62b)の変化の位相は逆相
(または同相)になり、動作点を大きく(または小さ
く)なるように制御する。このように、動作点変調信号
に対する3次変調歪みの変化の位相が逆相の場合には動
作点を大きく、すなわち右側に、また同相の場合には動
作点を小さく、すなわち左側になるように動作点を調整
するすることによって良好な歪補償状態が得られる範囲
59に動作点をもっていくことができる。
【0088】また、透過光の信号帯域外の3次変調歪み
モニタ用のフォトダイオード53は受信装置のフォトダ
イオード2でも代用することができ、その場合には光学
部品4の透過光出力の一部を分岐する必要は無い。な
お、動作点調整手段54は、例えば、実施例13に示す
ヒータ等である。
モニタ用のフォトダイオード53は受信装置のフォトダ
イオード2でも代用することができ、その場合には光学
部品4の透過光出力の一部を分岐する必要は無い。な
お、動作点調整手段54は、例えば、実施例13に示す
ヒータ等である。
【0089】このように、本発明によれば、モニタ用の
フォトダイオードによって、光学部品4の透過光の信号
帯域外の3次変調歪みを検出し、動作点調整手段で信号
帯域外の3次変調歪みが小さくなるように光学部品4の
動作点を調整・制御するため、良好な歪補償状態が安定
に得られるアナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送シ
ステムが得られる。
フォトダイオードによって、光学部品4の透過光の信号
帯域外の3次変調歪みを検出し、動作点調整手段で信号
帯域外の3次変調歪みが小さくなるように光学部品4の
動作点を調整・制御するため、良好な歪補償状態が安定
に得られるアナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送シ
ステムが得られる。
【0090】実施例16.図17は請求項14の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、63は光学部品4からの透過光
出力をモニタするためのフォトダイオード、64はフォ
トダイオード63で検出した光学部品4からの透過光出
力が小さくなるように光学部品4の動作点を制御するた
めの手段、65は良好な歪補償状態が得られる動作点の
範囲、66aは動作点の範囲65の左側の動作点、66
bは動作点の範囲65の右側の動作点、67aは動作点
66aにおける透過光出力の変化、67bは動作点66
bにおける透過光出力の変化である。1、4は図1に示
した実施例1と同様のものであり、54、55、57、
61は図16に示した実施例15と同様のものである。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、63は光学部品4からの透過光
出力をモニタするためのフォトダイオード、64はフォ
トダイオード63で検出した光学部品4からの透過光出
力が小さくなるように光学部品4の動作点を制御するた
めの手段、65は良好な歪補償状態が得られる動作点の
範囲、66aは動作点の範囲65の左側の動作点、66
bは動作点の範囲65の右側の動作点、67aは動作点
66aにおける透過光出力の変化、67bは動作点66
bにおける透過光出力の変化である。1、4は図1に示
した実施例1と同様のものであり、54、55、57、
61は図16に示した実施例15と同様のものである。
【0091】次に動作について説明する。半導体レーザ
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けた光学部
品4の透過光出力をモニタ用のフォトダイオード63に
よって検出し、歪補償状態制御手段64によって光出力
が小さくなるように動作点調整手段54により光学部品
4の動作点を調整・制御する。ここで、光学部品4の透
過光出力が小さくなるように制御するのは、図16
(b)の光学部品4の透過率の波長依存性と分散を有す
る光ファイバによって生じる3次変調歪みの補償状態と
の関係に示されるように、光学部品4の透過率57の谷
の部分、すなわち透過光出力が極小になる部分で、光学
部品4によって生じる3次変調歪みと分散を有する光フ
ァイバによって生じる3次変調歪みが打ち消し合って良
好な歪補償状態が得られるからである。
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けた光学部
品4の透過光出力をモニタ用のフォトダイオード63に
よって検出し、歪補償状態制御手段64によって光出力
が小さくなるように動作点調整手段54により光学部品
4の動作点を調整・制御する。ここで、光学部品4の透
過光出力が小さくなるように制御するのは、図16
(b)の光学部品4の透過率の波長依存性と分散を有す
る光ファイバによって生じる3次変調歪みの補償状態と
の関係に示されるように、光学部品4の透過率57の谷
の部分、すなわち透過光出力が極小になる部分で、光学
部品4によって生じる3次変調歪みと分散を有する光フ
ァイバによって生じる3次変調歪みが打ち消し合って良
好な歪補償状態が得られるからである。
【0092】また、制御は以下のように行う。まず、動
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード63によって検出
した透過光出力の変化67の位相関係を調べる。そし
て、この位相関係から透過光出力が小さくなるように動
作点調整手段54により光学部品4の動作点を調整・制
御する。具体的には、図17(b)において、良好な歪
補償状態が得られる範囲65の左側(または右側)に動
作点66a(または動作点66b)がある場合を考え
る。動作点66a(または動作点66b)を大きくする
と透過光出力が小さく(または大きく)なるため、動作
点変調信号61に対する透過光出力67a(または透過
光出力67b)の変化の位相は逆相(または同相)にな
り、動作点を大きく(または小さく)なるように制御す
る。このように、動作点変調信号に対する透過光出力の
変化の位相が逆相の場合には動作点を大きく、すなわち
右側に、また同相の場合には動作点を小さく、すなわち
左側になるように動作点を調整するすることによって良
好な歪補償状態が得られる範囲65に動作点をもってい
くことができる。
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード63によって検出
した透過光出力の変化67の位相関係を調べる。そし
て、この位相関係から透過光出力が小さくなるように動
作点調整手段54により光学部品4の動作点を調整・制
御する。具体的には、図17(b)において、良好な歪
補償状態が得られる範囲65の左側(または右側)に動
作点66a(または動作点66b)がある場合を考え
る。動作点66a(または動作点66b)を大きくする
と透過光出力が小さく(または大きく)なるため、動作
点変調信号61に対する透過光出力67a(または透過
光出力67b)の変化の位相は逆相(または同相)にな
り、動作点を大きく(または小さく)なるように制御す
る。このように、動作点変調信号に対する透過光出力の
変化の位相が逆相の場合には動作点を大きく、すなわち
右側に、また同相の場合には動作点を小さく、すなわち
左側になるように動作点を調整するすることによって良
好な歪補償状態が得られる範囲65に動作点をもってい
くことができる。
【0093】また、透過光出力モニタ用のフォトダイオ
ード63は受信装置のフォトダイオード2でも代用する
ことができ、その場合には光学部品4の透過光出力の一
部を分岐する必要は無い。なお、動作点調整手段は、例
えば、実施例13に示すヒータ等である。
ード63は受信装置のフォトダイオード2でも代用する
ことができ、その場合には光学部品4の透過光出力の一
部を分岐する必要は無い。なお、動作点調整手段は、例
えば、実施例13に示すヒータ等である。
【0094】このように、本発明によれば、モニタ用の
フォトダイオードによって、光学部品4の透過光出力を
検出し、動作点調整手段で検出光出力が小さくなるよう
に光学部品4の動作点を調整・制御するため、良好な歪
補償状態が安定に得られるアナログ伝送装置ならびに光
アナログ伝送システムが得られる。
フォトダイオードによって、光学部品4の透過光出力を
検出し、動作点調整手段で検出光出力が小さくなるよう
に光学部品4の動作点を調整・制御するため、良好な歪
補償状態が安定に得られるアナログ伝送装置ならびに光
アナログ伝送システムが得られる。
【0095】実施例17.図18は請求項15の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、68はフォトダイオード53で
検出した光学部品4からの反射光の3次変調歪みが大き
くなるように光学部品4の動作点を制御するための歪補
償状態制御手段、69は光学部品4の波長に対する反射
率、70は光学部品4の各動作点に対する3次変調歪
み、71は良好な歪補償状態が得られる動作点の範囲、
72aは動作点の範囲71の左側の動作点、72bは動
作点の範囲71の右側の動作点、73aは動作点72a
における反射光の3次変調歪みの変化、73bは動作点
72bにおける反射光の3次変調歪みの変化である。
1、4は図1に示した実施例1と同様のものであり、5
3〜55、57、61は図16に示した実施例15と同
様のものである。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、68はフォトダイオード53で
検出した光学部品4からの反射光の3次変調歪みが大き
くなるように光学部品4の動作点を制御するための歪補
償状態制御手段、69は光学部品4の波長に対する反射
率、70は光学部品4の各動作点に対する3次変調歪
み、71は良好な歪補償状態が得られる動作点の範囲、
72aは動作点の範囲71の左側の動作点、72bは動
作点の範囲71の右側の動作点、73aは動作点72a
における反射光の3次変調歪みの変化、73bは動作点
72bにおける反射光の3次変調歪みの変化である。
1、4は図1に示した実施例1と同様のものであり、5
3〜55、57、61は図16に示した実施例15と同
様のものである。
【0096】次に動作について説明する。半導体レーザ
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けた光学部
品4の反射光の3次変調歪みをモニタ用のフォトダイオ
ード53によって検出し、歪補償状態制御手段68によ
って反射光の3次変調歪みが大きくなるように動作点調
整手段54により光学部品4の動作点を調整・制御す
る。ここで、光学部品4の反射光の3次変調歪みが大き
くなるように制御するのは、図18(b)の光学部品4
の波長に対する透過率と反射率の関係からわかるよう
に、透過率と反射率の関係はちょうど逆になっており、
反射光の3次変調歪みが大きいときに透過光の3次変調
歪みが小さくなるからである。
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けた光学部
品4の反射光の3次変調歪みをモニタ用のフォトダイオ
ード53によって検出し、歪補償状態制御手段68によ
って反射光の3次変調歪みが大きくなるように動作点調
整手段54により光学部品4の動作点を調整・制御す
る。ここで、光学部品4の反射光の3次変調歪みが大き
くなるように制御するのは、図18(b)の光学部品4
の波長に対する透過率と反射率の関係からわかるよう
に、透過率と反射率の関係はちょうど逆になっており、
反射光の3次変調歪みが大きいときに透過光の3次変調
歪みが小さくなるからである。
【0097】また、制御は以下のように行う。まず、動
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード53によって検出
した反射光の3次変調歪みの変化73の位相関係を調べ
る。そして、この位相関係から反射光の3次変調歪みが
大きくなるように動作点調整手段54により光学部品4
の動作点を調整・制御する。具体的には、図18(c)
において、良好な歪補償状態が得られる範囲71の左側
(または右側)に動作点72a(または動作点72b)
がある場合を考える。動作点72a(または動作点72
b)を大きくすると反射光の3次変調歪みが大きく(ま
たは小さく)なるため、動作点変調信号61に対する反
射光の3次変調歪み73a(または反射光の3次変調歪
み73b)の変化の位相は同相(または逆相)になり、
動作点を大きく(または小さく)なるように制御する。
このように、動作点変調信号に対する反射光の3次変調
歪みの変化の位相が同相の場合には動作点を大きく、す
なわち右側に、逆相の場合には動作点を小さく、すなわ
ち左側になるように動作点を調整するすることによって
良好な歪補償状態が得られる範囲71に動作点をもって
いくことができる。
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード53によって検出
した反射光の3次変調歪みの変化73の位相関係を調べ
る。そして、この位相関係から反射光の3次変調歪みが
大きくなるように動作点調整手段54により光学部品4
の動作点を調整・制御する。具体的には、図18(c)
において、良好な歪補償状態が得られる範囲71の左側
(または右側)に動作点72a(または動作点72b)
がある場合を考える。動作点72a(または動作点72
b)を大きくすると反射光の3次変調歪みが大きく(ま
たは小さく)なるため、動作点変調信号61に対する反
射光の3次変調歪み73a(または反射光の3次変調歪
み73b)の変化の位相は同相(または逆相)になり、
動作点を大きく(または小さく)なるように制御する。
このように、動作点変調信号に対する反射光の3次変調
歪みの変化の位相が同相の場合には動作点を大きく、す
なわち右側に、逆相の場合には動作点を小さく、すなわ
ち左側になるように動作点を調整するすることによって
良好な歪補償状態が得られる範囲71に動作点をもって
いくことができる。
【0098】なお、動作点調整手段54は、例えば、実
施例13に示すヒータ等である。
施例13に示すヒータ等である。
【0099】このように、本発明によれば、モニタ用の
フォトダイオードによって、光学部品4の反射光の3次
変調歪みを検出し、動作点調整手段で反射光の3次変調
歪みが大きくなるように光学部品4の動作点を調整・制
御するため、良好な歪補償状態が安定に得られる光アナ
ログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムが得られ
る。
フォトダイオードによって、光学部品4の反射光の3次
変調歪みを検出し、動作点調整手段で反射光の3次変調
歪みが大きくなるように光学部品4の動作点を調整・制
御するため、良好な歪補償状態が安定に得られる光アナ
ログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムが得られ
る。
【0100】実施例18.図19は請求項15の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、74はフォトダイオード53で
検出したマッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない
伝送路(すなわち遅延導波路38)からの出力光の3次
変調歪みが大きくなるようにマッハツェンダ干渉計34
の動作点を制御するための歪補償状態制御手段、75は
マッハツェンダ干渉計34の信号を伝送する伝送路37
への透過率、76はマッハツェンダ干渉計34の信号を
伝送しない伝送路38への透過率、77はマッハツェン
ダ干渉計34の各動作点に対する3次変調歪み、78は
良好な歪補償状態が得られる動作点の範囲、79aは動
作点の範囲78の左側の動作点、79bは動作点の範囲
78の右側の動作点、80aは動作点79aにおけるマ
ッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38
からの出力光の3次変調歪み変化、80bは動作点79
bにおけるマッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しな
い伝送路38からの出力光の3次変調歪み変化である。
1は図1に示した実施例1と同様のもの、34、37、
38は図11に示した実施例10と同様のもの、53〜
55、61は図16に示した実施例15と同様のもので
ある。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、74はフォトダイオード53で
検出したマッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない
伝送路(すなわち遅延導波路38)からの出力光の3次
変調歪みが大きくなるようにマッハツェンダ干渉計34
の動作点を制御するための歪補償状態制御手段、75は
マッハツェンダ干渉計34の信号を伝送する伝送路37
への透過率、76はマッハツェンダ干渉計34の信号を
伝送しない伝送路38への透過率、77はマッハツェン
ダ干渉計34の各動作点に対する3次変調歪み、78は
良好な歪補償状態が得られる動作点の範囲、79aは動
作点の範囲78の左側の動作点、79bは動作点の範囲
78の右側の動作点、80aは動作点79aにおけるマ
ッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38
からの出力光の3次変調歪み変化、80bは動作点79
bにおけるマッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しな
い伝送路38からの出力光の3次変調歪み変化である。
1は図1に示した実施例1と同様のもの、34、37、
38は図11に示した実施例10と同様のもの、53〜
55、61は図16に示した実施例15と同様のもので
ある。
【0101】次に動作について説明する。半導体レーザ
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けたマッハ
ツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38から
の出力光の3次変調歪みをモニタするフォトダイオード
53によって検出し、歪補償状態制御手段74によって
マッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路3
8からの出力光の3次変調歪みが大きくなるように動作
点調整手段55によりマッハツェンダ干渉計34の動作
点を調整・制御する。ここで、マッハツェンダ干渉計3
4の信号を伝送しない伝送路38からの出力光の3次変
調歪みが大きくなるように制御するのは、図19(b)
のマッハツェンダ干渉計34の2つの導波路37、38
の波長に対する透過率の関係からわかるように、2つの
導波路の透過率の関係はちょうど逆になっており、信号
を伝送しない伝送路からの出力光の3次変調歪みが大き
いときに、光信号伝送導波路37の透過光の3次変調歪
みが小さくなるからである。
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けたマッハ
ツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38から
の出力光の3次変調歪みをモニタするフォトダイオード
53によって検出し、歪補償状態制御手段74によって
マッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路3
8からの出力光の3次変調歪みが大きくなるように動作
点調整手段55によりマッハツェンダ干渉計34の動作
点を調整・制御する。ここで、マッハツェンダ干渉計3
4の信号を伝送しない伝送路38からの出力光の3次変
調歪みが大きくなるように制御するのは、図19(b)
のマッハツェンダ干渉計34の2つの導波路37、38
の波長に対する透過率の関係からわかるように、2つの
導波路の透過率の関係はちょうど逆になっており、信号
を伝送しない伝送路からの出力光の3次変調歪みが大き
いときに、光信号伝送導波路37の透過光の3次変調歪
みが小さくなるからである。
【0102】また、制御は以下のように行う。まず、動
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード53によって検出
した信号を伝送しない伝送路38からの出力光の3次変
調歪み変化80の位相関係を調べる。そして、この位相
関係から信号を伝送しない伝送路38からの出力光の3
次変調歪みが大きくなるように動作点調整手段54によ
りマッハツェンダ干渉計34の動作点を調整・制御す
る。具体的には、図19(c)において、良好な歪補償
状態が得られる範囲78の左側(または右側)に動作点
79a(または動作点79b)がある場合を考える。動
作点79a(または動作点79b)を大きくすると信号
を伝送しない伝送路38からの出力光の3次変調歪みが
大きく(または小さく)なるため、動作点変調信号61
に対する信号を伝送しない伝送路38からの出力光の3
次変調歪み80a(または信号を伝送しない伝送路38
からの出力光の3次変調歪み80b)の変化の位相は同
相(または逆相)になり、動作点を大きく(または小さ
く)なるように制御する。このように、動作点変調信号
に対する信号を伝送しない伝送路からの出力光の3次変
調歪みの変化の位相が同相の場合には動作点を大きく、
すなわち右側に、逆相の場合には動作点を小さく、すな
わち左側になるように動作点を調整するすることによっ
て良好な歪補償状態が得られる範囲78に動作点をもっ
ていくことができる。
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード53によって検出
した信号を伝送しない伝送路38からの出力光の3次変
調歪み変化80の位相関係を調べる。そして、この位相
関係から信号を伝送しない伝送路38からの出力光の3
次変調歪みが大きくなるように動作点調整手段54によ
りマッハツェンダ干渉計34の動作点を調整・制御す
る。具体的には、図19(c)において、良好な歪補償
状態が得られる範囲78の左側(または右側)に動作点
79a(または動作点79b)がある場合を考える。動
作点79a(または動作点79b)を大きくすると信号
を伝送しない伝送路38からの出力光の3次変調歪みが
大きく(または小さく)なるため、動作点変調信号61
に対する信号を伝送しない伝送路38からの出力光の3
次変調歪み80a(または信号を伝送しない伝送路38
からの出力光の3次変調歪み80b)の変化の位相は同
相(または逆相)になり、動作点を大きく(または小さ
く)なるように制御する。このように、動作点変調信号
に対する信号を伝送しない伝送路からの出力光の3次変
調歪みの変化の位相が同相の場合には動作点を大きく、
すなわち右側に、逆相の場合には動作点を小さく、すな
わち左側になるように動作点を調整するすることによっ
て良好な歪補償状態が得られる範囲78に動作点をもっ
ていくことができる。
【0103】なお、動作点調整手段は、例えば、実施例
14に示すヒータ等である。
14に示すヒータ等である。
【0104】このように、本発明によれば、モニタ用の
フォトダイオードによって、マッハツェンダ干渉計34
の信号を伝送しない伝送路38の出射光の3次変調歪み
を検出し、動作点調整手段で信号を伝送しない伝送路3
8の出射光の3次変調歪みが大きくなるようにマッハツ
ェンダ干渉計34の動作点を調整・制御するため、良好
な歪補償状態が安定に得られる光アナログ伝送装置なら
びに光アナログ伝送システムが得られる。
フォトダイオードによって、マッハツェンダ干渉計34
の信号を伝送しない伝送路38の出射光の3次変調歪み
を検出し、動作点調整手段で信号を伝送しない伝送路3
8の出射光の3次変調歪みが大きくなるようにマッハツ
ェンダ干渉計34の動作点を調整・制御するため、良好
な歪補償状態が安定に得られる光アナログ伝送装置なら
びに光アナログ伝送システムが得られる。
【0105】実施例19.図20は請求項16の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、81はフォトダイオード63で
検出した光学部品4からの反射光出力が大きくなるよう
に光学部品4の動作点を制御するための歪補償状態制御
手段、82は良好な歪補償が得られる動作点の範囲、8
3aは動作点の範囲82の左側の動作点、83bは動作
点の範囲82の右側の動作点、84aは動作点83aに
おける反射光出力の変化、84bは動作点83bにおけ
る反射光出力の変化である。1、4は図1に示した実施
例1と同様のものであり、54、55、61は図16に
示した実施例15と同様のものであり、63は図17に
示した実施例16と同様のものである。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、81はフォトダイオード63で
検出した光学部品4からの反射光出力が大きくなるよう
に光学部品4の動作点を制御するための歪補償状態制御
手段、82は良好な歪補償が得られる動作点の範囲、8
3aは動作点の範囲82の左側の動作点、83bは動作
点の範囲82の右側の動作点、84aは動作点83aに
おける反射光出力の変化、84bは動作点83bにおけ
る反射光出力の変化である。1、4は図1に示した実施
例1と同様のものであり、54、55、61は図16に
示した実施例15と同様のものであり、63は図17に
示した実施例16と同様のものである。
【0106】次に動作について説明する。半導体レーザ
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けた光学部
品4の反射光出力をモニタ用のフォトダイオード63に
よって検出し、歪補償状態制御手段81によって反射光
出力が大きくなるように動作点調整手段54により光学
部品4の動作点を調整・制御する。ここで、光学部品4
の反射光出力が大きくなるように制御するのは、図18
(b)の光学部品4の波長に対する透過率と反射率の関
係からわかるように、透過率と反射率の関係はちょうど
逆になっている。このため反射光出力が大きいときに、
透過光出力が小さくなり、良好な歪補償状態が得られる
からである。
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けた光学部
品4の反射光出力をモニタ用のフォトダイオード63に
よって検出し、歪補償状態制御手段81によって反射光
出力が大きくなるように動作点調整手段54により光学
部品4の動作点を調整・制御する。ここで、光学部品4
の反射光出力が大きくなるように制御するのは、図18
(b)の光学部品4の波長に対する透過率と反射率の関
係からわかるように、透過率と反射率の関係はちょうど
逆になっている。このため反射光出力が大きいときに、
透過光出力が小さくなり、良好な歪補償状態が得られる
からである。
【0107】また、制御は以下のように行う。まず、動
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード63によって検出
した反射光出力の変化84の位相関係を調べる。そし
て、この位相関係から反射光の光出力が大きくなるよう
に動作点調整手段54により光学部品4の動作点を調整
・制御する。具体的には、図20(b)において、良好
な歪補償状態が得られる範囲82の左側(または右側)
に動作点83a(または動作点83b)がある場合を考
える。動作点83a(または動作点83b)を大きくす
ると反射光出力が大きく(または小さく)なるため、動
作点変調信号61に対する反射光出力84a(または反
射光出力84b)の変化の位相は同相(または逆相)に
なり、動作点を大きく(または小さく)なるように制御
する。このように、動作点変調信号に対する反射光の3
次変調歪みの変化の位相が同相の場合には動作点を大き
く、すなわち右側に、また逆相の場合には動作点を小さ
く、すなわち左側になるように動作点を調整するするこ
とによって良好な歪補償状態が得られる範囲82に動作
点をもっていくことができる。
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード63によって検出
した反射光出力の変化84の位相関係を調べる。そし
て、この位相関係から反射光の光出力が大きくなるよう
に動作点調整手段54により光学部品4の動作点を調整
・制御する。具体的には、図20(b)において、良好
な歪補償状態が得られる範囲82の左側(または右側)
に動作点83a(または動作点83b)がある場合を考
える。動作点83a(または動作点83b)を大きくす
ると反射光出力が大きく(または小さく)なるため、動
作点変調信号61に対する反射光出力84a(または反
射光出力84b)の変化の位相は同相(または逆相)に
なり、動作点を大きく(または小さく)なるように制御
する。このように、動作点変調信号に対する反射光の3
次変調歪みの変化の位相が同相の場合には動作点を大き
く、すなわち右側に、また逆相の場合には動作点を小さ
く、すなわち左側になるように動作点を調整するするこ
とによって良好な歪補償状態が得られる範囲82に動作
点をもっていくことができる。
【0108】なお、動作点調整手段は、例えば、実施例
13に示すヒータ等である。
13に示すヒータ等である。
【0109】このように、本発明によれば、モニタ用の
フォトダイオードによって、光学部品4の反射光出力を
検出し、動作点調整手段で反射光出力が大きくなるよう
に光学部品4の動作点を調整・制御するため、良好な歪
補償状態が安定に得られる光アナログ伝送装置ならびに
光アナログ伝送システムが得られる。
フォトダイオードによって、光学部品4の反射光出力を
検出し、動作点調整手段で反射光出力が大きくなるよう
に光学部品4の動作点を調整・制御するため、良好な歪
補償状態が安定に得られる光アナログ伝送装置ならびに
光アナログ伝送システムが得られる。
【0110】実施例20.図21は請求項16の発明に
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、85はフォトダイオード63で
検出したマッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない
伝送路38の光出力が大きくなるようにマッハツェンダ
干渉計34の動作点を制御するための手段、86は良好
な歪補償状態が得られる動作点の範囲、87aは動作点
の範囲86の左側の動作点、87bは動作点の範囲86
の右側の動作点、88aは動作点87aにおけるマッハ
ツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38の光
出力の変化、88bは動作点87bにおけるマッハツェ
ンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路の光出力の変
化である。1は図1に示した実施例1と同様のもの、3
4、37、38は図11に示した実施例10と同様のも
の、54、55、61は図16に示した実施例15と同
様のものであり、63は図17に示した実施例16と同
様のものであり、76は図19に示した実施例18と同
様のものである。
よる光アナログ伝送システムの歪補償状態制御法の説明
図である。図において、85はフォトダイオード63で
検出したマッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない
伝送路38の光出力が大きくなるようにマッハツェンダ
干渉計34の動作点を制御するための手段、86は良好
な歪補償状態が得られる動作点の範囲、87aは動作点
の範囲86の左側の動作点、87bは動作点の範囲86
の右側の動作点、88aは動作点87aにおけるマッハ
ツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38の光
出力の変化、88bは動作点87bにおけるマッハツェ
ンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路の光出力の変
化である。1は図1に示した実施例1と同様のもの、3
4、37、38は図11に示した実施例10と同様のも
の、54、55、61は図16に示した実施例15と同
様のものであり、63は図17に示した実施例16と同
様のものであり、76は図19に示した実施例18と同
様のものである。
【0111】次に動作について説明する。半導体レーザ
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けたマッハ
ツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38の光
出力をモニタ用のフォトダイオード63によって検出
し、歪補償状態制御手段85によって検出した光出力が
大きくなるように動作点調整手段54によりマッハツェ
ンダ干渉計34の動作点を調整・制御する。ここで、マ
ッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38
の光出力が大きくなるように制御するのは、図19
(b)のマッハツェンダ干渉計34の2つの導波路3
7、38の波長に対する透過率の関係からわかるよう
に、2つの導波路37、38の透過率の関係はちょうど
逆になっている。このため伝送しない伝送路38の光出
力が大きいときに、光信号伝送導波路37の透過光出力
が小さくなり、良好な歪補償状態が得られるからであ
る。
1と受信装置のフォトダイオード2の間に設けたマッハ
ツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38の光
出力をモニタ用のフォトダイオード63によって検出
し、歪補償状態制御手段85によって検出した光出力が
大きくなるように動作点調整手段54によりマッハツェ
ンダ干渉計34の動作点を調整・制御する。ここで、マ
ッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送路38
の光出力が大きくなるように制御するのは、図19
(b)のマッハツェンダ干渉計34の2つの導波路3
7、38の波長に対する透過率の関係からわかるよう
に、2つの導波路37、38の透過率の関係はちょうど
逆になっている。このため伝送しない伝送路38の光出
力が大きいときに、光信号伝送導波路37の透過光出力
が小さくなり、良好な歪補償状態が得られるからであ
る。
【0112】また、制御は以下のように行う。まず、動
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード63によって検出
したマッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送
路38の光出力の変化88の位相関係を調べる。そし
て、この位相関係から信号を伝送しない伝送路の光出力
が大きくなるように動作点調整手段54によりマッハツ
ェンダ干渉計34の動作点を調整・制御する。具体的に
は、図21(b)において、良好な歪補償状態が得られ
る範囲86の左側(または右側)に動作点87a(また
は動作点87b)がある場合を考える。動作点87a
(または動作点87b)を大きくするとマッハツェンダ
干渉計34の信号を伝送しない伝送路38の光出力が大
きく(または小さく)なるため、動作点変調信号61に
対する信号を伝送しない伝送路38の光出力88a(ま
たは信号を伝送しない伝送路38の光出力88b)の変
化の位相は同相(または逆相)になり、動作点を大きく
(または小さく)なるように制御する。このように、動
作点変調信号に対する信号を伝送しない伝送路の光出力
の変化の位相が同相の場合には動作点を大きく、すなわ
ち右側に、また、逆相の場合には動作点を小さく、すな
わち左側になるように動作点を調整するすることによっ
て良好な歪補償状態が得られる範囲86に動作点をもっ
ていくことができる。
作点は動作点変調手段55によって、わずかであるが常
に変化させる。次に、この動作点変調手段55による動
作点変調信号61とフォトダイオード63によって検出
したマッハツェンダ干渉計34の信号を伝送しない伝送
路38の光出力の変化88の位相関係を調べる。そし
て、この位相関係から信号を伝送しない伝送路の光出力
が大きくなるように動作点調整手段54によりマッハツ
ェンダ干渉計34の動作点を調整・制御する。具体的に
は、図21(b)において、良好な歪補償状態が得られ
る範囲86の左側(または右側)に動作点87a(また
は動作点87b)がある場合を考える。動作点87a
(または動作点87b)を大きくするとマッハツェンダ
干渉計34の信号を伝送しない伝送路38の光出力が大
きく(または小さく)なるため、動作点変調信号61に
対する信号を伝送しない伝送路38の光出力88a(ま
たは信号を伝送しない伝送路38の光出力88b)の変
化の位相は同相(または逆相)になり、動作点を大きく
(または小さく)なるように制御する。このように、動
作点変調信号に対する信号を伝送しない伝送路の光出力
の変化の位相が同相の場合には動作点を大きく、すなわ
ち右側に、また、逆相の場合には動作点を小さく、すな
わち左側になるように動作点を調整するすることによっ
て良好な歪補償状態が得られる範囲86に動作点をもっ
ていくことができる。
【0113】なお、動作点調整手段は、例えば、実施例
14に示すヒータ等である。
14に示すヒータ等である。
【0114】このように、本発明によれば、モニタ用の
フォトダイオードによって、マッハツェンダ干渉計34
の信号を伝送しない伝送路38の光出力を検出し、動作
点調整手段で信号を伝送しない伝送路38の光出力が大
きくなるようにマッハツェンダ干渉計34の動作点を調
整・制御するため、良好な歪補償状態が安定に得られる
光アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムが
得られる。
フォトダイオードによって、マッハツェンダ干渉計34
の信号を伝送しない伝送路38の光出力を検出し、動作
点調整手段で信号を伝送しない伝送路38の光出力が大
きくなるようにマッハツェンダ干渉計34の動作点を調
整・制御するため、良好な歪補償状態が安定に得られる
光アナログ伝送装置ならびに光アナログ伝送システムが
得られる。
【0115】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように構成さ
れているので、以下に示すような効果がある。
れているので、以下に示すような効果がある。
【0116】請求項1の発明によれば、分散を有する光
ファイバによって生じる3次変調歪みを、透過率が波長
によって異なる光学部品を用いて光学的に補償するた
め、高い周波数の信号を入力した場合においても十分な
歪み補償効果が得られ、また、受信装置において歪補償
を行うことができるため、伝送距離の異なる受信装置に
おいても高品質な信号を得ることができる。
ファイバによって生じる3次変調歪みを、透過率が波長
によって異なる光学部品を用いて光学的に補償するた
め、高い周波数の信号を入力した場合においても十分な
歪み補償効果が得られ、また、受信装置において歪補償
を行うことができるため、伝送距離の異なる受信装置に
おいても高品質な信号を得ることができる。
【0117】請求項2の発明によれば、分散を有する光
ファイバによって生じる3次変調歪みを、ファブリぺロ
ー干渉計を用いて光学的に補償するため、高い周波数の
信号を入力した場合においても十分な歪み補償効果が得
られる。また、受信装置において歪補償を行うことがで
きるため、伝送距離の異なる受信装置においても高品質
な信号を得ることができる。
ファイバによって生じる3次変調歪みを、ファブリぺロ
ー干渉計を用いて光学的に補償するため、高い周波数の
信号を入力した場合においても十分な歪み補償効果が得
られる。また、受信装置において歪補償を行うことがで
きるため、伝送距離の異なる受信装置においても高品質
な信号を得ることができる。
【0118】請求項3の発明によれば、分散を有する光
ファイバによって生じる3次変調歪みを、プラスチック
からなるソリッドエタロンを用いて光学的に補償するた
め、高い周波数の信号を入力した場合においても十分な
歪み補償効果が得られる。また、受信装置において歪補
償を行うことができるため、伝送距離の異なる受信装置
においても高品質な信号を得ることができる。さらに、
プラスチックからなるソリッドエタロンは、温度に対す
る透過特性(動作点)の変化が大きく、容易に歪み補償
状態が調整できる。
ファイバによって生じる3次変調歪みを、プラスチック
からなるソリッドエタロンを用いて光学的に補償するた
め、高い周波数の信号を入力した場合においても十分な
歪み補償効果が得られる。また、受信装置において歪補
償を行うことができるため、伝送距離の異なる受信装置
においても高品質な信号を得ることができる。さらに、
プラスチックからなるソリッドエタロンは、温度に対す
る透過特性(動作点)の変化が大きく、容易に歪み補償
状態が調整できる。
【0119】請求項4の発明によれば、プラスチックか
らなるソリッドエタロンを熱膨張係数が異なる保持具に
固定するため、温度を変えることによってソリッドエタ
ロンの形状を変え、歪補償状態を容易に調整できる。
らなるソリッドエタロンを熱膨張係数が異なる保持具に
固定するため、温度を変えることによってソリッドエタ
ロンの形状を変え、歪補償状態を容易に調整できる。
【0120】請求項5の発明によれば、ファブリぺロー
干渉計のスペーサとしてプラスチックを用いるため、わ
ずかに温度を変えるだけで歪補償状態を容易に調整でき
る。
干渉計のスペーサとしてプラスチックを用いるため、わ
ずかに温度を変えるだけで歪補償状態を容易に調整でき
る。
【0121】請求項6の発明によれば、分散を有する光
ファイバによって生じる3次変調歪みを、半導体導波路
を用いて光学的に補償するため、高い周波数の信号を入
力した場合においても十分な歪み補償効果が得られる。
また、受信装置において歪補償を行うことができるた
め、伝送距離の異なる受信装置においても高品質な信号
を得ることができる。
ファイバによって生じる3次変調歪みを、半導体導波路
を用いて光学的に補償するため、高い周波数の信号を入
力した場合においても十分な歪み補償効果が得られる。
また、受信装置において歪補償を行うことができるた
め、伝送距離の異なる受信装置においても高品質な信号
を得ることができる。
【0122】請求項7の発明によれば、分散を有する光
ファイバによって生じる3次変調歪みを、フォトダイオ
ードと集積化された半導体導波路を用いて光学的に補償
するため、高い周波数の信号を入力した場合においても
十分な歪み補償効果が得られる。また、受信装置におい
て歪補償を行うことができるため、伝送距離の異なる受
信装置においても高品質な信号を得ることができる。
ファイバによって生じる3次変調歪みを、フォトダイオ
ードと集積化された半導体導波路を用いて光学的に補償
するため、高い周波数の信号を入力した場合においても
十分な歪み補償効果が得られる。また、受信装置におい
て歪補償を行うことができるため、伝送距離の異なる受
信装置においても高品質な信号を得ることができる。
【0123】請求項8の発明によれば、分散を有する光
ファイバによって生じる3次変調歪みを、ファイバグレ
ーティングを用いて光学的に補償するため、高い周波数
の信号を入力した場合においても十分な歪み補償効果が
得られる。また、受信装置において歪補償を行うことが
できるため、伝送距離の異なる受信装置においても高品
質な信号を得ることができる。
ファイバによって生じる3次変調歪みを、ファイバグレ
ーティングを用いて光学的に補償するため、高い周波数
の信号を入力した場合においても十分な歪み補償効果が
得られる。また、受信装置において歪補償を行うことが
できるため、伝送距離の異なる受信装置においても高品
質な信号を得ることができる。
【0124】請求項9の発明によれば、分散を有する光
ファイバによって生じる3次変調歪みを、マッハツェン
ダ干渉計を用いて光学的に補償するため、高い周波数の
信号を入力した場合においても十分な歪み補償効果が得
られる。また、受信装置において歪補償を行うことがで
きるため、伝送距離の異なる受信装置においても高品質
な信号を得ることができる。
ファイバによって生じる3次変調歪みを、マッハツェン
ダ干渉計を用いて光学的に補償するため、高い周波数の
信号を入力した場合においても十分な歪み補償効果が得
られる。また、受信装置において歪補償を行うことがで
きるため、伝送距離の異なる受信装置においても高品質
な信号を得ることができる。
【0125】請求項10の発明によれば、半導体導波路
に流す電流を調整することによって歪補償状態を容易に
調整することができる。
に流す電流を調整することによって歪補償状態を容易に
調整することができる。
【0126】請求項11の発明によれば、半導体導波路
に印加する電圧を調整することによって歪補償状態を容
易に調整することができる。
に印加する電圧を調整することによって歪補償状態を容
易に調整することができる。
【0127】請求項12の発明によれば、波長によって
透過率の異なる光学部品の側面にヒータを設けるため、
ヒータによって熱を加えることによって歪補償状態を容
易に調整できる。
透過率の異なる光学部品の側面にヒータを設けるため、
ヒータによって熱を加えることによって歪補償状態を容
易に調整できる。
【0128】請求項13の発明によれば、波長によって
透過率の異なる光学部品からの透過光の信号帯域外の3
次変調歪みが小さくなるように制御するため、良好な歪
補償状態が安定に得られる。
透過率の異なる光学部品からの透過光の信号帯域外の3
次変調歪みが小さくなるように制御するため、良好な歪
補償状態が安定に得られる。
【0129】請求項14の発明によれば、波長によって
透過率の異なる光学部品からの透過光出力が小さくなる
ように制御するため、良好な歪補償状態が安定に得られ
る。
透過率の異なる光学部品からの透過光出力が小さくなる
ように制御するため、良好な歪補償状態が安定に得られ
る。
【0130】請求項15の発明によれば、波長によって
透過率の異なる光学部品からの反射光の変調歪みが大き
くなるように制御するため、良好な歪補償状態が安定に
得られる。
透過率の異なる光学部品からの反射光の変調歪みが大き
くなるように制御するため、良好な歪補償状態が安定に
得られる。
【0131】請求項16の発明によれば、波長によって
透過率の異なる光学部品からの反射光出力が大きくなる
ように制御するため、良好な歪補償状態が安定に得られ
る。
透過率の異なる光学部品からの反射光出力が大きくなる
ように制御するため、良好な歪補償状態が安定に得られ
る。
【図1】 この発明の実施例1を示す構成図である。
【図2】 この発明の実施例1の動作を説明するため
の、透過率が波長によって異なる光学部品によって生じ
る変調歪みの説明図である。
の、透過率が波長によって異なる光学部品によって生じ
る変調歪みの説明図である。
【図3】 この発明の実施例2を示すファブリペロー干
渉計の説明図である。
渉計の説明図である。
【図4】 この発明の実施例3を示す、プラスチックか
らなるソリッドエタロンの説明図である。
らなるソリッドエタロンの説明図である。
【図5】 この発明の実施例4を示す、プラスチックか
らなるソリッドエタロンの実装構造図である。
らなるソリッドエタロンの実装構造図である。
【図6】 この発明の実施例5を示す、プラスチックか
らなるスペーサを有するファブリペロー干渉計の説明図
である。
らなるスペーサを有するファブリペロー干渉計の説明図
である。
【図7】 この発明の実施例6を示す、入出力面に反射
部を有する半導体導波路の説明図である。
部を有する半導体導波路の説明図である。
【図8】 この発明の実施例7を示す、フォトダイオー
ドと集積化された半導体導波路の説明図である。
ドと集積化された半導体導波路の説明図である。
【図9】 この発明の実施例8を示すファイバグレーテ
ィングの説明図である。
ィングの説明図である。
【図10】 この発明の実施例9を示すマッハツェンダ
干渉計の説明図である。
干渉計の説明図である。
【図11】 この発明の実施例10を示す、電流による
歪補償状態調整法の説明図である。
歪補償状態調整法の説明図である。
【図12】 この発明の実施例11を示す、電圧による
歪補償状態調整法の説明図である。
歪補償状態調整法の説明図である。
【図13】 この発明の実施例12を示す、ヒータによ
る歪補償状態調整法の説明図である。
る歪補償状態調整法の説明図である。
【図14】 この発明の実施例13を示す、ヒータによ
る歪補償状態調整法の説明図である。
る歪補償状態調整法の説明図である。
【図15】 この発明の実施例14を示す歪補償状態制
御法の説明図である。
御法の説明図である。
【図16】 この発明の実施例15を示す歪補償状態制
御法の説明図である。
御法の説明図である。
【図17】 この発明の実施例16を示す歪補償状態制
御法の説明図である。
御法の説明図である。
【図18】 この発明の実施例17を示す歪補償状態制
御法の説明図である。
御法の説明図である。
【図19】 この発明の実施例18を示す歪補償状態制
御法の説明図である。
御法の説明図である。
【図20】 この発明の実施例19を示す歪補償状態制
御法の説明図である。
御法の説明図である。
【図21】 この発明の実施例20を示す歪補償状態制
御法の説明図である。
御法の説明図である。
【図22】 従来の分散を有する光ファイバによって生
じる3次変調歪みを補償するための電気回路図である。
じる3次変調歪みを補償するための電気回路図である。
1 半導体レーザ、2 フォトダイオード、3 分散を
有する光ファイバ、4 光学部品、5 透過率、6 チ
ャーピング、7 ファブリペロー干渉計、8 反射面、
9 透過率、10 ソリッドエタロン、11 反射面、
12 透過率、13 形状、14 保持具、15 形
状、16 ソリッドエタロンの室温における透過率、1
7 ソリッドエタロンの温度を変えたときの透過率、1
8 ファブリペロー干渉計、19 反射面、20 スペ
ーサ、21 半導体導波路、22 導波路、23 反射
部、24 透過率、25 半導体フィルタ、26 導波
路、27 グレーティング、28 透過率、29 集積
化素子、30 ファイバグレーティング、31 光ファ
イバ、32 グレーティング、33 透過率、34 マ
ッハツェンダ干渉計、35 分岐部、36 合波部、3
7 光信号伝送導波路、38 遅延導波路、39 透過
率、40 電極、41 電流、42 電流を変える前の
半導体導波路の透過率、43 電流を変えた後の半導体
導波路の透過率、44 電圧、45 電圧を変える前の
半導体導波路の透過率、46 電圧を変えた後の半導体
導波路の透過率、47 ヒータ、48 ヒータで温度を
変える前のファブリペロー干渉計の透過率、49 ヒー
タで温度を変えた後のファブリペロー干渉計の透過率、
50 ヒータ、51 ヒータで温度を変える前のマッハ
ツェンダ干渉計の透過率、52 ヒータで温度を変えた
後のマッハツェンダ干渉計の透過率、53 フォトダイ
オード、54 動作点調整手段、55 動作点変調手
段、56 歪補償状態制御手段、57 透過率、58
3次変調歪み、59 良好な歪補償が得られる動作点の
範囲、60 動作点、61 動作点の変調信号、62
3次変調歪みの変化、63 フォトダイオード、64
歪補償状態制御手段、65 良好な歪補償が得られる動
作点の範囲、66 動作点、67 透過光出力の変化、
68 歪補償状態制御手段、69 反射率、70 3次
変調歪み、71 良好な歪補償が得られる動作点の範
囲、72 動作点、73 3次変調歪みの変化、74
歪補償状態制御手段、75 マッハツェンダ干渉計の光
信号伝送導波路への透過率、76 マッハツェンダ干渉
計の遅延導波路への透過率、77 3次変調歪み、78
良好な歪補償が得られる動作点の範囲、79 動作
点、80 3次変調歪みの変化、81 歪補償状態制御
手段、82 良好な歪補償が得られる動作点の範囲、8
3 動作点、84 反射光出力の変化、85 歪補償状
態制御手段、86 良好な歪補償が得られる動作点の範
囲、87 動作点、88 透過光出力の変化、89 分
波器、90 3乗回路、91 可変減衰器、92 遅延
線路、93 合波器。
有する光ファイバ、4 光学部品、5 透過率、6 チ
ャーピング、7 ファブリペロー干渉計、8 反射面、
9 透過率、10 ソリッドエタロン、11 反射面、
12 透過率、13 形状、14 保持具、15 形
状、16 ソリッドエタロンの室温における透過率、1
7 ソリッドエタロンの温度を変えたときの透過率、1
8 ファブリペロー干渉計、19 反射面、20 スペ
ーサ、21 半導体導波路、22 導波路、23 反射
部、24 透過率、25 半導体フィルタ、26 導波
路、27 グレーティング、28 透過率、29 集積
化素子、30 ファイバグレーティング、31 光ファ
イバ、32 グレーティング、33 透過率、34 マ
ッハツェンダ干渉計、35 分岐部、36 合波部、3
7 光信号伝送導波路、38 遅延導波路、39 透過
率、40 電極、41 電流、42 電流を変える前の
半導体導波路の透過率、43 電流を変えた後の半導体
導波路の透過率、44 電圧、45 電圧を変える前の
半導体導波路の透過率、46 電圧を変えた後の半導体
導波路の透過率、47 ヒータ、48 ヒータで温度を
変える前のファブリペロー干渉計の透過率、49 ヒー
タで温度を変えた後のファブリペロー干渉計の透過率、
50 ヒータ、51 ヒータで温度を変える前のマッハ
ツェンダ干渉計の透過率、52 ヒータで温度を変えた
後のマッハツェンダ干渉計の透過率、53 フォトダイ
オード、54 動作点調整手段、55 動作点変調手
段、56 歪補償状態制御手段、57 透過率、58
3次変調歪み、59 良好な歪補償が得られる動作点の
範囲、60 動作点、61 動作点の変調信号、62
3次変調歪みの変化、63 フォトダイオード、64
歪補償状態制御手段、65 良好な歪補償が得られる動
作点の範囲、66 動作点、67 透過光出力の変化、
68 歪補償状態制御手段、69 反射率、70 3次
変調歪み、71 良好な歪補償が得られる動作点の範
囲、72 動作点、73 3次変調歪みの変化、74
歪補償状態制御手段、75 マッハツェンダ干渉計の光
信号伝送導波路への透過率、76 マッハツェンダ干渉
計の遅延導波路への透過率、77 3次変調歪み、78
良好な歪補償が得られる動作点の範囲、79 動作
点、80 3次変調歪みの変化、81 歪補償状態制御
手段、82 良好な歪補償が得られる動作点の範囲、8
3 動作点、84 反射光出力の変化、85 歪補償状
態制御手段、86 良好な歪補償が得られる動作点の範
囲、87 動作点、88 透過光出力の変化、89 分
波器、90 3乗回路、91 可変減衰器、92 遅延
線路、93 合波器。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G02B 26/02 A G02F 1/35
Claims (16)
- 【請求項1】 伝送される信号の最も高い周波数が、最
も低い周波数の2倍以下である光アナログ伝送システム
において、少なくとも電気信号を光信号に変換する半導
体レーザと、上記半導体レーザの発振波長において分散
を有する光伝送路と、上記半導体レーザからの光信号を
電気信号に変換するフォトダイオードからなり、上記半
導体レーザと上記フォトダイオードの間に波長によって
透過率の異なる光学部品を設け、上記光伝送路において
生じた3次変調歪みを補償することを特徴とする光アナ
ログ伝送システム。 - 【請求項2】 上記波長によって透過率の異なる光学部
品として、ファブリぺロー干渉計を用いることを特徴と
する請求項1記載の光アナログ伝送システム。 - 【請求項3】 上記波長によって透過率の異なる光学部
品として、プラスチックからなるソリッドエタロンを用
いることを特徴とする請求項1記載の光アナログ伝送シ
ステム。 - 【請求項4】 上記プラスチックからなるソリッドエタ
ロンの側面の一部を、ソリッドエタロンの熱膨張係数と
異なる熱膨張係数の保持具に固定することを特徴とする
請求項3記載の光アナログ伝送システム。 - 【請求項5】 上記ファブリぺロー干渉計として、対向
する2つの反射面の間隔をプラスチックにより設定した
ファブリぺロー干渉計を用いることを特徴とする請求項
2記載の光アナログ伝送システム。 - 【請求項6】 上記波長によって透過率の異なる光学部
品として、半導体導波路を用いることを特徴とする請求
項1記載の光アナログ伝送システム。 - 【請求項7】 上記半導体導波路を上記フォトダイオー
ドと集積化することを特徴とする請求項6記載の光アナ
ログ伝送システム。 - 【請求項8】 上記波長によって透過率の異なる光学部
品として、ファイバグレーティングを用いることを特徴
とする請求項1記載の光アナログ伝送システム。 - 【請求項9】 上記波長によって透過率の異なる光学部
品として、マッハツェンダ干渉計を用いることを特徴と
する請求項1記載の光アナログ伝送システム。 - 【請求項10】 上記半導体導波路に流す電流を調整し
て歪補償状態を調整することを特徴とする請求項6また
は請求項7記載の光アナログ伝送システム。 - 【請求項11】 上記半導体導波路に印加する電圧を調
整して歪補償状態を調整することを特徴とする請求項6
または請求項7記載の光アナログ伝送システム。 - 【請求項12】 上記波長によって透過率の異なる光学
部品の温度を、加熱または冷却手段によって調整し、歪
補償状態を調整することを特徴とする請求項1記載の光
アナログ伝送システム。 - 【請求項13】 上記波長によって透過率の異なる光学
部品に入射し、上記フォトダイオードへ伝搬する上記半
導体レーザからの光信号の透過光を受光し、信号を含ま
ない周波数帯域に発生する3次変調歪みが小さくなるよ
うに上記光学部品の動作点を制御することを特徴とする
請求項1記載の光アナログ伝送システム。 - 【請求項14】 上記波長によって透過率の異なる光学
部品に入射し、上記フォトダイオードへ伝搬する上記半
導体レーザからの光信号の透過光を受光し、上記透過光
出力が小さくなるように上記光学部品の動作点を制御す
ることを特徴とする請求項1記載の光アナログ伝送シス
テム。 - 【請求項15】 上記波長によって透過率の異なる光学
部品に入射し、上記光学部品により反射または分岐さ
れ、上記フォトダイオードへ伝搬しない上記半導体レー
ザからの光信号を受光し、上記受光信号の3次変調歪み
が大きくなるように上記光学部品の動作点を制御するこ
とを特徴とする請求項1記載の光アナログ伝送システ
ム。 - 【請求項16】 上記波長によって透過率の異なる光学
部品に入射し、上記光学部品により反射または分岐さ
れ、上記フォトダイオードへ伝搬しない上記半導体レー
ザからの光信号を受光し、上記受光信号が大きくなるよ
うに上記光学部品の動作点を制御することを特徴とする
請求項1記載の光アナログ伝送システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7010671A JPH08204638A (ja) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | 光アナログ伝送システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7010671A JPH08204638A (ja) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | 光アナログ伝送システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08204638A true JPH08204638A (ja) | 1996-08-09 |
Family
ID=11756722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7010671A Pending JPH08204638A (ja) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | 光アナログ伝送システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08204638A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004083914A1 (ja) * | 2003-03-19 | 2004-09-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | 波長フィルタおよび波長モニタ装置 |
| JP2007279534A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光学素子 |
| CN110018130A (zh) * | 2019-04-26 | 2019-07-16 | 中国地质大学(武汉) | 一种基于级联微光纤中三次谐波产生的气体传感器 |
-
1995
- 1995-01-26 JP JP7010671A patent/JPH08204638A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004083914A1 (ja) * | 2003-03-19 | 2004-09-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | 波長フィルタおよび波長モニタ装置 |
| US7283302B2 (en) | 2003-03-19 | 2007-10-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Wavelength filter and wavelength monitor device |
| JP2007279534A (ja) * | 2006-04-11 | 2007-10-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光学素子 |
| CN110018130A (zh) * | 2019-04-26 | 2019-07-16 | 中国地质大学(武汉) | 一种基于级联微光纤中三次谐波产生的气体传感器 |
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