JPH08227844A - 露光装置および露光方法 - Google Patents
露光装置および露光方法Info
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- JPH08227844A JPH08227844A JP7032164A JP3216495A JPH08227844A JP H08227844 A JPH08227844 A JP H08227844A JP 7032164 A JP7032164 A JP 7032164A JP 3216495 A JP3216495 A JP 3216495A JP H08227844 A JPH08227844 A JP H08227844A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】露光装置および露光方法において、安定した精
度の高い微細パターン形成を行う。 【構成】フライアイレンズ１１の単一レンズを透過する
光強度を測定する照度センサ２と、この照度センサ２に
フライアイレンズ１１の単一レンズと位置合せする機構
とを設け、ウェハに露光する前に露光光の光強度分布を
測定し所望の光強度分布を修正してからウェハに露光光
を投射する。
度の高い微細パターン形成を行う。 【構成】フライアイレンズ１１の単一レンズを透過する
光強度を測定する照度センサ２と、この照度センサ２に
フライアイレンズ１１の単一レンズと位置合せする機構
とを設け、ウェハに露光する前に露光光の光強度分布を
測定し所望の光強度分布を修正してからウェハに露光光
を投射する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、露光装置及び露光方法
に関し、特に紫外線露光を用いた露光装置および露光方
法に関する。
に関し、特に紫外線露光を用いた露光装置および露光方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、半導体基板であるウェハに集積回
路を形成するのに、ウェハ上のマスクのパターン転写す
る露光装置が用いられている。図５は従来の露光装置の
一例である縮小投影露光装置の構成を示す図である。こ
の縮小投影露光装置は、図５に示すように、破線で示さ
れるｉ線光８を投射する光源部９と、投射されたｉ線光
８を反射鏡１０でその方向を変え入光しｉ線光８を均一
化して照度むらを少なくするフライアレンズ１１と、フ
ライアインズ１１から出光する光を任意の形状に絞ると
ともに光強度分布を変えるフィルタ１２ａをもつアパー
チャー絞り１２と、整形された光をレチクル１４上に結
像するコンデンサーレンズ１３と、レチクル１４のパタ
ーン像をウェハステージ２０のウェハ２１に縮小投影す
る縮小投影レンズ１５とを備えていた。
路を形成するのに、ウェハ上のマスクのパターン転写す
る露光装置が用いられている。図５は従来の露光装置の
一例である縮小投影露光装置の構成を示す図である。こ
の縮小投影露光装置は、図５に示すように、破線で示さ
れるｉ線光８を投射する光源部９と、投射されたｉ線光
８を反射鏡１０でその方向を変え入光しｉ線光８を均一
化して照度むらを少なくするフライアレンズ１１と、フ
ライアインズ１１から出光する光を任意の形状に絞ると
ともに光強度分布を変えるフィルタ１２ａをもつアパー
チャー絞り１２と、整形された光をレチクル１４上に結
像するコンデンサーレンズ１３と、レチクル１４のパタ
ーン像をウェハステージ２０のウェハ２１に縮小投影す
る縮小投影レンズ１５とを備えていた。
【０００３】また、レチクル１４には、例えば、原寸パ
ターンの２〜１０倍の大きさのパターンが形成され、レ
チクル１４上のパターンはウェハ２１の表面上に、例え
ば、２０ｍｍ×２０ｍｍ程度の四角形の露光領域に結像
させられていた。そして、ウェハステージ２０を移動す
ることで、各露光領域が順次露光されウェハ２１の全面
をパターンが転写された。
ターンの２〜１０倍の大きさのパターンが形成され、レ
チクル１４上のパターンはウェハ２１の表面上に、例え
ば、２０ｍｍ×２０ｍｍ程度の四角形の露光領域に結像
させられていた。そして、ウェハステージ２０を移動す
ることで、各露光領域が順次露光されウェハ２１の全面
をパターンが転写された。
【０００４】図６は図５の光源部の一例における構成を
示す図である。露光光としてｇ線光（波長４３６ｎｍ）
やｉ線光（波長３６５ｎｍ）を発光する場合には、図５
の光源部９は、図６に示すように、光源として水銀灯１
９を用い、楕円鏡１８により集光し、反射鏡２２で方向
を変えコリメートレンズ１６により平行光１７として発
光する。
示す図である。露光光としてｇ線光（波長４３６ｎｍ）
やｉ線光（波長３６５ｎｍ）を発光する場合には、図５
の光源部９は、図６に示すように、光源として水銀灯１
９を用い、楕円鏡１８により集光し、反射鏡２２で方向
を変えコリメートレンズ１６により平行光１７として発
光する。
【０００５】また、露光光としてＫｒＦエキシマ光（波
長２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマ光（波長１９３ｎｍ）
を発光する場合には、通常、光源はそれぞれの波長の光
を発生するレーザ光源を用いている。
長２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマ光（波長１９３ｎｍ）
を発光する場合には、通常、光源はそれぞれの波長の光
を発生するレーザ光源を用いている。
【０００６】図７（ａ）および（ｂ）はフライアイレン
ズの出口における光強度分布の例を示すグラフである。
また、フライアイレンズ１１の出口の光強度分布はレチ
クル１４のパターンの解像度を左右するものである。従
って、レチクル１４のパターンによりその都度アパーチ
ャ絞り１２とフィルタ１２ａを変えていた。このアパー
チャ絞り１２とフィルタ１２ａを変えるのには、所望の
アパーチャ絞り１２とフィルター１２ａを回転軸１２ｂ
を回転させフライアレイレンズ１１の下に位置決めし行
なっていた。そして、その代表的な光強度分布例とし
て、図７（ａ）に示すように、中心分が高く周辺部が低
いガウス状の分布である。
ズの出口における光強度分布の例を示すグラフである。
また、フライアイレンズ１１の出口の光強度分布はレチ
クル１４のパターンの解像度を左右するものである。従
って、レチクル１４のパターンによりその都度アパーチ
ャ絞り１２とフィルタ１２ａを変えていた。このアパー
チャ絞り１２とフィルタ１２ａを変えるのには、所望の
アパーチャ絞り１２とフィルター１２ａを回転軸１２ｂ
を回転させフライアレイレンズ１１の下に位置決めし行
なっていた。そして、その代表的な光強度分布例とし
て、図７（ａ）に示すように、中心分が高く周辺部が低
いガウス状の分布である。
【０００７】しかし、精密な微細パターンを形成すると
きに、レチクル１４に斜めに入射する成分、つまり、フ
ライアイレンズ１１の周辺部の成分の効果が重要で、均
一な光強度分布にすることで焦点深度が広くなることが
知られている。例えば、Ｋ．Ｙａｍａｎａｋａ ｅｔ
ａｌ，ＳＰＩＥ，ｖｏｌ．１９２７，ｐ３１０に開示さ
れているように、ｉ線光を用い、縮小投影レンズのＮＡ
＝０．６，コヒーレンスファクタσ＝０．７の場合にお
いて、前述のようにアパーチャー絞り出口における光強
度分布が図７（ａ）のような山なりの分布の場合と、図
７（ｂ）のような均一な場合では、０．３５μｍＬ／Ｓ
の焦点深度は、後者の均一な分布のほうが有利であるこ
とが報告されている。
きに、レチクル１４に斜めに入射する成分、つまり、フ
ライアイレンズ１１の周辺部の成分の効果が重要で、均
一な光強度分布にすることで焦点深度が広くなることが
知られている。例えば、Ｋ．Ｙａｍａｎａｋａ ｅｔ
ａｌ，ＳＰＩＥ，ｖｏｌ．１９２７，ｐ３１０に開示さ
れているように、ｉ線光を用い、縮小投影レンズのＮＡ
＝０．６，コヒーレンスファクタσ＝０．７の場合にお
いて、前述のようにアパーチャー絞り出口における光強
度分布が図７（ａ）のような山なりの分布の場合と、図
７（ｂ）のような均一な場合では、０．３５μｍＬ／Ｓ
の焦点深度は、後者の均一な分布のほうが有利であるこ
とが報告されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の露光装
置では、露光する前にアパーチャ絞り出口における光強
度分布を測定する機能をもっていないので、光源におけ
る経時的な照度の劣化や光源の水銀灯の交換などにより
光強度分布が変化しても検知できず、光学条件が変化
し、焦点深度の減少や解像度の劣化によるパターン形成
不良が発生していた。また、パターンの種類に応じた最
適化も行うことができなかった。さらに、測定し得るよ
うに写真フィルムを挿入して光スポットを焼き付けて行
なう方法も考えられるが、装置の停止時間が長くなり実
際に行なうことは困難である。
置では、露光する前にアパーチャ絞り出口における光強
度分布を測定する機能をもっていないので、光源におけ
る経時的な照度の劣化や光源の水銀灯の交換などにより
光強度分布が変化しても検知できず、光学条件が変化
し、焦点深度の減少や解像度の劣化によるパターン形成
不良が発生していた。また、パターンの種類に応じた最
適化も行うことができなかった。さらに、測定し得るよ
うに写真フィルムを挿入して光スポットを焼き付けて行
なう方法も考えられるが、装置の停止時間が長くなり実
際に行なうことは困難である。
【０００９】本発明の目的は、上記に鑑み、アパーチャ
絞り出口における光強度分布のばらつきを無くし、常に
一定の光強度分布において露光を行い、焦点深度の減少
や解像度の劣化をなくし、安定したパターン形成できる
露光装置および露光方法を提供することである。
絞り出口における光強度分布のばらつきを無くし、常に
一定の光強度分布において露光を行い、焦点深度の減少
や解像度の劣化をなくし、安定したパターン形成できる
露光装置および露光方法を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、光源部
より投射される露光光を入光し均一化して照度むらを少
なくするフライアイレンズと、フライアイレンズから出
光する前記露光光を任意の形状に絞るとともに光強度分
布を変えるフィルタをもつアパーチャ絞りと、このアパ
ーチャ絞りから出光する前記露光光をレチクル上に結像
し該レチクルのパターン像をウェハステージのウェハに
縮小投影する投影レンズとを備える露光装置において、
前記フライアイレンズの単一レンズから透過する前記露
光光の光強度を測定する照度センサと、この照度センサ
と前記フライアイレンズの各単一レンズとを位置合せす
る機構とを備える露光装置である。
より投射される露光光を入光し均一化して照度むらを少
なくするフライアイレンズと、フライアイレンズから出
光する前記露光光を任意の形状に絞るとともに光強度分
布を変えるフィルタをもつアパーチャ絞りと、このアパ
ーチャ絞りから出光する前記露光光をレチクル上に結像
し該レチクルのパターン像をウェハステージのウェハに
縮小投影する投影レンズとを備える露光装置において、
前記フライアイレンズの単一レンズから透過する前記露
光光の光強度を測定する照度センサと、この照度センサ
と前記フライアイレンズの各単一レンズとを位置合せす
る機構とを備える露光装置である。
【００１１】また、前記照度センサが前記アパーチャ絞
りの下部に位置するかあるいは前記ウェハステージ上に
載置されている。
りの下部に位置するかあるいは前記ウェハステージ上に
載置されている。
【００１２】本発明の他の特徴は、前記照度センサと前
記位置合せ機構とにより前記露光光の光強度分布を測定
し、前記フィルタをもつアパーチャ絞りを入れ換えて測
定された前記光強度分布を修正してから前記ウェハに前
記露光光を投射する露光方法である。
記位置合せ機構とにより前記露光光の光強度分布を測定
し、前記フィルタをもつアパーチャ絞りを入れ換えて測
定された前記光強度分布を修正してから前記ウェハに前
記露光光を投射する露光方法である。
【００１３】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
説明する。
【００１４】図１は本発明の露光装置の一実施例におけ
るフライアイレンズとコンデンサレンズ間を示す図であ
る。この露光装置は、図１に示すように、フライアイレ
ンズ１１のそれぞれの単一レンズにｉ線光８が透過する
光強度を測定する光強度分布測定機構１をアパーシャ絞
り１２とコンデンサーレンズ１３との間に設けたことで
ある。それ以外は従来例と同じである。
るフライアイレンズとコンデンサレンズ間を示す図であ
る。この露光装置は、図１に示すように、フライアイレ
ンズ１１のそれぞれの単一レンズにｉ線光８が透過する
光強度を測定する光強度分布測定機構１をアパーシャ絞
り１２とコンデンサーレンズ１３との間に設けたことで
ある。それ以外は従来例と同じである。
【００１５】この光強度分布測定機構１は、アパーチャ
ー絞り５出口直後に配置されたシュラウド３の開口３ａ
下に配置されフライアイレンズ１１の単一レンズを透過
するｉ線光８を反射する反射鏡４と、この反射鏡４より
反射しレンズ対で収束されたｉ線光８を捕捉し光電変換
する照度センサ２と、反射鏡４およびレンズ対並びに照
度センサ２の光軸を保持し内蔵するシュラウド３をＸお
よびＹ方向に定寸移動させる移動機構とを備えている。
ー絞り５出口直後に配置されたシュラウド３の開口３ａ
下に配置されフライアイレンズ１１の単一レンズを透過
するｉ線光８を反射する反射鏡４と、この反射鏡４より
反射しレンズ対で収束されたｉ線光８を捕捉し光電変換
する照度センサ２と、反射鏡４およびレンズ対並びに照
度センサ２の光軸を保持し内蔵するシュラウド３をＸお
よびＹ方向に定寸移動させる移動機構とを備えている。
【００１６】また、移動機構は、シュラウド３のナット
（図示せず）に噛み合う送りねじを回転させるＸ方向ハ
ルスモータ５ａと、Ｘ方向パルスモータ５ａが取付けら
れたブラケットのナット（図示せず）に噛み合う送りね
じを回転するＹ方向パルスモータ５ｂを備えている。そ
して、ＸおよびＹ方向パルスモータ５ａ，５ｂに所定数
の出力パルスを与えることによりシュラウド３の開口３
ａをフライアイレンズ１１の任意の単一レンズの下に位
置決めすることができる。
（図示せず）に噛み合う送りねじを回転させるＸ方向ハ
ルスモータ５ａと、Ｘ方向パルスモータ５ａが取付けら
れたブラケットのナット（図示せず）に噛み合う送りね
じを回転するＹ方向パルスモータ５ｂを備えている。そ
して、ＸおよびＹ方向パルスモータ５ａ，５ｂに所定数
の出力パルスを与えることによりシュラウド３の開口３
ａをフライアイレンズ１１の任意の単一レンズの下に位
置決めすることができる。
【００１７】この位置決めのための移動機構でフライア
イレンズ１１のそれぞれの単一レンズの下にシュラウド
３の開口３ａに位置決めし、各単一レンズの透過光を照
度センサ２へ入光させ、照度センサ２より変換された電
流値をデジタル値信号に変換し、パルスモータからの位
置信号とともにデータ処理してディスプレイに表示すれ
ば、露光光の照射領域内の光強度分布が表示できる。
イレンズ１１のそれぞれの単一レンズの下にシュラウド
３の開口３ａに位置決めし、各単一レンズの透過光を照
度センサ２へ入光させ、照度センサ２より変換された電
流値をデジタル値信号に変換し、パルスモータからの位
置信号とともにデータ処理してディスプレイに表示すれ
ば、露光光の照射領域内の光強度分布が表示できる。
【００１８】図２（ａ〜（ｄ））はアパーチャ絞りの例
を示す図である。図１の光強度分布測定機構１でアパー
チャ絞り１２を変えて光強度分布を測定してみた。例え
ば、図１のアパーチャ絞り１２は図２（ａ）に示すよう
な円形の絞りであるが、図２（ｂ），図２（ｃ）に示す
ような部分的に透過率を変化させるような絞りに変更す
ることで、前述の従来例で説明したように均一な光強度
分布にすることができた。
を示す図である。図１の光強度分布測定機構１でアパー
チャ絞り１２を変えて光強度分布を測定してみた。例え
ば、図１のアパーチャ絞り１２は図２（ａ）に示すよう
な円形の絞りであるが、図２（ｂ），図２（ｃ）に示す
ような部分的に透過率を変化させるような絞りに変更す
ることで、前述の従来例で説明したように均一な光強度
分布にすることができた。
【００１９】なお、図２（ａ）では、内側は１００％透
過する絞りであるが、図２（ｂ）ではσi の内側では透
過率３５％でσi からσo までは透過率１００％であ
る。図２（ｃ）では、σ1 の内側は透過率５０％，σ1
からσ2 までは透過率３０％でσ2 からσo までは１０
０％である。
過する絞りであるが、図２（ｂ）ではσi の内側では透
過率３５％でσi からσo までは透過率１００％であ
る。図２（ｃ）では、σ1 の内側は透過率５０％，σ1
からσ2 までは透過率３０％でσ2 からσo までは１０
０％である。
【００２０】また、フライアイレンズ１１が縦１３個×
横１３個の四角形レンズで構成されている場合に、各フ
ライアイレンズ毎に光強度を補正するときにはアパーチ
ャ絞り１２を図２（ｄ）のように区切り、フライアイレ
ンズ１１の単一レンズ毎に透過率を変更することも可能
である。
横１３個の四角形レンズで構成されている場合に、各フ
ライアイレンズ毎に光強度を補正するときにはアパーチ
ャ絞り１２を図２（ｄ）のように区切り、フライアイレ
ンズ１１の単一レンズ毎に透過率を変更することも可能
である。
【００２１】図３は図１の露光装置を使用して本発明の
露光方法の一実施例を説明するためのフローチャートで
ある。まず、ステップＡで予じめ設定されたアパーチャ
絞り１２で図１の光強度分布測定機構１を動作させ、露
光光の光強度分布を求める。例えば、ディスプレイにパ
ターン表示する。次に、ステップＢで所望のパターンと
一致しているか否かを判定する。もし、一致していれ
ば、ステップＤで露光準備完了となる。また、否であれ
ば、回転軸１２ｂを回転させ別のアパーチャ絞り１２に
入れ換えてステップＡの光強度分布測定を行なう。この
ような操作を繰返して行ない所望の光強度分布に修正し
てからウェハに露光光を投射する。
露光方法の一実施例を説明するためのフローチャートで
ある。まず、ステップＡで予じめ設定されたアパーチャ
絞り１２で図１の光強度分布測定機構１を動作させ、露
光光の光強度分布を求める。例えば、ディスプレイにパ
ターン表示する。次に、ステップＢで所望のパターンと
一致しているか否かを判定する。もし、一致していれ
ば、ステップＤで露光準備完了となる。また、否であれ
ば、回転軸１２ｂを回転させ別のアパーチャ絞り１２に
入れ換えてステップＡの光強度分布測定を行なう。この
ような操作を繰返して行ない所望の光強度分布に修正し
てからウェハに露光光を投射する。
【００２２】図４は本発明の露光装置の他の実施例を示
す図である。この露光装置は、図４に示すように、フラ
イアイレンズ１１の単一レンズを透過しアパーチャ絞り
１２の開口１２ｃを通過したｉ光線８を通過する一つの
穴７ａをもつアパーチャ７と、このアパーチャ７をアー
ム６ａで保持しアパーチャ７をＸおよびＹ方向に移動さ
せフライアイレンズ１１の各単一レンズの下に穴７ａを
位置決めするＸＹ移動機構６と、アパーチャ７とコンデ
ンサレンズ１３と縮小投影レンズ１５を透過したｉ線光
を入光し光電変換を行なうとともにウェハステージ２０
に載置される照度センサとを備えている。
す図である。この露光装置は、図４に示すように、フラ
イアイレンズ１１の単一レンズを透過しアパーチャ絞り
１２の開口１２ｃを通過したｉ光線８を通過する一つの
穴７ａをもつアパーチャ７と、このアパーチャ７をアー
ム６ａで保持しアパーチャ７をＸおよびＹ方向に移動さ
せフライアイレンズ１１の各単一レンズの下に穴７ａを
位置決めするＸＹ移動機構６と、アパーチャ７とコンデ
ンサレンズ１３と縮小投影レンズ１５を透過したｉ線光
を入光し光電変換を行なうとともにウェハステージ２０
に載置される照度センサとを備えている。
【００２３】また、図面には示してはいないが、アーム
６ａをＸ方向に出入りさせる機構およびパルスモータ並
びにアーム６ａを保持するブロックをＹ方向に移動させ
る機構およびパルスモータも備えられている。この実施
例における光強度分布測定機構は、全ての光学構成物を
透過した後の露光光の光強度分布を測定できるので、前
述の実施例のようにフライアイレンズ以後の光強度分布
測定を測定するのに比べ実際のウェハ上の光強度分布が
得られるという利点がある。
６ａをＸ方向に出入りさせる機構およびパルスモータ並
びにアーム６ａを保持するブロックをＹ方向に移動させ
る機構およびパルスモータも備えられている。この実施
例における光強度分布測定機構は、全ての光学構成物を
透過した後の露光光の光強度分布を測定できるので、前
述の実施例のようにフライアイレンズ以後の光強度分布
測定を測定するのに比べ実際のウェハ上の光強度分布が
得られるという利点がある。
【００２４】なお、この実施例の光強度分布測定は、ウ
ェハステージ２０上にあらかじめ照度センサ２を置き、
さらにレチクルを外しアパーチャ絞り１２のフィルタの
ないものに入れ換えてから行なわれる。前述の実施例と
同じように、アパーチャ７の穴７ａをＸＹ移動機構６に
よりフライアイレンズ１１の各単一レンズの下に位置決
めし、露光光の全面での光強度分布が測定することがで
きる。そして、所望の光強度分布にするには、前述の実
施例と同じように、アパーチャ絞り１２を入れ換えて行
なわれる。
ェハステージ２０上にあらかじめ照度センサ２を置き、
さらにレチクルを外しアパーチャ絞り１２のフィルタの
ないものに入れ換えてから行なわれる。前述の実施例と
同じように、アパーチャ７の穴７ａをＸＹ移動機構６に
よりフライアイレンズ１１の各単一レンズの下に位置決
めし、露光光の全面での光強度分布が測定することがで
きる。そして、所望の光強度分布にするには、前述の実
施例と同じように、アパーチャ絞り１２を入れ換えて行
なわれる。
【００２５】以上の実施例で説明した光強度分布測定機
構におけるシュラウドあるいはアパーチャの移動機構
は、図面で示した機構で説明したが、この機構に限定さ
れるものではない。
構におけるシュラウドあるいはアパーチャの移動機構
は、図面で示した機構で説明したが、この機構に限定さ
れるものではない。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、フライア
イレンズの単一レンズを透過する光強度を測定する照度
センサと、この照度センサにフライアイレンズの単一レ
ンズと位置合せする機構とを設け、ウェハに露光する前
に露光光の光強度分布を測定し所望の光強度分布を修正
してからウェハに露光光を投射するので、安定した精度
の高いパターン形成が可能となるという効果がある。
イレンズの単一レンズを透過する光強度を測定する照度
センサと、この照度センサにフライアイレンズの単一レ
ンズと位置合せする機構とを設け、ウェハに露光する前
に露光光の光強度分布を測定し所望の光強度分布を修正
してからウェハに露光光を投射するので、安定した精度
の高いパターン形成が可能となるという効果がある。
【図１】本発明の露光装置の一実施例におけるフライア
イレンズとコンデンサーレンズ間を示す図である。
イレンズとコンデンサーレンズ間を示す図である。
【図２】アパーチャ絞りの例を示す図である。
【図３】図１の露光装置を使用して本発明の露光方法の
一実施例を説明するためのフローチャートである。
一実施例を説明するためのフローチャートである。
【図４】本発明の露光装置の他の実施例を示す図であ
る。
る。
【図５】図５は従来の露光装置の一例である縮小投影露
光装置の構成を示す図である。
光装置の構成を示す図である。
【図６】図５の光源部の一例における構成を示す図であ
る。
る。
【図７】フライアイレンズの出口における光強度分布の
例を示すグラフである。
例を示すグラフである。
１ 光強度分布測定機構 ２ 照度センサ ３ シュラウド ３ａ，１２ｃ 開口 ４，１０ 反射鏡 ５ａ Ｘ方向パルスモータ ５ｂ Ｙ方向パルスモータ ６ ＸＹ移動機構 ６ａ アーム ７ アパーチャ ７ａ 穴 ８ ｉ線光 ９ 光源部 １１ フライアイレンズ １２ アパーチャ絞り １２ａ フィルタ １２ｂ 回転軸 １３ コンデンサレンズ １４ レチクル １５ 縮小投影レンズ １６ コリメートレンズ １７ 平行光 １８ 楕円鏡 １９ 水銀灯 ２０ ウェハステージ ２１ ウェハ
Claims (4)
- 【請求項１】 光源部より投射される露光光を入光し均
一化して照度むらを少なくするフライアレンズと、フラ
イアイレンズから出光する前記露光光を任意の形状に絞
るとともに光強度分布を変えるフィルタをもつアパーチ
ャ絞りと、このアパーチャ絞りから出光する前記露光光
をレチクル上に結像し該レチクルのパターン像をウェハ
ステージのウェハに縮小投影する投影レンズとを備える
露光装置において、前記フライアイレンズの単一レンズ
から透過する前記露光光の光強度を測定する照度センサ
と、この照度センサと前記フライアイレンズの各単一レ
ンズとを位置合せする機構とを備えることを特徴とする
露光装置。 - 【請求項２】 前記照度センサが前記アパーチャ絞りの
下部に位置することを特徴とする請求項１記載の露光装
置。 - 【請求項３】 前記照度センサが前記ウェハステージ上
に載置されることを特徴とする請求項１記載の露光装
置。 - 【請求項４】 前記照度センサと前記位置合せ機構とに
より前記露光光の光強度分布を測定し、前記フィルタを
もつアパーチャ絞りを入れ換えて測定された前記光強度
分布を修正してから前記ウェハに前記露光光を投射する
ことを特徴とする露光方法。
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|---|---|---|---|
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| US08/604,386 US5666206A (en) | 1995-02-21 | 1996-02-21 | Exposure system and exposure method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7032164A JP2705609B2 (ja) | 1995-02-21 | 1995-02-21 | 露光装置および露光方法 |
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|---|---|
| JPH08227844A true JPH08227844A (ja) | 1996-09-03 |
| JP2705609B2 JP2705609B2 (ja) | 1998-01-28 |
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ID=12351309
Family Applications (1)
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| JP7032164A Expired - Fee Related JP2705609B2 (ja) | 1995-02-21 | 1995-02-21 | 露光装置および露光方法 |
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| US (1) | US5666206A (ja) |
| JP (1) | JP2705609B2 (ja) |
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| JP2010517278A (ja) * | 2007-01-23 | 2010-05-20 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 照射強度分布の測定器および測定方法 |
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1996
- 1996-02-21 US US08/604,386 patent/US5666206A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
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| JP2705609B2 (ja) | 1998-01-28 |
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