JPH0822115A - 描画装置用の描画データの作成方法 - Google Patents
描画装置用の描画データの作成方法Info
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- JPH0822115A JPH0822115A JP17615094A JP17615094A JPH0822115A JP H0822115 A JPH0822115 A JP H0822115A JP 17615094 A JP17615094 A JP 17615094A JP 17615094 A JP17615094 A JP 17615094A JP H0822115 A JPH0822115 A JP H0822115A
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 階層化された図形データから描画装置固有の
描画データへの変換に要する時間を少なくできる処理方
法を提供する。 【構成】 階層セル構造をもったパターンデータから描
画装置の描画データを作製する方法であって、（Ａ）ボ
トムセルからトップセルに向かって、セル境界に接する
データを上位セルの座標系に変換して上位セルに展開し
た後、セル単位で図形の合成及び分離を行う工程、
（Ｂ）セル引用情報から得た、引用セル、セルの配置、
回転、繰り返し情報等を表すマトリクス情報に基づく全
てのルートセル内の図形データを、この情報と前記セル
単位で図形の合成及び分離を行い得られた図形データと
から、該図形データをルートセルの座標系へ変換してル
ートセル内の図形データとして作成する工程、（Ｃ）ル
ートセルの全ての図形データについて、描画装置用の描
画データにフオーマット変換する工程とを有する。
描画データへの変換に要する時間を少なくできる処理方
法を提供する。 【構成】 階層セル構造をもったパターンデータから描
画装置の描画データを作製する方法であって、（Ａ）ボ
トムセルからトップセルに向かって、セル境界に接する
データを上位セルの座標系に変換して上位セルに展開し
た後、セル単位で図形の合成及び分離を行う工程、
（Ｂ）セル引用情報から得た、引用セル、セルの配置、
回転、繰り返し情報等を表すマトリクス情報に基づく全
てのルートセル内の図形データを、この情報と前記セル
単位で図形の合成及び分離を行い得られた図形データと
から、該図形データをルートセルの座標系へ変換してル
ートセル内の図形データとして作成する工程、（Ｃ）ル
ートセルの全ての図形データについて、描画装置用の描
画データにフオーマット変換する工程とを有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フオトマスク等のパタ
ーン作成等に用いられる描画装置用の描画データを作成
する方法に関する。
ーン作成等に用いられる描画装置用の描画データを作成
する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体装置は、ＬＳＩのＡＳＩＣ
に代表されるように、ますます高集積化、高機能化して
きたが、このようなＬＳＩの大規模集積化（高集積化）
はウエーハプロセスでの微細加工技術の進歩の上に成り
立っており、より多くのゲートを１チップに収容し、さ
らにチップサイズを小さくすることが要求されている。
これに伴い、上記ウエーハプロセスでの微細加工をする
際、ウエーハ上感光剤に投影露光ないし転写露光してウ
エーハのパターニングするフオトマスクにおいても、パ
ターンの高集積化、微細化が求められるようになってき
た。
に代表されるように、ますます高集積化、高機能化して
きたが、このようなＬＳＩの大規模集積化（高集積化）
はウエーハプロセスでの微細加工技術の進歩の上に成り
立っており、より多くのゲートを１チップに収容し、さ
らにチップサイズを小さくすることが要求されている。
これに伴い、上記ウエーハプロセスでの微細加工をする
際、ウエーハ上感光剤に投影露光ないし転写露光してウ
エーハのパターニングするフオトマスクにおいても、パ
ターンの高集積化、微細化が求められるようになってき
た。
【０００３】ところで、フオトマスク自体のパターニン
グは、通常、電子ビーム描画装置を用いて行うが、各電
子ビーム装置に合った台形データ等の所定の図形データ
を用いることが必要で、汎用の図形データ作成装置によ
り作成された汎用図形データを各電子ビーム描画装置に
合った台形データ等の所定フオーマットの図形データに
フオーマット変換する必要がある。この際、電子ビーム
描画装置用の描画データは階層構造を持たないフラット
なデータであるので、階層セル構造を持ったパターンデ
ータを用い、電子ビーム描画装置用描画データを作成す
る際には、階層構造を持った図形データを単にフラット
に展開して、電子ビーム描画装置用の描画データにフオ
ーマット変換を行っていた。この為、このフオーマット
変換は、扱う汎用図形データが多くなるに従い、フオー
マット変換の為の処理時間が多くなる。この為、ＬＳＩ
の大規模集積化（高集積化）、高機能化に伴い、この処
理時間の占める割合が次第に多くなり、問題視されるよ
うになってきた。
グは、通常、電子ビーム描画装置を用いて行うが、各電
子ビーム装置に合った台形データ等の所定の図形データ
を用いることが必要で、汎用の図形データ作成装置によ
り作成された汎用図形データを各電子ビーム描画装置に
合った台形データ等の所定フオーマットの図形データに
フオーマット変換する必要がある。この際、電子ビーム
描画装置用の描画データは階層構造を持たないフラット
なデータであるので、階層セル構造を持ったパターンデ
ータを用い、電子ビーム描画装置用描画データを作成す
る際には、階層構造を持った図形データを単にフラット
に展開して、電子ビーム描画装置用の描画データにフオ
ーマット変換を行っていた。この為、このフオーマット
変換は、扱う汎用図形データが多くなるに従い、フオー
マット変換の為の処理時間が多くなる。この為、ＬＳＩ
の大規模集積化（高集積化）、高機能化に伴い、この処
理時間の占める割合が次第に多くなり、問題視されるよ
うになってきた。
【０００４】
【解決しようとする課題】このように、半導体素子の高
集積化、高機能に伴い、半導体素子用のフオトマスクに
おいても、高集積化、微細化が求められ、フオトマスク
作製に用いられる、汎用の図形データ作成装置により作
成された汎用図形データの量も、一層増大化している。
汎用図形データの量の増大化に対しては、階層化した階
層セル構造にすることにより、扱うデーター量を少なく
することができるが、電子ビーム描画装置にて使用する
際には、階層構造を持った図形データをフラットに展開
して、電子ビーム描画装置用の描画データにフオーマッ
ト変換する必要があり、フオーマット変換処理において
は、階層化された図形データの特性をうまく利用できて
いないのが実情で、階層化された図形データから各電子
ビーム描画装置の固有のフオーマット変換に要する時間
をできるだけ少なくする処理方法が求められていた。本
発明は、このような状況のもと、フオーマット変換に要
する時間を少なくして、各電子ビーム描画装置用の固有
のフオーマットからなる描画データを作成できる処理方
法を提供しようとするものである。
集積化、高機能に伴い、半導体素子用のフオトマスクに
おいても、高集積化、微細化が求められ、フオトマスク
作製に用いられる、汎用の図形データ作成装置により作
成された汎用図形データの量も、一層増大化している。
汎用図形データの量の増大化に対しては、階層化した階
層セル構造にすることにより、扱うデーター量を少なく
することができるが、電子ビーム描画装置にて使用する
際には、階層構造を持った図形データをフラットに展開
して、電子ビーム描画装置用の描画データにフオーマッ
ト変換する必要があり、フオーマット変換処理において
は、階層化された図形データの特性をうまく利用できて
いないのが実情で、階層化された図形データから各電子
ビーム描画装置の固有のフオーマット変換に要する時間
をできるだけ少なくする処理方法が求められていた。本
発明は、このような状況のもと、フオーマット変換に要
する時間を少なくして、各電子ビーム描画装置用の固有
のフオーマットからなる描画データを作成できる処理方
法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム描画
装置用の描画データの作成方法は、階層セル構造をもっ
たパターンデータから電子ビーム描画装置用の描画デー
タを作製する方法であって、少なくとも、順に（Ａ）階
層構造をもったデータを入力し、ボトムセルからトップ
セルに向かって、セル境界に接するデータを上位セルの
座標系に変換して上位セルに展開した後、セル単位で図
形の合成及び分離を行う工程、（Ｂ）セル引用情報か
ら、引用セル、セルの配置、回転、繰り返し等を表す一
覧情報であるマトリクス情報を作成し、この情報に基づ
く全てのルートセル内の図形データを、この情報と前記
セル単位で図形の合成及び分離を行い得られた図形デー
タとから、該図形データをルートセルの座標系へ変換し
てルートセル内の図形データとして作成する工程、
（Ｃ）前記変換され作成されたルートセル内の図形デー
タを含めたルートセルの全ての図形データについて、描
画装置用の描画データにフオーマット変換する工程、と
を有することを特徴とするものである。そして、上記の
マトリクス情報を作成し、この情報に基づいて、全ての
図形データをルートセルの座標系へ変換し、ルートセル
内の図形データとする工程が、マトリクス情報に基づい
て、台形図形データと接していない矩形図形データに関
しては全てルートセルの座標系に変換してルートセル図
形データを得る第一の工程、台形図形データないし台形
図形データに接した矩形図形データについては０°、１
８０°系で引用されているもののみルートセルの座標系
に変換してルートセルの図形データを得る第二の工程、
それ以外の９０°、２７０°系については、セル枠及び
セル内図形を９０°回転させたセルを対応して作成し、
得られたセルについてセル毎に図形データについて図形
の合成及び分離を行い、台形図形データと接していない
矩形図形データと、台形図形データないし台形図形デー
タに接した矩形図形データとに分離した図形データを作
成し、且つ、セル引用情報から作製されたマトリクス情
報に引用セルの引用する角度についての補正情報を付与
しておき、前記９０°、２７０°系のデータが、−９０
°回転された図形データを０°、１８０°系で引用して
いるものとして、ルートセルの座標系に変換してルート
セル図形データを得る第三の工程とからなることを特徴
とするものである。又、上記における描画装置の描画デ
ータが、上底と下底をＸないしＹの一方向にのみもつ４
頂点台形フオーマットで全ての図形を表すものであるこ
とを特徴とするものであり、特に、描画装置が電子ビー
ム描画装置ないし光露光装置であることを特徴とする
装置用の描画データの作成方法は、階層セル構造をもっ
たパターンデータから電子ビーム描画装置用の描画デー
タを作製する方法であって、少なくとも、順に（Ａ）階
層構造をもったデータを入力し、ボトムセルからトップ
セルに向かって、セル境界に接するデータを上位セルの
座標系に変換して上位セルに展開した後、セル単位で図
形の合成及び分離を行う工程、（Ｂ）セル引用情報か
ら、引用セル、セルの配置、回転、繰り返し等を表す一
覧情報であるマトリクス情報を作成し、この情報に基づ
く全てのルートセル内の図形データを、この情報と前記
セル単位で図形の合成及び分離を行い得られた図形デー
タとから、該図形データをルートセルの座標系へ変換し
てルートセル内の図形データとして作成する工程、
（Ｃ）前記変換され作成されたルートセル内の図形デー
タを含めたルートセルの全ての図形データについて、描
画装置用の描画データにフオーマット変換する工程、と
を有することを特徴とするものである。そして、上記の
マトリクス情報を作成し、この情報に基づいて、全ての
図形データをルートセルの座標系へ変換し、ルートセル
内の図形データとする工程が、マトリクス情報に基づい
て、台形図形データと接していない矩形図形データに関
しては全てルートセルの座標系に変換してルートセル図
形データを得る第一の工程、台形図形データないし台形
図形データに接した矩形図形データについては０°、１
８０°系で引用されているもののみルートセルの座標系
に変換してルートセルの図形データを得る第二の工程、
それ以外の９０°、２７０°系については、セル枠及び
セル内図形を９０°回転させたセルを対応して作成し、
得られたセルについてセル毎に図形データについて図形
の合成及び分離を行い、台形図形データと接していない
矩形図形データと、台形図形データないし台形図形デー
タに接した矩形図形データとに分離した図形データを作
成し、且つ、セル引用情報から作製されたマトリクス情
報に引用セルの引用する角度についての補正情報を付与
しておき、前記９０°、２７０°系のデータが、−９０
°回転された図形データを０°、１８０°系で引用して
いるものとして、ルートセルの座標系に変換してルート
セル図形データを得る第三の工程とからなることを特徴
とするものである。又、上記における描画装置の描画デ
ータが、上底と下底をＸないしＹの一方向にのみもつ４
頂点台形フオーマットで全ての図形を表すものであるこ
とを特徴とするものであり、特に、描画装置が電子ビー
ム描画装置ないし光露光装置であることを特徴とする
【０００６】尚、ここでは、上位セルに展開するとは、
下位のセルを引用している上位のセルへ、下位の図形デ
ータを組入れ、下位のセルからはその図形データを取り
除く処理を言っている。又、０°、１８０°系とは、セ
ルが上位のセルに引用される際に、０°回転（回転無
し）、１８０°回転で引用されることを意味し、９０
°、２７０°系とは、セルが上位のセルに引用される際
に、９０°回転、２７０°回転で引用されることを意味
しており、上位セルが下位のセルを引用する場合、０
°、９０°、１８０°、２７０°の４種のみが普通であ
る。
下位のセルを引用している上位のセルへ、下位の図形デ
ータを組入れ、下位のセルからはその図形データを取り
除く処理を言っている。又、０°、１８０°系とは、セ
ルが上位のセルに引用される際に、０°回転（回転無
し）、１８０°回転で引用されることを意味し、９０
°、２７０°系とは、セルが上位のセルに引用される際
に、９０°回転、２７０°回転で引用されることを意味
しており、上位セルが下位のセルを引用する場合、０
°、９０°、１８０°、２７０°の４種のみが普通であ
る。
【０００７】マトリクス情報とは、セル引用情報から、
引用セル、セルの配置、回転、繰り返し等を表す一覧情
報であり、各図形データがルートセルにどのように配置
されるか、どれだけ配置されるかを情報としてもってお
り、これにより、各図形データを直接ルートセルの座標
系に変換してルートセル内図形として得ることができ
る。
引用セル、セルの配置、回転、繰り返し等を表す一覧情
報であり、各図形データがルートセルにどのように配置
されるか、どれだけ配置されるかを情報としてもってお
り、これにより、各図形データを直接ルートセルの座標
系に変換してルートセル内図形として得ることができ
る。
【０００８】
【作用】本発明の電子ビーム描画装置用の描画データの
作成方法は、上記のような構成にすることにより、階層
構造のパターンデータを階層構造を利用して、効率良
く、確実に描画装置用の描画データにフオーマット変換
できるものとしている。詳しくは、入力データのセル境
界（セル枠）に接する図形データを上位セルの座標系に
変換し、その後セル単位で図形の合成と分離を行うこと
により、セル境界の微小図形の数を減少させ、処理する
図形データ数を減らしている。ルートセルの座標系に変
換する際に、セルが０°、１８０°系回転で引用されて
いる場合は、図形データをそのままルートセルの座標系
に変換し、セルが９０°、２７０°系回転で引用されて
いる場合は、セル枠及びセル内の図形を、一旦、９０°
回転させたデータを作成し、図形合成、分離を行った
上、マトリックス情報に９０°補正を加えて、ルートセ
ルの座標系に変換を行うことにより、引用セルが０°、
１８０°系、９０°、２７０°系のいずれであっても、
又、そのセルが複数回使用されていても、各セルについ
て最大２回しか、合成、分離の演算処理をしない為、効
率の良い変換ができる。そして、フラットな状態になっ
た場合にＸ乃至Ｙ方向の一方向の台形と、矩形しか存在
しないため、描画装置の描画データが、上底と下底をＸ
ないしＹの一方向にのみもつ４頂点台形フオーマットで
全ての図形を表すものである場合には、フオーマット変
換処理による図形数の増加を抑えることが可能である。
作成方法は、上記のような構成にすることにより、階層
構造のパターンデータを階層構造を利用して、効率良
く、確実に描画装置用の描画データにフオーマット変換
できるものとしている。詳しくは、入力データのセル境
界（セル枠）に接する図形データを上位セルの座標系に
変換し、その後セル単位で図形の合成と分離を行うこと
により、セル境界の微小図形の数を減少させ、処理する
図形データ数を減らしている。ルートセルの座標系に変
換する際に、セルが０°、１８０°系回転で引用されて
いる場合は、図形データをそのままルートセルの座標系
に変換し、セルが９０°、２７０°系回転で引用されて
いる場合は、セル枠及びセル内の図形を、一旦、９０°
回転させたデータを作成し、図形合成、分離を行った
上、マトリックス情報に９０°補正を加えて、ルートセ
ルの座標系に変換を行うことにより、引用セルが０°、
１８０°系、９０°、２７０°系のいずれであっても、
又、そのセルが複数回使用されていても、各セルについ
て最大２回しか、合成、分離の演算処理をしない為、効
率の良い変換ができる。そして、フラットな状態になっ
た場合にＸ乃至Ｙ方向の一方向の台形と、矩形しか存在
しないため、描画装置の描画データが、上底と下底をＸ
ないしＹの一方向にのみもつ４頂点台形フオーマットで
全ての図形を表すものである場合には、フオーマット変
換処理による図形数の増加を抑えることが可能である。
【０００９】
【実施例】本発明の描画装置用の描画データの作成方法
の実施例を挙げる。簡単の為、図２に示すセル構造を持
つパターンデータを描画データに変換する場合につい
て、図１の本実施例のフローチャートに沿って説明す
る。図２（ａ）に示すように、ルートセル（セルＴＯ
Ｐ）にセルＡ、セルＢが引用されており、セルＡは１
回、セルＢは２回引用されている。セルＢについては、
一方は回転無しで引用され、もう一方は＋９０°回転さ
せて引用されている。図３に示すように、ルートセル
（セルＴＯＰ）は、セルＡ、セルＢの他に図形３１、３
２、３３、３４、３５を持っている。
の実施例を挙げる。簡単の為、図２に示すセル構造を持
つパターンデータを描画データに変換する場合につい
て、図１の本実施例のフローチャートに沿って説明す
る。図２（ａ）に示すように、ルートセル（セルＴＯ
Ｐ）にセルＡ、セルＢが引用されており、セルＡは１
回、セルＢは２回引用されている。セルＢについては、
一方は回転無しで引用され、もう一方は＋９０°回転さ
せて引用されている。図３に示すように、ルートセル
（セルＴＯＰ）は、セルＡ、セルＢの他に図形３１、３
２、３３、３４、３５を持っている。
【００１０】先ず、セルＡに着目すると、図２（ｂ）に
示すように、このセル内にはセル境界２０Ａに接してい
る図形２１、２２が存在する。そこでこの図形２１、２
２をセルＡを引用している上位セル（セルＴＯＰ）の座
標系に変換、展開して上位セルとして図４に示すものを
得た（図１の（ａ））。図形４１、４２がセルＡからセ
ルＴＯＰに展開された図形である。次いで展開後のセル
Ａについて図形の合成、分離を行い（図１の（ｂ））、
台形図形データに接しない矩形図形データと、台形図形
データないし台形図形データに接した矩形図形データと
に分類して出力する（図１の（ｃ））。この段階でセル
Ａは図５（ａ）に示すようになる。図５（ａ）におい
て、図形は台形図形データに接しない矩形図形データ
に、図形、、は台形図形データないし台形図形デ
ータに接した矩形図形データの方に分類される。次に、
セルＢに着目すると、図２（ｃ）に示すように、セルＢ
についてはセル境界２０Ｂに接している図形がないの
で、上位セルの座標系への変換処理は行わない。セルＢ
についても図形の合成、分離は行われ、図５（ｂ）に示
すようになり、図形、は台形図形データないし台形
図形データに接した矩形図と分類して出力する。セルＴ
ＯＰについてはルートセルであるので、セル内の図形の
合成のみ行われるが、ここでは、セルＡから上位セルの
座標系に変換された図形とセルＴＯＰにあった図形の合
成が行われて、図形６に示すようになる。図形６１はセ
ルＡから展開された図４における図形４１とセルＴＯＰ
にもともとある図３に示す図形３１とから合成されてい
ることを示しており、図形６２はセルＡから展開された
図４における図形４２とセルＴＯＰにもともある図３に
示す図形３２と３３とから合成されていることを示して
いる。ルートセルであるセルＴＯＰの図形は全て、台形
図形データに接しない矩形図形データに分類される。
示すように、このセル内にはセル境界２０Ａに接してい
る図形２１、２２が存在する。そこでこの図形２１、２
２をセルＡを引用している上位セル（セルＴＯＰ）の座
標系に変換、展開して上位セルとして図４に示すものを
得た（図１の（ａ））。図形４１、４２がセルＡからセ
ルＴＯＰに展開された図形である。次いで展開後のセル
Ａについて図形の合成、分離を行い（図１の（ｂ））、
台形図形データに接しない矩形図形データと、台形図形
データないし台形図形データに接した矩形図形データと
に分類して出力する（図１の（ｃ））。この段階でセル
Ａは図５（ａ）に示すようになる。図５（ａ）におい
て、図形は台形図形データに接しない矩形図形データ
に、図形、、は台形図形データないし台形図形デ
ータに接した矩形図形データの方に分類される。次に、
セルＢに着目すると、図２（ｃ）に示すように、セルＢ
についてはセル境界２０Ｂに接している図形がないの
で、上位セルの座標系への変換処理は行わない。セルＢ
についても図形の合成、分離は行われ、図５（ｂ）に示
すようになり、図形、は台形図形データないし台形
図形データに接した矩形図と分類して出力する。セルＴ
ＯＰについてはルートセルであるので、セル内の図形の
合成のみ行われるが、ここでは、セルＡから上位セルの
座標系に変換された図形とセルＴＯＰにあった図形の合
成が行われて、図形６に示すようになる。図形６１はセ
ルＡから展開された図４における図形４１とセルＴＯＰ
にもともとある図３に示す図形３１とから合成されてい
ることを示しており、図形６２はセルＡから展開された
図４における図形４２とセルＴＯＰにもともある図３に
示す図形３２と３３とから合成されていることを示して
いる。ルートセルであるセルＴＯＰの図形は全て、台形
図形データに接しない矩形図形データに分類される。
【００１１】次に、引用セルの図形データをルートセル
座標系へ変換して、ルートセルの図形データを作成する
処理を説明する。各セルをルートセルの座標系に変換す
る場合、図１に示す引用情報から得られた、引用セル、
配置、回転等の情報の一覧表であるマトリクス情報Ｍを
参照にして、変換を行う。セルＡをルートセルの座標系
に変換する場合、マトリクス情報Ｍより、このセルは引
用されるとき回転がかかっていないので、矩形図形デー
タ、台形図形データともにこのままルートセルの座標系
に変換し（図１の（ｄ））、ルートセルの図形データと
する。この時点ではルートセルは、図７に示すようにな
る。白ぬきの図形がセルＡからの変換された図形であ
る。セルＢをルートセルの座標系に変換する場合、マト
リクス情報より、０°回転されて（回転無しで）引用さ
ているものと＋９０°回転されて引用されるものとが有
ることが分るが、図８に示すように、回転無しの方は、
このままルートセルの座標系に変換され（図１の
（ｅ））、ルートセルの図形データとする。セルＢの９
０°回転されて引用される方に関しては、このままルー
トセルの座標系に変換されずに、対応するセルＡのセル
枠とセル内図形を、一旦、−９０°回転させ、図９
（ａ）に示すようなデータを作成する。（図１の
（ｆ）） 次いで、この−９０°回転させたデータに対し、セル単
位で図形の合成、分割を行った（図１の（ｇ））後に、
図９（ｂ）に示すようになるが、この図形データを、台
形データに接しない矩形図形データと、台形図形データ
ないし台形データに接した矩形図形データとに分類す
る。（図１の（ｈ）） 分類された図形データについては、別に、セル引用情報
フアイルより求めたマトリクス情報Ｍに＋９０°補正情
報を付与したもの（Ｍ１）に基づき、先に−９０°回転
したセルを、０°、１８０°系で引用するものと判断
し、ルートセル単位系に変換し（図１の（ｉ））ルート
セルの図形データとする。以上より、引用される各セル
の図形を用い、マトリクス情報に基づくルートセル内の
全図形データを、引用される各セルの図形データをルー
トセル座標系に変換することにより得ることができる。
結果、ルートセルを図形データだけで表すと、図１０に
示すようなる。上記においては、−９０°回転させてた
ため、マトリクス情報Ｍに＋９０°補正情報を付与した
もの（Ｍ１）を用いたが、＋９０°回転させてもよく、
この場合はマトリクス情報Ｍに−９０°補正情報を付与
したものを用いる。
座標系へ変換して、ルートセルの図形データを作成する
処理を説明する。各セルをルートセルの座標系に変換す
る場合、図１に示す引用情報から得られた、引用セル、
配置、回転等の情報の一覧表であるマトリクス情報Ｍを
参照にして、変換を行う。セルＡをルートセルの座標系
に変換する場合、マトリクス情報Ｍより、このセルは引
用されるとき回転がかかっていないので、矩形図形デー
タ、台形図形データともにこのままルートセルの座標系
に変換し（図１の（ｄ））、ルートセルの図形データと
する。この時点ではルートセルは、図７に示すようにな
る。白ぬきの図形がセルＡからの変換された図形であ
る。セルＢをルートセルの座標系に変換する場合、マト
リクス情報より、０°回転されて（回転無しで）引用さ
ているものと＋９０°回転されて引用されるものとが有
ることが分るが、図８に示すように、回転無しの方は、
このままルートセルの座標系に変換され（図１の
（ｅ））、ルートセルの図形データとする。セルＢの９
０°回転されて引用される方に関しては、このままルー
トセルの座標系に変換されずに、対応するセルＡのセル
枠とセル内図形を、一旦、−９０°回転させ、図９
（ａ）に示すようなデータを作成する。（図１の
（ｆ）） 次いで、この−９０°回転させたデータに対し、セル単
位で図形の合成、分割を行った（図１の（ｇ））後に、
図９（ｂ）に示すようになるが、この図形データを、台
形データに接しない矩形図形データと、台形図形データ
ないし台形データに接した矩形図形データとに分類す
る。（図１の（ｈ）） 分類された図形データについては、別に、セル引用情報
フアイルより求めたマトリクス情報Ｍに＋９０°補正情
報を付与したもの（Ｍ１）に基づき、先に−９０°回転
したセルを、０°、１８０°系で引用するものと判断
し、ルートセル単位系に変換し（図１の（ｉ））ルート
セルの図形データとする。以上より、引用される各セル
の図形を用い、マトリクス情報に基づくルートセル内の
全図形データを、引用される各セルの図形データをルー
トセル座標系に変換することにより得ることができる。
結果、ルートセルを図形データだけで表すと、図１０に
示すようなる。上記においては、−９０°回転させてた
ため、マトリクス情報Ｍに＋９０°補正情報を付与した
もの（Ｍ１）を用いたが、＋９０°回転させてもよく、
この場合はマトリクス情報Ｍに−９０°補正情報を付与
したものを用いる。
【００１２】以上の説明によれば、ルートセルから見
て、引用セルが０、１８０°系、９０°、２７０°系の
どちらであっても、且つ、そのセルが複数回使用されて
いても、各セルについて最大２回しか、合成、分割の演
算処理しない為、効率の良い変換が可能である。
て、引用セルが０、１８０°系、９０°、２７０°系の
どちらであっても、且つ、そのセルが複数回使用されて
いても、各セルについて最大２回しか、合成、分割の演
算処理しない為、効率の良い変換が可能である。
【００１３】そして、図形データだけで表されたルート
セルの、図形データ全てを電子ビーム描画装置用の描画
データにフオーマット変換する。（図１の（ｊ）） 次いで、このフオーマット変換された描画データを用い
フオトマスクの描画を行う。（図１の（ｋ））
セルの、図形データ全てを電子ビーム描画装置用の描画
データにフオーマット変換する。（図１の（ｊ）） 次いで、このフオーマット変換された描画データを用い
フオトマスクの描画を行う。（図１の（ｋ））
【００１４】
【発明の効果】本発明の電子ビーム描画装置用の描画デ
ータの作成方法は、上記のように、描画データの作成時
間の短縮、及び処理する図形データ数の減少を可能とし
ており、結局、半導体素子の高集積化、高機能化に対応
した、高集積度の、微細なパターンを持つフオトマスク
の描画データ作成作業を実用レベルで行えるものとして
いる。
ータの作成方法は、上記のように、描画データの作成時
間の短縮、及び処理する図形データ数の減少を可能とし
ており、結局、半導体素子の高集積化、高機能化に対応
した、高集積度の、微細なパターンを持つフオトマスク
の描画データ作成作業を実用レベルで行えるものとして
いる。
【図１】本発明の電子ビーム描画装置用の描画データの
作成方法実施例のフローチャート
作成方法実施例のフローチャート
【図２】本実施例を説明するための階層化セルの階層構
造およびセルない図形データを説明するための図
造およびセルない図形データを説明するための図
【図３】本実施例を説明するための階層化セルのセルＴ
ＯＰを説明するための図
ＯＰを説明するための図
【図４】セルＡ内のセル境界に接する図形を上位セルに
展開した図
展開した図
【図５】セルＡ内の合成後の分割図形の分類を説明する
ための図
ための図
【図６】セルＴＯＰにおける図形合成を説明するための
図
図
【図７】セルＡの図形データを上位セル（セルＴＯＰ）
の座標系に変換した図
の座標系に変換した図
【図８】回転なしで引用されるセルＢの図形データを上
位セル（セルＴＯＰ）の座標系に変換した図
位セル（セルＴＯＰ）の座標系に変換した図
【図９】セルＢを−９０°回転させた図及び合成後の分
割図
割図
【図１０】全図形データをルートセル座標系に変換した
図
図
ＴＯＰ、Ａ、Ｂ セル ２０Ａ、２０Ｂ、３０ セル境界 ２１、２２ 図形 ３１、３２、３３、３４、３５ 図形 ４１、４２ 図形 ６１、６２ 図形 、、、、、 図形
Claims (4)
- 【請求項１】 階層セル構造をもったパターンデータか
ら描画装置の描画データを作製する方法であって、少な
くとも、順に （Ａ）階層構造をもったデータを入力し、ボトムセルか
らトップセルに向かって、セル境界に接するデータを上
位セルの座標系に変換して上位セルに展開した後、セル
単位で図形の合成及び分離を行う工程、 （Ｂ）セル引用情報から、引用セル、セルの配置、回
転、繰り返し等を表す一覧情報であるマトリクス情報を
作成し、この情報に基づく全てのルートセル内の図形デ
ータを、この情報と前記セル単位で図形の合成及び分離
を行い得られた図形データとから、該図形データをルー
トセルの座標系へ変換してルートセル内の図形データと
して作成する工程、 （Ｃ）前記変換され作成されたルートセル内の図形デー
タを含めたルートセルの全ての図形データについて、描
画装置用の描画データにフオーマット変換する工程、 とを有することを特徴とする描画装置用の描画データの
作成方法。 - 【請求項２】 請求項１のマトリクス情報を作成し、こ
の情報に基づいて、セル単位で図形の合成及び分離を行
い得られた図形データに対し、全てをルートセルの単位
系へ変換し、ルートセル内の図形データとする工程が、
マトリクス情報に基づいて、該セル単位で図形の合成及
び分離を行い得られた図形データに対し、台形図形デー
タと接していない矩形図形データに関しては全てルート
セルの座標系に変換してルートセル図形データを得る第
一の工程、台形図形データないし台形図形データに接し
た矩形図形データについては０°、１８０°系で引用さ
れているもののみルートセルの座標系に変換してルート
セルの図形データを得る第二の工程、それ以外の９０
°、２７０°系については、セル枠及びセル内図形を９
０°回転させたセルを対応して作成し、得られたセルに
ついてセル毎に図形データについて図形の合成及び分離
を行い、台形図形データと接していない矩形図形データ
と、台形図形データないし台形図形データに接した矩形
図形データとに分離した図形データを作成し、且つ、セ
ル引用情報から作製されたマトリクス情報に引用セルの
引用する角度についての補正情報を付与しておき、前記
９０°、２７０°系のデータが、９０°回転された図形
データを０°、１８０°系で引用しているものとして、
ルートセルの座標系に変換してルートセル図形データを
得る第三の工程とからなることを特徴とする描画装置用
の描画データの作成方法。 - 【請求項３】 請求項１ないし２における描画装置の描
画データが、上底と下底をＸないしＹの一方向にのみも
つ４頂点台形フオーマットで全ての図形を表すものであ
ることを特徴とする描画装置用の描画データの作成方
法。 - 【請求項４】 請求項１ないし３における描画装置が電
子ビーム描画装置ないし光露光装置であることを特徴と
する描画装置用の描画データの作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17615094A JPH0822115A (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | 描画装置用の描画データの作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17615094A JPH0822115A (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | 描画装置用の描画データの作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0822115A true JPH0822115A (ja) | 1996-01-23 |
Family
ID=16008540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17615094A Pending JPH0822115A (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | 描画装置用の描画データの作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0822115A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007517247A (ja) * | 2003-12-17 | 2007-06-28 | メンター・グラフィクス・コーポレーション | カバーセルを用いた、階層管理を有するマスク作成 |
| JP2009516876A (ja) * | 2005-11-21 | 2009-04-23 | ソフトジン・テクノロジーズ・プライヴェイト・リミテッド | レイアウト後ｅｄａアプリケーションを開発するための方法およびシステム |
-
1994
- 1994-07-06 JP JP17615094A patent/JPH0822115A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007517247A (ja) * | 2003-12-17 | 2007-06-28 | メンター・グラフィクス・コーポレーション | カバーセルを用いた、階層管理を有するマスク作成 |
| US9292643B2 (en) | 2003-12-17 | 2016-03-22 | Mentor Graphics Corporation | Mask creation with hierarchy management using cover cells |
| US9996651B2 (en) | 2003-12-17 | 2018-06-12 | Mentor Graphics Corporation | Mask creation with hierarchy management using cover cells |
| JP2009516876A (ja) * | 2005-11-21 | 2009-04-23 | ソフトジン・テクノロジーズ・プライヴェイト・リミテッド | レイアウト後ｅｄａアプリケーションを開発するための方法およびシステム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040302 |