JPH08227516A

JPH08227516A - 磁気記録媒体及び磁気記録装置

Info

Publication number: JPH08227516A
Application number: JP28051395A
Authority: JP
Inventors: Keiji Moroishi; 圭二諸石; Takashi Sato; 孝佐藤; Junichi Horikawa; 順一堀川; Hisao Kawai; 久雄河合
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1994-10-27
Filing date: 1995-10-27
Publication date: 1996-09-03

Abstract

(57)【要約】【課題】高い保磁力を有し、耐食性及び重ね書き特性
に優れた２層以上の磁性層を有する磁気記録媒体及びこ
の磁気記録媒体を用いた磁気記録装置の提供。【解決手段】基板上に２層以上の磁性層を有し、前記
磁性層間の少なくとも１つに非磁性層を有する磁気記録
媒体において、前記非磁性層はＣｒとＭｏとを主成分と
する合金であり、前記磁性層はＣｏとＰｔとを主成分と
する合金である磁気記録媒体。１又は２以上の磁気ディ
スクと磁気抵抗型ヘッドとを有する磁気記録装置であっ
て、前記磁気ディスクが前記磁気記録媒体である磁気記
録装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープ、磁気
ディスク等の磁気記録媒体に関し、特に磁性層の膜厚を
薄くすることによって、記録信号の再生時におけるノイ
ズの発生を抑制した磁気記録媒体に関する。さらに本発
明は、前記磁気記録媒体を用いた磁気記録装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】この種の磁気記録媒体としては、例えば
特開平２−２１０６１４号公報に記載されているような
磁気記録媒体が提案されている。この磁気記録媒体は、
基板上にＣｏ−Ｐｔ−Ｃｒの２層の磁性層を設け、この
２層の磁気層の間にＣｒからなる非磁性層を介在させた
基本構成からなる。このように磁性層を非磁性層で２層
に分割することにより、個々の磁性層の膜厚はトータル
膜厚が等しい単層の磁性層の場合に比べて薄いので、記
録信号の再生時のノイズを低減することができる。この
ようなタイプの磁気記録媒体は、出力の大きさよりもノ
イズを抑えることが優先課題となる、ＭＲ（磁気抵抗
型）ヘッド対応用の磁気記録媒体として好適に使用する
ことができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上述した構成からなる
磁気記録媒体は、非磁性層によって磁性層を分割してい
るので、確かに磁性層の膜厚が薄くなりノイズを抑える
ことができる。しかしながら、その他の特性について実
用上の観点から種々検討した結果、以下のような問題点
があることが判明した。（１）磁性層が１層のみの場合に比べると、保磁力の低
下が著しい。その為、他の磁性膜材料に比べ優れた保磁
力を有しているＰｔ系磁性膜を用いても、その利点を充
分に生かすことができない。（２）耐食性が不十分である。長時間使用した際に生じ
る腐食により、再生エラーが生じることがある。（３）重ね書き特性ＯＷ（ｄＢ）が不十分である。

【０００４】そこで本発明の目的は、低いノイズを維持
しつつ、保磁力が高く、耐食性及び重ね書き特性に優れ
た磁気記録媒体を提供することにある。さらに本発明の
目的は、信号記録時のＳ／Ｎ比が高く、高い記憶容量を
有し、かつ耐環境性に優れた磁気記録装置を提供するこ
とにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意究明
の結果、保磁力の低下等の原因が磁性層を分割している
非磁性層の膜材料の材質によるものであることを見い出
し、磁性層をＣｏ−Ｐｔ系を用いた場合、ある特定の合
金だけがノイズを低減することができることを究明し
た。本発明はこのような背景のもとに案出されたもので
あり、以下の構成を採用するとによりかかる課題を解決
するものである。

【０００６】本発明は、基板上に、２層以上の磁性層を
有し、前記磁性層間の少なくとも１つに非磁性層を有す
る磁気記録媒体において、前記非磁性層はＣｒとＭｏと
を主成分とし、前記磁性層はＣｏとＰｔとを主成分とす
ることを特徴とする磁気記録媒体に関する。

【０００７】さらに本発明は、１又は２以上の磁気ディ
スクと磁気抵抗型ヘッドとを有する磁気記録装置であっ
て、前記磁気ディスクが上記本発明の磁気記録媒体であ
る磁気記録装置に関する。以下本発明について説明す
る。

【０００８】本発明の磁気記録媒体は、基本的に、基板
上に、２層以上の磁性層を有し、前記磁性層間の少なく
とも１つに非磁性層を有するものである。基板の材質等
には、特に制限はない。例えば、ガラス基板、結晶化ガ
ラス基板、アルミニウム基板、セラミック基板、カーボ
ン基板、シリコン基板等を使用することができる。本発
明の磁気記録媒体は、磁性層を２層以上有する。磁性層
の数は、再生出力、重ね書き特性等考慮して２層以上の
３層、４層、５層等とすることができる。但し、実用的
な観点から、通常は最大５層程度である。しかし、必要
により６層以上の磁性層を設けることも勿論できる。

【０００９】本発明の磁気記録媒体は、２層以上ある磁
性層の間の少なくとも１つに非磁性層を有する。非磁性
層は、通常、磁性層と磁性層との間に直接設けられる。
但し、必要により、非磁性層と磁性層との間に中間層を
設けることもできる。また、磁性層が３層以上ある場
合、各磁性層の間に、それぞれ非磁性層を設けることが
好ましい。その場合、磁性層の層数をｎとするとｎ−１
層の非磁性層を設けることになる。しかし、磁性層が３
層以上ある場合、場合によっては、全ての磁性層の間に
非磁性層を設けず、磁性層の間の少なくとも１つに非磁
性層を設けることもできる。各磁性層の厚みは５０〜２
３０Å、好ましくは８０〜１５０Åとすることが適当で
ある。また、各非磁性層の厚みは１０〜１００Å、好ま
しくは３０〜５０Åとすることが適当である。

【００１０】磁性層の膜構成としては、実施例で示した
磁性層−非磁性層−磁性層の他に、例えば、磁性層−非
磁性層−磁性層−非磁性層−磁性層という具合に磁性層
の膜数を更に増やしても良い。また、２以上の磁性層に
おける、各磁性層を構成する材料及び膜厚は同一でも異
なっていても良い。同様に２以上の非磁性層における、
各非磁性層を構成する材料及び膜厚は同一でも異なって
いても良い。

【００１１】本発明において、磁性層はＣｏとＰｔを主
成分とする合金である。ＣｏとＰｔを主成分とする合金
は、十分な保磁力を得るという観点から、ＣｏとＰｔと
の合計が７０ａｔ％以上の合金であることが適当であ
る。また、ＣｏとＰｔとの比率には特に制限はないが、
保磁力、ノイズ及びコストを考慮すると、Ｐｔ（ａｔ
％）／Ｃｏ（ａｔ％）は０．０６以上０．２以下の範囲
であることが適当である。Ｃｏ及びＰｔ以外の成分には
特に制限はないが、例えば、Ｃｒ、Ｔａ、Ｎｉ、Ｓｉ、
Ｂ、Ｏ、Ｎ、Ｎｂ、Ｍｎ、Ｍｏ、Ｚｎ、Ｗ、Ｐｂ、Ｒ
ｅ、Ｖ、Ｓｍ及びＺｒの１種又は２種以上を適宜使用す
ることができる。これらの元素の添加量は磁気特性等を
考慮して適宜決定され、通常３０ａｔ％以下であること
が適当である。より具体的な磁性層の材料としては、例
えば、ＣｏＰｔＣｒ合金、ＣｏＰｔＴａ合金、ＣｏＰｔ
ＣｒＢ合金、ＣｏＰｔＣｒＴａ合金、ＣｏＰｔＣｒＮｉ
合金等を挙げることができる。

【００１２】本発明において、非磁性層はＣｒとＭｏと
を主成分とする合金である。ＣｒとＭｏを主成分とする
合金は、磁性層との格子定数のマッチングという観点か
ら、ＣｒとＭｏとの合計が９０ａｔ％以上の合金である
ことが適当である。また、ＣｒとＭｏとの比率には特に
制限はないが、本発明の保磁力等の向上等の効果が高い
という観点から、Ｍｏの含有量の下限は２ａｔ％、好ま
しい下限は５ａｔ％であり、上限は３０ａｔ％、好まし
い上限は１５ａｔ％であることが適当である。Ｃｒ及び
Ｍｏ以外の成分には特に制限はないが、例えば、Ｚｒ、
Ｗ、Ｂ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｒｅ、Ｃｅ、Ｚ
ｎ、Ｐ、Ｓｉ、Ｇａ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｔｉ等の１種又は２
種以上を挙げることができる。これらの元素の添加量は
磁気特性等を考慮して適宜決定され、通常１０ａｔ％以
下であることが適当である。尚、本発明においては、非
磁性層を２層構造とし、その一方がＣｒとＭｏとを主成
分とする合金からなるものも包含する。その際、基板側
の非磁性層がＣｒからなり、その上の非磁性層がＣｒと
Ｍｏとを主成分とする合金からなることが好ましい。

【００１３】本発明に用いる非磁性層を構成するＣｒと
Ｍｏを主成分とする合金は、面間隔が、磁性層のＣｏと
Ｐｔを主成分とする合金の六方最密充填構造のｃ軸の長
さと、近似していること、好ましくは実質的に等しいこ
とが、本発明の保磁力等の向上等の効果が高いという観
点とから好ましい。両者の格子間隔を近似させることに
より、磁性層を構成する合金の結晶成長が良好となり保
磁力を含めた種々の磁気特性が向上すると推察される。

【００１４】本発明のように非磁性層としてＣｒとＭｏ
を主成分とする合金を用いることで、磁性層と非磁性層
との格子間隔のマッチングが良好になるので、磁性層の
磁化容易軸が面内方向に向きやすくなる。その結果、保
磁力が良好になる。又、非磁性層がＣｒの場合に比べて
同じ保磁力なら薄くすることができるので、スパッタリ
ングした際、スパッタリング速度が低くなるので、Ｃｒ
とＭｏを主成分とする合金の結晶性が良くなり、その結
果、磁性層の結晶性が良くなり、保磁力が向上する。特
にインラインの場合、その効果が著しい。

【００１５】本発明の磁気記録媒体は、前記磁性層及び
非磁性層以外に、例えば、凹凸形成層、下地層、保護層
及び潤滑層を有することができる。これら凹凸形成層、
下地層、保護層及び潤滑層は公知のものをそのまま使用
することができる。

【００１６】凹凸形成層は、例えば、特公平４−６２４
１３号に開示のものを上げることができる。凹凸形成層
は、例えば、基板と最下層の磁性層との間、または基板
と下地層との間に、設けることができる。但し、基板と
凹凸形成層との間に中間層を設けることもできる。凹凸
形成層は、例えば、アルミニウムや窒化アルミニウム等
を用いてスパッタリング法で形成することができる。凹
凸形成層の表面粗さや膜厚は、得られる磁気記録媒体に
要求される性能に応じて適宜決定できる。実用的には、
例えば、膜厚が１００〜５００Åの範囲、表面粗さＲｍ
ａｘが５０〜１５０Åの範囲であることができる。

【００１７】下地層は、通常、基板と磁性層との間に設
けられ、磁性層の磁気特性を向上させる目的で設けられ
る。尚、基板の上に凹凸形成層を設けた場合には、凹凸
形成層と磁性層との間に下地層を設けることができる。
下地層は、高い保磁力が得られるような材料とすること
が好ましい。下地層は、１層又は２層以上から構成され
ることができる。下地層としては、例えばＣｒとＣｒＭ
ｏの２層膜やＣｒの２層膜を用いることもできる。但
し、Ｃｒ（基板側）とＣｒＭｏ（磁性層側）の２層膜の
方が、高い保磁力が得られる。特に、ＣｒＭｏの膜厚を
３０〜８０Åとし、その下層のＣｒの膜厚を１００〜８
００Åとすると、保磁力が特に優れることから好まし
い。また、ＣｒＭｏ層の膜厚／Ｃｒ層の膜厚の比は、
０．０５〜０．３の間であることが好ましい。また、Ｃ
ｒの２層膜はＣｒとＣｒＭｏの２層膜よりやや保磁力は
落ちるが、実用に供する程度のものは得られる。又、Ｃ
ｒＭｏの２層膜も下地層として用いることができる。ま
た、上記以外に、又は上記ＣｒとＣｒＭｏの２層膜に加
えて、Ａｌ層も下地層として使用することができる。

【００１８】保護層は、磁性層をヘッドの接触摺動によ
る破壊から防護する目的で磁性層の上（基板と反対側の
面）に設けられる。保護層は、１層又は２層以上から構
成されることができる。保護層としては、例えば酸化ケ
イ素膜、炭素膜、ジルコニア膜、水素化カーボン膜、窒
化ケイ素膜、ＳｉＣ膜等を挙げることができる。尚、前
述の凹凸形成層を設けた場合、保護層は、スパッタリン
グ法で設け、炭素膜、酸化珪素膜、酸化インジウム膜等
であることが適当である。潤滑層は、ヘッドとの接触摺
動による抵抗を低減する目的で設けられ、例えば、パー
フルオロポリエーテル等が一般には用いられる。

【００１９】次に本発明の磁気記録装置について説明す
る。本発明の上記磁気記録媒体は、特に、磁気抵抗型ヘ
ッドを有する磁気記録装置において磁気ディスクとして
の使用に適している。本発明の磁気記録装置は、１又は
２以上の磁気ディスクと各磁気ディスクへの磁気情報の
記録・再生に用いる磁気抵抗型ヘッドとを有する。図２
に具体的な装置の一例を示す。

【００２０】図中、５１〜５３は本発明の磁気ディスク
であり、スピンドルモータ５０の軸に固定されている。
このスピンドルモータ５０の軸が回転することによっ
て、磁気ディスク５１〜５３も回転する。また磁気ディ
スク５３の下面は、必要により、サーボ面として使用す
ることもできる。ヘッド可動部６０は、軸を中心に回転
することにより、ヘッドの位置を任意のトラックに移動
することができる。ヘッド可動部６０から延びるアーム
の先端に磁気ヘッド６１〜６５と、必要により、サーボ
用磁気ヘッド６６が設けられる。磁気ヘッド６１〜６５
は、再生専用に磁気抵抗素子を埋め込んだ薄膜ヘッドで
ある。また、サーボ用磁気ヘッド６６は、サーボ情報読
み取り専用のヘッドである。

【００２１】ヘッド可動部６０の磁気ヘッドとは逆側に
は、ボイスコイル６７が設けられている。このボイスコ
イル６７は、リニアアクチュエータマグネットアセンブ
リ６８に挿入される。これにより、ボイスコイル６７に
流す電流を調節し、磁気ヘッド可動部６０を回転させる
ことができる。

【００２２】本発明の装置がサーボ用磁気ヘッド６６を
有する場合、磁気ディスク装置の作動中は、常にサーボ
用磁気ヘッド６６がサーボ情報を読み取っている。サー
ボ情報は、現在のセクターやトラック等の情報である。
読み取られたサーボ情報は、位置信号出力手段９１に送
られる。位置信号出力手段９１は、サーボ情報をもとに
ボイスコイル６７に流す電流を調製し、磁気ヘッド６１
〜６５を任意のトラックに移動するとともに、トラック
の情報を位置情報として出力する。

【００２３】

【実施例】以下本発明の磁気記録媒体について実施例に
よりさらに説明する。実施例１本実施例の磁気記録媒体は、図１に示す通り、ガラス基
板１上に下地層２、第１磁性層３、非磁性層４、第２磁
性層５、保護層６、潤滑層７を順次積層してなる磁気デ
ィスクである。前記ガラス基板１は、アルミノシリケイ
トガラスからなり、その表面はＲａ＝５０Å程度に鏡面
研磨されている。前記下地層２は、ガラス基板１側から
Ａ１薄膜２ａ（膜厚５０Å）、Ｃｒ薄膜２ｂ（膜厚４０
０Å、２００Åと２００Åの２層構造））、ＣｒＭｏ薄
膜２ｃ（膜厚１００Å）からなる。この下地層２は、磁
性層の結晶構造を良好にするために設けられている。
尚、このＣｒＭｏ薄膜２ｃはＣｒが９８ａｔ％、Ｍｏが
２ａｔ％で組成比で構成されている。第１及び第２磁性
層３、５は、それぞれ同じ膜材料であるＣｏＰｔＣｒ合
金からなり、膜厚も共に１２０Åである。これら磁性膜
のＣｏ、Ｐｔ、Ｃｒの各含有量は、それぞれ７８ａｔ
％、１１ａｔ％、１１ａｔ％である。

【００２４】上述の第１及び第２磁性層３、５の間に存
在する非磁性層４は、膜厚５０ÅのＣｒＭｏ合金からな
り、各組成の含有量はＣｒが９５ａｔ％、Ｍｏが５ａｔ
％である。保護層６は、磁性層が磁気ヘッドとの接触に
よって劣化することを防止するためのものであり、磁性
層側から順に配列された、第１保護層６ａ、第２保護層
６ｂの二層によって構成される。第１保護層６ａは、膜
厚５０ÅのＣｒ膜からなり、磁性層に対して化学的保護
層になっている。もう一方の第２保護層６ｂは硬質微粒
子を分散させた、膜厚１６０Åの酸化ケイ素膜からな
り、この第２保護層６ｂによって耐磨耗性が得られる。
潤滑層７は、パーフルオロポリエーテルからなり、この
膜によって磁気ヘッドとの接触を緩和している。

【００２５】以下に上述の構成からなる磁気ディスクの
製造方法について説明する。先ず、イオン交換によって
化学強化したガラス基板１の主表面を精密研磨によって
鏡面（Ｒａ＝５０Å）にする。次にこのガラス基板１の
主表面上にインライン方式のスパッタリングによって、
Ａ１薄膜２ａ、Ｃｒ薄膜２ｂ、ＣｒＭｏ薄膜２ｃ、第１
磁性層３、非磁性層４、第２磁性層５、保護層６を順次
成膜した。次いで、第１保護層６ａに対して親水化処理
を施した後、この基板を、シリカ微粒子（粒径１００
Å）を分散した有機ケイ素化合物溶液（水とイソプルピ
アルコール、とテトラエトキシシランとの混合液）をス
ピンコート法により塗布し、焼成することによって第２
保護層６ｂを形成した。最後に、この第２保護層６ｂ上
にパーフルオロポリエーテルからなる潤滑剤をディップ
処理することによって潤滑層７を形成した。このように
して得られた磁気ディスクの走行テストをヘッド浮上量
３μｍ以下で行ったが良好であった。そして、保磁力、
残留磁化膜厚積、Ｓ／Ｎ比、耐食性を評価した。結果を
表１に示す。

【００２６】実施例２〜１１実施例２〜９では、非磁性層のＣｒＭｏ合金の組成比と
膜厚とを変えた以外は実施例１と同様にして磁気ディス
クを形成した。また、実施例１０及び１１では、非磁性
層を膜厚５０ÅのＣｒＭｏＺｒ合金とし、表１に示す組
成比とした以外は実施例１と同様にして磁気ディスクを
形成した。このようにして得られた磁気ディスクの走行
テストをヘッド浮上量３μｍ以下で行ったが良好であっ
た。そして、保磁力、残留磁化膜厚積、Ｓ／Ｎ比、耐食
性を評価した。結果を表１に示す。

【００２７】

【表１】＊磁性膜材料の組成比：ａｔ％、膜厚：Å、保磁力Ｈｃ：Ｏｅ、残留磁化膜厚積Ｍｒ・δ：ｍｅｍｕ／ｃｍ²、Ｓ／Ｎ比：ｄＢ＊耐食性の試験方法：８０℃、８０％Ｒｈで１０日間放置した後に記録再生の試験を行った。 ○−エラー増加無し。×−エラーの増加有り。

【００２８】上掲の表１から判るように、ＣｒＭｏ合金
又はＣｒＭｏＺｒ合金を用いたものは、比較例に比べて
保磁力、残留磁化膜厚積が高く、ノイズが低い。又、耐
食性も優れていることがわかる。そして、Ｍｏの含有量
が２〜３０ａｔ％のときに特にノイズが低く、保磁力、
残留磁化膜厚積も良好であることがわかった。そして更
に好ましいＭｏ含有量の範囲は５〜１５ａｔ％であっ
た。

【００２９】ＣｒＭｏ合金にＺｒを添加すると、一層ノ
イズ低減効果が増長されることも判る。このような効果
を引き出すためのＺｒの好ましい含有量は、２〜５ａｔ
％である。又、これらの特性は膜厚によっても左右され
るが、諸特性を良好にするためのＣｒＭｏ合金、ＣｒＭ
ｏＺｒ合金の好ましい膜厚は、１０〜１００Å、特に好
ましくは３０Å〜８０Åである。これは、１０Åを下回
ると、充分な保磁力が得られず、１００Åを越えると出
力の低下と重ね書き特性の劣化及びノイズが増加する傾
向があるからである。

【００３０】本発明と同じＣｒ合金であっても、非磁性
層がＣｒＷやＣｒＴｉの場合には本発明の効果は得られ
ない。つまり、ＣｒＷは保磁力をＣｒよりは向上させる
が、ＣｒＭｏに比べてノイズの低減効果は少なく、Ｃｒ
Ｔｉの場合は、Ｃｒに対してさえ保磁力もノイズも劣
る。

【００３１】実施例１２〜１８非磁性層は実施例１と同じものを用い、実施例１とは第
１磁性層３、第２磁性層５の膜組成又は膜材料を変えて
磁気ディスクを作成した。得られた磁気ディスクについ
ても実施例１と同じ項目について評価した。結果を表２
に示す。

【００３２】

【表２】＊磁性膜材料の組成比：ａｔ％、膜厚：Å、保磁力Ｈｃ：Ｏｅ、残留磁化膜厚積Ｍｒ・δ：ｍｅｍｕ／ｃｍ²、Ｓ／Ｎ比：ｄＢ＊耐食性の試験方法：８０℃、８０％Ｒｈで１０日間放置した後に記録再生の試験を行った。 ○−エラー増加無し。×−エラーの増加有り。

【００３３】表２から判るように、非磁性層にＣｒＭｏ
系合金を用いてノイズを低減する場合、ＣｏＰｔＣｒ合
金の磁性膜であれば、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｃｒの好ましい含有
量は、それぞれ６２〜９０ａｔ％、５〜２０ａｔ％、５
〜１８ａｔ％である。又、ＣｏＰｔＴａ合金の磁性膜で
あれば、Ｃｏ、Ｐｔ、Ｔａの好ましい含有量は、それぞ
れ９４〜７３ａｔ％、５〜２０ａｔ％、１〜７ａｔ％で
ある。又、ＣｏＰｔＣｒＴａ合金の磁性膜であれば、Ｃ
ｏ、Ｐｒ、Ｃｒ、Ｔａの好ましい含有量は、それぞれ５
５〜８９ａｔ％、５〜２０ａｔ％、５〜１８ａｔ％、１
〜７ａｔ％である。又、これらの磁性膜の好ましい膜厚
は、１層当たり８０〜１８０Åである。

【００３４】実施例１９実施例１において、Ａｌ薄膜２ａをスパッタリング法で
形成したＡｌ凹凸形成層（膜厚５０Å、表面粗さＲｍａ
ｘ３０Å）に代え、かつ保護層６ａ、６ｂをスパッタリ
ング法で形成した炭素膜保護層（膜厚１３０Å）に代え
た以外は実施例１と同様にして磁気ディスクを作成し
た。得られた磁気ディスクについても実施例１と同じ項
目について評価した。その結果、保磁力、残留磁化膜厚
積およびＳ／Ｎ比は実施例１のものとほぼ同様であっ
た。また、耐食性も同様に良好であった。

【００３５】試験例１（耐食性試験）本発明の磁気ディスクの耐食性を評価する目的で、エラ
ーの経時的発生数を試験した。試験には、実施例１、
３、５、７及び８並びに比較例１及び３の磁気ディスク
を用いた。８０℃、８０％Ｒｈ、ビット長０．３μｍの
条件で、スライスレベル（平均出力）が６５％以下にな
ったものをエラーとしその個数を求めた。３０００時間
経過時のエラー個数を表３に示す。

【００３６】

【表３】

【００３７】表３の結果から、本発明の磁気ディスク
は、経時的なエラーの発生個数が少なく、耐食性に優れ
たものであることが分かる。特に、Ｍｏ含有量が２〜２
０ａｔ％の間では、エラーの発生個数が少ない。

【００３８】試験例２（デビエーション特性試験）本発明の磁気ディスクのデビエーション（ディスクの１
周内の出力の変動率）特性を常法により求めた。試験に
は、実施例１、比較例１及び３の磁気ディスクを用い
た。結果を表４に示す。尚、表４の成膜温度とは、下地
層成膜前の基板加熱温度である。

【００３９】

【表４】

【００４０】試験例３（熱処理による保磁力向上試
験）本発明の磁気ディスクの熱処理による保磁力の向上の程
度を、ＶＳＭ（バイブエイティング・サンプル・マグネ
ットメータ）振動試料型磁力計によって保磁力を測定し
た。試験には、実施例３及び比較例１の磁気ディスクを
用いた。結果を表５に示す。尚、表５の熱処理とはＳｉ
Ｏ₂膜塗布後の焼成温度である。

【００４１】

【表５】＊第１保護層をスパッタリングで形成し、第２保護層を
デップ法で形成した後、この第２保護層を焼成する目的
で、３００℃、１時間の熱処理をした。

【００４２】試験例４（重ね書き特性試験）本発明の磁気ディスクの重ね書き特性（ＯＷ（ｄＢ））
を試験する目的で、磁気ディスクに重ね書きを行い、評
価した。結果を表６に示す。重ね書き方法２．５ＭＨｚで書き込み。出力をＶ₁とする。１０ＭＨｚで重ね書き。重ね書き後ので２．５ＭＨｚで書き込んだ信号の出
力（Ｖ₂）を求める。ＯＷ（ｄＢ）を以下の式にて求めた。ＯＷ（ｄＢ）＝２０ｌｏｇ（Ｖ₂／Ｖ₁）尚、条件は、トラック幅５μｍ、コイル２４ターン、ギ
ャップ長０．２７μｍ、フライングハイト０．０５μｍ
とした。

【００４３】

【表６】（単位：ｄＢ）

【００４４】表１〜６に示す結果から、本発明の磁気記
録媒体は、優れた保磁力を有し、耐食性、デピエーショ
ン特性に優れ、成膜後に行う熱処理による保磁力の向上
が高く、重ね書き特性ＯＷ（ｄＢ）にも優れている。

【００４５】実施例２０図２に示す磁気記録装置に実施例１の磁気記録媒体を装
着し、記録及び再生試験を行った。その結果、面記録密
度が６００Ｍｂｉｔｓ／ｃｍ²を超えるところでＳ／Ｎ
比が２５ｄＢを確保できた。試験例１と同様にして耐環
境テストを行った結果、エラーの増加、スティクション
と耐摩耗性、摩擦係数の増加について異常は認められな
かった。

【００４６】

【発明の効果】本発明によれば、低ノイズで優れた保磁
力を有し、耐食性、デピエーション特性に優れ、成膜後
に行う熱処理による保磁力の向上が高く、重ね書き特性
ＯＷ（ｄＢ）にも優れた磁気記録媒体を提供することが
できる。特に、このような特性を有する本発明の磁気記
録媒体は、磁気抵抗型ヘッドによる記録・再生に適して
いる。さらに本発明によれば、信号記録時のＳ／Ｎ比が
高く、高い記憶容量を有し、かつ耐環境性に優れた磁気
記録装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の断面概略図である。

【図２】本発明の磁気記録装置の概略図である。

【符号の説明】

１・・・・・・ガラス基板２・・・・・・下地層３・・・・・・第１磁性層４・・・・・・非磁性層５・・・・・・第２磁性層６・・・・・・保護層７・・・・・・潤滑層５０・・・・・スピンドルモータ５１〜５３・・磁気ディスク６０・・・・・ヘッド可動部６１〜６５・・磁気ヘッド６６・・・・・サーボ用磁気ヘッド６７・・・・・ボイスコイル６８・・・・・リニアアクチュエータマグネットアセン
ブリ９１・・・・・位置信号出力手段９３・・・・・データ記録再生信号処理手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者河合久雄東京都新宿区中落合２丁目７番５号ホーヤ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、２層以上の磁性層を有し、前
記磁性層間の少なくとも１つに非磁性層を有する磁気記
録媒体において、前記非磁性層はＣｒとＭｏとを主成分とする合金であ
り、前記磁性層はＣｏとＰｔとを主成分とする合金であ
ることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】非磁性層が２〜３０ａｔ％の範囲のＭｏ
を含有する請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】非磁性層が５〜１５ａｔ％の範囲のＭｏ
を含有する請求項２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】非磁性層を構成する合金の面間隔と、磁
性層を構成する合金の六方最密充填構造のｃ軸の長さと
が近似しているか、実質的に等しい請求項１記載の磁気
記録媒体。
【請求項５】非磁性層が、Ｚｒを含む請求項１〜４の
いずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】少なくとも１つの磁性層がＣｏ−Ｐｔ−
Ｃｒ合金である請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁
気記録媒体。
【請求項７】基板と最下層の磁性層との間に２層以上
からなる下地層を有し、最下層の磁性層の直下の２層は
基板側の下地層がクロムからなる層であり、磁性層側の
下地層がクロムとモリブデンとからなる層である請求項
１〜６のいずれか１記載の磁気記録媒体。
【請求項８】最上の磁性層の上にクロム又はクロム合
金からなる第１保護層を有し、該第１保護層の上に酸化
ケイ素からなる第２保護層を有する請求項１〜７のいず
れか１記載の磁気記録媒体。
【請求項９】基板と最下層の磁性層との間、または基
板と下地層との間に、凹凸形成層を有し、かつ最上の磁
性層の上に保護層を有する請求項１〜７のいずれか１記
載の磁気記録媒体。
【請求項１０】基板がガラス基板である請求項１〜９
のいずれか１記載の磁気記録媒体。
【請求項１１】磁気抵抗型ヘッドによる再生に用いら
れる請求項１〜１０のいずれか１項に記載の磁気記録媒
体。
【請求項１２】１又は２以上の磁気ディスクと磁気抵
抗型ヘッドとを有する磁気記録装置であって、前記磁気
ディスクが請求項１〜１０のいずれか１項に記載の磁気
記録媒体である磁気記録装置。