JPH08225791A

JPH08225791A - 炭素系部材および磁気記録媒体並びにそれらの製造方法

Info

Publication number: JPH08225791A
Application number: JP7031249A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Seki; 博司関; Hideyuki Ueda; 英之植田; Yoshiyuki Okazaki; 禎之岡崎; Kiyoshi Takahashi; 喜代司高橋; Masaru Odagiri; 優小田桐; Kenji Kuwabara; 賢次桑原; Mikio Murai; 幹夫村居
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1995-02-20
Filing date: 1995-02-20
Publication date: 1996-09-03

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は、炭素系部材上に潤滑性もしくは撥
水性、あるいは潤滑性と撥水性の両方を有する潤滑剤を
良好な配向性で強固に付着させ、良好な潤滑性・撥水性
・耐食性を示す炭素系部材を提供することを目的とす
る。特に、ビデオテープレコーダー使用時の繰り返し使
用においても、低く安定な摩擦係数を示す滑り性の良
い、耐候保存性に優れた磁気記録媒体を提供することを
目的とする。【構成】非磁性基板１上に強磁性金属薄膜２、炭素膜
３をこの順に形成し、真空中にて炭素膜３表面に紫外線
を照射した後、大気中もしくは大気に曝すことなく引き
続いて真空中にて潤滑剤層４を形成した磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、潤滑剤を塗布した炭素
系部材およびその製造方法に関し、特に前記炭素系部材
を保護膜またはバックコート層として設けた磁気記録媒
体およびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、炭素系部材上に潤滑性もしくは撥
水性、あるいは潤滑性と撥水性の両方を有する潤滑剤を
塗布し、炭素系部材の潤滑性・撥水性・耐食性を向上さ
せようとする試みが数多くなされている。具体的には磁
気記録媒体の保護膜、テープレコーダーの樹脂ローラー
・樹脂ポスト、インクジェットプリンターのノズル面、
スーツ、シャツ、ネクタイ、カーペット、傘、レインコ
ート、塗料等が挙げられる。

【０００３】例えば磁気記録の分野において、記録再生
装置の小型化・高性能化に伴い、高密度記録に適した連
続薄膜型磁気記録媒体の開発が盛んに行われている。し
かし、連続薄膜型磁気記録媒体では磁性層表面が極めて
平滑であるために、磁気ヘッドとの摩擦係数が大きくな
りやすい。その結果、記録・再生過程における磁性層の
摩耗・損傷が生じやすくなる。また、特に高湿度環境下
にて、磁性層表面における酸化・腐食が進行し、その結
果、磁気特性が劣化するという課題を有していた。従っ
て走行耐久性の向上、すなわち媒体と磁気ヘッドの接触
摺動による媒体の損傷防止と、耐候保存性の向上、すな
わち高湿度環境下における磁性薄膜の腐食防止のため
に、磁気媒体表面に保護膜および潤滑剤層が設けられて
いる。そして、優れた走行耐久性および耐候保存性を得
るために、潤滑剤層を保護膜上に均一かつ強固に付着さ
せる工夫が多くなされている。

【０００４】例えば、有機高分子化合物からなる保護膜
中にＡｌ、Ｃｒ、Ｃｏ等の金属を含有させる方法（特開
昭６２−３１０２２号公報）、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｌ等を含
有する有機金属プラズマ重合膜を保護膜とする方法（特
開昭６３−７５１４号公報）、保護膜上にカップリング
剤を設ける方法（特開昭６２−２４８１２４号公報、特
開昭６３−５２３１９号公報）、保護膜上にイオン注
入、紫外線照射等の表面処理を行った後カップリング剤
を設ける方法（特開平１−１２８２２２号公報、特開平
２−２７５２２号公報）、炭素質保護膜に紫外線を照射
する方法（特開昭６１−２２４３５号公報、特開昭６３
−３０８７２７号公報、特開平４−２１２７１５号公
報）等が知られている。また、炭素質保護膜に紫外線を
照射する方法として、オゾン雰囲気中にて保護膜に紫外
線を照射する方法（特開平１−７０９２１号公報、特開
平２−３７５２３号公報、特開平４−６６２４号公報）
等が知られている。

【０００５】保護膜上の潤滑剤層はパーフルオロポリエ
ーテル、含フッ素カルボン酸、含フッ素リン酸等が用い
られる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
構成では、磁気記録媒体と磁気ヘッドの接触摺動時の走
行耐久性、高湿度環境下や腐食性ガス環境下における耐
候保存性は向上するが、未だ充分なものとは言えない状
況である。例えば、保護膜上にカップリング剤を設けた
後に潤滑剤を塗布する方法では、炭素保護膜とカップリ
ング剤との濡れ性が悪く、均一にカップリング剤を塗布
することが困難であり、その結果、全面にわたっての均
一な滑り性が得られなかったりする。また、保護膜中に
金属原子を含有させる方法や、大気中もしくはオゾン雰
囲気中にて保護膜に紫外線を照射する方法では、潤滑剤
の配向性・付着強度の向上が不十分で、長期間における
繰り返し使用時の、滑り性・耐候保存性の安定性の面で
問題点が残る。

【０００７】本発明の目的は、炭素系部材上に潤滑性も
しくは撥水性、あるいは潤滑性と撥水性の両方を有する
潤滑剤を良好な配向性で強固に付着させ、良好な潤滑性
・撥水性・耐食性を示す炭素系部材を提供することであ
る。特に、ビデオテープレコーダー使用時の繰り返し使
用においても、低く安定な摩擦係数を示す滑り性の良
い、耐候保存性に優れた磁気記録媒体を提供することで
ある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明は炭素系部材の表面を真空中にて紫外線照
射した後に、潤滑剤を塗布する炭素系部材およびその製
造方法に関するものである。

【０００９】また、本発明は炭素系部材の表面を真空中
にて紫外線照射した後に、大気に曝すことなく、引き続
いて真空中にて潤滑剤を塗布する炭素系部材およびその
製造方法に関するものである。

【００１０】また、本発明は上記炭素系部材を保護膜ま
たはバックコート層として用いた磁気記録媒体およびそ
の製造方法に関するものである。

【００１１】本発明における炭素系部材として、グラフ
ァイト、ダイヤモンド、非晶質カーボン、カーボンブラ
ック、ダイヤモンド状カーボン等の炭素材料、水素含有
非晶質カーボン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
イソプレン、ポリイソブチレン、ポリスチレン、ポリブ
タジエン、メチルペンテン樹脂等の炭化水素系材料、Ｂ
₄Ｃ、ＷＣ、Ｗ₂Ｃ、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＨｆＣ、ＺｒＣ、
ＮｂＣ、ＶＣ、Ｆｅ₃Ｃ、Ｃｒ₃Ｃ₂、ＴａＣ、ＭｏＣ、
Ｍｏ₂Ｃ、Ｃｒ₄Ｃ等の金属炭化物、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニ
ルアセタール、ポリビニルブチラール、ポリフッ化ビニ
ル、ポリアクリロニトリル、ポリビニルピロリドン、ポ
リビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸メチル、ポリ
アクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタ
クリル酸エチル、ポリメタクリル酸ブチル、ポリアクリ
ルアミド、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデ
ン、ポリ四フッ化エチレン、ポリ塩化三フッ化エチレ
ン、塩素化ポリエチレン、スチレン・ブタジエン共重合
物、スチレン・アクリロニトリル共重合物、スチレン・
ブタジエン・アクリロニトリル三元重合物、エチレン・
酢酸ビニル共重合物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢
酸ビニル共重合物、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合
物、塩化ビニル・ビニルイソブチルエーテル共重合物、
塩化ビニリデン・アクリロニトリル共重合物、四フッ化
エチレン・六フッ化プロピレン共重合物、メタクリル酸
メチル・スチレン共重合物、塩酸ゴム、エチレン・プロ
ピレン共重合物、エチレン・プロピレンターポリマー、
ポリクロロプレン、ブチルゴム、スチレン・ブタジエン
共重合物、アクリロニトリル・ブタジエン共重合物、ク
ロルヒドリンゴム、クロルスルホン化ポリエチレン、ジ
メチルポリシロキサン、多硫化物系合成ゴム、ポリオキ
シメチレン、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオ
キシド、ポリ［３，３−ビス（クロルメチル）オキサシ
クロブタン］、ポリエチレンイミン、ナイロン６、ナイ
ロン６−６、ナイロン６−１０、ナイロン４−６、ナイ
ロン１１、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリフェニレンテレフタラミド、ポリ−
ｐ−エチレンオキシベンゾエート、ポリエステル、ポリ
イミド、ポリエステルイミド、ポリカーボネート、エポ
キシ樹脂、可とう性エポキシ樹脂、エポキシノボラック
樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、トル
エンスルホンアミド・ホルムアルデヒド樹脂、アリル樹
脂（ジアリルフタレートプレポリマー）、アルキド樹
脂、ポリテルペン樹脂、アイオノマー樹脂、石油樹脂、
セルロース、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、セ
ルロースアセテートブチレート、ニトロセルロース、メ
チルセルロース、エチルセルロース、シアノエチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロース・ナトリウム塩等
の高分子化合物が挙げられる。

【００１２】紫外線照射に用いる紫外線の波長は５０ｎ
ｍ〜３５０ｎｍであり、望ましくは１００ｎｍ〜２６０
ｎｍである。

【００１３】紫外線照射時の真空度は１×１０^-1Ｔｏｒ
ｒ〜１×１０^-6Ｔｏｒｒであり、１×１０^-1Ｔｏｒｒよ
りも悪い真空度で紫外線照射を行うと、潤滑性・撥水性
・耐食性向上効果が薄れてしまう。望ましい真空度の範
囲は１×１０^-3Ｔｏｒｒ〜１×１０^-6Ｔｏｒｒである。

【００１４】紫外線照射後に塗布する潤滑剤として（１）潤滑性を有する潤滑剤（２）撥水性を有する潤滑剤（３）潤滑性および撥水性の両方の特性を有する潤滑剤のいずれかを用いることができるが、−ＣＯＯＨ、−Ｏ
Ｈ、−ＳＨ、−ＮＨ₂ 、＝ＮＨ、−ＣＯＮＨ₂ 、−ＣＯ
ＮＨＲ、−ＣＯＮＲ₂ 、−ＣＯＯＲ、＝ＰＲ、＝ＰＲ
Ｏ、＝ＰＲＳ、−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ 、−ＯＰＯ（ＯＲ）
₂ 、−ＳＯ₃ Ｍ（ただし、Ｒは炭素数１〜２２の炭化水
素基、Ｍは水素、アルカリ金属またはアルカリ土類金
属）から選ばれた少なくとも一つの極性基を有する含フ
ッ素系潤滑剤層であることが望ましい。例としてはＣ₅
Ｆ₁₁（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＨやＣ₅Ｆ₁₁（ＣＨ₂）₁₁ＯＨ、
Ｃ₁₂Ｈ₂₃ＣＨ（ＳＨ）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｃ₈Ｆ₁₇、Ｃ₅Ｆ
₁₁（ＣＨ₂）₁₁ＮＨ₂、Ｃ₇Ｆ₁₅ＣＨ₂ＮＨＣ₁₄Ｈ₂₉、Ｃ₅
Ｆ₁₁（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＮＨ₂、Ｃ₅Ｆ₁ ₁（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＮ
ＨＣ₈Ｈ₁₇、Ｃ₅Ｆ₁₁（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＮ（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂、
Ｃ₅Ｆ ₁₁（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇、（Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄）
₂ＰＣ₁₈Ｈ₃₇、Ｃ₈Ｈ₁₇（Ｃ₈Ｆ ₁₇Ｃ₂Ｈ₄）₂ＰＯ、Ｃ₈Ｈ
₁₇（Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄）₂ＰＳ、（Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）Ｐ
（ＯＨ）₂、（Ｃ₈Ｆ₁₇Ｃ₂Ｈ₄）ＰＯ（ＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、Ｃ
₅Ｆ₁₁（ＣＨ₂）₁₀ＳＯ₃Ｎａ等があげられる。例えば、
含フッ素カルボン酸を単独使用、あるいは含フッ素カル
ボン酸エステルと混合して使用してもよい。この潤滑剤
層は湿式塗布法、有機蒸着法等により形成される。

【００１５】炭素系部材上における潤滑剤の付着性およ
び配向性という観点から、真空中にて紫外線照射した
後、潤滑剤を塗布する前の炭素系部材表面のカーボンセ
ンターラジカル、パーオキサイドラジカル、アルキルラ
ジカル、ペルオキシラジカル、アルコキシラジカル等の
フリーラジカルの分布密度は３０００個／μｍ²から３
００００個／μｍ²の範囲内にあることが望ましい。

【００１６】

【作用】本発明は炭素系部材の表面を、真空中にて紫外
線照射することによって炭素部材表面上に分布するカー
ボンセンターラジカル、パーオキサイドラジカル、アル
キルラジカル、ペルオキシラジカル、アルコキシラジカ
ル等のフリーラジカルの分布密度を上げ、潤滑性もしく
は撥水性、あるいは潤滑性と撥水性の両方を有する潤滑
剤を塗布することによって、上記フリーラジカルと潤滑
剤の極性基が結合し、その結果炭素系部材と潤滑剤との
付着性・配向性が大幅に向上し、良好な潤滑性・撥水性
・耐食性を示す炭素系部材を提供することができる。ま
た、真空中にて紫外線照射した後に大気に曝すことな
く、引き続いて真空中にて潤滑剤を塗布することによっ
て、潤滑剤の極性基以外の汚染物質と上記フリーラジカ
ルとの反応を大幅に抑制できるので、炭素系部材と潤滑
剤との付着性・配向性をさらに向上することが可能とな
る。

【００１７】炭素系部材表面のカーボンセンターラジカ
ル、パーオキサイドラジカル、アルキルラジカル、ペル
オキシラジカル、アルコキシラジカル等のフリーラジカ
ルの分布密度が小さいと、潤滑剤の極性基と強固に結合
している部分が少なくなり、充分な潤滑剤付着力が得ら
れず、長期間に亘る使用において、潤滑性・撥水性・耐
食性が劣化してくる。一方、紫外線の照射時間を長くす
るとフリーラジカルの分布密度が大きくなるが、同時に
炭素部材へのダメージも生じ、炭素部材自身の耐摩耗性
・硬度等の特性が低下するといった不都合が生じる。ま
た、フリーラジカルの分布密度が大きいと、潤滑剤の極
性基以外の汚染物質と上記フリーラジカルとの反応が促
進され、潤滑剤の極性基と強固に結合している部分が少
なくなり、上記同様充分な潤滑剤付着力が得られないこ
とが生ずる。従って、炭素系部材表面のカーボンセンタ
ーラジカル、パーオキサイドラジカル、アルキルラジカ
ル、ペルオキシラジカル、アルコキシラジカル等のフリ
ーラジカルの分布密度は３０００個／μｍ²から３００
００個／μｍ²の範囲内にあることが望ましい。

【００１８】

【実施例】図１は本発明の金属薄膜型磁気記録テープの
拡大断面図である。１は非磁性基板、２は強磁性金属薄
膜、３は炭素膜である。４は含フッ素カルボン酸を主と
する潤滑剤層である。５はバックコート層で、材料とし
てはポリウレタン、ニトロセルロース、ポリエステルと
カーボン、炭酸カルシウム等を含んでいる。厚みは５０
０ｎｍである。以下、製造条件も含めてさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。

【００１９】（実施例１）非磁性基板１は５００ｍｍ幅
のポリエチレンテレフタレート表面に、ＳＴＭ分析で高
さが３０ｎｍ、直径が２００ｎｍの突起が１ｍｍ² あた
り１０⁵ 個から１０⁹ 個形成されたものである。この非
磁性基板１上へ、斜方真空蒸着法により酸素を導入しな
がら、Ｃｏ（８０）−Ｎｉ（２０）からなる強磁性金属
薄膜２を１８０ｎｍの厚みで形成する。その後、バック
コート層５を乾燥後の厚みが５００ｎｍになるように塗
布する。このバックコート層５は、リバースロールコー
タによってポリウレタン・ニトロセルロース・カーボン
ブラックから構成された固形分３０％のメチルエチルケ
トン／トルエン／シクロヘキサノン溶液を用いて形成さ
れる。次に強磁性金属薄膜２上に、ビッカース硬度２５
００ｋｇ／ｍｍ² の炭素膜３をプラズマＣＶＤ法により
１５ｎｍの厚みで形成した。成膜はアルゴンとヘキサン
を１：４のガス圧力比で混合し、全ガス圧を０．３Ｔｏ
ｒｒに保って、直流１０００Ｖを印加して行った。この
炭素膜３表面を真空度１×１０^-5Ｔｏｒｒの真空雰囲気
中にて、２分間の紫外線照射処理を行った。本実施例で
は紫外線照射光源としてオーク製作所製Ｕ字管ランプ
（ＶＵＶ−２３３／Ｂ、ランプ電力２３０Ｗ）を用い
た。このランプによって照射される紫外線は主として１
８５ｎｍと２５４ｎｍの波長の紫外線である。最後に、
炭素膜３上に湿式塗布法（リバースロールコータ）によ
り４ｎｍ厚の潤滑剤層４を大気中にて形成した。潤滑剤
塗布溶液として、含フッ素カルボン酸Ｃ₅ Ｆ₁₁（ＣＨ
₂ ）₁₀ＣＯＯＨのイソプロピルアルコール２０００ｐｐ
ｍ溶液を用いた。

【００２０】以上のようにして、８ｍｍ幅テープ試料
（５４ｍ長）を得た。（実施例２）（実施例１）において潤滑剤層４の形成方
法として湿式塗布法のかわりに、炭素膜３表面を紫外線
照射処理を行った後、引き続いて真空中において含フッ
素カルボン酸Ｃ₅Ｆ₁₁（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯＨを抵抗加熱
する真空蒸着法によって４ｎｍ厚の潤滑剤層４を形成し
た以外は、（実施例１）と同じ構成の８ｍｍ幅テープ試
料を作製した。

【００２１】（比較例１）（実施例１）において炭素膜
３表面の真空中紫外線照射処理を省いた以外は、（実施
例１）と同じ構成の８ｍｍ幅テープ試料を作製した。

【００２２】（比較例２）（実施例１）において炭素膜
３表面の真空中紫外線照射処理を大気中における紫外線
照射処理とした以外は、（実施例１）と同じ構成の８ｍ
ｍ幅テープ試料を作製した。

【００２３】（比較例３）（実施例１）において炭素膜
３表面の紫外線照射時の真空度を１×１０^-5Ｔｏｒｒか
ら真空度５Ｔｏｒｒと変更した以外は、（実施例１）と
同じ構成の８ｍｍ幅テープ試料を作製した。

【００２４】（比較例４）（実施例１）において炭素膜
３表面の紫外線照射時の紫外線波長を主として１８５ｎ
ｍと２５４ｎｍの波長から主として３６５ｎｍの波長と
変更した以外は、（実施例１）と同じ構成の８ｍｍ幅テ
ープ試料を作製した。

【００２５】（比較例５）（実施例１）において炭素膜
３表面の紫外線照射時間を２分間から１０分間と変更し
た以外は、（実施例１）と同じ構成の８ｍｍ幅テープ試
料を作製した。

【００２６】以上の各実施例および比較例で得られた各
８ｍｍ幅テープ試料について、以下に示す分析・評価を
おこなった。（１）潤滑剤と保護膜の付着強度測定（保護膜表面のフ
ッ素濃度分析）各試料をイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液中で１
分間超音波洗浄する前後での、保護膜表面のフッ素濃度
比をＸ線光電子分光法（パーキンエルマーＰＨＩ社製、
５４００ＭＣ）により分析し、潤滑剤と保護膜の付着強
度を測定した。（２）接触角測定各試料をイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液中で１
分間超音波洗浄する前後での、保護膜表面での接触角を
測定した。接触角測定は、保護膜表面に０．１マイクロ
リットルの蒸留水を滴下し、６０秒経過後の接触角を測
定した。（３）摩擦係数変化（以下μｋ変化と略す）常温常湿環境下での往復摺動による摩擦係数上昇を測定
・評価した。測定条件は次の通りである。

【００２７】直径４ｍｍ、表面粗さ０．２Ｓのステンレ
ス（材質：ＭＨ１５）円柱に磁性面が接するようにして
１８０゜の抱き角で巻きつける。次に、試料の一方の端
に１０ｇの荷重を印加し、１４ｍｍ／秒の速度で試料を
１０００往復走行させる。このときの試料のもう一方の
端の張力を歪ゲージにて測定し、次式から摩擦係数μｋ
を求め、摩擦係数μｋの上昇率（１０００回の往復運動
完了時のμｋの増加／初期のμｋ）を計算した。

【００２８】 μｋ＝１／π・ｌｎ（歪ゲージ張力／１０ｇ）（４）フリーラジカル濃度測定炭素膜表面上に紫外線照射処理を行った後、約２４時間
経過後の潤滑剤未塗布炭素膜表面上のカーボンセンター
ラジカル、パーオキサイドラジカル、アルキルラジカ
ル、ペルオキシラジカル、アルコキシラジカル等のフリ
ーラジカルの分布密度を、電子スピン共鳴法（日本電子
社製、ＪＥＳ−ＲＥ３Ｘ）により測定した。

【００２９】得られた評価結果を作製条件と共に、（表
１）に示す。

【００３０】

【表１】

【００３１】（表１）から明らかなように、非磁性基板
上に強磁性金属薄膜と炭素保護膜をこの順に形成し、炭
素保護膜表面を真空中にて紫外線照射し、その後潤滑剤
を塗布することによって潤滑剤の配向性が向上し、撥水
性が上昇することが初期の接触角が大きくなることより
わかる。また、ＩＰＡ洗浄を行った後においても炭素保
護膜上のフッ素濃度比および水の接触角が依然として大
きい状態のままで、炭素保護膜と潤滑剤との付着強度が
上昇していることがわかる。さらに、長期間の繰り返し
摺動においても安定した摩擦係数を示す磁気記録媒体を
得ることができる。紫外線照射時の真空度が不十分な場
合（比較例２、３）は、炭素保護膜と潤滑剤との付着強
度および潤滑剤の配向性が不十分で、良好な接着性およ
び撥水性を示さない。また、繰り返し摺動による摩擦係
数の上昇が認められる。紫外線波長が３５０ｎｍ以上で
ある場合（比較例４）では炭素保護膜上のフリーラジカ
ル濃度が小さく、炭素保護膜と潤滑剤との付着強度およ
び潤滑剤の配向性は改善されているものの十分ではな
い。また真空中での紫外線照射時間が長すぎる（比較例
５）と、炭素保護膜にダメージが生じ、繰り返し摺動に
よる摩擦係数の上昇が認められる。同時にラジカル濃度
が大きくなり、潤滑剤の極性基以外の汚染物質とフリー
ラジカルとの反応が促進され、充分な潤滑剤付着力が得
られない。

【００３２】以上のように本実施例によれば、非磁性基
板上に少なくとも金属薄膜磁性層と炭素保護膜を設け、
真空中にて炭素保護膜に紫外線を照射した後、大気中も
しくは引き続いて真空中にて潤滑剤を塗布することによ
り、潤滑剤を良好な配向性で強固に炭素保護膜上に付着
させ、良好な潤滑性・撥水性を示す磁気記録媒体を得る
ことができる。特に、ビデオテープレコーダー使用時の
繰り返し使用においても、低く安定な摩擦係数を示す滑
り性の優れた磁気記録媒体を得ることができる。

【００３３】上記実施例では、炭素膜を形成する際に直
流電流のみ用いたが、直流電流と交流電流を重畳させた
場合でも全く同様の作用効果を有するものである。

【００３４】炭素膜全体の厚みは１０ｎｍから２０ｎｍ
が耐久信頼性と信号出力とのバランス上最適である。ま
た、ビッカース硬度は少なくとも２０００ｋｇ／ｍｍ²
以上であることが望ましく、さらに望ましくは２５００
ｋｇ／ｍｍ² 以上と高くすると優れた走行耐久性能を得
ることができる。ただし、炭素膜中に含まれる水素濃度
は、５０原子％以下が炭素膜硬度および炭素膜と潤滑剤
の付着力向上の観点から望ましい。

【００３５】なお非磁性基板としては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート、芳香族ポリ
アミド、芳香族ポリイミド等のフィルムやアルミ基板、
ガラス基板等が使用可能である。磁性層が成膜される基
板表面は１０ｎｍから３０ｎｍの突起形成処理が施され
ているものが信頼性とＲＦ出力を両立する観点から最適
である。

【００３６】強磁性金属薄膜としては、真空成膜法など
で成膜されたＣｏ−Ｎｉ−Ｏ、Ｃｏ−Ｏ、Ｃｏ−Ｃｒ等
が使用可能である。その厚みは５０ｎｍから３００ｎｍ
が一般的である。

【００３７】これらの強磁性金属薄膜、炭素膜、潤滑剤
は真空中において、連続成膜が可能である。

【００３８】なお、上記実施例では、８ｍｍＶＴＲ用薄
膜テープのみについて説明したが、本発明はこれに限定
されるものではない。他の強磁性金属薄膜型磁気テー
プ、磁気ディスク等についても適用できる。

【００３９】（実施例３）以下本発明の第二の実施例に
ついて説明する。なお、本実施例の構成は、（実施例
１）に示した図１と同じ構成であるので、詳細な説明は
省略する。

【００４０】非磁性基板１上への強磁性金属薄膜２、バ
ックコート層５、炭素膜３の製造方法は（実施例１）に
示した方法と同じである。（実施例１）と異なる点は、
（実施例１）では炭素膜３に紫外線を照射したのに対
し、本実施例ではバックコート層５に紫外線を照射する
点である。すなわち本実施例ではバックコート層５表面
を真空度１×１０^-5Ｔｏｒｒの真空雰囲気中にて、２分
間の紫外線照射処理を行った。本実施例では（実施例
１）同様、紫外線照射光源としてオーク製作所製Ｕ字管
ランプ（ＶＵＶ−２３３／Ｂ、ランプ電力２３０Ｗ）を
用いた。このランプによって照射される紫外線は主とし
て１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長の紫外線である。最後
に、バックコート層５上に湿式塗布法（リバースロール
コータ）により４ｎｍ厚の潤滑剤層４を大気中にて形成
した。潤滑剤塗布溶液として、含フッ素カルボン酸Ｃ₅
Ｆ₁₁（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯＨのイソプロピルアルコール２
０００ｐｐｍ溶液を用いた。

【００４１】以上のようにして、８ｍｍ幅テープ試料
（５４ｍ長）を得た。（実施例４）（実施例３）において潤滑剤層４の形成方
法として湿式塗布法のかわりに、バックコート層５表面
を紫外線照射処理を行った後、引き続いて真空中におい
て含フッ素カルボン酸Ｃ₅ Ｆ₁₁（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯＨを
抵抗加熱する真空蒸着法によって４ｎｍ厚の潤滑剤層４
を形成した以外は（実施例３）と同じ構成の８ｍｍ幅テ
ープ試料を作製した。

【００４２】（比較例６）（実施例３）においてバック
コート層５表面の真空中紫外線照射処理を省いた以外は
（実施例３）と同じ手順、構成の８ｍｍ幅テープ試料を
作製した。

【００４３】（比較例７）（実施例３）においてバック
コート層５表面の真空中紫外線照射処理を大気中におけ
る紫外線照射処理とした以外は、（実施例３）と同じ構
成の８ｍｍ幅テープ試料を作製した。

【００４４】（比較例８）（実施例３）においてバック
コート層５表面の紫外線照射時の真空度を１×１０^-5Ｔ
ｏｒｒから真空度５Ｔｏｒｒと変更した以外は、（実施
例３）と同じ構成の８ｍｍ幅テープ試料を作製した。

【００４５】（比較例９）（実施例３）においてバック
コート層５表面の紫外線照射時の紫外線波長を主として
１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長から主として３６５ｎｍ
の波長と変更した以外は、（実施例３）と同じ構成の８
ｍｍ幅テープ試料を作製した。

【００４６】（比較例１０）（実施例３）においてバッ
クコート層５表面の紫外線照射時間を２分間から１０分
間と変更した以外は、（実施例１）と同じ構成の８ｍｍ
幅テープ試料を作製した。

【００４７】以上の各実施例・比較例で得られた８ｍｍ
テープ試料について、（実施例１）から（実施例２）で
行なった潤滑剤と保護膜の付着強度測定（保護膜表面の
フッ素濃度分析）とμｋ変化測定、フリーラジカル濃度
測定をおこなった。ただし、μｋ変化の測定は、ステン
レス（材質：ＭＨ１５）円柱にバックコート層５が接す
るようにして行った。

【００４８】得られた評価結果を作製条件と共に、（表
２）に示す。

【００４９】

【表２】

【００５０】（表２）から明らかなように、非磁性基板
の片側の面に少なくとも磁性層を設け、もう片側の面に
バックコート層を設け、真空中にてバックコート層に紫
外線を照射した後、大気中もしくは引き続いて真空中に
て潤滑剤を塗布することにより、バックコート層と潤滑
剤との付着強度が向上し、長期間の繰り返し摺動におい
ても安定した摩擦係数を示す磁気記録媒体を得ることが
できる。紫外線照射時の真空度が不十分な場合（比較例
７、８）や紫外線波長が３５０ｎｍ以上である場合（比
較例９）では、バックコート層と潤滑剤との付着強度が
不十分で、良好な接着性を示さない。また、繰り返し摺
動による摩擦係数の上昇が認められる。また真空中での
紫外線照射時間が長すぎる（比較例１０）と、バックコ
ート層にダメージが生じ、繰り返し摺動による摩擦係数
の上昇が認められる。同時にラジカル濃度が大きくな
り、潤滑剤の極性基以外の汚染物質とフリーラジカルと
の反応が促進され、充分な潤滑剤付着力が得られない。

【００５１】以上のように本実施例によれば、非磁性基
板の片側の面に少なくとも磁性層を設け、もう片側の面
にバックコート層を設け、真空中にてバックコート層に
紫外線を照射した後、大気中もしくは引き続いて真空中
にて潤滑剤を塗布することにより、潤滑剤を良好な配向
性で強固にバックコート層上に付着させ、良好な潤滑性
を示す磁気記録媒体を得ることができる。特に、ビデオ
テープレコーダー使用時の繰り返し使用においても、低
く安定な摩擦係数を示す滑り性の優れた磁気記録媒体を
得ることができる。

【００５２】なお、上記実施例では、８ｍｍＶＴＲ用薄
膜テープのみについて説明したが、本発明はこれに限定
されるものではなく、他の強磁性金属薄膜型磁気テー
プ、塗布型磁気テープ等についても適用できる。

【００５３】（実施例５）以下本発明の第三の実施例に
ついて説明する。本実施例の炭素系部材はインクジェッ
トプリンターのノズル面に用いられるポリイミドであ
る。

【００５４】真空度１×１０^-4Ｔｏｒｒの真空雰囲気中
にて、２０ｍｍ×５０ｍｍのポリイミドフィルム（商品
名ＵＢＥＵＰＩＬＥＸ）表面に紫外線を５分間照射し
た。本実施例では紫外線照射光源としてオーク製作所製
Ｕ字管ランプ（ＶＵＶ−２３３／Ｂ、ランプ電力２３０
Ｗ）を用いた。このランプによって照射される紫外線は
主として１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長の紫外線であ
る。紫外線照射処理後、ポリイミドフィルム上にディッ
ピング法により約１５ｎｍ厚の潤滑剤層４を大気中にて
形成した。潤滑剤塗布溶液として、含フッ素カルボン酸
Ｃ₅ Ｆ₁₁（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＨのイソプロピルアルコー
ル４０００ｐｐｍ溶液を用いた。

【００５５】以上のようにして、紫外線照射ポリイミド
フィルムを得た。（実施例６）（実施例５）において潤滑剤層４の形成方
法として湿式塗布法のかわりに、ポリイミドフィルム表
面に紫外線照射処理を行った後、引き続いて真空中にお
いて含フッ素カルボン酸Ｃ₅Ｆ₁₁（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯＨ
を抵抗加熱する真空蒸着法によって約１５ｎｍ厚の潤滑
剤層４を形成した以外は、（実施例５）と同じ構成のポ
リイミドフィルムを作製した。

【００５６】（比較例１１）（実施例５）においてポリ
イミドフィルム表面の真空中紫外線照射処理を省いた以
外は、（実施例５）と同じ構成のポリイミドフィルムを
作製した。

【００５７】（比較例１２）（実施例５）においてポリ
イミドフィルム表面の真空中紫外線照射処理を大気中に
おける紫外線照射処理とした以外は、（実施例５）と同
じ構成のポリイミドフィルムを作製した。

【００５８】（比較例１３）（実施例５）においてポリ
イミドフィルム表面の紫外線照射時の真空度を１×１０
^-4Ｔｏｒｒから真空度５Ｔｏｒｒと変更した以外は、
（実施例５）と同じ構成のポリイミドフィルムを作製し
た。

【００５９】（比較例１４）（実施例５）においてポリ
イミドフィルム表面の紫外線照射時の紫外線波長を主と
して１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長から主として３６５
ｎｍの波長と変更した以外は、（実施例５）と同じ構成
のポリイミドフィルムを作製した。

【００６０】以上の各実施例・比較例で得られた紫外線
照射ポリイミドフィルムについて、（実施例１）から
（実施例２）で行なった潤滑剤と保護膜の付着強度測定
（保護膜表面のフッ素濃度分析）、接触角測定とフリー
ラジカル濃度測定をおこなった。

【００６１】得られた評価結果を作製条件と共に、（表
３）に示す。

【００６２】

【表３】

【００６３】（表３）から明らかなように本実施例によ
れば、真空中にてポリイミドフィルム表面に紫外線を照
射した後に、大気中もしくは引き続いて真空中にて潤滑
剤を塗布することにより、潤滑剤が配向性良く、かつ強
固にポリイミドフィルム表面に付着するので、非常に良
好な撥水性を得ることができる。特に撥水性の向上によ
り、インクジェットプリンターヘッドのインク噴射穴で
のインクの切れが良くなり、その結果インク詰まりが低
減され、印字不良が大幅に改善される。一方、紫外線照
射時の真空度が不十分な場合（比較例１２、１３）や紫
外線波長が３５０ｎｍ以上である場合（比較例１４）で
は、炭素保護膜と潤滑剤との付着強度が不十分で、良好
な接着性を示さない。

【００６４】（実施例７）以下本発明の第四の実施例に
ついて説明する。本実施例の炭素系部材は傘、レインコ
ート、カーペット等に用いられるポリエステルである。

【００６５】真空度１×１０^-4Ｔｏｒｒの真空雰囲気中
にて、５００ｍｍ幅のポリエステル（ポリエチレンテレ
フタレート）フィルム表面に紫外線を１０分間照射し
た。本実施例では紫外線照射光源としてオーク製作所製
Ｕ字管ランプ（ＶＵＶ−２３３／Ｂ、ランプ電力２３０
Ｗ）を用いた。このランプによって照射される紫外線は
主として１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長の紫外線であ
る。紫外線照射処理後、ポリエステルフィルム上にディ
ッピング法により約１５ｎｍ厚の潤滑剤層４を大気中に
て形成した。潤滑剤塗布溶液として、含フッ素カルボン
酸Ｃ₅ Ｆ₁₁（ＣＨ₂）₁₀ＣＯＯＨのイソプロピルアルコ
ール４０００ｐｐｍ溶液を用いた。

【００６６】以上のようにして、紫外線照射ポリエステ
ルフィルムを得た。（実施例８）（実施例７）において潤滑剤層４の形成方
法として湿式塗布法のかわりに、ポリエステルフィルム
表面に紫外線照射処理を行った後、引き続いて真空中に
おいて含フッ素カルボン酸Ｃ₅Ｆ₁₁（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯ
Ｈを抵抗加熱する真空蒸着法によって約１５ｎｍ厚の潤
滑剤層４を形成した以外は、（実施例７）と同じ構成の
ポリエステルフィルムを作製した。

【００６７】（比較例１５）（実施例７）においてポリ
エステルフィルム表面の真空中紫外線照射処理を省いた
以外は、（実施例７）と同じ構成のポリエステルフィル
ムを作製した。

【００６８】（比較例１６）（実施例７）においてポリ
エステルフィルム表面の真空中紫外線照射処理を大気中
における紫外線照射処理とした以外は、（実施例７）と
同じ構成のポリエステルフィルムを作製した。

【００６９】（比較例１７）（実施例７）においてポリ
エステルフィルム表面の紫外線照射時の真空度を１×１
０^-4Ｔｏｒｒから真空度５Ｔｏｒｒと変更した以外は、
（実施例７）と同じ構成のポリエステルフィルムを作製
した。

【００７０】（比較例１８）（実施例７）においてポリ
エステルフィルム表面の紫外線照射時の紫外線波長を主
として１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長から主として３６
５ｎｍの波長と変更した以外は、（実施例７）と同じ構
成のポリエステルフィルムを作製した。

【００７１】以上の各実施例・比較例で得られた紫外線
照射ポリエステルフィルムについて、（実施例１）から
（実施例２）で行なった潤滑剤と保護膜の付着強度測定
（保護膜表面のフッ素濃度分析）、接触角測定とフリー
ラジカル濃度測定をおこなった。

【００７２】得られた評価結果を作製条件と共に、（表
４）に示す。

【００７３】

【表４】

【００７４】以上のように本実施例によれば、真空中に
てポリエステルフィルム表面に紫外線を照射した後に潤
滑剤を塗布することにより、非常に良好な撥水性が得ら
れることがわかる。また、潤滑剤とポリエステルフィル
ムとの付着力も良好である。

【００７５】（実施例９）以下本発明の第五の実施例に
ついて説明する。本実施例の炭素系部材はビデオテープ
レコーダーの走行系の樹脂ポストとして用いられるポリ
オキシメチレンである。

【００７６】真空度１×１０^-5Ｔｏｒｒの真空雰囲気中
にて、２０ｍｍ×５０ｍｍのポリオキシメチレン（商品
名ジュラコン）フィルムおよびポリオキシメチレン製ガ
イドポスト（直径４ｍｍ）の表面に紫外線を５分間照射
した。本実施例では紫外線照射光源としてオーク製作所
製Ｕ字管ランプ（ＶＵＶ−２３３／Ｂ、ランプ電力２３
０Ｗ）を用いた。このランプによって照射される紫外線
は主として１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長の紫外線であ
る。紫外線照射処理後、ポリオキシメチレンフィルムお
よびポリオキシメチレン製ガイドポスト上にディッピン
グ法により約５ｎｍ厚の潤滑剤層４を大気中にて形成し
た。潤滑剤塗布溶液として、含フッ素カルボン酸Ｃ₅ Ｆ
₁₁（ＣＨ₂ ）₁₀ＣＯＯＨのイソプロピルアルコール２０
００ｐｐｍ溶液を用いた。

【００７７】以上のようにして、紫外線照射ポリオキシ
メチレンフィルムおよびポリオキシメチレン製ガイドポ
ストを得た。

【００７８】（実施例１０）（実施例９）において潤滑
剤層４の形成方法として湿式塗布法のかわりに、ポリオ
キシメチレンフィルムおよびポリオキシメチレン製ガイ
ドポスト表面に紫外線照射処理を行った後、引き続いて
真空中において含フッ素カルボン酸Ｃ₅Ｆ₁₁（ＣＨ₂ ）
₁₀ＣＯＯＨを抵抗加熱する真空蒸着法によって約５ｎｍ
厚の潤滑剤層４を形成した以外は、（実施例９）と同じ
構成のポリオキシメチレンフィルムおよびポリオキシメ
チレン製ガイドポストを作製した。

【００７９】（比較例１９）（実施例９）においてポリ
オキシメチレンフィルムおよびポリオキシメチレン製ガ
イドポスト表面の真空中紫外線照射処理および潤滑剤塗
布処理を省いた以外は、（実施例９）と同じ構成のポリ
オキシメチレンフィルムおよびポリオキシメチレン製ガ
イドポストを作製した。

【００８０】（比較例２０）（実施例９）においてポリ
オキシメチレンフィルムおよびポリオキシメチレン製ガ
イドポスト表面の真空中紫外線照射処理を省いた以外
は、（実施例９）と同じ構成のポリオキシメチレンフィ
ルムおよびポリオキシメチレン製ガイドポストを作製し
た。

【００８１】（比較例２１）（実施例９）においてポリ
オキシメチレンフィルムおよびポリオキシメチレン製ガ
イドポスト表面の真空中紫外線照射処理を大気中におけ
る紫外線照射処理とした以外は、（実施例９）と同じ構
成のポリオキシメチレンフィルムおよびポリオキシメチ
レン製ガイドポストを作製した。

【００８２】（比較例２２）（実施例９）においてポリ
オキシメチレンフィルムおよびポリオキシメチレン製ガ
イドポスト表面の紫外線照射時の真空度を１×１０^-5Ｔ
ｏｒｒから真空度５Ｔｏｒｒと変更した以外は、（実施
例９）と同じ構成のポリオキシメチレンフィルムおよび
ポリオキシメチレン製ガイドポストを作製した。

【００８３】（比較例２３）（実施例９）においてポリ
オキシメチレンフィルムおよびポリオキシメチレン製ガ
イドポスト表面の紫外線照射時の紫外線波長を主として
１８５ｎｍと２５４ｎｍの波長から主として３６５ｎｍ
の波長と変更した以外は、（実施例９）と同じ構成のポ
リオキシメチレンフィルムおよびポリオキシメチレン製
ガイドポストを作製した。

【００８４】以上の各実施例・比較例で得られた紫外線
照射ポリオキシメチレンフィルムを用いて、（実施例
１）から（実施例２）で行なった潤滑剤と保護膜の付着
強度測定（保護膜表面のフッ素濃度分析）とフリーラジ
カル濃度測定をおこなった。また以上の各実施例・比較
例で得られた紫外線照射ポリオキシメチレン製ポストと
（比較例１）の磁気テープを用いて、常温常湿環境下で
の往復摺動によるポリオキシメチレン製ポストと磁気テ
ープのバックコート面との摩擦係数変化（μｋ変化）を
測定した。

【００８５】得られた評価結果を作製条件と共に、（表
５）に示す。

【００８６】

【表５】

【００８７】以上のように本実施例によれば、真空中に
てポリオキシメチレン樹脂表面に紫外線を照射した後に
潤滑剤を塗布することにより、非常に良好な撥水性が得
られることがわかる。また、潤滑剤とポリオキシメチレ
ンとの付着力も良好である。

【００８８】なお、上記の実施例では、ポリイミド、ポ
リエステル、ポリオキシメチレンについて説明したが、
本発明はこれらに限定されるものではなく、他の炭素系
部材についても適用できる。

【００８９】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、炭素系部
材の表面を真空中にて紫外線照射した後に、炭素系部材
上に潤滑性もしくは撥水性、あるいは潤滑性と撥水性の
両方を有する潤滑剤を塗布することによって、潤滑剤を
良好な配向性で強固に炭素系部材上に付着させ、良好な
潤滑性・撥水性・耐食性を示す炭素系部材を得ることが
でき、その実用上の価値は大なるものがある。

【００９０】さらに、炭素系部材の表面を真空中にて紫
外線照射した後に、大気に曝すことなく、引き続いて真
空中にて潤滑剤を塗布することによって、潤滑剤と炭素
系部材の付着性・配向性が向上し、炭素系部材の潤滑性
・撥水性・耐食性を大幅に向上することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例である金属薄膜型磁気記録テー
プの拡大断面図

【符号の説明】１非磁性基板２強磁性金属薄膜３炭素膜４潤滑剤層５バックコート層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所 // Ｃ１０Ｎ 30:00 40:18 70:00 (72)発明者高橋喜代司大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者小田桐優大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者桑原賢次大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者村居幹夫大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】炭素または有機高分子化合物を含む炭素系
部材の表面を真空中にて紫外線照射した後に潤滑剤を塗
布する、炭素系部材の製造方法。
【請求項２】炭素または有機高分子化合物を含む炭素系
部材の表面を真空中にて紫外線照射した後、大気に曝す
ことなく引き続いて真空中にて潤滑剤を塗布する、炭素
系部材の製造方法。
【請求項３】紫外線の波長が３５０ｎｍ以下であること
を特徴とする請求項１または２記載の炭素系部材の製造
方法。
【請求項４】炭素系部材上の潤滑剤層が、−ＣＯＯＨ、
−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ₂ 、＝ＮＨ、−ＣＯＮＨ₂ 、−
ＣＯＮＨＲ、−ＣＯＮＲ₂ 、−ＣＯＯＲ、＝ＰＲ、＝Ｐ
ＲＯ、＝ＰＲＳ、−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ 、−ＯＰＯ（Ｏ
Ｒ）₂ 、−ＳＯ₃Ｍ（ただし、Ｒは炭素数１〜２２の炭
化水素基、Ｍは水素、アルカリ金属またはアルカリ土類
金属）から選ばれた少なくとも一つの極性基を有する含
フッ素系潤滑剤層であることを特徴とする請求項１また
は２記載の炭素系部材の製造方法。
【請求項５】非磁性基板上に少なくとも金属薄膜磁性層
と、請求項１または２記載の方法により潤滑剤を塗布し
た炭素系部材を保護膜として設けた磁気記録媒体の製造
方法。
【請求項６】非磁性基板の片側の面に少なくとも磁性層
を設け、もう片側の面に請求項１または２記載の方法に
より潤滑剤を塗布した炭素系部材をバックコート層とし
て設けた磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】紫外線の波長が３５０ｎｍ以下であること
を特徴とする請求項５または６記載の磁気記録媒体の製
造方法。
【請求項８】潤滑剤層が、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−Ｓ
Ｈ、−ＮＨ₂ 、＝ＮＨ、−ＣＯＮＨ₂ 、−ＣＯＮＨＲ、
−ＣＯＮＲ₂ 、−ＣＯＯＲ、＝ＰＲ、＝ＰＲＯ、＝ＰＲ
Ｓ、−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ 、−ＯＰＯ（ＯＲ）₂ 、−ＳＯ
₃ Ｍ（ただし、Ｒは炭素数１〜２２の炭化水素基、Ｍは
水素、アルカリ金属またはアルカリ土類金属）から選ば
れた少なくとも一つの極性基を有する含フッ素系潤滑剤
層であることを特徴とする請求項５または６記載の磁気
記録媒体の製造方法。
【請求項９】炭素または有機高分子化合物を含む炭素系
部材の表面を、真空中にて紫外線照射した後に潤滑剤を
塗布する炭素系部材において、潤滑剤を塗布する前の炭
素系部材表面のフリーラジカルの分布密度が３０００個
／μｍ²から３００００個／μｍ²の範囲内にあることを
特徴とする炭素系部材。
【請求項１０】炭素系部材上の潤滑剤層が、−ＣＯＯ
Ｈ、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ₂ 、＝ＮＨ、−ＣＯＮＨ
₂ 、−ＣＯＮＨＲ、−ＣＯＮＲ₂ 、−ＣＯＯＲ、＝Ｐ
Ｒ、＝ＰＲＯ、＝ＰＲＳ、−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ 、−ＯＰ
Ｏ（ＯＲ）₂ 、−ＳＯ ₃ Ｍ（ただし、Ｒは炭素数１〜２
２の炭化水素基、Ｍは水素、アルカリ金属またはアルカ
リ土類金属）から選ばれた少なくとも一つの極性基を有
する含フッ素系潤滑剤層であることを特徴とする請求項
９記載の炭素系部材。
【請求項１１】非磁性基板上に少なくとも金属薄膜磁性
層と、請求項９記載の炭素系部材を保護膜として設けた
磁気記録媒体。
【請求項１２】非磁性基板の片側の面に少なくとも磁性
層を設け、もう片側の面に請求項９記載の炭素系部材を
バックコート層として設けた磁気記録媒体。
【請求項１３】潤滑剤層が、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−Ｓ
Ｈ、−ＮＨ₂ 、＝ＮＨ、−ＣＯＮＨ₂ 、−ＣＯＮＨＲ、
−ＣＯＮＲ₂ 、−ＣＯＯＲ、＝ＰＲ、＝ＰＲＯ、＝ＰＲ
Ｓ、−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ 、−ＯＰＯ（ＯＲ）₂ 、−ＳＯ
₃ Ｍ（ただし、Ｒは炭素数１〜２２の炭化水素基、Ｍは
水素、アルカリ金属またはアルカリ土類金属）から選ば
れた少なくとも一つの極性基を有する含フッ素系潤滑剤
層であることを特徴とする請求項１１または１２記載の
磁気記録媒体。