JPH08224825A - ガスバリアフィルム - Google Patents
ガスバリアフィルムInfo
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- JPH08224825A JPH08224825A JP7032500A JP3250095A JPH08224825A JP H08224825 A JPH08224825 A JP H08224825A JP 7032500 A JP7032500 A JP 7032500A JP 3250095 A JP3250095 A JP 3250095A JP H08224825 A JPH08224825 A JP H08224825A
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Landscapes
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ガスバリア性、防湿性、光透過性に優れたプラ
スチックフィルムを提供する。 【構成】 基材（フィルム）上に酸化珪素を主たる成分
とする薄膜を形成したフィルムであり、該薄膜の赤外吸
収スペクトルのうち、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1
の最大ピーク強度Ｐ１と、９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1
の最大ピーク強度Ｐ２の比Ｐ２／Ｐ１が０．２以下であ
るガスバリアフィルム。
スチックフィルムを提供する。 【構成】 基材（フィルム）上に酸化珪素を主たる成分
とする薄膜を形成したフィルムであり、該薄膜の赤外吸
収スペクトルのうち、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1
の最大ピーク強度Ｐ１と、９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1
の最大ピーク強度Ｐ２の比Ｐ２／Ｐ１が０．２以下であ
るガスバリアフィルム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガスバリア性、防湿性
に優れたフィルム、特に高温度、高湿度の環境において
もガスバリア性、防湿性がほとんど低下しないフィルム
に関するものである。
に優れたフィルム、特に高温度、高湿度の環境において
もガスバリア性、防湿性がほとんど低下しないフィルム
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ガスバリア性に優れたフィルムとして
は、基材の上にアルミニウムを積層したもの、塩化ビニ
リデンやエチレンビニルアルコール共重合体やポリビニ
ルアルコールをコーティングしたものが知られている。
また無機薄膜を利用したものとしては、一酸化硅素、酸
化アルミニウム薄膜を積層したものが知られてる。
は、基材の上にアルミニウムを積層したもの、塩化ビニ
リデンやエチレンビニルアルコール共重合体やポリビニ
ルアルコールをコーティングしたものが知られている。
また無機薄膜を利用したものとしては、一酸化硅素、酸
化アルミニウム薄膜を積層したものが知られてる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のガス
バリアフィルムは、次のような課題を有している。アル
ミニウム積層体は、ガスバリア性の点では優れている
が、不透明なため光学用途には使うことができず、ま
た、マイクロ波を透過しないため電子レンジでの使用が
できず、包装用フィルムとしても満足なものでない。塩
化ビニリデンやエチレンービニルアルコール共重合体を
コーティングしたものは、酸素、水蒸気などのバリア性
が十分でなく、特に高温高湿下では酸素、水蒸気などの
バリア性が著しく低下してしまう。従って、塩化ビニリ
デンやエチレンービニルアルコール共重合体をコーティ
ングしたものを液晶表示パネル用基板として用いた場
合、表示部への黒点発生、消費電力の増加などを生じて
しまい、液晶表示パネルの寿命が短い物となってしま
う。包装材料に用いた場合、塩化ビニリデンやエチレン
ービニルアルコール共重合体をコーティングしたもの
は、内容物の長期の保存安定性に欠ける。
バリアフィルムは、次のような課題を有している。アル
ミニウム積層体は、ガスバリア性の点では優れている
が、不透明なため光学用途には使うことができず、ま
た、マイクロ波を透過しないため電子レンジでの使用が
できず、包装用フィルムとしても満足なものでない。塩
化ビニリデンやエチレンービニルアルコール共重合体を
コーティングしたものは、酸素、水蒸気などのバリア性
が十分でなく、特に高温高湿下では酸素、水蒸気などの
バリア性が著しく低下してしまう。従って、塩化ビニリ
デンやエチレンービニルアルコール共重合体をコーティ
ングしたものを液晶表示パネル用基板として用いた場
合、表示部への黒点発生、消費電力の増加などを生じて
しまい、液晶表示パネルの寿命が短い物となってしま
う。包装材料に用いた場合、塩化ビニリデンやエチレン
ービニルアルコール共重合体をコーティングしたもの
は、内容物の長期の保存安定性に欠ける。
【０００４】高温高湿下においても酸素及び水蒸気バリ
ア性が低下しないものとして、特公昭５１−４８５１１
号のＳｉＯｘ（Ｘ＝１．３〜１．８）系のものが挙げら
れるが、これは褐色を有しており、透明ガスバリアフィ
ルムとしては十分なものではない。また特開昭６２−１
０１４２８に見られる酸化アルミニウムを主体とするも
のもあるが、酸素及び水蒸気バリア性が不十分であり、
また耐屈曲性も十分ではない。以上のように、高温高湿
下においても酸素及び水蒸気バリア性が十分あり、無色
透明性、耐屈曲性に優れたフィルムは無いのが現状であ
る。
ア性が低下しないものとして、特公昭５１−４８５１１
号のＳｉＯｘ（Ｘ＝１．３〜１．８）系のものが挙げら
れるが、これは褐色を有しており、透明ガスバリアフィ
ルムとしては十分なものではない。また特開昭６２−１
０１４２８に見られる酸化アルミニウムを主体とするも
のもあるが、酸素及び水蒸気バリア性が不十分であり、
また耐屈曲性も十分ではない。以上のように、高温高湿
下においても酸素及び水蒸気バリア性が十分あり、無色
透明性、耐屈曲性に優れたフィルムは無いのが現状であ
る。
【０００５】本発明は、このような背景のもと、無色透
明性、耐屈曲性に優れた、高いガスバリア性、防湿性を
付与する技術を提供することを目的としている。
明性、耐屈曲性に優れた、高いガスバリア性、防湿性を
付与する技術を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のガスバリアフィ
ルムは基材の少なくとも片面に、酸化珪素薄膜を形成し
たものであり、該薄膜の赤外吸収スペクトルのうち、１
０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の最大ピーク強度Ｐ1 と
９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の最大ピーク強度Ｐ2 の比
Ｐ2 ／Ｐ1 が以下の範囲を満足することを特徴とするガ
スバリアフィルムである。 ０≦Ｐ2 ／Ｐ1 ≦０．２ 但し、Ｐ1 ：薄膜の赤外吸収スペクトルの１０４０ｃｍ
-1〜１０８０ｃｍ-1の最大ピーク強度 Ｐ2 ：薄膜の赤外吸収スペクトルの９４０ｃｍ-1〜８５
０ｃｍ-1の最大ピーク強度
ルムは基材の少なくとも片面に、酸化珪素薄膜を形成し
たものであり、該薄膜の赤外吸収スペクトルのうち、１
０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の最大ピーク強度Ｐ1 と
９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の最大ピーク強度Ｐ2 の比
Ｐ2 ／Ｐ1 が以下の範囲を満足することを特徴とするガ
スバリアフィルムである。 ０≦Ｐ2 ／Ｐ1 ≦０．２ 但し、Ｐ1 ：薄膜の赤外吸収スペクトルの１０４０ｃｍ
-1〜１０８０ｃｍ-1の最大ピーク強度 Ｐ2 ：薄膜の赤外吸収スペクトルの９４０ｃｍ-1〜８５
０ｃｍ-1の最大ピーク強度
【０００７】以下に本発明を詳細に説明する。本発明の
酸化珪素薄膜における酸化珪素とはＳｉ，ＳｉＯ，Ｓｉ
Ｏ2 等から成り立っており、これらの比率も作成条件で
異なる。また、この成分中に、特性が損なわれない範囲
で微量（全成分に対して高々５％まで）の他成分を含ん
でも良い。該薄膜の厚さとしては、特にこれを限定する
ものではないが、ガスバリア性、防湿性の点から５０〜
８０００Å好ましく、さらに好ましくは７０〜５０００
Åである。
酸化珪素薄膜における酸化珪素とはＳｉ，ＳｉＯ，Ｓｉ
Ｏ2 等から成り立っており、これらの比率も作成条件で
異なる。また、この成分中に、特性が損なわれない範囲
で微量（全成分に対して高々５％まで）の他成分を含ん
でも良い。該薄膜の厚さとしては、特にこれを限定する
ものではないが、ガスバリア性、防湿性の点から５０〜
８０００Å好ましく、さらに好ましくは７０〜５０００
Åである。
【０００８】かかる酸化珪素薄膜の作製には、真空蒸着
法、スッパター法、イオンプレーティング法などのＰＶ
Ｄ法（物理蒸着法）、或いはＣＶＤ法（化学蒸着法）等
が適宜用いられる。例えば真空蒸着法においては、蒸着
材料としてＳｉＯ2 単独やＳｉとＳｉＯ2の混合物、あ
るいはＳｉとＳｉＯの混合物、あるいはＳｉＯとＳｉＯ
2 の混合物等が用いられ、また、加熱方式としては、抵
抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱等を用いるこ
とができる。また、反応性ガスとして、酸素、窒素、水
蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の
手段を用いた反応性蒸着を用いても良い。また、基板に
バイアス等を加えたり、基板温度を上昇、あるいは、冷
却したり等、本発明の目的を損なわない限りにおいて、
作成条件を変更しても良い。また、真空槽中の残留ガス
成分の内、水蒸気量を減少させるために、クライオパネ
ル等を設けるたり、真空槽壁を温水で加熱したり、あら
かじめ蒸着材料を加熱し含有水分量を少なくすることも
ある。。またスパッター法においても、ターゲット材料
としてＳｉＯ2 単体やＳｉとＳｉＯ2 の混合物、あるい
はＳｉとＳｉＯの混合物、あるいはＳｉＯとＳｉＯ2 の
混合物等が用いられ、また、スパッター方式としては、
直流放電、交流放電、高周波放電、イオンビーム法など
を用いることができる。また真空蒸着法と同様に、反応
性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オ
ゾン添加、イオンアシスト等の手段を用いた反応性スパ
ッタ−法を用いても良い。また、基板にバイアス等を加
えたり、基板温度を上昇、あるいは、冷却したり等、本
発明の目的を損なわない限りにおいて、作成条件を変更
しても良い。また、真空槽中の残留ガス成分の内、水蒸
気量を減少させるために、クライオパネル等を設けるこ
ともある。ＣＶＤ法等の他の作成法でも同様である。
法、スッパター法、イオンプレーティング法などのＰＶ
Ｄ法（物理蒸着法）、或いはＣＶＤ法（化学蒸着法）等
が適宜用いられる。例えば真空蒸着法においては、蒸着
材料としてＳｉＯ2 単独やＳｉとＳｉＯ2の混合物、あ
るいはＳｉとＳｉＯの混合物、あるいはＳｉＯとＳｉＯ
2 の混合物等が用いられ、また、加熱方式としては、抵
抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱等を用いるこ
とができる。また、反応性ガスとして、酸素、窒素、水
蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の
手段を用いた反応性蒸着を用いても良い。また、基板に
バイアス等を加えたり、基板温度を上昇、あるいは、冷
却したり等、本発明の目的を損なわない限りにおいて、
作成条件を変更しても良い。また、真空槽中の残留ガス
成分の内、水蒸気量を減少させるために、クライオパネ
ル等を設けるたり、真空槽壁を温水で加熱したり、あら
かじめ蒸着材料を加熱し含有水分量を少なくすることも
ある。。またスパッター法においても、ターゲット材料
としてＳｉＯ2 単体やＳｉとＳｉＯ2 の混合物、あるい
はＳｉとＳｉＯの混合物、あるいはＳｉＯとＳｉＯ2 の
混合物等が用いられ、また、スパッター方式としては、
直流放電、交流放電、高周波放電、イオンビーム法など
を用いることができる。また真空蒸着法と同様に、反応
性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オ
ゾン添加、イオンアシスト等の手段を用いた反応性スパ
ッタ−法を用いても良い。また、基板にバイアス等を加
えたり、基板温度を上昇、あるいは、冷却したり等、本
発明の目的を損なわない限りにおいて、作成条件を変更
しても良い。また、真空槽中の残留ガス成分の内、水蒸
気量を減少させるために、クライオパネル等を設けるこ
ともある。ＣＶＤ法等の他の作成法でも同様である。
【０００９】本発明における赤外吸収スペクトルとは、
４００〜４０００ｃｍ-1の赤外線に対する吸光度をい
い、赤外分光光度計によって測定することができる。測
定方法には、透過法、反射法、全反射法（ＡＴＲ法）、
光音響分光法（ＰＡＳ法）等があり、特に限定されない
が好ましくは反射法、ＡＴＲ法である。また、薄膜が形
成されているフィルムと、薄膜が形成されていない基材
のみのものとの差スペクトルをとることによって、薄膜
層のみの赤外吸収スペクトルを得ることが可能となる。
赤外吸収スペクトルから、原子間の化学的結合状態を知
ることができ、ここでは、硅素、酸素などの結合状態を
観察できる。１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1に存在す
る最大強度ピークはＳｉ−Ｏ−Ｓｉの非対称伸縮運動に
よる吸収である。それに対し、９４０ｃｍ-1〜８５０ｃ
ｍ-1に存在する最大強度ピークは、Ｓｉ−Ｏ−Ｈ結合に
よる吸収ピークである。このＳｉ−Ｏ−Ｈ結合が存在す
るということは、ＳｉＯ2 網目構造が完全ではなく、水
素で終端している構造的な欠陥を有していることにな
る。
４００〜４０００ｃｍ-1の赤外線に対する吸光度をい
い、赤外分光光度計によって測定することができる。測
定方法には、透過法、反射法、全反射法（ＡＴＲ法）、
光音響分光法（ＰＡＳ法）等があり、特に限定されない
が好ましくは反射法、ＡＴＲ法である。また、薄膜が形
成されているフィルムと、薄膜が形成されていない基材
のみのものとの差スペクトルをとることによって、薄膜
層のみの赤外吸収スペクトルを得ることが可能となる。
赤外吸収スペクトルから、原子間の化学的結合状態を知
ることができ、ここでは、硅素、酸素などの結合状態を
観察できる。１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1に存在す
る最大強度ピークはＳｉ−Ｏ−Ｓｉの非対称伸縮運動に
よる吸収である。それに対し、９４０ｃｍ-1〜８５０ｃ
ｍ-1に存在する最大強度ピークは、Ｓｉ−Ｏ−Ｈ結合に
よる吸収ピークである。このＳｉ−Ｏ−Ｈ結合が存在す
るということは、ＳｉＯ2 網目構造が完全ではなく、水
素で終端している構造的な欠陥を有していることにな
る。
【００１０】このようにして得られた該薄膜の赤外吸収
スペクトルのうち、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の
間に存在する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５
０ｃｍ-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 との比Ｐ2
／Ｐ1 が、０．２よりも大きい領域のときには、薄膜中
にＳｉ−Ｏ−Ｈによる構造欠陥が大きく、十分なガスバ
リア性、防湿性が得られない。以上の理由により、ガス
バリアフィルムとして好ましい酸化硅素薄膜は、赤外吸
収スペクトルのうち１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の
間に存在する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５
０ｃｍ-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／
Ｐ1 は、０．２以下が好ましく、より好ましくは０．１
５以下である。
スペクトルのうち、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の
間に存在する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５
０ｃｍ-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 との比Ｐ2
／Ｐ1 が、０．２よりも大きい領域のときには、薄膜中
にＳｉ−Ｏ−Ｈによる構造欠陥が大きく、十分なガスバ
リア性、防湿性が得られない。以上の理由により、ガス
バリアフィルムとして好ましい酸化硅素薄膜は、赤外吸
収スペクトルのうち１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の
間に存在する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５
０ｃｍ-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／
Ｐ1 は、０．２以下が好ましく、より好ましくは０．１
５以下である。
【００１１】本発明でいう基材とは、有機高分子を溶融
押出しまたは溶液押出しをして、必要に応じ、長手方
向、および、または、幅方向に延伸、冷却、熱固定を施
したフィルムであり、有機高分子としては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタート、ポリ
エチレン−２，６−ナフタレート、ナイロン６、ナイロ
ン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリ塩化ビニー
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニールアルコール、全
芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポ
リエーテルイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンス
ルフィド、ポリフェニレンオキサイド、全芳香族ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポ
リアリレート、ポリメタクリレート、ポリベンザソール
など、およびこれらの架橋体があげられる。また、これ
らの（有機重合体）有機高分子は他の有機重合体を少量
共重合をしたり、ブレンドしたりしてもよい。
押出しまたは溶液押出しをして、必要に応じ、長手方
向、および、または、幅方向に延伸、冷却、熱固定を施
したフィルムであり、有機高分子としては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタート、ポリ
エチレン−２，６−ナフタレート、ナイロン６、ナイロ
ン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリ塩化ビニー
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニールアルコール、全
芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポ
リエーテルイミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンス
ルフィド、ポリフェニレンオキサイド、全芳香族ポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポ
リアリレート、ポリメタクリレート、ポリベンザソール
など、およびこれらの架橋体があげられる。また、これ
らの（有機重合体）有機高分子は他の有機重合体を少量
共重合をしたり、ブレンドしたりしてもよい。
【００１２】さらにこの有機高分子には、公知の添加
剤、例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、可塑剤、滑
剤、着色剤などが添加されていてもよく、その透明度は
特に限定するものではないが、ガスバリア性フィルムと
して使用する場合には、８０％以上の透過率をもつもの
が好ましい。また液晶表示パネル用電極基板等の光学用
途に用いる場合には、本発明の基材は光学的に等方であ
る方が好ましく、レタデーション値では１００ｎｍ以下
が好ましく、さらに好ましくは７０ｎｍ以下、特に好ま
しくは５０ｎｍ以下である。さらに本発明の基材は、本
発明の目的を損なわない限りにおいて、薄膜層を積層す
るに先行して、該フィルムをコロナ放電処理、グロー放
電処理、その他の表面粗面化処理を施してもよく、ま
た、公知のアンカーコート処理などが施されていてもよ
い。本発明の基材は、その厚さとして５〜７００μｍの
範囲が好ましく、さらに好ましくは８〜５００μｍの範
囲である。本発明品は、そのままで使用されてもよい
が、他の有機高分子のフィルム、または薄層をラミネー
トまたはコーティングして使用してもよい。
剤、例えば、紫外線吸収剤、帯電防止剤、可塑剤、滑
剤、着色剤などが添加されていてもよく、その透明度は
特に限定するものではないが、ガスバリア性フィルムと
して使用する場合には、８０％以上の透過率をもつもの
が好ましい。また液晶表示パネル用電極基板等の光学用
途に用いる場合には、本発明の基材は光学的に等方であ
る方が好ましく、レタデーション値では１００ｎｍ以下
が好ましく、さらに好ましくは７０ｎｍ以下、特に好ま
しくは５０ｎｍ以下である。さらに本発明の基材は、本
発明の目的を損なわない限りにおいて、薄膜層を積層す
るに先行して、該フィルムをコロナ放電処理、グロー放
電処理、その他の表面粗面化処理を施してもよく、ま
た、公知のアンカーコート処理などが施されていてもよ
い。本発明の基材は、その厚さとして５〜７００μｍの
範囲が好ましく、さらに好ましくは８〜５００μｍの範
囲である。本発明品は、そのままで使用されてもよい
が、他の有機高分子のフィルム、または薄層をラミネー
トまたはコーティングして使用してもよい。
【００１３】本発明のガスバリアフィルムは高温高湿下
においてもガスバリア性、防湿性が低下することがない
ので、長期の環境安定性を必要とするもの、具体的には
液晶表示パネル用の電極基板などの光学用途や、包装材
料等に適したものである。このうち電極基板として用い
るには、このガスバリアフィルム上にＩＴＯ等の透明電
極を設ける。この透明電極の作製には真空蒸着法、スパ
ッター法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法（物
理蒸着法）、或いはＣＶＤ法（化学蒸着法）等が適宜用
いられる。また包装材料として用いる場合には、薄膜面
側に未延伸ポリプロピレン、２軸延伸ポリプロピレン、
ポリエチレン等のヒートシール層を接着剤を介してラミ
ネートして用いることもできる。また本発明のガスバリ
アフィルムは公知の接着剤層を介して積層することもで
きる。
においてもガスバリア性、防湿性が低下することがない
ので、長期の環境安定性を必要とするもの、具体的には
液晶表示パネル用の電極基板などの光学用途や、包装材
料等に適したものである。このうち電極基板として用い
るには、このガスバリアフィルム上にＩＴＯ等の透明電
極を設ける。この透明電極の作製には真空蒸着法、スパ
ッター法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法（物
理蒸着法）、或いはＣＶＤ法（化学蒸着法）等が適宜用
いられる。また包装材料として用いる場合には、薄膜面
側に未延伸ポリプロピレン、２軸延伸ポリプロピレン、
ポリエチレン等のヒートシール層を接着剤を介してラミ
ネートして用いることもできる。また本発明のガスバリ
アフィルムは公知の接着剤層を介して積層することもで
きる。
【００１４】以下に本発明を実施例をあげて詳細に説明
する。 実施例１ 基材として厚さ１００μｍ、レタデーション値２０ｎｍ
のポリカーボネートフィルムを用い、この上に水系ウレ
タン系のアンカーコーティング剤をコーティングし厚さ
３μｍのアンカーコーティング層を形成した。さらにこ
の上に電子ビーム蒸着法により酸化珪素薄膜を厚さ５０
０Å形成する。このとき蒸着源として３〜５ｍｍ程度の
大きさの粒子状のＳｉＯ2 （純度９９．９％）を用い、
加熱源として一台の電子銃を用いた。その時の電子銃の
エミッション電流は２．０Ａとし、フィルム送り速度は
１０ｍ／ｍｉｎ．、酸素ガスの供給量は１３０ｓｃｃ
ｍ、チルロール冷却温度は−１０℃と一定にした。また
蒸着中の真空槽残留ガスの内、水蒸気量を減らすため、
クライオパネルを用いた。
する。 実施例１ 基材として厚さ１００μｍ、レタデーション値２０ｎｍ
のポリカーボネートフィルムを用い、この上に水系ウレ
タン系のアンカーコーティング剤をコーティングし厚さ
３μｍのアンカーコーティング層を形成した。さらにこ
の上に電子ビーム蒸着法により酸化珪素薄膜を厚さ５０
０Å形成する。このとき蒸着源として３〜５ｍｍ程度の
大きさの粒子状のＳｉＯ2 （純度９９．９％）を用い、
加熱源として一台の電子銃を用いた。その時の電子銃の
エミッション電流は２．０Ａとし、フィルム送り速度は
１０ｍ／ｍｉｎ．、酸素ガスの供給量は１３０ｓｃｃ
ｍ、チルロール冷却温度は−１０℃と一定にした。また
蒸着中の真空槽残留ガスの内、水蒸気量を減らすため、
クライオパネルを用いた。
【００１５】このようにして得られた膜の赤外吸収スペ
クトルを赤外分光光度計で測定した。このとき更に、こ
のガスバリアフィルムの酸素バリア性、防湿性を測定し
た。次に測定方法を示す。 ・酸素透過量の測定方法 作成したガスバリアフィルムの酸素透過量を酸素透過量
測定装置（モダン コントロールズ社製 ＯＸ−ＴＲＡ
Ｎ１００）を用いて測定した。 ・水蒸気透過量の測定方法 作成したガスバリアフィルムの水蒸気透過量を水蒸気透
過度テスタ−（リッシ−社製 Ｌ８０−４０００型）を
用いて測定した。 ・赤外吸収スペクトルの測定方法 赤外分光光度計（バイオラッド社製 ＦＴＳ−８０）を
用いて、ＡＴＲ法により４００〜４０００ｃｍ-1の赤外
吸収スペクトルを測定した。また、できるだけ表層部の
測定を行うために、試料への赤外光の侵入長が比較的短
いゲルマニウムを高屈折材料として用いた。この時入射
角は４５°とした。このようにして測定した酸素透過量
は０．１３ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、水蒸気透過量
０．５ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙと非常に優秀であっ
た。このスペクトルを図１に示す。また赤外吸収スペク
トルのうち、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存
在する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ
-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は
０．０８２であった。
クトルを赤外分光光度計で測定した。このとき更に、こ
のガスバリアフィルムの酸素バリア性、防湿性を測定し
た。次に測定方法を示す。 ・酸素透過量の測定方法 作成したガスバリアフィルムの酸素透過量を酸素透過量
測定装置（モダン コントロールズ社製 ＯＸ−ＴＲＡ
Ｎ１００）を用いて測定した。 ・水蒸気透過量の測定方法 作成したガスバリアフィルムの水蒸気透過量を水蒸気透
過度テスタ−（リッシ−社製 Ｌ８０−４０００型）を
用いて測定した。 ・赤外吸収スペクトルの測定方法 赤外分光光度計（バイオラッド社製 ＦＴＳ−８０）を
用いて、ＡＴＲ法により４００〜４０００ｃｍ-1の赤外
吸収スペクトルを測定した。また、できるだけ表層部の
測定を行うために、試料への赤外光の侵入長が比較的短
いゲルマニウムを高屈折材料として用いた。この時入射
角は４５°とした。このようにして測定した酸素透過量
は０．１３ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、水蒸気透過量
０．５ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙと非常に優秀であっ
た。このスペクトルを図１に示す。また赤外吸収スペク
トルのうち、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存
在する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ
-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は
０．０８２であった。
【００１６】次にこのガスバリアフィルム上に酸化イン
ジウム９０重量％と酸化スズ１０重量％とからなる厚さ
５００Åの透明電極層をスパッタリング法で作成した。
以上のようにして得た基板を用いて常法により液晶表示
パネルを作成したが、ガスバリア性、防湿性、耐熱性の
いずれも優れたものであり、長期間の使用後においても
液晶部に黒色の泡が発生することもなかった。
ジウム９０重量％と酸化スズ１０重量％とからなる厚さ
５００Åの透明電極層をスパッタリング法で作成した。
以上のようにして得た基板を用いて常法により液晶表示
パネルを作成したが、ガスバリア性、防湿性、耐熱性の
いずれも優れたものであり、長期間の使用後においても
液晶部に黒色の泡が発生することもなかった。
【００１７】比較例１ 実施例１と同じようにポリカーボネートフィルムの上に
水系アンカーコート層を形成した。さらにこの上に厚さ
１５μｍのエチレンービニルアルコール共重合体層を設
け、実施例１を繰り返し、液晶表示パネルを作成した
が、ガスバリア性、防湿性、耐熱性が十分ではなく、長
期間の使用に耐えなかった。
水系アンカーコート層を形成した。さらにこの上に厚さ
１５μｍのエチレンービニルアルコール共重合体層を設
け、実施例１を繰り返し、液晶表示パネルを作成した
が、ガスバリア性、防湿性、耐熱性が十分ではなく、長
期間の使用に耐えなかった。
【００１８】実施例２ 基材として厚さ５０μｍ、レタデーション値２０ｎｍの
ポリアミドイミドフィルムを用いた。この上に、ＳｉＯ
2 ターゲット（純度９９．９９％）を用い、高周波スパ
ッタリング法で酸化珪素薄膜を形成した。フィルム送り
速度は、１ｍ／ｍｉｎ．とし、４００Å厚の薄膜を作成
した。アルゴン及び酸素ガスの供給により、スパッタリ
ング時圧力を５ｍＴｏｒｒとした。スパッタリング電力
は２ｋＷとした。このようにして得られた薄膜の赤外吸
収スペクトル（図２）を測定したところ、１０４０ｃｍ
-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ1
と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に存在する最大ピー
ク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1は０．１７２であった。さら
に酸素透過量、水蒸気透過量を測定したところ０．１０
ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、０．３ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ
・ｄａｙであり非常に優秀なガスバリア性、防湿性を示
した。さらに実施例１と同様に透明電極を設け、液晶表
示パネルを作成したが、ガスバリア性、防湿性、耐熱性
のいずれも優れたものであり、長期間の使用後において
も液晶部に黒色の泡が発生することもなかった。
ポリアミドイミドフィルムを用いた。この上に、ＳｉＯ
2 ターゲット（純度９９．９９％）を用い、高周波スパ
ッタリング法で酸化珪素薄膜を形成した。フィルム送り
速度は、１ｍ／ｍｉｎ．とし、４００Å厚の薄膜を作成
した。アルゴン及び酸素ガスの供給により、スパッタリ
ング時圧力を５ｍＴｏｒｒとした。スパッタリング電力
は２ｋＷとした。このようにして得られた薄膜の赤外吸
収スペクトル（図２）を測定したところ、１０４０ｃｍ
-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ1
と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に存在する最大ピー
ク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1は０．１７２であった。さら
に酸素透過量、水蒸気透過量を測定したところ０．１０
ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、０．３ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ
・ｄａｙであり非常に優秀なガスバリア性、防湿性を示
した。さらに実施例１と同様に透明電極を設け、液晶表
示パネルを作成したが、ガスバリア性、防湿性、耐熱性
のいずれも優れたものであり、長期間の使用後において
も液晶部に黒色の泡が発生することもなかった。
【００１９】比較例２ 実施例２と同様のポリアミドイミドフィルム上にスパッ
タ時圧力を６０ｍＴｏｒｒとした以外は同様に酸化珪素
薄膜を形成し、得られたサンプルに対し、薄膜の赤外吸
収スペクトル（図２）を測定したところ、１０４０ｃｍ
-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ1
と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に存在する最大ピー
ク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は０．２９２であった。さら
に酸素透過量、水蒸気透過量を測定したところ０．８３
ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、１．０ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ
・ｄａｙであり、充分なガスバリア性、防湿性をしめさ
なかった。また、このフィルムを用い液晶表示パネルを
作成したが、ガスバリア性、防湿性、耐熱性が十分では
なく、長期間の使用に耐えなかった。
タ時圧力を６０ｍＴｏｒｒとした以外は同様に酸化珪素
薄膜を形成し、得られたサンプルに対し、薄膜の赤外吸
収スペクトル（図２）を測定したところ、１０４０ｃｍ
-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ1
と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に存在する最大ピー
ク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は０．２９２であった。さら
に酸素透過量、水蒸気透過量を測定したところ０．８３
ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、１．０ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ
・ｄａｙであり、充分なガスバリア性、防湿性をしめさ
なかった。また、このフィルムを用い液晶表示パネルを
作成したが、ガスバリア性、防湿性、耐熱性が十分では
なく、長期間の使用に耐えなかった。
【００２０】実施例３ 基材として厚さ１５０μｍ、レタデーション値１０ｎｍ
のポリアリレートフィルムを用いた。この上に、Ｓｉタ
ーゲット（純度９９．９９％）を用い、直流放電式反応
性スパッタ法で、酸化珪素薄膜を形成した。フィルム送
り速度は、５ｍ／ｍｉｎ．とし、８００Å厚の薄膜を作
成した。アルゴン及び酸素ガスを供給し、酸素雰囲気ス
パッタリング時圧力を１０ｍＴｏｒｒに固定した。スパ
ッタ電力は２．５ｋＷとした。このようにして得られた
薄膜の赤外吸収スペクトル（図３）を測定したところ、
１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最大ピ
ーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に存在
する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は０．０９９で
あった。さらに酸素透過量、水蒸気透過量を測定したと
ころ０．０９ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、０．２ｇ／
ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり非常に優秀なガスバリア
性、防湿性を示した。さらに実施例１と同様に透明電極
を設け、液晶表示パネルを作成したが、ガスバリア性、
防湿性、耐熱性のいずれも優れたものであり、長期間の
使用後においても液晶部に黒色の泡が発生することもな
かった。
のポリアリレートフィルムを用いた。この上に、Ｓｉタ
ーゲット（純度９９．９９％）を用い、直流放電式反応
性スパッタ法で、酸化珪素薄膜を形成した。フィルム送
り速度は、５ｍ／ｍｉｎ．とし、８００Å厚の薄膜を作
成した。アルゴン及び酸素ガスを供給し、酸素雰囲気ス
パッタリング時圧力を１０ｍＴｏｒｒに固定した。スパ
ッタ電力は２．５ｋＷとした。このようにして得られた
薄膜の赤外吸収スペクトル（図３）を測定したところ、
１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最大ピ
ーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に存在
する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は０．０９９で
あった。さらに酸素透過量、水蒸気透過量を測定したと
ころ０．０９ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、０．２ｇ／
ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり非常に優秀なガスバリア
性、防湿性を示した。さらに実施例１と同様に透明電極
を設け、液晶表示パネルを作成したが、ガスバリア性、
防湿性、耐熱性のいずれも優れたものであり、長期間の
使用後においても液晶部に黒色の泡が発生することもな
かった。
【００２１】比較例３ 実施例３と同様のポリアリレートフィルム上に酸素雰囲
気スパッタリング時圧力を１００ｍＴｏｒｒとした以外
は同様にして酸化硅素薄膜を形成し、得られたサンプル
に対し、薄膜の赤外吸収スペクトル（図３）を測定した
ところ、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在す
る最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の
間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は０．
３５４であった。また酸素透過量、水蒸気透過量を測定
したところ０．７５ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、１．
５ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり、充分なガスバリア
性、防湿性をしめさなかった。また、このフィルムを用
い液晶表示パネルを作成したが、ガスバリア性、防湿
性、耐熱性が十分ではなく、長期間の使用に耐えなかっ
た。
気スパッタリング時圧力を１００ｍＴｏｒｒとした以外
は同様にして酸化硅素薄膜を形成し、得られたサンプル
に対し、薄膜の赤外吸収スペクトル（図３）を測定した
ところ、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在す
る最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の
間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は０．
３５４であった。また酸素透過量、水蒸気透過量を測定
したところ０．７５ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、１．
５ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり、充分なガスバリア
性、防湿性をしめさなかった。また、このフィルムを用
い液晶表示パネルを作成したが、ガスバリア性、防湿
性、耐熱性が十分ではなく、長期間の使用に耐えなかっ
た。
【００２２】実施例４ 基材として厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート
フィルム（東洋紡績（株）：Ｅ５１００）を用いた。こ
の上に電子ビーム蒸着法により酸化珪素薄膜を厚さ５０
０Å形成する。このとき蒸着源として３〜５ｍｍ程度の
大きさの粒子状のＳｉＯ2 （純度９９．９５％）を用
い、加熱源として一台の電子銃を用いた。その時の電子
銃のエミッション電流は３．３Ａとし、フィルム送り速
度は１８０ｍ／ｍｉｎ．、酸素ガスの供給量は２５０ｓ
ｃｃｍ、チルロール冷却温度は−２０℃と一定にした。
また蒸着中の真空槽残留ガスの内、水蒸気量を減らすた
め、真空槽壁面に温水を循環させ、吸着水を減少させ
た。また、蒸着前に蒸着源材料を予備的に加熱して、材
料に残存している水分も極力少なくした。このようにし
て得られた薄膜の赤外吸収スペクトルを測定したとこ
ろ、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最
大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に
存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は０．１３
２であった。さらに酸素透過量、水蒸気透過量を測定し
たところ０．３ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、１．５ｇ
／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり非常に優秀なガスバリア
性、防湿性を示した。さらにこの上に、厚さ６０μｍの
未延伸ポリプロピレンを二液硬化型ポリウレタン系接着
剤（厚さ２μｍ）を用いてドライラミネートし、本発明
応用の包装用プラスチックフィルムを得た。この包装用
フィルムに対して、ボイル処理（９０℃熱水中 ３０
分）を施した、酸素透過量、水蒸気透過量を測定したと
ころ０．４ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、１．０ｇ／ｍ
2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり、包装用フィルムとして非常
に優秀なガスバリア性、防湿性を示した。
フィルム（東洋紡績（株）：Ｅ５１００）を用いた。こ
の上に電子ビーム蒸着法により酸化珪素薄膜を厚さ５０
０Å形成する。このとき蒸着源として３〜５ｍｍ程度の
大きさの粒子状のＳｉＯ2 （純度９９．９５％）を用
い、加熱源として一台の電子銃を用いた。その時の電子
銃のエミッション電流は３．３Ａとし、フィルム送り速
度は１８０ｍ／ｍｉｎ．、酸素ガスの供給量は２５０ｓ
ｃｃｍ、チルロール冷却温度は−２０℃と一定にした。
また蒸着中の真空槽残留ガスの内、水蒸気量を減らすた
め、真空槽壁面に温水を循環させ、吸着水を減少させ
た。また、蒸着前に蒸着源材料を予備的に加熱して、材
料に残存している水分も極力少なくした。このようにし
て得られた薄膜の赤外吸収スペクトルを測定したとこ
ろ、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最
大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に
存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は０．１３
２であった。さらに酸素透過量、水蒸気透過量を測定し
たところ０．３ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、１．５ｇ
／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり非常に優秀なガスバリア
性、防湿性を示した。さらにこの上に、厚さ６０μｍの
未延伸ポリプロピレンを二液硬化型ポリウレタン系接着
剤（厚さ２μｍ）を用いてドライラミネートし、本発明
応用の包装用プラスチックフィルムを得た。この包装用
フィルムに対して、ボイル処理（９０℃熱水中 ３０
分）を施した、酸素透過量、水蒸気透過量を測定したと
ころ０．４ｃｃ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、１．０ｇ／ｍ
2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり、包装用フィルムとして非常
に優秀なガスバリア性、防湿性を示した。
【００２３】比較例４ 実施例４と同様のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に温水による真空壁加熱と蒸着材料の予備加熱を行わ
なかった以外は同様にして酸化硅素薄膜を形成し、得ら
れたサンプルに対し、薄膜の赤外吸収スペクトルを測定
したところ、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存
在する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ -1〜８５０ｃｍ
-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は
０．４１８であった。また酸素透過量、水蒸気透過量を
測定したところ４７．１ｃｃ／ｍ 2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、
３２．９ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり、充分なガス
バリア性、防湿性をしめさなかった。また、このフィル
ムを用い実施例４と同様の包装用プラスチックフィルム
を作成したが、ガスバリア性、防湿性、耐ボイル性が十
分ではなかった。
上に温水による真空壁加熱と蒸着材料の予備加熱を行わ
なかった以外は同様にして酸化硅素薄膜を形成し、得ら
れたサンプルに対し、薄膜の赤外吸収スペクトルを測定
したところ、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存
在する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ -1〜８５０ｃｍ
-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 は
０．４１８であった。また酸素透過量、水蒸気透過量を
測定したところ４７．１ｃｃ／ｍ 2 ・ａｔｍ・ｄａｙ、
３２．９ｇ／ｍ2 ・ａｔｍ・ｄａｙであり、充分なガス
バリア性、防湿性をしめさなかった。また、このフィル
ムを用い実施例４と同様の包装用プラスチックフィルム
を作成したが、ガスバリア性、防湿性、耐ボイル性が十
分ではなかった。
【００２４】
【発明の効果】基材上に酸化硅素系薄膜が形成されたガ
スバリアフィルムにおいて、該薄膜の赤外吸収スペクト
ルのうち、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在
する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1
の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 が
０．２以下の範囲を満足することにより、ガスバリア
性、防湿性に優れ、特にを特徴とするガスバリアフィル
ム。光等方性に優れた基材の少なくとも片面に、酸化硅
素を主たる成分とする薄膜が形成されたガスバリアフィ
ルムにおいて、該薄膜の赤外吸収スペクトルのうち、１
０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最大ピー
ク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に存在す
る最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 が０．２以下の範
囲内とすることによりガスバリア性、防湿性に極めて優
れたプラスチックフィルムを提供することができる。
スバリアフィルムにおいて、該薄膜の赤外吸収スペクト
ルのうち、１０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在
する最大ピーク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1
の間に存在する最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 が
０．２以下の範囲を満足することにより、ガスバリア
性、防湿性に優れ、特にを特徴とするガスバリアフィル
ム。光等方性に優れた基材の少なくとも片面に、酸化硅
素を主たる成分とする薄膜が形成されたガスバリアフィ
ルムにおいて、該薄膜の赤外吸収スペクトルのうち、１
０４０ｃｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最大ピー
ク強度Ｐ1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に存在す
る最大ピーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 が０．２以下の範
囲内とすることによりガスバリア性、防湿性に極めて優
れたプラスチックフィルムを提供することができる。
【図１】本発明における実施例１で得られた薄膜の赤外
吸収スペクトルの一例である。
吸収スペクトルの一例である。
【図２】本発明における実施例２および比較例２で得ら
れた薄膜の赤外吸収スペクトルの一例である。
れた薄膜の赤外吸収スペクトルの一例である。
【図３】本発明における実施例３および比較例３で得ら
れた薄膜の赤外吸収スペクトルの一例である。
れた薄膜の赤外吸収スペクトルの一例である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 3/36 ＫＡＨ Ｃ０８Ｋ 3/36 ＫＡＨ Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00 (72)発明者 山田 陽三 滋賀県大津市堅田二丁目１番１号 東洋紡 績株式会社総合研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】基材の少なくとも片面に、酸化硅素を主た
る成分とする薄膜が形成されたガスバリアフィルムにお
いて、該薄膜の赤外吸収スペクトルのうち、１０４０ｃ
ｍ-1〜１０８０ｃｍ-1の間に存在する最大ピーク強度Ｐ
1 と９４０ｃｍ-1〜８５０ｃｍ-1の間に存在する最大ピ
ーク強度Ｐ2 の比Ｐ2 ／Ｐ1 が下記式の範囲を満足する
ことを特徴とするガスバリアフィルム。 ０≦Ｐ2 ／Ｐ1 ≦０．２ 但し、Ｐ1 ：薄膜の赤外吸収スペクトルの１０４０ｃｍ
-1〜１０８０ｃｍ-1の最大ピーク強度 Ｐ2 ：薄膜の赤外吸収スペクトルの９４０ｃｍ-1〜８５
０ｃｍ-1の最大ピーク強度 - 【請求項２】基材のレタデーション値が１００ｎｍ以下
の光等方シートである請求項１記載のガスバリアフィル
ム。 - 【請求項３】液晶表示パネル用基板に用いることを特徴
とする請求項１または、請求項２記載のガスバリアフィ
ルム。 - 【請求項４】請求項１記載の薄膜上に、ヒートシール層
が設けられている請求項１記載のガスバリアフィルム。 - 【請求項５】包装用あるいはガス遮断用フィルムに用い
ることを特徴とする請求項１、または請求項４記載のガ
スバリアフィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03250095A JP3654370B2 (ja) | 1994-12-21 | 1995-02-21 | ガスバリアフィルム |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31842094 | 1994-12-21 | ||
| JP6-318420 | 1994-12-21 | ||
| JP03250095A JP3654370B2 (ja) | 1994-12-21 | 1995-02-21 | ガスバリアフィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08224825A true JPH08224825A (ja) | 1996-09-03 |
| JP3654370B2 JP3654370B2 (ja) | 2005-06-02 |
Family
ID=26371086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03250095A Expired - Lifetime JP3654370B2 (ja) | 1994-12-21 | 1995-02-21 | ガスバリアフィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3654370B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011083879A1 (en) | 2010-01-07 | 2011-07-14 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Cured organopolysiloxane resin film having gas barrier properties and method of producing the same |
| JP2011194667A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Fujifilm Corp | ガスバリアフィルム |
| KR20190077311A (ko) | 2016-10-28 | 2019-07-03 | 린텍 가부시키가이샤 | 적층 필름, 전자 디바이스용 부재, 및 전자 디바이스 |
| WO2024075635A1 (ja) * | 2022-10-03 | 2024-04-11 | 東洋紡株式会社 | ガスバリア性積層フィルム及びその製造方法 |
| WO2025084406A1 (ja) * | 2023-10-19 | 2025-04-24 | Ｔｏｐｐａｎホールディングス株式会社 | ガスバリアフィルムおよび製造方法 |
-
1995
- 1995-02-21 JP JP03250095A patent/JP3654370B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011083879A1 (en) | 2010-01-07 | 2011-07-14 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Cured organopolysiloxane resin film having gas barrier properties and method of producing the same |
| JP2011194667A (ja) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Fujifilm Corp | ガスバリアフィルム |
| KR20190077311A (ko) | 2016-10-28 | 2019-07-03 | 린텍 가부시키가이샤 | 적층 필름, 전자 디바이스용 부재, 및 전자 디바이스 |
| WO2024075635A1 (ja) * | 2022-10-03 | 2024-04-11 | 東洋紡株式会社 | ガスバリア性積層フィルム及びその製造方法 |
| WO2025084406A1 (ja) * | 2023-10-19 | 2025-04-24 | Ｔｏｐｐａｎホールディングス株式会社 | ガスバリアフィルムおよび製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3654370B2 (ja) | 2005-06-02 |
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