JPH08215540A - 酸化エチレン除去装置 - Google Patents

酸化エチレン除去装置

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JPH08215540A
JPH08215540A JP7023130A JP2313095A JPH08215540A JP H08215540 A JPH08215540 A JP H08215540A JP 7023130 A JP7023130 A JP 7023130A JP 2313095 A JP2313095 A JP 2313095A JP H08215540 A JPH08215540 A JP H08215540A
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JP
Japan
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tower
ethylene oxide
gas
adsorption
exhaust gas
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Pending
Application number
JP7023130A
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English (en)
Inventor
Yoshifumi Kameyama
欽史 亀山
Hiroyuki Miyaji
宏幸 宮地
Bunshiro Tomita
文四郎 富田
Akio Kajiwara
明夫 梶原
Ichiro Inoue
市郎 井上
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EKIKA TANSAN KK
Original Assignee
EKIKA TANSAN KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来よりもずっと小型でありながら、滅菌ガ
ス中の酸化エチレン濃度を1ppm以下まで確実に低下
させることのできる、酸化エチレン除去装置を提供する
ことを目的とする。 【構成】 酸化エチレンガス滅菌器から排出される排気
ガスから酸化エチレンを除去するための装置であって、
2本以上の直列に接続された吸着塔11、12、13を
有し、酸化エチレン濃度の高い排気ガスは最も上流側の
第1塔11に導入され、酸化エチレン濃度の低い排気ガ
スはより下流側の吸着塔12に導入されることを特徴と
する酸化エチレン除去装置に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、酸化エチレン(EO)ガス滅菌
器から排出される高濃度のEOを含む滅菌ガスからEO
を除去するための除去装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、EOガス滅菌器から排出される滅
菌ガスは、無処理のまま大気に放出するか、或いは、大
型の滅菌器の場合は、水封式ポンプにより水に拡散廃棄
するか、或いは希硫酸等の吸収剤に吸収させEOをエチ
レングリコールに変えるか、又は活性炭等の吸着剤にE
Oを吸着させ除去することが一般的であった。
【0003】
【発明の解決しようとする課題】しかし、EO濃度15
〜20%とEO濃度の高い滅菌ガスを無処理のまま大気
に放出することは、環境衛生上問題がある。又、吸収剤
や吸着剤によりEOを吸収或いは吸着する方法において
は、吸収・吸着剤の吸収・吸着効率が余り良くないた
め、EOを20%近く含んでいる滅菌ガスからEOを除
去してEOの濃度を数ppm程度に下げるためには、装
置が大型化するという問題があった。
【0004】ところで、EOガス滅菌器においては、滅
菌後、内部を減圧にして滅菌ガスを排出した後、清浄な
空気を導入して内部を置換し、再び内部を減圧にして空
気を排出する。これをエアレーションという。この操作
を何度も繰り返す。
【0005】このエアレーション時の排気ガス(以下
「エアレーションガス」という)のEO濃度は、最初の
数回はかなり高いものの、4〜5回目以降は1%以下に
低下し、殆ど空気からなるガスになる。
【0006】EOガス滅菌器からの排気ガス中のEO濃
度の例として、チャンバーの容量が38LのEOガス滅
菌器から排気した滅菌ガス及びエアレーションガス中の
EO濃度を表1に示す。
【0007】
【表1】
【0008】表1からも、滅菌ガスのEO濃度は15%
と高く、又、1〜3回目のエアレーション時のエアレー
ションガスのEO濃度も7〜2%と高いのに対し、4回
目以降のエアレーションガスのEO濃度は1%以下と低
くなっていることが判る。
【0009】本発明は、2以上の直列に接続された吸着
塔を有する酸化エチレン除去装置において、滅菌ガスや
2〜3回目までのエアレーションガスのようにEO濃度
の高い排気ガスを最も上流側の吸着塔に導入し、4〜5
回目以降のエアレーションガスのようにEO濃度の低い
排気ガスを、より下流側の吸着塔に導入することによ
り、従来よりもずっと小型でありながら、滅菌ガス中の
EOの濃度を1ppm以下まで確実に低下させることの
できる、酸化エチレン除去装置を提供することを目的と
する。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、(a) 2本以上
の直列に接続された吸着塔11、12・・・を有し、
(b) EO濃度の高い排気ガスは第1塔である吸着塔11
に導入され、EO濃度の低い排気ガスは第2塔若しくは
それよりも下流側の1又は2以上の吸着塔に導入され
る、ことを特徴とする酸化エチレン除去装置に関する。
【0011】ここで、EO濃度の高い排気ガスとは、E
O濃度が1%を越える排気ガスをいい、EO濃度の低い
排気ガスとは、EO濃度1%以下の排気ガスをいう。
【0012】本発明の酸化エチレン除去装置において、
第1塔とは、吸着塔11、12・・・の内で最も上流側
即ち最もEOガス滅菌器側の吸着塔であり、第2塔と
は、第1塔の次の吸着塔であり、最終塔はEOガス滅菌
器からみて最も下流側に接続された塔である。従って、
吸着塔が2本の場合は第2塔が最終塔となり、吸着塔が
3本の場合は第3塔が最終塔となる。
【0013】本発明の酸化エチレン除去装置は、2本以
上の直列に接続された吸着塔11、12・・・の間の接
続を切替える切替手段4を有していてもよい。切替手段
4は、例えばそれまで第1塔であった吸着塔11を交換
する際、それまで第2塔であった吸着塔12が第1塔と
なり、新たに交換した吸着塔が最終塔となるように吸着
塔間の接続を切替える。
【0014】
【作用】本発明の酸化エチレン除去装置においては、E
O濃度の高い排気ガスは第1塔に導入され、第1塔から
排気された排気ガスは第2塔に導入される。EO濃度の
低い排気ガスは第2塔又はそれより下流の吸着塔に直接
導入する。
【0015】第1塔に導入された排気ガス中のEOは、
ここで殆ど吸着される。但し第1塔が交換時期に近付く
とEOが若干吸着されずに排出されるが、このEOも第
2塔においてほぼ完全に除去される。第2塔からの滅菌
ガスは更に第3塔に導入され、最終的にはEO濃度1p
pm以下にまで、EOが除去される。
【0016】又、EO濃度の低い排気ガスは第1塔に導
入しないので、EO濃度の低い排気ガスにより第1塔で
吸着されたEOが脱着し、それが第2塔以降の吸着塔に
流入することがない。
【0017】尚、切替手段4を有する酸化エチレン除去
装置においては、第1塔を新しいものに交換すると、切
替手段4が作動して、それまで第2塔であった吸着塔が
第1塔となり、新たに交換した吸着塔が最終塔となるよ
うに、各々の吸着塔を移動させる。
【0018】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の酸化エチレン
除去装置について説明する。
【0019】図1は、本発明の酸化エチレン除去装置の
一例であって3本の吸着塔を有するものを示すフローチ
ャートである。図1の酸化エチレン除去装置において
は、吸着塔11が第1塔、吸着塔12が第2塔、吸着塔
13が第3塔である。
【0020】図2は、本発明の酸化エチレン除去装置で
あって、3本の吸着塔及び切替手段4を有するものの例
である。図2の装置においては、切替手段4は、吸着塔
を横手方向にスライドさせて接続を切替えるタイプのも
のであり、吸着塔はやはり第1塔11、第2塔12及び
第3塔13の3本である。吸着塔は、図1の装置同様、
円筒形である。
【0021】図中、11、12、13は吸着塔を示し、
2は圧力スイッチ、3は滅菌ガスやエアレーションガス
を導入するための配管を示す。4は切替手段、5はタイ
マー、6はEOガスセンサー、7は流路切替バルブであ
る。
【0022】以下、図1及び2に示す酸化エチレン除去
装置の各部分について説明する。
【0023】先ず、吸着塔11、12、13について説
明する。吸着塔は、これらの実施例の酸化エチレン除去
装置においては、11、12及び13の3本であるが、
3本には限定されず、2本であっても、4本以上であっ
てもよい。特に好ましい本数は3〜5本の範囲である。
【0024】吸着塔としては、例えば、円筒に吸着剤を
充填したものが用いられる。吸着塔に充填し得る吸着剤
としては、例えばシリカゲル、活性炭、ゼオライト、希
硫酸、水等、各種のものが可能であるが、吸着能力が高
い点から10〜20メッシュのシリカゲルが最も好まし
い。
【0025】吸着塔の容積は、滅菌ガス及びエアレーシ
ョンガスの導入速度及びEOガス滅菌器の容量に応じて
決めれば良いが、1〜10リットルの範囲が好ましく、
特に2〜7リットルの範囲が好ましい。容量10〜10
0リットル程度の小型滅菌器の場合であれば、ガスの流
入速度を1cm/sec以下として、吸着塔の容積は5
リットル程度とすればよい。
【0026】吸着塔11、12、13は、3本とも容量
や形式、吸着剤の種類が同一であってもよいし、互いに
異なっていてもよい。
【0027】圧力スイッチ2は、EOガス滅菌器からの
滅菌ガスやエアレーションガスの圧力を検知して、酸化
エチレン除去装置を作動させるためのものであり、当業
者に公知の各種の圧力スイッチを用いることができる。
【0028】配管3は、表示しないEOガス滅菌器と吸
着塔、及び吸着塔間を接続する配管である。この配管を
通して、吸着塔に滅菌ガスやエアレーションガスを供給
する。図1及び図2の装置において、配管3は装置に固
定されている。
【0029】次ぎに切替手段4について説明する。図2
は、上にも述べたように切替手段4を有する酸化エチレ
ン除去装置の一例を示したものである。この図の装置の
切替手段4は、円筒形の吸着塔を横手方向にスライドさ
せ、吸着塔間の接続を切替えるタイプのものである。切
替手段4としては、この他、吸着塔を取り付けたテーブ
ルを回転させて切替えるタイプのものや、配管、吸着塔
とも固定しておき、切替バルブで配管を切替えるタイプ
のものも可能である。又、吸着塔間の接続の切替だけで
なく吸着塔11そのものの交換も自動的に行われるよう
にしてもよい。更に、切替手段4は手動で作動するよう
にしてもよい。
【0030】流路切替バルブ7は、滅菌ガスや1〜3回
目のエアレーション時のエアレーションガス等のEO濃
度の高い排気ガスの流入時と、4回目以降のエアレーシ
ョン時のエアレーションガス等EO濃度の低い排気ガス
の流入時とで、上述したようにガスの流入経路を切替え
るためのものである。流路切替バルブ7は、タイマーで
作動するようにしてもよい。又、装置に流入する排気ガ
スやエアレーションガス中のEO濃度をEOガスセンサ
ーで検出し、EO濃度が一定値未満、例えば2%未満に
なったときに、EOガスセンサーからの出力で作動する
ようにしてもよい。
【0031】以下、図1及び図2の装置の動作について
詳しく説明する。
【0032】最初に図1の装置について動作を説明す
る。
【0033】図中に表示の無いEOガス滅菌器から滅菌
ガス及びエアレーションガスが排出されると、その圧力
を圧力スイッチ2が検知し、流路切替バルブ7が作動
し、滅菌ガスやエアレーションガスが吸着塔11に導入
される。吸着塔11を通った滅菌ガスは吸着塔12、次
いで吸着塔13を通ってEOを除去されたのち排出され
る。
【0034】3回目のエアレ−ション終了後、タイマー
5で流路切替バルブ7が切替えられ、エアレーションガ
スは今度は吸着塔12に導入される。吸着塔12に導入
されたエアレーションガスは次いで吸着塔13に導入さ
れ、EOを除去されたのち排出される。
【0035】図2の装置においても、吸着塔11、1
2、13、圧力スイッチ2、タイマー5及び流路切替バ
ルブ7の動作は図1の装置と同様である。しかし、吸着
塔12の下流側及び吸着塔13の下流側に設けられたE
Oガスセンサー6のいずれかが、一定値以上、例えば吸
着塔12の下流側のEOガスセンサーであれば20pp
m、吸着塔13の下流側のEOガスセンサーであれば1
ppmより高いEO濃度を検出した場合に、図示してい
ない警報装置が鳴動する。このとき、第1塔である吸着
塔11を交換すると、切替手段4が作動し、吸着塔12
が第1塔に、吸着塔13が第2塔に、そして新品に交換
した吸着塔11が第3塔即ち最終塔となるように、各吸
着塔が移動する。
【0036】以下、本発明の酸化エチレン除去装置を用
いて、EOガス滅菌器からの滅菌ガス及びエアレーショ
ンガスを処理した例について説明する。
【0037】[実施例1]図1に示す酸化エチレン除去
装置を用いて、チャンバー容量38リットルのEOガス
滅菌器からの滅菌ガス及びエアレーションガスを処理し
た。装置は3本の吸着塔を有し、各々の吸着塔には、カ
ートリッジ式(外径150mm、高さ300mm)にシ
リカゲル4kgを詰めたものを用いた。滅菌は表2に示
す条件、工程で行い、これを1工程即ち滅菌回数1回と
した。
【0038】
【表2】
【0039】1ppm以上のEOが破過されるまでの滅
菌回数は、23回であった。
【0040】[比較例1]実施例1と同様の吸着塔を3
本直列に接続した酸化エチレン除去装置の第1塔に滅菌
ガス及びエアレーションガスのいずれも導入した。滅菌
条件は上記表2に示す条件、工程で行った。1ppm以
上のEOが破過されるまでの滅菌回数は、10回に過ぎ
なかった。
【0041】[実施例2]図2に示す酸化エチレン除去
装置を用いて、チャンバー容量38リットルのEOガス
滅菌器からの滅菌ガス及びエアレーションガスを処理し
た。用いた吸着塔及び滅菌条件は実施例1と同様であ
る。その結果、1ppm以上のEOが破過されるまでの
滅菌回数は、吸着塔1本につき23回であり、吸着塔3
本を交換するまでの間に69回分の滅菌ガス及びエアレ
ーションガスを処理することができた。
【0042】
【発明の効果】本発明の酸化エチレン除去装置は、EO
ガス滅菌器からの滅菌ガス及びエアレーションガスか
ら、濃度1ppm以下までEOを除去できる。又、単に
吸着塔を直列に接続した酸化エチレン除去装置と比較
し、同じ本数の吸着塔を有する装置であれば、吸着塔を
交換するまで、より多くの回数の滅菌回数において滅菌
ガス及びエアレーションガスを処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の酸化エチレン除去装置の一例であって
3本の吸着塔を有するものを示すフローチャート。
【図2】本発明の酸化エチレン除去装置の一例であっ
て、3本の吸着塔及び切替手段4を有するものを示すフ
ローチャート。
【符号の説明】
11、12、13 吸着塔 2 圧力スイッチ 3 配管 4 切替手段 5 タイマー 6 EOガスセンサー 7 流路切替バルブ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梶原 明夫 東京都北区赤羽2丁目51番3号 液化炭酸 株式会社内 (72)発明者 井上 市郎 埼玉県久喜市清久町1丁目2番 液化炭酸 株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 酸化エチレンガス滅菌器から排出される
    排気ガスから酸化エチレンを除去するための装置であっ
    て、 (a) 2本以上の直列に接続された吸着塔を有し、 (b) 酸化エチレン濃度の高い排気ガスは第1塔に導入さ
    れ、酸化エチレン濃度の低い排気ガスは、より下流側の
    1又は2以上の吸着塔に導入される、ことを特徴とする
    酸化エチレン除去装置。
  2. 【請求項2】 酸化エチレンガス滅菌器から排出される
    排気ガスから酸化エチレンを除去するための装置であっ
    て、 (a) 2本以上の直列に接続された吸着塔を有し、 (b) 酸化エチレン濃度の高い排気ガスは第1塔に導入さ
    れ、酸化エチレン濃度の低い排気ガスは、より下流側の
    1又は2以上の吸着塔に導入され、且つ (c) 第1塔の吸着塔を交換する際、吸着塔間の接続を、
    それまで第2塔であった吸着塔が第1塔になり、新たに
    交換した吸着塔が最終塔になるように切替えるための切
    替手段を有する、ことを特徴とする請求項1に記載の酸
    化エチレン除去装置。
  3. 【請求項3】 吸着塔にガスを導入する配管は固定配管
    であり、吸着塔を移動させることにより吸着塔間の接続
    を切替える請求項2に記載の酸化エチレン除去装置。
  4. 【請求項4】 吸着塔が、吸着剤として10〜20メッ
    シュのシリカゲルを充填した吸着塔である、請求項1〜
    3のいずれかに記載の酸化エチレン除去装置。
JP7023130A 1995-02-10 1995-02-10 酸化エチレン除去装置 Pending JPH08215540A (ja)

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JP7023130A JPH08215540A (ja) 1995-02-10 1995-02-10 酸化エチレン除去装置

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999061137A1 (en) * 1998-05-26 1999-12-02 Shimakawa Seisakusyo Co., Ltd. Device and method for cleaning noxious gas
US6743402B2 (en) 1998-05-26 2004-06-01 Kenzo Shimakawa Purifier of noxious gas and method for manufacturing the same
JP2018149509A (ja) * 2017-03-14 2018-09-27 大陽日酸株式会社 酸化エチレン除去方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1999061137A1 (en) * 1998-05-26 1999-12-02 Shimakawa Seisakusyo Co., Ltd. Device and method for cleaning noxious gas
US6743402B2 (en) 1998-05-26 2004-06-01 Kenzo Shimakawa Purifier of noxious gas and method for manufacturing the same
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