JPH08213202A - 抵抗器 - Google Patents
抵抗器Info
- Publication number
- JPH08213202A JPH08213202A JP7014649A JP1464995A JPH08213202A JP H08213202 A JPH08213202 A JP H08213202A JP 7014649 A JP7014649 A JP 7014649A JP 1464995 A JP1464995 A JP 1464995A JP H08213202 A JPH08213202 A JP H08213202A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistor
- layer
- resistor layer
- trimming groove
- cross
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000009966 trimming Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 59
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Details Of Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】抵抗器において、抵抗体層で発生する熱が少な
く、過負荷が加わった際にも抵抗体層の破壊されること
のない構造を提供すること。 【構成】絶縁基板1上に形成された対向する電極2と、
これら電極2、2間に形成された抵抗体層3と、この抵
抗体層3に形成されたトリミング溝5とを有する抵抗器
であって、抵抗体層3は電極2、2間で厚さの異なる領
域を有し、且つ、トリミング溝5が抵抗体層3の厚さの
最小の領域よりも大きな領域に形成されていることを特
徴とする。
く、過負荷が加わった際にも抵抗体層の破壊されること
のない構造を提供すること。 【構成】絶縁基板1上に形成された対向する電極2と、
これら電極2、2間に形成された抵抗体層3と、この抵
抗体層3に形成されたトリミング溝5とを有する抵抗器
であって、抵抗体層3は電極2、2間で厚さの異なる領
域を有し、且つ、トリミング溝5が抵抗体層3の厚さの
最小の領域よりも大きな領域に形成されていることを特
徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、抵抗器に関し、詳しく
は抵抗器の抵抗体層の形状に関する。
は抵抗器の抵抗体層の形状に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の抵抗器のうちで、チップ型抵抗器
の一般的な構成は図10の平面図及び図11の断面図に
示すように、絶縁基板21の表面の両端部に表面電極2
2が形成され、この表面電極22間に跨って抵抗体層2
3が形成されている。この抵抗体層23の表面の一部に
第1保護層24が形成され、抵抗体層23と共に第1保
護層24の一部を除去して抵抗値調整の為の切り欠き状
のトリミング溝25が形成されている。そして、抵抗体
層23とこれらに接続された表面電極22の部分を覆う
ように第2保護層26が形成されている。尚、表面電極
22にメッキ層27が一部重なっている。更に、絶縁基
板21の裏面の両端部に裏面電極28が形成されてお
り、この裏面電極28と表面電極22を接続するように
側面電極29が形成されている。この裏面電極28及び
側面電極29がメッキ層27で覆われて、チップ型抵抗
器は構成されている。
の一般的な構成は図10の平面図及び図11の断面図に
示すように、絶縁基板21の表面の両端部に表面電極2
2が形成され、この表面電極22間に跨って抵抗体層2
3が形成されている。この抵抗体層23の表面の一部に
第1保護層24が形成され、抵抗体層23と共に第1保
護層24の一部を除去して抵抗値調整の為の切り欠き状
のトリミング溝25が形成されている。そして、抵抗体
層23とこれらに接続された表面電極22の部分を覆う
ように第2保護層26が形成されている。尚、表面電極
22にメッキ層27が一部重なっている。更に、絶縁基
板21の裏面の両端部に裏面電極28が形成されてお
り、この裏面電極28と表面電極22を接続するように
側面電極29が形成されている。この裏面電極28及び
側面電極29がメッキ層27で覆われて、チップ型抵抗
器は構成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】一般的に上述したよう
な従来のチップ型抵抗器では、電極22、22間に形成
される抵抗体層23はほぼ均一な厚みで形成されてお
り、又、抵抗値調整の為のトリミング溝25は抵抗体層
23の任意の位置に形成されている。そのため、抵抗値
を調整するためにトリミング溝25を抵抗体層23を切
除して形成した部分の抵抗体層23の断面積が、抵抗体
層23が形成された時の断面積のままで残っている部分
より、過剰に小さくなってしまう。
な従来のチップ型抵抗器では、電極22、22間に形成
される抵抗体層23はほぼ均一な厚みで形成されてお
り、又、抵抗値調整の為のトリミング溝25は抵抗体層
23の任意の位置に形成されている。そのため、抵抗値
を調整するためにトリミング溝25を抵抗体層23を切
除して形成した部分の抵抗体層23の断面積が、抵抗体
層23が形成された時の断面積のままで残っている部分
より、過剰に小さくなってしまう。
【0004】そのため、トリミング溝25が形成された
抵抗体層23の部分の抵抗値が高くなってしまい、この
部分の電流密度が高くなり熱が発生しやくなる。そし
て、チップ型抵抗器の電極22、22間に過負荷が加わ
ると、トリミング溝25が形成された抵抗体層23の部
分で発生した熱が拡散する余裕もなく急激に発熱し、著
しい場合はチップ型抵抗器が破壊されてしまうという問
題点があった。
抵抗体層23の部分の抵抗値が高くなってしまい、この
部分の電流密度が高くなり熱が発生しやくなる。そし
て、チップ型抵抗器の電極22、22間に過負荷が加わ
ると、トリミング溝25が形成された抵抗体層23の部
分で発生した熱が拡散する余裕もなく急激に発熱し、著
しい場合はチップ型抵抗器が破壊されてしまうという問
題点があった。
【0005】本発明は、上述の問題点に鑑み、抵抗体層
で発生する熱が少なく、過負荷が加わった際にも抵抗体
層の破壊されることのない抵抗器の構造を提供すること
を目的とする。
で発生する熱が少なく、過負荷が加わった際にも抵抗体
層の破壊されることのない抵抗器の構造を提供すること
を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上述の問題点を解決する
ために、本願の請求項1に記載した発明は、絶縁基板上
に形成された対向する電極と、これら電極間に形成され
た抵抗体層と、この抵抗体層に形成されたトリミング溝
とを有する抵抗器であって、前記抵抗体層は前記電極間
で厚さの異なる領域を有し、且つ、前記トリミング溝が
前記抵抗体層の厚さの最小の領域よりも大きな領域に形
成されていることを特徴とする。
ために、本願の請求項1に記載した発明は、絶縁基板上
に形成された対向する電極と、これら電極間に形成され
た抵抗体層と、この抵抗体層に形成されたトリミング溝
とを有する抵抗器であって、前記抵抗体層は前記電極間
で厚さの異なる領域を有し、且つ、前記トリミング溝が
前記抵抗体層の厚さの最小の領域よりも大きな領域に形
成されていることを特徴とする。
【0007】
【発明の作用及び効果】本発明では抵抗器において、抵
抗体層に形成された部分的に厚い領域にトリミング溝を
形成することにより、適正な抵抗値を得てもトリミング
溝の形成された抵抗体層の断面積が過剰に小さくなるこ
とがない。それにより、抵抗器の抵抗体層で発生する熱
が少なくなるだけでなく、たとえ抵抗器に過負荷が加わ
った際であっても、抵抗体層のトリミング溝が形成され
た部分で発生していた熱が減少し、抵抗器が破壊される
のを防止できるだけでなく、抵抗器の耐過負荷特性が向
上するという効果を有する。
抗体層に形成された部分的に厚い領域にトリミング溝を
形成することにより、適正な抵抗値を得てもトリミング
溝の形成された抵抗体層の断面積が過剰に小さくなるこ
とがない。それにより、抵抗器の抵抗体層で発生する熱
が少なくなるだけでなく、たとえ抵抗器に過負荷が加わ
った際であっても、抵抗体層のトリミング溝が形成され
た部分で発生していた熱が減少し、抵抗器が破壊される
のを防止できるだけでなく、抵抗器の耐過負荷特性が向
上するという効果を有する。
【0008】
【実施例】以下本発明の抵抗器を図面を用いて説明す
る。図1は本発明の一実施例のチップ型抵抗器を示す平
面図で、アルミナセラミックよりなる絶縁性の基板1の
表面の両端部に表面電極2が形成されている。この表面
電極2は銀を含むメタルグレーズ系導電ペーストを印刷
しこれを焼成することにより形成されている。対向する
表面電極2間は両端が表面電極2に重なるように抵抗体
層3が形成されている。
る。図1は本発明の一実施例のチップ型抵抗器を示す平
面図で、アルミナセラミックよりなる絶縁性の基板1の
表面の両端部に表面電極2が形成されている。この表面
電極2は銀を含むメタルグレーズ系導電ペーストを印刷
しこれを焼成することにより形成されている。対向する
表面電極2間は両端が表面電極2に重なるように抵抗体
層3が形成されている。
【0009】この抵抗体層3は酸化ルテニウムを含むペ
ーストを基板1上に印刷しこれを焼成することで形成さ
れており、均一な厚みで対向する両表面電極2間に形成
された平坦部3aと、平坦部より厚みが厚く表面電極2
と重ならない位置に形成さた凸部3bとからなる。この
抵抗体層3の凸部3bの表面の一部又は全部を覆うよう
に、第1保護層4が硼硅酸鉛ガラスを含むガラスグレー
ズ系ペーストを印刷しこれを焼成することにより形成さ
れている。この第1保護層4と抵抗体層3の凸部3bを
周知のレーザートリミング方法により切除して抵抗値調
整のトリミング溝5が形成されている。そして、抵抗体
層3とこれに接続された表面電極2の一部を覆うように
エポキシ系樹脂をこれらの上に印刷しこれを硬化させる
ことにより第2保護層6が形成されている。尚、表面電
極2には、一体的にニッケル、半田よりなるメッキ層7
が一部重なっている。更に、図1のA−A’部分の断面
を図2に示すように、絶縁基板1の裏面の両端部には裏
面電極8が銀を含むメタルグレーズ系の導電ペーストを
印刷しこれを焼成することにより形成されている。そし
て、表面電極2と裏面電極8を接続する側面電極9が基
板1の両側面にメタルレジン系ペーストを印刷しこれを
硬化させることにより形成されている。この裏面電極8
及び側面電極9がメッキ層7で覆われて、チップ型抵抗
器は構成されている。
ーストを基板1上に印刷しこれを焼成することで形成さ
れており、均一な厚みで対向する両表面電極2間に形成
された平坦部3aと、平坦部より厚みが厚く表面電極2
と重ならない位置に形成さた凸部3bとからなる。この
抵抗体層3の凸部3bの表面の一部又は全部を覆うよう
に、第1保護層4が硼硅酸鉛ガラスを含むガラスグレー
ズ系ペーストを印刷しこれを焼成することにより形成さ
れている。この第1保護層4と抵抗体層3の凸部3bを
周知のレーザートリミング方法により切除して抵抗値調
整のトリミング溝5が形成されている。そして、抵抗体
層3とこれに接続された表面電極2の一部を覆うように
エポキシ系樹脂をこれらの上に印刷しこれを硬化させる
ことにより第2保護層6が形成されている。尚、表面電
極2には、一体的にニッケル、半田よりなるメッキ層7
が一部重なっている。更に、図1のA−A’部分の断面
を図2に示すように、絶縁基板1の裏面の両端部には裏
面電極8が銀を含むメタルグレーズ系の導電ペーストを
印刷しこれを焼成することにより形成されている。そし
て、表面電極2と裏面電極8を接続する側面電極9が基
板1の両側面にメタルレジン系ペーストを印刷しこれを
硬化させることにより形成されている。この裏面電極8
及び側面電極9がメッキ層7で覆われて、チップ型抵抗
器は構成されている。
【0010】この実施例において抵抗体層3は、平坦部
3aを形成するパターンを有するスクリーンを用いて抵
抗用ペーストを印刷しこれを乾燥させ、その上に凸部3
bを形成するパターンを有するスクリーンを用いて抵抗
用ペーストを印刷しこれを乾燥させ、この後一緒に焼成
することで平坦部3aに凸部3bを有する形状に形成さ
れる。
3aを形成するパターンを有するスクリーンを用いて抵
抗用ペーストを印刷しこれを乾燥させ、その上に凸部3
bを形成するパターンを有するスクリーンを用いて抵抗
用ペーストを印刷しこれを乾燥させ、この後一緒に焼成
することで平坦部3aに凸部3bを有する形状に形成さ
れる。
【0011】尚、この実施例において、抵抗体層の平坦
部3aの断面(図1のB−B’部分の断面)を示す図3
と、抵抗体層3の凸部3bにトリミング溝が形成された
部分の断面(図1のC−C’部分の断面)を示す図4
で、抵抗体層の断面積を比較すると、トリミング溝が形
成された部分の幅は平坦部に対して約半分程度の幅であ
り、一方トリミング溝が形成された部分の厚みは平坦部
に対して約3倍程度である。よって、トリミング溝が形
成された部分の断面積は平坦部の抵抗体層の断面積の約
1.5倍程度となり、トリミング溝が形成された抵抗体
層部分で発生する熱はほとんど無く、チップ型抵抗器に
短時間に過負荷が加わっても、チップ型抵抗器が破壊さ
れることが防止できる。
部3aの断面(図1のB−B’部分の断面)を示す図3
と、抵抗体層3の凸部3bにトリミング溝が形成された
部分の断面(図1のC−C’部分の断面)を示す図4
で、抵抗体層の断面積を比較すると、トリミング溝が形
成された部分の幅は平坦部に対して約半分程度の幅であ
り、一方トリミング溝が形成された部分の厚みは平坦部
に対して約3倍程度である。よって、トリミング溝が形
成された部分の断面積は平坦部の抵抗体層の断面積の約
1.5倍程度となり、トリミング溝が形成された抵抗体
層部分で発生する熱はほとんど無く、チップ型抵抗器に
短時間に過負荷が加わっても、チップ型抵抗器が破壊さ
れることが防止できる。
【0012】一方、図5は本発明の他の実施例のチップ
型抵抗器を示す平面図で、その抵抗体層3は図5のa−
a’部分の断面を図6に示すように、略くさび型に形成
されている点を除き、第1実施例と同様の構成を有す
る。図6の図面視右側の表面電極2a近傍部分が抵抗体
層3の厚みが最小の領域で、図面視左側の表面電極2b
に近傍部分に向かうに従って厚みが増加しており、後述
のトリミング溝は表面電極2b近傍の領域に形成され
る。そしてトリミング溝が形成される領域の抵抗体層3
の表面の一部を覆うように、第1保護層4が硼硅酸鉛ガ
ラスを含むガラスグレーズ系ペーストを印刷しこれを焼
成することにより形成されている。この第1保護層4と
抵抗体層3の一部を周知のレーザートリミング方法によ
り切除して抵抗値調整のトリミング溝5が形成されてい
る。
型抵抗器を示す平面図で、その抵抗体層3は図5のa−
a’部分の断面を図6に示すように、略くさび型に形成
されている点を除き、第1実施例と同様の構成を有す
る。図6の図面視右側の表面電極2a近傍部分が抵抗体
層3の厚みが最小の領域で、図面視左側の表面電極2b
に近傍部分に向かうに従って厚みが増加しており、後述
のトリミング溝は表面電極2b近傍の領域に形成され
る。そしてトリミング溝が形成される領域の抵抗体層3
の表面の一部を覆うように、第1保護層4が硼硅酸鉛ガ
ラスを含むガラスグレーズ系ペーストを印刷しこれを焼
成することにより形成されている。この第1保護層4と
抵抗体層3の一部を周知のレーザートリミング方法によ
り切除して抵抗値調整のトリミング溝5が形成されてい
る。
【0013】この実施例の抵抗体層3は、図7に断面を
模式的に示す方法で形成されている。この方法は前述の
実施例とは異なり、基板1にスクリーンを載せて、抵抗
ペーストの一度の印刷で抵抗体層3が形成される。この
方法に用いられるスクリーンは、金属性のメッシュ10
の表面に紫外線硬化型の樹脂を硬化させこれをエッチン
グにて除去して抵抗体層3の形状にパターン形成された
マスク11よりなる。このマスク11は抵抗体層3の平
面視の形状にパターン形成された平面部11aと、抵抗
体層3に傾斜面が形成されるように平面部11aに一列
おきに形成されている、縦部11bとからなっている。
模式的に示す方法で形成されている。この方法は前述の
実施例とは異なり、基板1にスクリーンを載せて、抵抗
ペーストの一度の印刷で抵抗体層3が形成される。この
方法に用いられるスクリーンは、金属性のメッシュ10
の表面に紫外線硬化型の樹脂を硬化させこれをエッチン
グにて除去して抵抗体層3の形状にパターン形成された
マスク11よりなる。このマスク11は抵抗体層3の平
面視の形状にパターン形成された平面部11aと、抵抗
体層3に傾斜面が形成されるように平面部11aに一列
おきに形成されている、縦部11bとからなっている。
【0014】尚、この実施例において、抵抗体層3の厚
さの最も小さい領域の断面(図5のb−b’部分の断
面)を示す図8と、トリミング溝が形成された領域の断
面(図5のc−c’部分の断面)を示す図9で、抵抗体
層3の断面積を比較すると、トリミング溝が形成された
部分の幅は平坦部に対して約半分程度の幅であり、一方
トリミング溝が形成された部分の厚みは平坦部に対して
約1.7倍程度である。よって、平坦部の抵抗体層の断
面積はトリミング溝が形成された部分の断面積の約80
%程度の大きさで、トリミング溝が形成された抵抗体層
部分で熱が発生しにくく、チップ型抵抗器に短時間に過
負荷が加わっても、チップ型抵抗器が破壊されることが
防止できる。
さの最も小さい領域の断面(図5のb−b’部分の断
面)を示す図8と、トリミング溝が形成された領域の断
面(図5のc−c’部分の断面)を示す図9で、抵抗体
層3の断面積を比較すると、トリミング溝が形成された
部分の幅は平坦部に対して約半分程度の幅であり、一方
トリミング溝が形成された部分の厚みは平坦部に対して
約1.7倍程度である。よって、平坦部の抵抗体層の断
面積はトリミング溝が形成された部分の断面積の約80
%程度の大きさで、トリミング溝が形成された抵抗体層
部分で熱が発生しにくく、チップ型抵抗器に短時間に過
負荷が加わっても、チップ型抵抗器が破壊されることが
防止できる。
【0015】本発明は上述の実施例に記載のチップ型抵
抗器に特に限定されるものではなく、チップ型ネットワ
ーク抵抗器に用いられても良く、又、抵抗体層の保護層
が2層のチップ抵抗器を示したが、保護層が3層からな
る抵抗器に用いても良い。そして、抵抗体層の形成方法
は抵抗体層に部分的に厚みの異なる領域が形成可能な方
法で有れば、特に厚膜に限定されるものではなく、薄膜
等の手段で形成されても良く、又、トリミング溝の形成
方法は特にレーザートリミング限定されるものではな
く、サンドブラスト等の他の方法で形成しても良い。
抗器に特に限定されるものではなく、チップ型ネットワ
ーク抵抗器に用いられても良く、又、抵抗体層の保護層
が2層のチップ抵抗器を示したが、保護層が3層からな
る抵抗器に用いても良い。そして、抵抗体層の形成方法
は抵抗体層に部分的に厚みの異なる領域が形成可能な方
法で有れば、特に厚膜に限定されるものではなく、薄膜
等の手段で形成されても良く、又、トリミング溝の形成
方法は特にレーザートリミング限定されるものではな
く、サンドブラスト等の他の方法で形成しても良い。
【0016】尚、本発明の抵抗器は上述の実施例に記載
の形状及び材料、方法等に特に限定されるものではな
い。
の形状及び材料、方法等に特に限定されるものではな
い。
【図1】本発明のチップ型抵抗器の一実施例を示す平面
図
図
【図2】図1に示す本発明の一実施例のチップ型抵抗器
のA−A’断面図
のA−A’断面図
【図3】図1に示す本発明の一実施例のチップ型抵抗器
のB−B’断面図
のB−B’断面図
【図4】図1に示す本発明の一実施例のチップ型抵抗器
のC−C’断面図
のC−C’断面図
【図5】本発明のチップ型抵抗器の他の実施例を示す平
面図
面図
【図6】図5に示す本発明の他の実施例のチップ型抵抗
器のa−a’断面図
器のa−a’断面図
【図7】図5に示す本発明の他の実施例のチップ型抵抗
器の抵抗体層の製造を模式的に示す断面図
器の抵抗体層の製造を模式的に示す断面図
【図8】図5に示す本発明の他の実施例のチップ型抵抗
器のb−b’断面図
器のb−b’断面図
【図9】図5に示す本発明の他の実施例のチップ型抵抗
器のc−c’断面図
器のc−c’断面図
【図10】従来のチップ型抵抗器を示す平面図
【図11】図10に示す従来のチップ型抵抗器のX−
X’断面図
X’断面図
【符号の説明】 1・・・・基板 2・・・・表面電極 3・・・・抵抗体層 4・・・・第1保護層 5・・・・トリミング溝 6・・・・第2保護層 7・・・・メッキ層 8・・・・裏面電極 9・・・・側面電極 10・・・メッシュ 11・・・マスク
Claims (1)
- 【請求項1】 絶縁基板上に形成された対向する電極
と、これら電極間に形成された抵抗体層と、この抵抗体
層に形成されたトリミング溝とを有する抵抗器であっ
て、 前記抵抗体層は前記電極間で厚さの異なる領域を有し、
且つ、前記トリミング溝が前記抵抗体層の厚さの最小の
領域よりも大きな領域に形成されていることを特徴とす
る抵抗器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7014649A JPH08213202A (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | 抵抗器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7014649A JPH08213202A (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | 抵抗器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08213202A true JPH08213202A (ja) | 1996-08-20 |
Family
ID=11867057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7014649A Pending JPH08213202A (ja) | 1995-01-31 | 1995-01-31 | 抵抗器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08213202A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7132628B2 (en) * | 2004-03-10 | 2006-11-07 | Watlow Electric Manufacturing Company | Variable watt density layered heater |
| US7158718B2 (en) * | 2000-06-14 | 2007-01-02 | Watlow Electric Manufacturing Company | Electric heating device |
| US7755467B2 (en) | 2005-08-18 | 2010-07-13 | Rohm Co., Ltd. | Chip resistor |
| JP2024059518A (ja) * | 2022-10-18 | 2024-05-01 | 太陽社電気株式会社 | チップ抵抗器 |
-
1995
- 1995-01-31 JP JP7014649A patent/JPH08213202A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7158718B2 (en) * | 2000-06-14 | 2007-01-02 | Watlow Electric Manufacturing Company | Electric heating device |
| US7132628B2 (en) * | 2004-03-10 | 2006-11-07 | Watlow Electric Manufacturing Company | Variable watt density layered heater |
| US7755467B2 (en) | 2005-08-18 | 2010-07-13 | Rohm Co., Ltd. | Chip resistor |
| JP2024059518A (ja) * | 2022-10-18 | 2024-05-01 | 太陽社電気株式会社 | チップ抵抗器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4780689B2 (ja) | チップ抵抗器 | |
| JPH08213202A (ja) | 抵抗器 | |
| JP4745027B2 (ja) | チップ抵抗器の製造方法 | |
| JP2002367818A (ja) | チップ形抵抗器 | |
| JP2005085865A (ja) | 抵抗器およびチップ状電子部品の製造方法 | |
| JPH0795483B2 (ja) | 厚膜抵抗素子の製造方法 | |
| JP3134067B2 (ja) | 低抵抗チップ抵抗器及びその製造方法 | |
| JP2002353001A (ja) | 厚膜型チップ抵抗器 | |
| JP2741762B2 (ja) | 感温抵抗器およびその製造方法 | |
| JP3121325B2 (ja) | チップ型抵抗器の構造 | |
| TWI801227B (zh) | 晶片零件 | |
| JP7849726B2 (ja) | チップ抵抗器の製造方法 | |
| JP2000030903A (ja) | チップ型部品 | |
| JPH04214601A (ja) | 機能修正用角形チップ抵抗器およびその製造方法 | |
| JP3651179B2 (ja) | 抵抗器の製造方法 | |
| JPH10321404A (ja) | 抵抗器およびその製造方法 | |
| JP3353037B2 (ja) | チップ抵抗器 | |
| JP3172673B2 (ja) | チップ抵抗器の製造方法 | |
| JPH11111513A (ja) | チップ抵抗器の製造方法 | |
| JPH11307304A (ja) | チップ抵抗器及びその製造方法 | |
| JP2002208502A (ja) | チップ抵抗器及びその製造方法 | |
| JP2000188204A (ja) | 抵抗器およびその製造方法 | |
| JP2025035231A (ja) | 絶縁基板 | |
| JPH08330115A (ja) | ネットワーク電子部品 | |
| JP4513166B2 (ja) | インダクタンス素子の製造方法 |