JPH08220755A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
物を含む光重合性組成物の光重合速度を増大させる光重
合開始剤を含んだ光重合性組成物を提供することであ
る。また、400nm以上の可視光線、特にAr+レーザ
ーやYAG−SHGレーザーの出力に対応する488n
m、532nm付近の光に対しても感度の高い光重合開始
剤を含んだ光重合性組成物を提供することにある。さら
に、感光材料としての保存安定性に優れた光重合性組成
物を提供することである。 【構成】 i)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少
なくとも一個有する化合物、ii) 特定の増感剤、及びii
i)成分ii)との共存下で光照射によって活性ラジカルを
発生する活性剤を含有することを特徴とする光重合性組
成物。
Description
る。さらに詳細には、可視光に対し優れた感光性を有す
る新規な組成の光重合開始系からなる光重合性組成物に
関する。
される重合反応の結果、組成物の物性変化を生じる材料
であり、印刷、プリント回路、超LSI等の微細加工、
塗料、インキ、ホログラム記録、3次元造形等の広い分
野に用いられ、その用途はますます拡大されている。該
組成物は基本的には、付加重合可能なエチレン性不飽和
化合物と光重合開始剤よりなる。この種の組成物は光照
射により重合反応を生じ、硬化し不溶化する事から、該
組成物に、さらに必要に応じて皮膜形成能を有するバイ
ンダー樹脂、熱重合禁止剤等を加えた感光性組成物を適
当な皮膜となし、所望の陰画像を通して光照射を行い、
適当な溶媒により非照射部のみを除去する(以下、単に
現像と呼ぶ)事により所望の硬化画像を形成する事がで
きる。この様な画像形成法が印刷版等を作成する際に使
用されるものとして極めて有用であることはよく知られ
ている。
しては従来、ベンジル、ベンゾインエーテル、ミヒラー
ケトン、アントラキノン、アクリジン、フェナジン、あ
るいはベンゾフェノン等が用いられてきた。しかしなが
ら、これらの光重合開始剤からなる組成物は、感光速度
が低く、さらに、400nm以下の紫外波長域の光に対す
る光重合能力に比較し、400nm以上の可視光に対する
光重合能力が極めて低い。したがって、従来の光重合開
始剤からなる光重合性組成物はその応用範囲が著しく限
定されていた。
とのできる感光性組成物は永く望まれている。それは、
例えば非接触型の投影露光に適合する感光性材料として
有用である。また、近年、可視レーザーを用いた画像形
成技術が実用段階にあり、可視光線に対し、高い光重合
能力を有する感光性組成物が強く望まれている。該可視
レーザー光としては、Ar+レーザーの488nm波長
光、YAG−SHGレーザーの532nm波長光などを用
いた方法が有望視されている。
なる光重合組成物に関しては、従来いくつかの提案がな
されてきた。例えば、米国特許2,850,445号に
よればある種の感光性染料、例えば、ローズベンガル、
エオシン、エリスロシン等が効果的な可視光感応性を有
していると報告されている。また改良技術として、染料
とアミンの複合開始系(特公昭44−20189号)、
ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤及び染
料の系(特公昭45−37377号)、ヘキサアリール
ビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベンジリデンケ
トンの系(特公昭47−2528号、特開昭54−15
5292号)、3−ケトクマリン化合物と活性ハロゲン
化合物の系(特開昭58−15503号)、置換トリア
ジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−15102
号)等の提案がなされてきた。これらの技術は確かに可
視光線に有効ではあるが、実用的見地からは、感度は不
十分である。また、特開平2−244050には高感度
な開始系として4−チアゾリジノン骨格を有する色素と
ラジカル発生剤の系が提案されている。この系は確かに
高感度ではあったが、実用的には尚、十分ではなく、改
良が望まれていた。さらに、該色素に関しては、組成物
を構成する他の成分との相溶性が低い事が実用に際する
大きな障害となっていた。すなわち、結果として、感光
材料中への色素の添加濃度は低く制限され、また、材料
の保存中に該色素が析出し、感光性の劣化等の、望まし
くない特性変化を生じる原因となっていた。また、特公
昭59−28329号、特開平5−210240号、特
開平5−216226号、特開平6−35198号、特
開平6−295061号には各種の1−インダノン骨格
を有する増感剤を用いる系が提案されているが、実用的
にはなお十分ではなく、改良が望まれていた。
度の光重合性組成物を提供することである。すなわち、
本発明の目的は広く一般に付加重合性エチレン性不飽和
化合物を含む光重合性組成物の光重合速度を増大させる
光重合開始剤を含んだ光重合性組成物を提供することで
ある。また、本発明の別の目的は、400nm以上の可視
光線、特にAr+レーザーやYAG−SHGレーザーの
出力に対応する488nm、532nm付近の光に対しても
感度の高い光重合開始剤を含んだ光重合性組成物を提供
することにある。さらに、別の目的は、感光材料として
の保存安定性に優れた光重合性組成物を提供することで
ある。
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、ある特定の光重合
開始系を含む光重合性組成物が、極めて高い光重合速度
をしめし、また、400nm以上の可視光線に対しても高
い感光性をしめし、且つ保存安定性に優れる事を見出
し、本発明に到達したものである。
iii)を含有する事を特徴とする光重合性組成物である。 i)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも
一個有する化合物、 ii)下記一般式〔I〕で表される化合物、
置換アルキル基、アリール基、置換アリール基あるいは
置換カルボニル基を表し、R1、R2はアルキル基、置換
アルキル基、アリール基、あるいは置換アリール基を表
し、R3、R4、R5、R6はそれぞれ水素原子、ヒドロキ
シル基、アルキル基、置換アルキル基、置換オキシ基、
置換チオ基を表すか、R1とR3、R2とR5がそれぞれ相
互に結合して環構造を形成してもよく、R7、R8、
R9、R10はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換ア
リール基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト
基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボ
ニル基、置換スルホニル基、シアノ基、ニトロ基を表す
か、もしくはR 7とR8、R8とR9、R9とR10が互いに
結合して脂肪族または芳香族環を形成してもよい。mは
0または1を表す。) iii)成分ii)との共存下で光照射によって活性ラジカ
ルを発生する活性剤。
ついて、詳しく説明する。本発明に使用される成分
(i)の付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なく
とも一個有する化合物は、末端エチレン性不飽和結合を
少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から
選ばれる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2
量体、3量体およびオリゴマー、又はそれらの混合物な
らびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつもので
ある。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽
和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イ
タコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽
和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が
あげられる。
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。さらに、前述のエステルモノマ
ーの混合物もあげることができる。また、脂肪族多価ア
ミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの
具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチ
レンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレン
ビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−
メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリ
ルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレン
ビスメタクリルアミド等がある。
08号公報中に記載されている1分子中に2個以上のイ
ソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、
下記の一般式(D)で示される水酸基を含有するビニル
モノマーを付加せしめた1分子中に2個以上の重合性ビ
ニル基を含有するビニルウレタン化合物等があげられ
る。
す。) また、特開昭51−37193号に記載されているよう
なウレタンアクリレート類、特開昭48−64183
号、特公昭49−43191号、特公昭52−3049
0号各公報に記載されているようなポリエステルアクリ
レート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応さ
せたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレート
やメタクリレートをあげることができる。さらに日本接
着協会誌Vol.1、20、No.7、300〜308ページ
(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーと
して紹介されているものを使用することができる。な
お、これらの使用量は、全成分に対し5〜70重量%
(以下%と略称する。)、好ましくは10〜50%であ
る。
式[I]で表される化合物である。
す。ハロゲン原子としては−F、−Br、−Cl、−I
をあげることができる。これらの中では−Cl、−Br
がより好ましい。
0までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基をあ
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−ノルボ
ルニル基等をあげることができる。これらの中では、炭
素原子数1から12までの直鎖状、炭素原子数3から1
2までの分岐状、ならびに炭素原子数5から10までの
環状のアルキル基がより好ましい。
除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例として
は、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルア
ミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールア
ミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−
N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−ア
リールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスホキシ基、アリールスルホキシ基、ア
シルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミ
ノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、N′
−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウレイ
ド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジアリ
ールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリールウレ
イド基、N−アルキルウレイド基、N−アリールウレイ
ド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′
−アルキル−N−アリールウレイド基、N′,N′−ジ
アルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−ジア
ルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール−N
−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリール
ウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキルウ
レイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリールウレ
イド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−アルキ
ルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−
アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、
アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキルアルコ
キシカルボニルアミノ基、N−アルキルアリーロキシカ
ルボニルアミノ基、N−アリールアルコキシカルボニル
アミノ基、N−アリールアリーロキシカルボニルアミノ
基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモ
イル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアル
キルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、
N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N
−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、スルホ基(−SO3H)及びその共
役塩基基(以下、スルホナト基と称す)、アルコキシス
ルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモ
イル基、N−アルキルスルフィナモイル基、N,N−ジ
アルキルスルフィナモイル基、N−アリールスルフィナ
モイル基、N,N−ジアリールスルフィナモイル基、N
−アルキル−N−アリールスルフィナモイル基、スルフ
ァモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−
ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモ
イル基、N,N−ジアリールスルファモイル基、N−ア
ルキル−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基(−
PO 3 H2 )及びその共役塩基基(以下、ホスフォナト
基と称す)、ジアルキルホスフォノ基(−PO3 (alky
l) 2 ) 、ジアリールホスフォノ基(−PO3 (ary
l)2)、アルキルアリールホスフォノ基(−PO3 (alky
l)(aryl)) 、モノアルキルホスフォノ基(−PO3 H
(alkyl) )及びその共役塩基基(以後、アルキルホスフ
ォナト基と称す)、モノアリールホスフォノ基(−PO
3 H(aryl))及びその共役塩基基(以後、アリールホス
フォナト基と称す)、ホスフォノオキシ基(−OPO3
H2 及びその共役塩基基(以後、ホスフォナトオキシ基
と称す)、ジアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3
(alkyl) 2 )、ジアリールホスフォノオキシ基(−OP
O3 (aryl)2 )、アルキルアリールホスフォノオキシ基
(−OPO3(alkyl) (aryl))、モノアルキルホスフォ
ノオキシ基(−OPO3H(alkyl))及びその共役塩基
(以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す)、モノ
アリールホスフォノオキシ基(−OPO3H(aryl))及
びその共役塩基基(以後、アリールホスフォナトオキシ
基と称す)、シアノ基、ニトロ基、アリール基があげら
れる。これらの置換基における、アルキル基の具体例と
しては、前述のアルキル基があげられ、アリール基の具
体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル
基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセ
トキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチル
チオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミ
ノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルア
ミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカル
ボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フ
ェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモ
イルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スル
ホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェ
ニル基、ホスホナトフェニル基等をあげることができ
る。アシル基(R11CO−)におけるR11としては、上
記のアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換ア
リール基をあげることができる。これら置換基の内、更
により好ましいものとしてはハロゲン原子(−F、−B
r、−Cl、−I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ
基、N,N−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N
−アルキルカルバモイルオキシ基、N−アリールカルバ
モイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカ
ルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N
−アリールカルバモイル基、N−アルキル−N−アリー
ルカルバモイル基、スルフォ基、スルホナト基、スルフ
ァモイル基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−
ジアルキルスルファモイル基、N−アリールスルファモ
イル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイル
基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフ
ォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフ
ォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフ
ォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ
基、ホスフォナトオキシ基、アリール基があげられる。
一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前
述の炭素数1から20までのアルキル基上の水素原子の
いずれか1つを除し、2価の有機残基としたものをあげ
ることができ、好ましくは炭素原子数1から12までの
直鎖状、炭素原子数3から12までの分岐状ならびに炭
素原子数5から10までの環状のアルキレン基をあげる
ことができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルフォリノプロピル基、アセチルオキシメチル
基、ベンゾイルオキシメチル基、N−シクロヘキシルカ
ルバモイルオキシエチル基、N−フェニルカルバモイル
オキシエチル基、アセチルアミノエチル基、N−メチル
ベンゾイルアミノプロピル基、2−オキソエチル基、2
−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシ
カルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル
基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイ
ルメチル基、N−メチルカルバモイルエチル基、N,N
−ジプロピルカルバモイルメチル基、N−(メトキシフ
ェニル)カルバモイルエチル基、N−メチル−N−(ス
ルフォフェニル)カルバモイルメチル基、スルホブチル
基、スルフォナトブチル基、スルファモイルブチル基、
N−エチルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピ
ルスルファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイ
ルプロピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニ
ル)スルファモイル基、オクチル基、ホスフォノブチル
基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチ
ル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフ
ォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホ
スフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、
ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチ
ル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル
基、1−メチル−1−フェニルエチル基、p−メチルベ
ンジル基、シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメ
チル基、2−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メ
チルプロペニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチ
ニル基、3−ブチニル基、等をあげることができる。
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和
環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フ
ルオレニル基、をあげることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価
の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置
換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、
ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示
したものをあげることができる。これらの、置換アリー
ル基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロ
ロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、
ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
エトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフ
ェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフ
ェニル基、モルフォリノフェニル基、アセチルオキシフ
ェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、N−シクロヘ
キシルカルバモイルオキシフェニル基、N−フェニルカ
ルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル
基、N−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキ
シフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリル
オキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボ
ニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、N−メチル
カルバモイルフェニル基、N,N−ジプロピルカルバモ
イルフェニル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイ
ルフェニル基、N−メチル−N−(スルフォフェニル)
カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナ
トフェニル基、スルファモイルフェニル基、N−エチル
スルファモイルフェニル基、N,N−ジプロピルスルフ
ァモイルフェニル基、N−トリルスルファモイルフェニ
ル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スルフ
ァモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォ
ナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフ
ェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニ
ル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォ
ノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル
基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、2−メ
チルアリルフェニル基、2−メチルプロペニルフェニル
基、2−プロピニルフェニル基、3−ブチニルフェニル
基、3−ブチニルフェニル基、等をあげることができ
る。置換カルボニル基(R12−CO−)としては、R12
が一価の非金属原子団のものを使用できる。置換カルボ
ニル基の好ましい例としては、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバ
モイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−ア
リールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバモイ
ル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル基があ
げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基とし
ては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリ
ール基、置換アリール基として示したものをあげること
ができる。これらの内、より好ましい置換基としては、
ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル
基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアルキル
カルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、があげ
られ、更により好ましいものとしては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基なら
びにアリーロキシカルボニル基があげられる。好ましい
置換基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベ
ンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、
アリルオキシカルボニル基、N−メチルカルバモイル
基、N−フェニルカルバモイル基、N,N−ジエチルカ
ルバモイル基、モルフォリノカルボニル基等があげられ
る。
のとしては、ハロゲン原子(−Cl、−Br)、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
置換カルボニル基があげられ、さらにより好ましくは、
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリー
ル基があげられる。
を以下に示す。アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基としては前述のRの例として示した
ものをあげることができる。R1、R2の好ましい例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−ク
ロロエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ブロモエ
チル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボ
ニルメチル基、フェニル基、フェノキシエチル基、2−
メトキシエチル基、2−エトキシエチル基などをあげる
ことができる。
R5 、R6 の例を以下に示す。アルキル基、置換アルキ
ル基としては前述のRの例として示したものをあげるこ
とができる。置換オキシ基(R13O−)としては、R13
が水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いるこ
とができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキ
シ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−ア
リールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基をあげる事
ができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリー
ル基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならび
に、アリール基、置換アリール基として示したものをあ
げる事ができる。また、アシルオキシ基におけるアシル
基(R11CO−)としては、R11が、前述のアルキル
基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール
基のものをあげることができる。これらの置換基の中で
は、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、
アリールスルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換
オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、
プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキ
シ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシル
オキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネ
チルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカ
ルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオ
キシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、
メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキ
シ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキ
シ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、
トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ
基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフ
ェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフ
ェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェ
ニルスルフォニルオキシ基、ホスフォノオキシ基、フォ
スフォナトオキシ基等があげられる。
素を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好ま
しい置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシ
ルチオ基をあげることができる。これらにおけるアルキ
ル基、アリール基として前述のアルキル基、置換アルキ
ル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示し
たものをあげる事ができ、アシルチオ基におけるアシル
基(R11CO−)のR11は前述のとうりである。これら
の中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がよ
り好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシ
エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカル
ボニルチオ基等があげられる。次に、R1 とR3 、R2
とR5 、が互いに結合して環を形成する場合の例を示
す。R1 とR3 、R2 とR5 、が互いに結合して形成す
る脂肪族環としては、5員環、6員環、7員環及び8員
環の脂肪族環をあげることができ、より好ましくは、5
員環、6員環の脂肪族環をあげることができる。これら
は更に、これらを構成する炭素原子上に置換基を有して
いても良く(置換基の例としては、アルキル基ならびに
前述の置換アルキル基上の置換基の例として挙げたもの
をあげることができる)、また、環構成炭素の一部が、
ヘテロ原子(酸素原子、硫黄原子、窒素原子等)で置換
されていても良い。次に、一般式〔I〕におけるR7、
R8、R9並びにR10の例を以下に示す 。アルキル基、
置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ハロゲ
ン原子、置換オキシ基、置換チオ基、置換カルボニル基
の例としては、先にR、R1、R2、R3、R4、R5、R
6 の例として示したものをそれぞれあげることができ
る。置換アミノ基(R15NH−、(R16)(R17)N
−)としては、R15、R16、R17が水素を除く一価の非
金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基の好まし
い例としては、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアル
キルアミノ基、N−アリールアミノ基、N,N−ジアリ
ールアミノ基、N−アルキル−N−アリールアミノ基、
アシルアミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−ア
リールアシルアミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウ
レイド基、N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−
アリールウレイド基、N′,N′−ジアリールウレイド
基、Nリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、
N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルアミノ
基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシル
アミノ基、ウレイド基、N′−アルキルウレイド基、
N′,N′−ジアルキルウレイド基、N′−アリールウ
レイド基、N′,N′−ジアリールウレイド基、N′−
アルキル−N′−アリールウレイド基、N−アルキルウ
レイド基、N−アリールウレイド基、N′−アルキル−
N−アルキルウレイド基、N′−アルキル−N−アリー
ルウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アルキル
ウレイド基、N′,N′−ジアルキル−N−アリールウ
レイド基、N′−アリール−N−アルキルウレイド基、
N′−アリール−N−アリールウレイド基、N′,N′
−ジアリール−N−アルキルウレイド基、N′,N′−
ジアリール−N−アリールウレイド基、N′−アルキル
−N′−アリール−N−アルキルウレイド基、N′−ア
ルキル−N′−アリール−N−アリールウレイド基、ア
ルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニル
アミノ基、N−アルキルアルコキシカルボニルアミノ
基、N−アルキルアリーロキシカルボニアミノ基、N−
アリールアルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール
アリーロキシカルボニルアミノ基があげられる。これら
におけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキ
ル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリ
ール基として示したものをあげることができ、アシルア
ミノ基、N−アルキルアシルアミノ基、N−アリールア
シルアミノ基におけるアシル基(R11CO−)のR11は
前述のとうりである。これらの内、より好ましいものと
しては、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルア
ミノ基、N−アリールアミノ基、アシルアミノ基、があ
げられる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メ
チルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モ
ルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルア
ミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等があ
げられる。置換スルホニル基(R18−SO2−)として
はR18が一価の非金属原子団のものを使用できる。より
好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基をあげることができる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものをあげる事ができる。このような置換スル
ホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル基、クロ
ロフェニルスルホニル基等があげられる。次に、R7 と
R8 、R8 とR9 、R9 とR10が互いに結合して環を形
成する場合の例を示す。R7 とR8 、R8 とR9 、R9
とR10が互いに結合して形成する脂肪族環としては、5
員環、6員環、7員環及び8員環の脂肪族環をあげるこ
とができ、より好ましくは、5員環、6員環の脂肪族環
をあげることができる。これらは更に、これらを構成す
る炭素原子上に置換基を有していても良く(置換基の例
としては、アルキル基ならびに前述の置換アルキル基上
の置換基の例として挙げたものをあげることができ
る)、また、環構成炭素の一部が、ヘテロ原子(酸素原
子、硫黄原子、窒素原子等)で置換されていても良い。
これらの好ましい具体例としては式〔I〕中の、これら
が結合する炭素原子を含むベンゼン環と協同して、ベン
ゾシクロペンテン環、ベンゾシクロヘキセン環、ベンゾ
シクロヘプテン環、ベンゾシクロオクテン環、1,3−
ベンゾシクロヘキサジエン環、1,3−ジヒドロ−1,
3−ジオキサインデン環、ジュロリジン環をなすもの等
があげられる。以下に、一般式〔I〕の最も好ましい例
を具体的に示す。
より合成することができる。すなわち、例えば化合物
(a−1)は4−(N,N−ジメチルアミノ)ベンズア
ルデヒドと3−メチル−1−インダノンを塩基性の条件
下で縮合することにより得られる。この際、塩基として
は、一般に汎用される塩基、例えば、アルカリ金属水酸
化物(カ性カリ、カ性ソーダなど)が好適に使用できる
が、これに限定されるものではない。また、一般式
〔I〕の化合物の合成法は上記に限定されるものではな
い。
式〔I〕の化合物は単独、あるいは2種以上を併用する
事によって、好適に用いられる。
いて詳しく説明する。本発明における成分(iii)の活
性剤は、成分(ii)の共存下、光照射により活性ラジカ
ルを生成するものであればいずれも好適に使用できる。
すなわち、光照射により励起された成分(ii)と何らか
の相互作用(エネルギー移動、電子移動、励起錯体生成
等)を経て活性ラジカルを生成する化合物群が好適に使
用できる。好ましい活性剤の例としては、(a)炭素ハ
ロゲン結合を有する化合物、(b)芳香族オニウム塩化
合物、(c)有機過酸化物化合物、(d)チオ化合物、
(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(f)ケ
トオキシムエステル化合物、(g)ボレート化合物、
(h)アジニウム化合物、(i)メタロセン化合物、
(j)活性エステル化合物、等があげられる。
合を有する化合物の好ましい例としては、下記一般式
〔II〕から〔VIII〕のものを挙げることができる。
は−CX′3、−NH2、−NHR′−NR′2、−O
R′を表わす。ここでR′はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基を表わす。またR19は
−CX3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、置換アルケニル基を表わす。)で表わ
される化合物。
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、X′
はハロゲン原子であり、nは1〜3の整数である。)で
表わされる化合物。
り、R22は、−C(=O)−NR23R24、−C(=S)
NR23R24、
−、−C(=S)−又は−SO2−であり、R23、R24
はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換ア
ルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、R
25は一般式[II]中のR′と同じであり、X″はハロゲ
ン原子であり、n は1又は2である。)で表わされる化
合物。
アリール基又は複素環式基であり、R27は炭素原子1〜
3個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニ
ル基であり、pは1、2又は3である。
(R28)q(CX3)r の置換基であり、Qはイオウ、セ
レン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−
1,2−イレン基、1,2−フェニレン基又はN−R基
であり、Mは置換又は非置換のアルキレン基又はアルケ
ニレン基であるか、又は1,2−アリーレン基であり、
R29はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキ
ル基であり、R28は炭素環式又は複素環式の2価の芳香
族基であり、Xは塩素、臭素またはヨウ素原子であり、
q=0及びr=1であるか又はq=1及びr=1又は2
である。)で表わされる、トリハロゲノメチル基を有す
るカルボニルメチレン複素環式化合物。
1〜3の整数であり、sは1〜4の整数であり、R30は
水素原子又はCH3-t Xt 基であり、R31はs価の置換
されていてもよい不飽和有機基である)で表わされる、
4−ハロゲノ−5−(ハロゲノメチル−フェニル)−オ
キサゾール誘導体。
は1〜3の整数であり、uは1〜4の整数であり、R32
は水素原子又はCH3-vXv基であり、R33はu価の置換
されていても良い不飽和有機基である。)で表わされ
る、2−(ハロゲノメチル−フェニル)−4−ハロゲノ
−オキサゾール誘導体。
合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Bull. Ch
em. Soc.Japan,42、2924(1969)記載の化合
物、たとえば、2−フェニル4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−(p−クロルフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリア
ジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリア
ジン、2−(2′,4′−ジクロルフェニル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2,
4,6−トリス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−
S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリ
クロルメチル)−S−トリアジン、2−(α,α,β−
トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特
許1388492号明細書記載の化合物、たとえば、2
−スチリル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−
トリアジン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−
メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)
−4−アミノ−6−トリクロルメチル−S−トリアジン
等、特開昭53−133428号記載の化合物、たとえ
ば、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6
−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4
−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリ
クロルメチル−S−トリアジン、2−[4−(2−エト
キシエチル)−ナフト−1−イル]−4,6−ビス−ト
リクロルメチル−S−トリアジン、2−(4,7−ジメ
トキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロ
ルメチル−S−トリアジン、2−(アセナフト−5−イ
ル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジ
ン等、独国特許3337024号明細書記載の化合物、
たとえば、
efer等によるJ. Org. Chem.;29、1527(196
4)記載の化合物、たとえば2−メチル−4,6−ビス
(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,4,6−
トリス(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,
4,5−トリス(ジブロムメチル)−S−トリアジン、
2−アミノ−4−メチル−6−トリブロムメチル−S−
トリアジン、2−メトキシ−4−メチル−6−トリクロ
メチル−S−トリアジン等を挙げることができる。
合物、たとえば
281728記載の化合物、例えば、
M.P.Hutt, E.F.ElslagerおよびL.M.Merbel著Journal of
Heterocyclic chemistry第7巻(No.3)、第511
頁以降(1970年)に記載されている合成方法に準じ
て、当業者が容易に合成することができる次のような化
合物群
に記載されているような化合物、例えば、4−(4−メ
トキシ−スチリル)−6−(3,3,3−トリクロルプ
ロペニル)−2−ピロンおよび4−(3,4,5−トリ
メトキシ−スチリル)−6−トリクロルメチル−2−ピ
ロン、あるいはドイツ特許第3333450号に記載さ
れている化合物、例えば、
オニウム塩としては、周期律表の第V、VIおよびVII族
の元素、具体的にはN,P,As,Sb,Bi,O,
S,Se,Te,またはIの芳香族オニウム塩が含まれ
る。このような芳香族オニウム塩の例としては、特公昭
52−14277号、特公昭52−14278号、特公
昭52−14279号に示されている化合物を挙げるこ
とができる。
である有機過酸化物としては分子中に酸素−酸素結合を
1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれる
が、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイ
ド、シクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−ト
リメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシク
ロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオ
キサイド、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−
3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス
(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−
ビス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−ブチル
ハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイ
ド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、
パラメタンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチル
ヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,
1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイ
ド、ジtert−ブチルパーオキサイド、tert−ブチルクミ
ルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス(te
rt−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5
−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘ
キサン、2,5−オキサノイルパーオキサイド、過酸化
こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾ
イルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイ
ド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2
−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−
エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシ
イソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル
−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、te
rt−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオ
キシピバレート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエ
ート、tert−ブチルパーオキシオクタノエート、tert−
ブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエ
ート、tert−ブチルパーオキシラウレート、ターシルカ
ーボネート、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ブチ
ルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラ−(t−アミノパーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ−
(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラ(t−オクチルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′
−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプロピルク
ミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニ
ルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カ
ルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレー
ト)等がある。
ラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラ−(t−アミノパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′
−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′,4,4′−テトラ(t−オクチル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベン
ゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプ
ロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸
化エステル系が好ましい。
チオ化合物は、下記一般式[IX]で示される。
または置換アリール基を示し、R36は水素原子またはア
ルキル基を示す。また、R35とR36は、互いに結合して
酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含
んでもよい5員ないし7員環を形成するのに必要な非金
属原子群を示す。) 上記一般式〔IX〕におけるR35のアルキル基としては炭
素原子数1〜4個のものが好ましい。またR36のアリー
ル基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数6
〜10個のものが好ましく、置換アリール基としては、
上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン原
子、メチル基のようなアルキル基、メトキシ基、エトキ
シ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれ
る。R36は、好ましくは炭素原子数1〜4個のアルキル
基である。
例としては、下記に示すような化合物が挙げられる。
であるヘキサアリールビイミダゾールとしては、2,
2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o,p−ジ
クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニ
ルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−クロロフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−メトキシフェ
ニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス(o,o′−ジ
クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニ
ルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ニトロフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2′−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられ
る。
であるケトオキシムエステルとしては 3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセ
トキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキ
シイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペン
タン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニル
プロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−
フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホ
ニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカル
ボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン
等が挙げられる。
るボレート塩の例としては下記一般式[X]で表わされ
る化合物をあげる事ができる。
互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換又は非置
換のアルキル基、置換又は非置換のアリール基、置換又
は非置換のアルケニル基、置換又は非置換のアルキニル
基、もしくは置換又は非置換の複素環基を示し、R37、
R38、R39およびR40はその2個以上の基が結合して環
状構造を形成してもよい。ただし、R37、R38、R39お
よびR40のうち、少なくとも1つは置換又は非置換のア
ルキル基である。Z+はアルカリ金属カチオンまたは第
4級アンモニウムカチオンを示す)。
鎖、分岐、環状のものが含まれ、炭素原子数1〜18の
ものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オク
チル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基とし
ては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子(例え
ば−Cl、Brなど)、シアミ基、ニトロ基、アリール
基(好ましくはフェニル基)、ヒドロキシ基、
炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示
す。)、−COOR43(ここでR43は水素原子、炭素数
1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す。)、−
OCOR44又は−OR44(ここでR 44は炭素数1〜14
のアルキル基、又はアリール基を示す。)を置換基とし
て有するものが含まれる。
ェニル基、ナフチル基などの1〜3環のアリール基が含
まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール
基に前述の置換アルキル基の置換基又は、炭素数1〜1
4のアルキル基を有するものが含まれる 上記R37〜R40のアルケニル基としては、炭素数2〜1
8の直鎖、分岐、環状のものが含まれ、置換アルケニル
基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基と
して挙げたものが含まれる。
炭素数2〜28の直鎖又は分岐のものが含まれ、置換ア
ルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置
換基として挙げたものが含まれる。また、上記R37〜R
40の複素環基としては、N,SおよびOの少なくとも1
つを含む5員環以上、好ましくは5〜7員環の複素環基
が挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていても
よい。更に置換基として前述の置換アリール基の置換基
として挙げたものを有していてもよい。
具体的には米国特許3,567,453号、同4,34
3,891号、ヨーロッパ特許109,772号、同1
09,773号に記載されている化合物および以下に示
すものがあげられる。
ニウム塩化合物の例としては、特開昭63−13834
5号、特開昭63−142345号、特開昭63−14
2346号、特開昭63−143537号ならびに特公
昭46−42363号記載のN−O結合を有する化合物
群をあげることができる。この様なアジニウム塩化合物
の具体例としては、1−メトキシ−4−フェニルピリジ
ニウムテトラフルオロボレートをあげることができる。
成分(iii)の他の例であるメタロセン化合物の例とし
ては、特開昭59−152396号、特開昭61−15
1197号、特開昭63−41484号、特開平2−2
49号、特開平2−4705号、特開平5−83588
号記載の各種チタノセン化合物から適宜選んで用いるこ
とができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4−
ジ−フルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ
−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチル
シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオ
ロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−1−
イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル、ジ
−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,
4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル等を挙げ
ることができる。また、特開平1−304453号、特
開平1−152109号記載の鉄−アレーン錯体をあげ
ることができる。
化合物の例としては特公昭62−6223号記載のイミ
ドスルホネート化合物、特公昭63−14340号、特
開昭59−174831号記載の活性スルホネート類を
あげることができる。
は2種以上の併用によって好適に用いられる。本発明の
組成物中のこれらの光重合開始系、すなわち成分(ii)
および成分(iii)の含有濃度は通常わずかなものであ
る。また、不適当に多い場合には有効光線の遮断等好ま
しくない結果を生じる。
合可能なエチレン性不飽和化合物と必要に応じて添加さ
れる線状有機高分子重合体との合計に対して0.01%
から60%、より好ましくは、1%から30%の範囲で
ある。本発明に使用される光重合開始系の成分である成
分(ii)と成分(iii)の比は、成分(ii)の有機染料
1重量部に対して成分(iii)を0.01〜50重量部
使用するのが適当であり、更に好ましくは0.02〜2
0重量部、最も好ましくは0.05〜10重量部であ
る。
向上させる、あるいは酸素による重合阻害を抑制する等
の作用を有する公知の化合物を共増感剤として、さらに
加えて良い。この様な共増感剤の例としては、アミン
類、例えばM.R.Sanderら著「Journalof Polymer Societ
y」第10巻、3173頁(1972年)、特公昭44
−20189号、特開昭51−82102号、特開昭5
2−134692号、特開昭59−138205号、特
開昭60−84305号、特開昭62−18537号、
特開昭64−33104号、Research Disclosure 33
825号記載の化合物等があげられ、具体的には、トリ
エタノールアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル
エステル、p−ホルミルジメチルアニリン、p−メチル
チオジメチルアニリン、等があげられる。
びスルフィド類、例えば、特開昭53−705号、特公
昭55−500806号、特開平5−142772号記
載のチオール化合物、特開昭56−75643号のジス
ルフィド化合物等があげられ、具体的には、α−メルカ
プトベンゾチアゾール、α−メルカプトベンゾオキサゾ
ール、α−メルカプトベンゾイミダゾール、α−メルカ
プド−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタ
レン等があげられる。
(例、N−フェニルグリシン等)、特公昭48−429
65号記載の有機金属化合物(例、トリブチル錫アセテ
ート等)、特公昭55−34414号記載の水素供与
体、特願平5−91089号記載のイオウ化合物(例、
トリチアン等)、特開平6−250389号記載のリン
化合物(ジエチルホスファイト等)、特願平6−191
605号記載のSi−H、Ge−H化合物等があげられ
る。
8,791号、ヨーロッパ特許0284561A1号記
載のアミノケトン化合物、例えば、
剤の例としては特願平7−13108号記載のオキシム
エーテル化合物をあげることができる。この様なオキシ
ムエーテル化合物の具体例を以下に示すが、これに限定
されるものではない。
(ii)の化合物1重量部に対して、0.01〜50重量
部使用するのが適当であり、より好ましくは0.02〜
20重量部、最も好ましくは0.05〜10重量部であ
る。本発明の光重合性組成物には、バインダーとしての
線状有機高分子重合体を含有させることが好ましい。こ
のような「線状有機高分子重合体」としては、光重合可
能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有している線状
有機高分子重合体である限り、どれを使用しても構わな
い。好ましくは水現像或は弱アルカリ水現像を可能とす
る水あるいは弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状
有機高分子重合体が選択される。線状有機高分子重合体
は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、現像剤と
して水、弱アルカリ水或は有機溶剤のいずれが使用され
るかに応じて適宜選択使用される。例えば、水可溶性有
機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。この様
な線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基
を有する付加重合体、例えば特開昭59−44615
号、特公昭54−34327号、特公昭58−1257
7号、特公昭54−25957号、特開昭54−927
23号、特開昭59−53836号、特開昭59−71
048号に記載されているもの、すなわち、メタクリル
酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖
にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。
この他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付
加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベ
ンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必
要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合
体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリ
ル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマ
ー〕共重合体が好適である。この他に水溶性線状有機高
分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキ
サイド等が有用である。また硬化皮膜の強度をあげるた
めにアルコール可溶性ポリアミドや2,2−ビス−(4
−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリ
ンのポリエーテル等も有用である。これらの線状有機高
分子重合体は全組成中に任意な量を混和させることがで
きる。しかし90重量%を超える場合には形成される画
像強度等の点で好ましい結果を与えない。好ましくは3
0〜85%である。また光重合可能なエチレン性不飽和
化合物と線状有機高分子重合体は、重量比で1/9〜7
/3の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は3
/7〜5/5である。
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止す
るために少量の熱重合防止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−
メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩、N−ニトロソフェニル
ヒドロキシルアミンアルミニウム塩等があげられる。熱
重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約0.
01%〜約5%が好ましい。また必要に応じて、酸素に
よる重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミ
ドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾
燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪
酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.5%〜約10%
が好ましい。
して染料または顔料を添加することができる。染料もし
くは顔料の添加量は全組成物の0.01%〜20%であ
り、より好ましくは0.5〜10%である。また、染料
よりも顔料の方がより好ましい。顔料としては、市販の
ものの他、各種文献等に記載されている公知のものが利
用できる。文献に関しては、カラーインデックス(C.
I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、
1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、
1986年刊)、「印刷インキ技術」(CMC出版、1
984年刊)等がある。
料、橙色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔
料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマ
ー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔
料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔
料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペ
リレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料等が挙げられる。この中でより好まし
いのは、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、フタロシア
ニン系顔料、アントラキノン系顔料等である。
分散されたものであってもよく、そのようなポリマーと
しては、例えば特願平6−193357号に記載の一般
式(イ)〜(ハ)で表されるような、主鎖又は側鎖に脂
肪族二重結合を有するポリマーを挙げることができる。
50およびR51は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基
またはアリール基を示す。X,Y及びZは、それぞれ独
立に、二価の連結基である。Qは、脂肪族環を形成する
原子団である。アルキル基としては、炭素原子数が好ま
しくは20以下、より好ましくは10以下、更に好まし
くは6以下のアルキル基(例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、イソプロピル
基など)が挙げられる。
リール基(例えばフェニル基、ナフチル基、アンスリル
基など)を挙げることができる。アルキル基及びアリー
ル基は、置換基としてアルコキシ基、アミド基、アルコ
キシカルボニル基などで置換されていてもよい。R45、
R46、R47、R48、R49、R50およびR51は、それぞ
れ、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、
水素原子またはメチルであることが特に好ましい。
しては、アルキレン基、アリーレン基、カルボニル基、
イミノ基、酸素原子、硫黄原子およびそれらの組み合わ
せを挙げることができる。二価の連結基は、アリール
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基あるいはシアノ基等
で置換されていてもよい。アルキレン基としては、炭素
原子数が好ましくは10以下、より好ましくは6以下、
更に好ましくは3以下のアルキレン基(例えば、−CH
2 CH2 CH2 −、−CH2 CH2 −、−CH2 CH
(CH3 )−など)が挙げられる。
アリーレン基(例えば、
であることが好ましい。Yは、アルキレン基、カルボニ
ル基、酸素原子およびそれらの組み合わせであることが
好ましい。Qが形成する脂肪族環は、5員または6員環
の組み合わされた炭素数5〜30の脂肪族環(例えばシ
クロヘキサン環、ノルボルネニル環、ジシクロペンタジ
エン環)であることが好ましい。脂肪族環には、橋頭炭
素原子を有する二環系あるいは三環系炭化水素が含まれ
る。脂肪族環内の炭素原子間二重結合は、1つであるこ
とが好ましい。
物性を改良するために無機充填剤や、その他の公知の添
加剤を加えてもよい。さらに塗布における面状をよくす
るために界面活性剤の添加が好ましい。界面活性剤とし
ては、フッ素系の界面活性剤が好ましい。本発明の光重
合性組成物を支持体上に塗布する際には種々の有機溶剤
に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒として
は、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、
酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセ
トンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセ
テート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,
N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ
−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがあ
る。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用するこ
とができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、2
〜50重量%が適当である。その被覆量は乾燥後の重量
で約0.1g/m2〜約10g/m2の範囲当である。より
好ましくは0.5〜5g/m2である。
物が用いられる。該寸度的に安定な板状物としては、
紙、プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、また、
例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜
鉛、銅などのような金属の板、さらに、例えば二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロー
ス、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロ
ース,ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポ
リスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリ
ビニルアセタールなどのようなプラスチックのフィル
ム、上記の如き金属がラミネートもしくは蒸着された紙
もしくはプラスチックフィルムなどがあげられる。これ
らの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安
定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、
特公昭48−18327号に記載されているようなポリ
エチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシー
トが結合された複合体シートも好ましい。
る支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。砂目立て処理としては、ブラシグレ
イン又は電解グレインが好ましい。電解グレインの電解
液としては硝酸又は塩酸の水溶液が好ましく、特に硝酸
が好ましい。
ム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使
用できる。特公昭47−5125号に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカ
リ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用
される。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはそれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独
又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板
を陽極として電流を流すことにより実施される。
記載されているようなシリケート電着も有効である。更
に、特公昭46−27481号、特開昭52−5860
2号、特開昭52−30503号に開示されているよう
な電解グレインと、上記陽極酸化処理および珪酸ソーダ
処理を組合せた表面処理も有用である。ただし、珪酸ソ
ーダ処理は必ずしもなくてもよい。
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。更に、これらの処理を行った後
に、水溶性の樹脂、たとえばポリビニルホスホン酸、ス
ルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリ
アクリル酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしく
は、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたものも好適であ
る。
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。さらに支
持体裏面には現像液へのアルミニウムの溶出を防止する
ために特開平5−2271号や特開平6−35174号
に記載のバックコートを施こすのも好ましい。
の上には、空気中の酸素による重合禁止作用を防止する
ため、例えばポリビニルアルコール、特にケン化度95
%以上のポリビニルアルコール、酸性セルロース類など
のような酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を
設けてもよい。この様な保護層の塗布方法については、
例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−
49729号に詳しく記載されている。塗布量は0.1
〜5.0gが好ましく、0.5〜3gがさらに好まし
い。
合反応に使用できる。さらに、印刷版、プリント基板等
作成の際のフォトレジスト等多方面に適用することが可
能である。特に本発明の光重合性組成物の特徴である高
感度性と可視光領域までの幅広い分光感度特性により、
Ar+レーザー、YAG−SHGレーザー等の可視光レ
ーザー用の感光材料に適用すると良好な効果が得られ
る。
でかつ可視光に感光性があるため、マイクロカプセルを
利用した画像形成システム用として特に有利に用いるこ
とができる。マイクロカプセルを利用した画像形成シス
テムに利用するには例えば、特開昭57−197538
号、同61−130945号、同58−88739号、
同58−88740号、欧州特許第223,587A1
号明細書等を参考にできる。この画像形成方法は例え
ば、エチレン性のビニル化合物及び光重合開始剤から成
る光重合開始剤組成物と色素プレカーサーを含むマイク
ロカプセルを支持体に塗設し、この感光シートを画像様
露光して露光部のマイクロカプセルを硬化させた後、顕
色剤シートを重ねて全面加圧することにより、未露光部
のマイクロカプセルを破壊し、色画像形成物質(例えば
色素プレカーサー)を受像要素(例えば顕色剤層)に転
写し、発色させる方法である。
は、画像露光したのち、加熱してもよい。加熱濃度は6
0〜160°が好ましくさらに好ましくは80℃〜13
0℃である。加熱時間は1秒〜5分が好ましい。さら
に、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。
これらの光重合性組成物を平版印刷版の作成に使用する
際の好ましい現像液としては、特公昭57−7427号
に記載されているような現像液があげられ、ケイ酸ナト
リウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二
リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン
酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリ
ウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノ
エタノールアミン又はジエタノールアミンなどのような
有機アルカリ剤の水溶液が適当である。該アルカリ剤
は、濃度が0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5
重量%になるように添加される。
じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フェノキシ
エタノール、2−ブトキシエタノールのような有機溶媒
を少量含むことができる。例えば、米国特許第3,37
5,171号および同第3,615,480号に記載さ
れているものを挙げることができる。更に、特開昭50
−26601号、同58−54341号、特公昭56−
39464号、同56−42860号の各公報に記載さ
れている現像液も優れている。
の毒性、臭気等の衛生上の問題、火炎等の安全性の問
題、泡の発生等の作業性の問題、廃液による公害等の問
題等が発生するため、実質上有機溶媒を含まないものが
好ましい。このような、実質上有機溶媒を含まない水性
アルカリ現像液として例えば特開昭59−84241号
及び特開昭57−192952号公報等に記載されてい
る現像液組成物を使用することができる。
4(富士写真フイルム(株)製)を水で1/6〜1/3
0に稀釈した液である。本発明の光重合性組成物を用い
た感光性平版印刷版は、特開昭54−8002号、同5
5−115045号、特開昭59−58431号の各公
報に記載されている方法、即ち、現像処理後、水洗して
から不感脂化処理、またはそのまま不感脂化処理、また
は酸を含む水溶液での処理、または酸を含む水溶液で処
理後不感脂化処理を施してもよい。さらに、この種の感
光性平版印刷版の現像工程では、処理量に応じてアルカ
リ水溶液が消費されアルカリ濃度が減少したり、あるい
は、自動現像液の長時間運転により空気によってアルカ
リ濃度が減少するため処理能力が低下するが、その際、
特開昭54−62004号、同55−22759号、同
55−115039号、同56−12645号、同58
−95349号、同64−21451号、特開平1−1
80548号、特開平2−3065号に記載の補充液、
並びに補充方法によって、処理能力を回復させることが
できる。
−7054号、同2−32357号に記載されているよ
うな自動現像機で行なうことが好ましい。なお、製版工
程の最終工程で所望により塗布される不感脂化ガムとし
ては、特公昭62−16834号、同62−25118
号、同63−52600号、特開昭62−7595号、
同62−11693号、同62−83194号の各公報
に記載されているものが好ましい。
は後露光を行って印刷時の耐刷力を向上させることもで
きる。
可視光の幅広い領域の活性光線に対して高感度を有す
る。従って、光源として超高圧、高圧、中圧、低圧の各
水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、可視及び紫外の各種レーザーラ
ンプ、蛍光灯、タングステン灯、及び太陽光等が使用で
きる。本発明を合成例、実施例および比較例により更に
具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り
これらの実施例に限定されるものではない。
調製) 塩化アルミニウム31.8gにクロトン酸6.8gとベ
ンゼン50.0mlを加え、還流下5時間反応させた。濾
過後、濾液からベンゼンを留去し、残渣を真空蒸留(1
20〜123℃/12mmHg)し、9.7gの3−メチル
−1−インダノンを得た。
3−メチル−1−インダノン2.9g、水酸化ナトリウ
ム0.2gをエタノール溶媒80ml中窒素雰囲気下80
℃で5時間反応させた。反応物に水25mlを加え氷冷す
ることにより4.1gの粗(a−1)を得た。粗(a−
1)をさらにエタノール/水で再結晶し、(a−1)
3.5gを得た。(a−1)は核磁気共鳴スペクトル、
赤外吸収スペクトルにより同定された。
ド4.0g、3−メチル−1−インダノン3.0g、水
酸化ナトリウム0.3gをエタノール80ml中窒素雰囲
気下80℃で7時間反応させた。反応物を氷冷し、一夜
放置し、析出した結晶を濾取し、粗(a−25)5.8
gを得た。さらに粗(a−25)をエタノール/水にて
再結晶し、(a−25)5.3gを得た。(a−25)
は核磁気共鳴スペクトル、赤外吸収スペクトルにより同
定された。
ン37.5mlを加え、還流下5時間反応させた。反応液
を常法により処理し、3−フェニル−1−インダノン
5.1gを得た。
ニル−1−インダノン4.2g、水酸化ナトリウム0.
4gをエタノール80ml中窒素雰囲気下80℃で7時間
反応させた。反応物を氷冷し、一夜放置し、析出した結
晶を濾取し、粗(a−31)6.5gを得た。ついで粗
(a−31)をエタノール/水にて再結晶し、(a−3
1)5.8gを得た。(a−31)は核磁気共鳴スペク
トル、赤外吸収スペクトルにより同定された。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。厚さ0.3mmのアルミニウム板を10%水酸化ナト
リウムに60℃で25秒間浸漬してエッチングした後、
流水で水洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗し
た。これを正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶
液中で300クーロン/dm2の陽極時電気量で電解粗面
化処理を行った。引き続いて1%水酸化ナトリウム水溶
液中に40℃で5秒間浸漬後30%の硫酸水溶液中に浸
漬し、60℃で40秒間デスマット処理した後、20%
硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2において陽極酸化皮
膜の厚さが2.7g/m2になるように2分間陽極酸化処
理した。その表面粗さを測定したところ、0.3μ(R
a表示)であった。
ゾル−ゲル反応液をバーコータで塗布し80℃で1分間
乾燥し、乾燥後の塗布量が70mg/m2のバックコート層
を設けた支持体Aを作成した。 (ゾル−ゲル反応液の調製) テトラエチルシリケート 50重量部 水 20重量部 メタノール 15重量部 リン酸 0.05重量部 上記成分を混合、攪はんすると約5分で発熱が開始し
た。60分間反応させた後、以下に示す液を加えること
によりバックコート塗布液を調製した。
成の感光性組成物を乾燥塗布重量が1.5g/m2 とな
るように塗布し、80℃で2分間乾燥させ感光層を形成
させた。
ン化度98モル%、重合度1000)の3重量%の水溶
液を乾燥塗布重量が2g/m2となるように塗布し、10
0/2分間乾燥させ保護層とした。このようにして得ら
れた感材上に富士写真フイルム(株)製の富士PSステ
ップガイド(ΔD=0.15で不連続に透過濃度が変化
するグレースケール)を密着させ、その上から露光し
た。光源には、キセノンランプを用い、ケンコー光学フ
ィルターBP−49を通した光を照射した。PSステッ
プガイド面でのエネルギーは0.25mJ/cm2であ
った。
を行なった後に現像した。感度は現像後のPSステップ
ガイドのクリアー段数で示した。この段数の値が大きい
ほど感度が高い。尚、現像は下記の現像液に25℃、1
0秒間浸漬して行った。 DP−4(富士写真フイルム社製) 66.5g 水 881.4g リポミンLA(20%水溶液):(ライオン(株)製) 52.1g また、保存安定性の試験として、上記で作成した感光材
料を自然経時1ケ月させたものに関し、感光層からの析
出物の有無を光学顕微鏡にて観察した。また同様に、オ
ーブン中50℃での保存条件下での析出物を追跡した。
3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル 本発明における成分(ii)は比較例の化合物に対し、可
視光に対する感度に優れることは明白である。実施例1
〜8に示したと同様に処理されたアルミニウム板の面上
に、下記組成の感光性組成物を乾燥塗布重量が1.4g
/m2 となるように塗布し、80℃で2分間乾燥させ感
光層を形成させた。
この感光層上にポリビニルアルコール(ケン化度98モ
ル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗布
重量が2g/m2となるように塗布し、100℃/2分間
乾燥させ保護層とした。
フイルム(株)製の富士PSステップガイド(ΔD=
0.15で不連続に透過濃度が変化するグレースケー
ル)を密着させ、その上から露光した。光源には、キセ
ノンランプを用い、ケンコー光学フィルターBP−49
を通した光を照射した。PSステップガイド面でのエネ
ルギーは0.25mJ/cm2であった。
を行なった後に現像した。感度は現像後のPSステップ
ガイドのクリアー段数で示した。この段数の値が大きい
ほど感度が高い。尚、現像は下記の現像液に25℃、1
0秒間浸漬して行った。 DP−4(富士写真フイルム社製) 66.5g 水 881.4g リポミンLA(20%水溶液:ライオン(株)製) 52.1g また、保存安定性の試験として、上記で作成した感光材
料を自然経時1ケ月させたものに関し、感光層からの析
出物の有無を光学顕微鏡にて観察した。また同様に、オ
ーブン中50℃での保存条件下での析出物を追跡した。
(H),(J)については、実施例1〜8において使用
したものを用いた。本発明における成分(ii)は比較例
の化合物に対し、可視光に対する感度が格段に優れるこ
とは明白である。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記成分i)、ii)及びiii)を含有する
ことを特徴とする光重合性組成物、 i)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも
一個有する化合物、 ii)下記一般式〔I〕で表される化合物、 【化1】 (式中、Rはハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基あるいは置換カルボニ
ル基を表し、R1、R2はアルキル基、置換アルキル基、
アリール基、あるいは置換アリール基を表し、R3、
R4、R5、R6はそれぞれ水素原子、ヒドロキシル基、
アルキル基、置換アルキル基、置換オキシ基、置換チオ
基を表すか、R1とR3、R2とR5がそれぞれ相互に結合
して環構造を形成してもよく、R7、R8、R9、R10は
それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヒ
ドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ
基、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、置換
スルホニル基、シアノ基、ニトロ基を表すか、もしくは
R 7とR8、R8とR9、R9とR10が互いに結合して脂肪
族または芳香族環を形成してもよい。mは0または1を
表す。) iii)成分ii)との共存下で光照射によって活性ラジカ
ルを発生する活性剤。
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