JPH0822891B2 - 重合体の製造方法 - Google Patents
重合体の製造方法Info
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- JPH0822891B2 JPH0822891B2 JP63112392A JP11239288A JPH0822891B2 JP H0822891 B2 JPH0822891 B2 JP H0822891B2 JP 63112392 A JP63112392 A JP 63112392A JP 11239288 A JP11239288 A JP 11239288A JP H0822891 B2 JPH0822891 B2 JP H0822891B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、第４級アンモニウム基を有するビニル単量
体又はその部分重合体に放射線又は紫外線を照射して重
合する方法に関する。
体又はその部分重合体に放射線又は紫外線を照射して重
合する方法に関する。
（従来の技術及び発明が解決しようとする課題） 単量体の重合方法として放射線重合はよく知られてい
る。また、紫外線を照射して重合することもよく知られ
ている。放射線を使用する場合には、単量体の電子は放
射線によって比較的容易に励起され重合が開始される。
しかしながら、紫外線は放射線よりもエネルギーが低
く、紫外線のみによって電子を励起させることは困難で
ある。そのため紫外線を用いて重合する場合には光重合
開始剤が使用されている（特開昭49-74235号公報）。
る。また、紫外線を照射して重合することもよく知られ
ている。放射線を使用する場合には、単量体の電子は放
射線によって比較的容易に励起され重合が開始される。
しかしながら、紫外線は放射線よりもエネルギーが低
く、紫外線のみによって電子を励起させることは困難で
ある。そのため紫外線を用いて重合する場合には光重合
開始剤が使用されている（特開昭49-74235号公報）。
（課題を解決するための手段） 本発明者らは、光重合開始剤を用いなくても紫外線の
照射によって重合し得るような単量体の探索を行なって
きた。その結果、第４級アンモニウム基を有する特定構
造のビニル単量体が、光重合開始剤を使用しなくても紫
外線によって容易に重合することを見い出し、本発明を
完成させるに至った。
照射によって重合し得るような単量体の探索を行なって
きた。その結果、第４級アンモニウム基を有する特定構
造のビニル単量体が、光重合開始剤を使用しなくても紫
外線によって容易に重合することを見い出し、本発明を
完成させるに至った。
即ち、本発明は、下記一般式〔Ｉ〕 で示されるビニル単量体又はその部分重合体に光重合開
始剤を使用することなく紫外線を照射することを特徴と
する重合体の製造方法である。
始剤を使用することなく紫外線を照射することを特徴と
する重合体の製造方法である。
本発明で使用されるビニル単量体は、上記一般式
〔Ｉ〕で示される。上記一般式〔Ｉ〕中、R1,R2及びR3
で示されるアルキル基の炭素数は特に制限されないが、
上記一般式〔Ｉ〕で示されるビニル単量体の重合のしや
すさ等の理由から、１〜８、さらに１〜４の範囲である
ことが好ましい。また、上記のアルキル基は、直鎖状で
も良く、分岐状でも良い。さらに、前記一般式〔Ｉ〕
中、Ｘ は陰イオンであれば良く、その種類には全く制
限されない。通常使用される陰イオンは、塩素イオン，
臭素イオン，ヨウ素イオン等のハロゲンイオン；硫酸イ
オン,4フッ化ホウ素イオン，硝酸イオン等である。
〔Ｉ〕で示される。上記一般式〔Ｉ〕中、R1,R2及びR3
で示されるアルキル基の炭素数は特に制限されないが、
上記一般式〔Ｉ〕で示されるビニル単量体の重合のしや
すさ等の理由から、１〜８、さらに１〜４の範囲である
ことが好ましい。また、上記のアルキル基は、直鎖状で
も良く、分岐状でも良い。さらに、前記一般式〔Ｉ〕
中、Ｘ は陰イオンであれば良く、その種類には全く制
限されない。通常使用される陰イオンは、塩素イオン，
臭素イオン，ヨウ素イオン等のハロゲンイオン；硫酸イ
オン,4フッ化ホウ素イオン，硝酸イオン等である。
本発明で使用される前記一般式〔Ｉ〕のビニル単量体
の中でも、特に好適に使用し得るものを具体的に例示す
ると次のとおりである。例えば、4-ビニルベンジルトリ
メチルアンモニウムアイオダイド,3-ビニルベンジルト
リメチルアンモニウムアイオダイド,4-ビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロライド,3-ビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロライド,4-ビニルベンジル
トリエチルアンモニウムクロライド,3-ビニルベンジル
トリエチルアンモニウムクロライド,4-ビニルベンジル
トリプロピルアンモニウムクロライド,3-ビニルベンジ
ルトリプロピルアンモニウムクロライド,4-ビニルベン
ジルジメチルエチルアンモニウムブロマイド、3-ビニル
ベンジルジメチルエチルアンモニウムブロマイド,4-ビ
ニルベンジルジメチルプロピルアンモニウムブロマイ
ド,3-ビニルベンジルジメチルプロピルアンモニウムブ
ロマイド,4-ビニルベンジルジエチルメチルアンモニウ
ムアイオダイド,3-ビニルベンジルジエチルメチルアン
モニウムアイオダイド,4-ビニルベンジルジプロピルメ
チルアンモニウムアイオダイド,3-ビニルベンジルジプ
ロピルメチルアンモニウムアイオダイド,4-ビニルベン
ジルジプロピルエチルアンモニウムブロマイド,3-ビニ
ルベンジルジプロピルエチルアンモニウムブロマイド等
を挙げることができる。
の中でも、特に好適に使用し得るものを具体的に例示す
ると次のとおりである。例えば、4-ビニルベンジルトリ
メチルアンモニウムアイオダイド,3-ビニルベンジルト
リメチルアンモニウムアイオダイド,4-ビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロライド,3-ビニルベンジル
トリメチルアンモニウムクロライド,4-ビニルベンジル
トリエチルアンモニウムクロライド,3-ビニルベンジル
トリエチルアンモニウムクロライド,4-ビニルベンジル
トリプロピルアンモニウムクロライド,3-ビニルベンジ
ルトリプロピルアンモニウムクロライド,4-ビニルベン
ジルジメチルエチルアンモニウムブロマイド、3-ビニル
ベンジルジメチルエチルアンモニウムブロマイド,4-ビ
ニルベンジルジメチルプロピルアンモニウムブロマイ
ド,3-ビニルベンジルジメチルプロピルアンモニウムブ
ロマイド,4-ビニルベンジルジエチルメチルアンモニウ
ムアイオダイド,3-ビニルベンジルジエチルメチルアン
モニウムアイオダイド,4-ビニルベンジルジプロピルメ
チルアンモニウムアイオダイド,3-ビニルベンジルジプ
ロピルメチルアンモニウムアイオダイド,4-ビニルベン
ジルジプロピルエチルアンモニウムブロマイド,3-ビニ
ルベンジルジプロピルエチルアンモニウムブロマイド等
を挙げることができる。
前記一般式〔Ｉ〕で示されるビニル単量体の製造方法
は、特に制限されず公知の方法が採用される。一般に
は、第４級アンモニウム基に変換可能な基を有するビニ
ル単量体に４級化剤を接触させることによって、第４級
アンモニウム基を導入する方法が採用される。
は、特に制限されず公知の方法が採用される。一般に
は、第４級アンモニウム基に変換可能な基を有するビニ
ル単量体に４級化剤を接触させることによって、第４級
アンモニウム基を導入する方法が採用される。
このようにして得られたビニル単量体を本発明に従っ
て重合する方法は、第４級アンモニウム基に変換可能な
基を有するビニル単量体をまず重合し、得られた重合体
の該第４級アンモニウム基に変換可能な基を第４級アン
モニウム基に変換する方法に比べて第４級アンモニウム
基への変換反応が容易に行なえるという利点がある。
て重合する方法は、第４級アンモニウム基に変換可能な
基を有するビニル単量体をまず重合し、得られた重合体
の該第４級アンモニウム基に変換可能な基を第４級アン
モニウム基に変換する方法に比べて第４級アンモニウム
基への変換反応が容易に行なえるという利点がある。
本発明の方法で用いられる原料は前記一般式〔Ｉ〕で
示されるビニル単量体単独であっても良く、また、該ビ
ニル単量体と共重合可能な他の単量体との混合物であっ
ても良い。他の単量体としては、スチレン，α‐メチル
スチレン，クロロメチルスチレン，クロルスチレン，メ
トキシスチレン等のスチレン系単量体；メタクリル酸，
メチルメタクリレート，メタクリルアミド等のメタクリ
レート系単量体；その他アクリロニトリル，イソプレ
ン，ブタジエン等の単量体を挙げることができる。
示されるビニル単量体単独であっても良く、また、該ビ
ニル単量体と共重合可能な他の単量体との混合物であっ
ても良い。他の単量体としては、スチレン，α‐メチル
スチレン，クロロメチルスチレン，クロルスチレン，メ
トキシスチレン等のスチレン系単量体；メタクリル酸，
メチルメタクリレート，メタクリルアミド等のメタクリ
レート系単量体；その他アクリロニトリル，イソプレ
ン，ブタジエン等の単量体を挙げることができる。
前記一般式〔Ｉ〕で示されるビニル単量体と他の単量
体との混合割合は、特に制限されるものではないが、紫
外線による重合の容易さを勘案すると、他の単量体は30
重量％以下であることが好ましい。
体との混合割合は、特に制限されるものではないが、紫
外線による重合の容易さを勘案すると、他の単量体は30
重量％以下であることが好ましい。
また、本発明に於いて使用し得る原料は、前記一般式
〔Ｉ〕で示されるビニル単量体単独又は上記した他の単
量体との混合物の部分重合体であっても良い。部分重合
体の分子量は特に制限されないが、ある物質の表面改質
或いはフオトレジスト等の目的で物質表面に該部分重合
体を塗布する場合には、一般に1,000〜1,000,000程度の
線状の部分重合体が使用される。
〔Ｉ〕で示されるビニル単量体単独又は上記した他の単
量体との混合物の部分重合体であっても良い。部分重合
体の分子量は特に制限されないが、ある物質の表面改質
或いはフオトレジスト等の目的で物質表面に該部分重合
体を塗布する場合には、一般に1,000〜1,000,000程度の
線状の部分重合体が使用される。
上記した一般式〔Ｉ〕で示されるビニル単量体又はそ
の部分重合体は、紫外線の照射によって重合される。
の部分重合体は、紫外線の照射によって重合される。
重合は、比較的エネルギーの小さい紫外線を用いた場
合であっても、光重合開始剤なしに行なうことができ
る。重合は、反応に不活性な溶媒中で行なわれる。反応
に不活性な溶媒としては、前記一般式〔Ｉ〕で示される
ビニル単量体又はその部分重合体を溶解するものが好適
に採用される。例えば、水；メタノール，エタノール等
のアルコールが好適である。重合雰囲気は、窒素やアル
ゴン等の不活性雰囲気であることが好ましいが、酸素雰
囲気であっても重合反応が大きく阻害されることはな
い。重合は、通常は０〜100℃の範囲で、１秒〜１時間
行なわれる。
合であっても、光重合開始剤なしに行なうことができ
る。重合は、反応に不活性な溶媒中で行なわれる。反応
に不活性な溶媒としては、前記一般式〔Ｉ〕で示される
ビニル単量体又はその部分重合体を溶解するものが好適
に採用される。例えば、水；メタノール，エタノール等
のアルコールが好適である。重合雰囲気は、窒素やアル
ゴン等の不活性雰囲気であることが好ましいが、酸素雰
囲気であっても重合反応が大きく阻害されることはな
い。重合は、通常は０〜100℃の範囲で、１秒〜１時間
行なわれる。
以上のようにして水に不溶性の重合体が得られる。
（効果） 本発明の方法によれば、紫外線のような比較的エネル
ギーが低い光を用いた場合にも光重合開始剤なしに容易
に重合が進行する。そして、重合によって水不溶性の重
合体を得ることができる。一般の重合開始剤によるラジ
カル重合やイオン重合では、同じ原料を用いてもこのよ
うな水不溶性の重合体は得られない。
ギーが低い光を用いた場合にも光重合開始剤なしに容易
に重合が進行する。そして、重合によって水不溶性の重
合体を得ることができる。一般の重合開始剤によるラジ
カル重合やイオン重合では、同じ原料を用いてもこのよ
うな水不溶性の重合体は得られない。
また、本発明で使用される一般式〔Ｉ〕で示されるビ
ニル単量体をビニルベンジル化合物に第４級アンモニウ
ム基を導入することによって得て、次いで本発明の方法
によって重合を行なう方法は、ビニルベンジル化合物の
重合をまず行なって重合体を得た後に、該重合体に第４
級アンモニウム基を導入する方法に比べて、第４級アン
モニウム基の導入が比較的容易であり、より緩やかな条
件下に短時間で行なうことができる。
ニル単量体をビニルベンジル化合物に第４級アンモニウ
ム基を導入することによって得て、次いで本発明の方法
によって重合を行なう方法は、ビニルベンジル化合物の
重合をまず行なって重合体を得た後に、該重合体に第４
級アンモニウム基を導入する方法に比べて、第４級アン
モニウム基の導入が比較的容易であり、より緩やかな条
件下に短時間で行なうことができる。
本発明により得られた重合体は、第４級アンモニウム
基を有するために、イオン交換体として使用し得る他、
高分子電解質，イオン捕捉剤，凝集剤，物質表面への親
水性付与剤，フオトレジストとして用いることができ
る。
基を有するために、イオン交換体として使用し得る他、
高分子電解質，イオン捕捉剤，凝集剤，物質表面への親
水性付与剤，フオトレジストとして用いることができ
る。
（実施例） 以下に実施例を掲げて本発明を説明するが、本発明は
これらの実施例に限定されるものではない。
これらの実施例に限定されるものではない。
参考例１ クロルメチルスチレン152gに対しジメチルアミン50％
水溶液160gを加え、氷冷下約１時間攪拌を続けた。次に
下層である水相を分離し、有機相に水200c.c.を加え、
加圧下に塩化メチル60gを吹き込み、氷冷下１時間攪拌
した。反応液が均一になったところで水を除いてビニル
ベンジルトリメチルアンモニウムクロライドを240g得
た。
水溶液160gを加え、氷冷下約１時間攪拌を続けた。次に
下層である水相を分離し、有機相に水200c.c.を加え、
加圧下に塩化メチル60gを吹き込み、氷冷下１時間攪拌
した。反応液が均一になったところで水を除いてビニル
ベンジルトリメチルアンモニウムクロライドを240g得
た。
参考例２ クロルメチルスチレン152gに対しジエチルアミン50％
水溶液160gを加え、氷冷下１時間攪拌を続けた。次に下
層である水相を除いた有機相に氷冷した6N塩酸を300c.
c.加えて30分攪拌した後、クロロホルム300mlを３回に
分割して洗浄した。次いで得られた溶液に粒状苛性ソー
ダを100g加えると上層に有機相が現われ、水相と有機相
を分離し、有機相を減圧下蒸留しビニルベンジルジエチ
ルアミンを120g得た。このビニルベンジルジエチルアミ
ン15gにヨウ化メチル14gを加え１時間攪拌してビニルベ
ンジルジエチルメチルアンモニウムアイオダイド20gを
得た。
水溶液160gを加え、氷冷下１時間攪拌を続けた。次に下
層である水相を除いた有機相に氷冷した6N塩酸を300c.
c.加えて30分攪拌した後、クロロホルム300mlを３回に
分割して洗浄した。次いで得られた溶液に粒状苛性ソー
ダを100g加えると上層に有機相が現われ、水相と有機相
を分離し、有機相を減圧下蒸留しビニルベンジルジエチ
ルアミンを120g得た。このビニルベンジルジエチルアミ
ン15gにヨウ化メチル14gを加え１時間攪拌してビニルベ
ンジルジエチルメチルアンモニウムアイオダイド20gを
得た。
参考例３ クロルメチルスチレン152gに対しジエチルアミン50％
水溶液160gを加え、氷冷下１時間攪拌を続けた。水相を
分離した後、有機相を100c.c.の水で２度洗浄した後に
減圧下蒸留した。得られたビニルベンジルジエチルアミ
ン150gに水200c.c.とヨウ化エチル140gを加え１時間攪
拌すると均一な液相となった。減圧下水を除きビニルベ
ンジルトリエチルアンモニウムアイオダイド275gを得
た。
水溶液160gを加え、氷冷下１時間攪拌を続けた。水相を
分離した後、有機相を100c.c.の水で２度洗浄した後に
減圧下蒸留した。得られたビニルベンジルジエチルアミ
ン150gに水200c.c.とヨウ化エチル140gを加え１時間攪
拌すると均一な液相となった。減圧下水を除きビニルベ
ンジルトリエチルアンモニウムアイオダイド275gを得
た。
参考例４ α‐メチルクロルメチルスチレン165gに対しジメチル
アミン50％水溶液160gを加え、氷冷下約１時間攪拌を続
けた。次に水相を分離し、有機相を100c.c.の水で２度
洗浄した後に減圧下蒸留した（2mmHg/78°〜80°）。15
2gのα‐メチルビニルベンジルジメチルアミンを得た。
得られたα‐メチルビニルとビニルベンジルジメチルア
ミンに水200c.c.とヨウ化メチル150gを加え、１時間攪
拌すると均一な液相となった。減圧下水を除きα‐メチ
ルビニルベンジルトリメチルアンモニウムアイオダイド
270gを得た。
アミン50％水溶液160gを加え、氷冷下約１時間攪拌を続
けた。次に水相を分離し、有機相を100c.c.の水で２度
洗浄した後に減圧下蒸留した（2mmHg/78°〜80°）。15
2gのα‐メチルビニルベンジルジメチルアミンを得た。
得られたα‐メチルビニルとビニルベンジルジメチルア
ミンに水200c.c.とヨウ化メチル150gを加え、１時間攪
拌すると均一な液相となった。減圧下水を除きα‐メチ
ルビニルベンジルトリメチルアンモニウムアイオダイド
270gを得た。
実施例１ 参考例１で得たビニルベンジルトリメチルアンモニウ
ムクロライド1gを5c.c.の水に溶かした溶液をフラット
シヤーレ上に流し込み、これに低圧水銀ランプで１分間
紫外線を照射した。得られたフイルムを1N-塩酸，テト
ラヒドロフラン，ベンゼン,n-ヘキサン，クロロホルム
に12時間浸漬したところ、これらの溶剤に溶解すること
はなかった。このフイルムの陰イオン交換容量を測定し
た結果、1.4meq/g-（乾燥樹脂）であった。
ムクロライド1gを5c.c.の水に溶かした溶液をフラット
シヤーレ上に流し込み、これに低圧水銀ランプで１分間
紫外線を照射した。得られたフイルムを1N-塩酸，テト
ラヒドロフラン，ベンゼン,n-ヘキサン，クロロホルム
に12時間浸漬したところ、これらの溶剤に溶解すること
はなかった。このフイルムの陰イオン交換容量を測定し
た結果、1.4meq/g-（乾燥樹脂）であった。
実施例２ 参考例２で得たビニルベンジルジエチルメチルアンモ
ニウムアイオダイド1gを5c.c.の水に溶かしフラットシ
ヤーレ上にキヤストし、これに高圧水銀ランプで３分間
紫外線照射した。得られた樹脂フイルムを、1N-塩酸，
テトラヒドロフラン，ベンゼン,n-ヘキサン，クロロホ
ルムに12時間浸漬したところ、これら溶剤に溶解するこ
とはなかった。この樹脂の陰イオン交換容量を測定した
結果、1.3meq/g-（乾燥樹脂）であった。
ニウムアイオダイド1gを5c.c.の水に溶かしフラットシ
ヤーレ上にキヤストし、これに高圧水銀ランプで３分間
紫外線照射した。得られた樹脂フイルムを、1N-塩酸，
テトラヒドロフラン，ベンゼン,n-ヘキサン，クロロホ
ルムに12時間浸漬したところ、これら溶剤に溶解するこ
とはなかった。この樹脂の陰イオン交換容量を測定した
結果、1.3meq/g-（乾燥樹脂）であった。
実施例３ 多孔質のポリ塩化ビニルシート上に、参考例１で得た
ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド0.5g
を10c.c.のメタノールに溶かした溶液を塗布し、そのポ
リ塩化ビニルシートに低圧水銀ランプにより紫外線を３
分間照射した。照射後そのフイルムの水との接触角を測
定した。これによると、基材の多孔質のポリ塩化ビニル
フイルムが90°であるのに対し、ビニルベンジルトリメ
チルアンモニウムクロライドを紫外線で重合させた表面
の接触角は56°となり、多孔質のポリ塩化ビニルシート
の表面に親水性を付与することができた。
ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド0.5g
を10c.c.のメタノールに溶かした溶液を塗布し、そのポ
リ塩化ビニルシートに低圧水銀ランプにより紫外線を３
分間照射した。照射後そのフイルムの水との接触角を測
定した。これによると、基材の多孔質のポリ塩化ビニル
フイルムが90°であるのに対し、ビニルベンジルトリメ
チルアンモニウムクロライドを紫外線で重合させた表面
の接触角は56°となり、多孔質のポリ塩化ビニルシート
の表面に親水性を付与することができた。
実施例４ 参考例３で得たビニルベンジルトリエチルアンモニウ
ムアイオダイド2gを20c.c.の水に溶かし、パイレックス
ガス製の容器に入れ攪拌しながら高圧水銀ランプで紫外
線を３分間照射したところ、沈殿物が生じた。この沈殿
物をグラスフイルターでロ過し集め、実施例１で示した
溶剤に12時間浸漬したところ、沈殿物は溶剤に不溶であ
った。この沈殿物の交換容量は、1.0meq/g-（乾燥樹
脂）であった。
ムアイオダイド2gを20c.c.の水に溶かし、パイレックス
ガス製の容器に入れ攪拌しながら高圧水銀ランプで紫外
線を３分間照射したところ、沈殿物が生じた。この沈殿
物をグラスフイルターでロ過し集め、実施例１で示した
溶剤に12時間浸漬したところ、沈殿物は溶剤に不溶であ
った。この沈殿物の交換容量は、1.0meq/g-（乾燥樹
脂）であった。
実施例５ 参考例４で得たα‐メチルビニルベンジルトリメチル
アンモニウムアイオダイド0.5gを10c.c.のメタノールに
溶かした溶液を多孔質ポリプロピレンフイルムに塗布
し、低圧水銀ランプで３分間紫外線を照射した。そのフ
イルムを実施例１で示した溶剤に１時間浸漬した後、ブ
ロムフエノールブルーの水溶液に浸漬した。すると、紫
外線照射によって多孔質ポリプロピレン上にできた樹脂
面だけだ青く染色され、陰イオン交換体ができている事
が示された。
アンモニウムアイオダイド0.5gを10c.c.のメタノールに
溶かした溶液を多孔質ポリプロピレンフイルムに塗布
し、低圧水銀ランプで３分間紫外線を照射した。そのフ
イルムを実施例１で示した溶剤に１時間浸漬した後、ブ
ロムフエノールブルーの水溶液に浸漬した。すると、紫
外線照射によって多孔質ポリプロピレン上にできた樹脂
面だけだ青く染色され、陰イオン交換体ができている事
が示された。
実施例６ ポリビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライ
ド（分子量:10000）2gを10c.c.の水‐メタノール（1:
1）の混合液に溶かしたものをフラットシヤーレ上に流
し込み、これに低圧水銀ランプで１分間紫外線を照射し
た後、風乾したところ、フイルムが得られた。このフイ
ルムを実施例１で示した溶剤に12時間浸漬したところ、
不溶性であった。このフイルムの陰イオン交換容量を測
定した結果、1.3meq/g-（乾燥樹脂）であった。
ド（分子量:10000）2gを10c.c.の水‐メタノール（1:
1）の混合液に溶かしたものをフラットシヤーレ上に流
し込み、これに低圧水銀ランプで１分間紫外線を照射し
た後、風乾したところ、フイルムが得られた。このフイ
ルムを実施例１で示した溶剤に12時間浸漬したところ、
不溶性であった。このフイルムの陰イオン交換容量を測
定した結果、1.3meq/g-（乾燥樹脂）であった。
実施例７ ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライドと
スチレンが10:1の割合で共重合したポリマー2gを10c.c.
の水‐メタノール（2:5）の混合液に溶かしたものをフ
ラットシヤーレ上に流し込み、以下実施例６と同様な操
作をした結果、陰イオン交換容量が0.7meq/g-（乾燥樹
脂）のフイルムが得られた。
スチレンが10:1の割合で共重合したポリマー2gを10c.c.
の水‐メタノール（2:5）の混合液に溶かしたものをフ
ラットシヤーレ上に流し込み、以下実施例６と同様な操
作をした結果、陰イオン交換容量が0.7meq/g-（乾燥樹
脂）のフイルムが得られた。
比較例１ ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロライド1g
を10c.c.の水に溶かした溶液をフラットシヤーレ上に流
し込み、オーブン中80℃で12時間反応させた。シヤーレ
上には、白色の固形物が残り、これに水及び1N塩酸を加
えると容易に溶解した。
を10c.c.の水に溶かした溶液をフラットシヤーレ上に流
し込み、オーブン中80℃で12時間反応させた。シヤーレ
上には、白色の固形物が残り、これに水及び1N塩酸を加
えると容易に溶解した。
比較例２ クロルメチルスチレン10重量部に対して、ジビニルベ
ンゼン３重量部を加え、ベンゾイルパーオキサイド0.1
重量部を開始剤とし重合して得られたフイルムを、トリ
メチルアミン20容量％，アセトン25容量％，水55容量％
で30℃で４級化処理をした。その結果、フイルム内のク
ロルメチル基がほとんど４級アンモニウム塩に変るのに
６時間要した。得られたフイルムのイオン交換容量は1.
3meq/g-（乾燥樹脂）であった。
ンゼン３重量部を加え、ベンゾイルパーオキサイド0.1
重量部を開始剤とし重合して得られたフイルムを、トリ
メチルアミン20容量％，アセトン25容量％，水55容量％
で30℃で４級化処理をした。その結果、フイルム内のク
ロルメチル基がほとんど４級アンモニウム塩に変るのに
６時間要した。得られたフイルムのイオン交換容量は1.
3meq/g-（乾燥樹脂）であった。
Claims (1)
- 【請求項１】下記一般式 で示されるビニル単量体又はその部分重合体に光重合開
始剤を使用することなく紫外線を照射することを特徴と
する重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63112392A JPH0822891B2 (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | 重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63112392A JPH0822891B2 (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | 重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01284510A JPH01284510A (ja) | 1989-11-15 |
| JPH0822891B2 true JPH0822891B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=14585522
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63112392A Expired - Lifetime JPH0822891B2 (ja) | 1988-05-11 | 1988-05-11 | 重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0822891B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0680732A (ja) * | 1991-06-10 | 1994-03-22 | Otsuka Chem Co Ltd | ビニル系共重合体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5919573B2 (ja) * | 1979-03-13 | 1984-05-07 | 富士写真フイルム株式会社 | 重合体媒染剤の製造方法 |
-
1988
- 1988-05-11 JP JP63112392A patent/JPH0822891B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01284510A (ja) | 1989-11-15 |
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