JPH0822974A

JPH0822974A - 乾燥装置

Info

Publication number: JPH0822974A
Application number: JP15402194A
Authority: JP
Inventors: Fukashi Kono; 深河野
Original assignee: Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd; Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Priority date: 1994-07-06
Filing date: 1994-07-06
Publication date: 1996-01-23

Abstract

(57)【要約】【目的】ワークを効率良く乾燥し得るようにした乾燥
装置を提供する。【構成】支持部材１１と乾燥用ノズル１７とを有し、
支持部材１１の先端部にはワークＷの外周部が当接する
複数の爪部１２と爪部１２の相互間に形成された流体流
出溝１５とが形成されている。乾燥用ノズル１７に設け
られた傾斜孔からの乾燥用気体を流体流出溝１５に向け
て噴出することにより、ワークＷに対しては爪部に向か
う吸引力が発生され、これと同時に表面の液滴が除去さ
れることになる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は平面部を有する電子部品
等のワークを乾燥する技術に関し、特に洗浄された後の
ワークを乾燥する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子部品としての半導体ウエハを処理す
る工程としては、酸化膜形成工程、絶縁膜形成工程およ
びレジスト処理工程等の種々の工程があり、これらの処
理工程にあってはウエハの洗浄が不可避となっている。
そして、洗浄処理がなされた後にはウエハはこれを乾燥
するために乾燥工程に搬送される。ウエハを洗浄した後
における乾燥技術としては、工業調査会発行「電子技
術」別冊の1994年度版「超ＬＳＩ製造・試験装置」、平
成５年１１月２０日発行、Ｐ１２０に記載されるよう
に、遠心力を利用したスピン乾燥等が開発されている。

【０００３】図６はめっき装置１と洗浄装置２と乾燥装
置３とを有する全自動めっき工程を示す工程図であり、
ダイオードを形成するための銀のバンプがめっき装置１
により形成した後のワークは洗浄装置２で洗浄され、次
いで乾燥装置３により乾燥される。めっき装置１では１
０枚程度のワークに対してバッチ処理によりバンプ電極
を形成し、めっき処理後の全てのワークは図示しないア
ンローダによって搬送軌跡４をもって洗浄装置２の近傍
に搬送された後に、移動軌跡５を有するロボットの搬送
用アームにより１枚ずつ洗浄装置２に投入され、次いで
乾燥装置３に投入される。乾燥処理が終了した後には、
次の処理工程にワークが搬送される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、本発明者
は、半導体ウエハ等の電子部品をワークとしてこれを乾
燥する技術について検討した。以下は、本発明者によっ
て検討された技術であり、その概要は次のとおりであ
る。

【０００５】すなわち、図７は開発の対象となった乾燥
装置を示す図であり、ワークＷを支持するための筒状支
持体６の上端部にはワークＷの外周部を案内するための
爪部６ａが円周方向に所定の間隔毎に設けられており、
筒状支持体６の底部には乾燥用気体を噴出するためのノ
ズル７が設けられている。図示しないロボットにより筒
状支持体６の上に載置されたワークＷは、ワークＷに向
けて上下動自在となった蓋部材８の押さえピン９により
固定されるようになっている。

【０００６】このように、押さえピン９により固定され
た状態のワークＷの表面にノズル７からの乾燥用気体を
吹き付けることによってワークＷの表面を乾燥するよう
にしているが、このような乾燥装置を用いると以下のよ
うな問題点があった。

【０００７】図７に示す場合にあっては、ノズル７から
の乾燥用気体の風圧によってワークＷが飛ばされないよ
うにするために押さえピン９が使用されており、この押
さえピン９を有する蓋部材８を上下動する上昇下降機構
が必要となる。さらに、乾燥時間を短縮するためにノズ
ル７からの乾燥気体の流量を増加させると、風圧が直接
ワークＷに加わることになり、ワークＷに割れ等の悪影
響を及ぼすという問題点があった。また、ワークＷの表
面に付着して液滴を迅速に乾燥させないと、表面にウォ
ータマークが形成されることになり、製品の歩留りを低
下させることになる。

【０００８】本発明の目的は、電子部品等のワークを効
率良く乾燥し得るようにした乾燥技術を提供することで
ある。

【０００９】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。

【００１１】すなわち、本発明の乾燥装置は、先端部に
ワークの外周部が当接する複数の爪部および爪部相互間
に形成された流体流出溝が形成された支持部材と、流体
流出溝に向けて乾燥用気体を噴出してワークに対して爪
部に向かう吸引力を発生させつつ表面の液滴を除去する
乾燥用ノズルとを有することを特徴とする。

【００１２】また、本発明の乾燥装置は、第１の位置と
第２の位置との間を移動自在に設けられた搬送部材と、
この搬送部材に取り付けられ、先端部にワークの外周部
が当接する複数の爪部および爪部相互間に形成された流
体流出溝が形成された支持部材と、流体流出溝に向けて
乾燥用気体を噴出してワークに対して爪部に向かう吸引
力を発生させつつ表面の液滴を除去する乾燥用ノズルと
を有し、ワークを乾燥しながら第１の位置から第２の位
置にワークを搬送するようにしたことを特徴とする。

【００１３】さらに、爪部はワークが支持部材の径方向
に対する移動を規制する案内面と、ワークの外周部の表
面に当接する当接面とを有し、流体流出溝とワークとの
間に流体流出孔が形成されるようになっている。

【００１４】

【作用】上記構成を有する乾燥装置にあっては、ワーク
の表面を乾燥するための乾燥用気体がワークの表面に沿
って流れることから、ベンチュリー効果によりワークは
爪部に吸着されることになり、機械的な押し付け機構を
用いることなく、支持部材に対してワークを固定するこ
とができる。

【００１５】また、ワークを第１の位置から第２の位置
に搬送しながら、ワークの表面を乾燥することができる
ので、乾燥装置が搬送装置を兼ねることになり、ワーク
の処理を迅速に行うことができる。搬送する過程では、
ワークを支持部材の下端部に吸着固定することもでき
る。

【００１６】さらに、支持部材の先端部に多数の流体流
出溝を形成することにより、乾燥用ノズルから噴出され
た乾燥用気体は円周方向に比較的均一な流速分布となっ
て放射状に流れることになり、円滑にワークの固定を行
うことができる。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。

【００１８】（実施例１）図１〜図４は本発明の一実施
例である乾燥装置を示す。乾燥装置は図１に示すように
基台１０を有し、この基台１０には図２に示すように円
筒形状となった支持部材１１が設けられている。この支
持部材１１の先端部には、円周方向に所定の間隔毎に複
数の爪部１２が設けられており、それぞれの爪部１２に
は円弧状の案内面１３と、ワークＷの表面が当接する当
接面１４とが形成されている。

【００１９】それぞれの爪部１２の相互間には、流体流
出溝１５が形成されており、図１に示すように、表面が
平坦面となったウエハをワークＷとしてこの外周部の表
面を当接面１４に当接させるようにして爪部１２にワー
クＷを載置すると、ワークＷと流体流出溝１５とにより
流体流出孔が形成されることになる。

【００２０】ワークＷは乾燥装置を図１に示すめっき装
置に組み込んだ場合には、ロボットの搬送用アーム１６
により爪部１２に載置される。

【００２１】支持部材１１内にはその中心部に位置させ
て、乾燥用ノズル１７が設けられている。この乾燥用ノ
ズル１７は気体案内孔１８を有し、この気体案内孔１８
は基台１０に接続された供給ホース１９に導通されてお
り、供給ホース１９から供給される窒素ガスが気体案内
孔１８に供給されるようになっている。

【００２２】乾燥用ノズル１７にはその上面に垂直孔２
１が形成され、テーパー形状の先端部の周面には、水平
線に対して角度θで傾斜した傾斜孔２２が形成されてお
り、傾斜孔２２は円周方向に所定の間隔毎に合計６つ形
成されている。

【００２３】洗浄装置によって洗浄され洗浄液が付着し
た状態のままのワークＷを搬送用アーム１６によって支
持部材１１の爪部１２に載置した状態で、乾燥用ノズル
１７のそれぞれの孔２１，２２から気体を噴出させる。
すると、それぞれの傾斜孔２２からはワークＷの外周部
に向けてワークＷに接近するように気体が流れた後に、
この気体により吹き飛ばされた洗浄液の液滴とともに、
気体が流体流出溝１５の部分から支持部材１１の外部に
流出する。垂直孔２１からワークＷに対して垂直に噴出
された気体は、ワークＷの表面に吹き付けられた後にワ
ークＷの表面に沿って放射状に流れて、傾斜孔２２から
噴出された気体とともに、流体流出溝１５から流出され
る。

【００２４】このように、ワークＷの表面に沿って気体
を流すことにより、ベンチュリー効果によって図１にお
いて矢印Ｆで示すように、ワークＷには爪部１２の当接
面１４に向かう押し付け力が発生する。これにより、機
械的にワークＷを爪部１２に押し付けることなく、ベン
チュリー効果によってワークＷは固定されるとともに、
ワークＷの表面に沿って流れる気体により液滴が吹き飛
ばされて迅速にワークＷは乾燥される。

【００２５】図３に示すように、乾燥用ノズル１７には
円周方向に６０度の位相で６つの傾斜孔２２が形成さ
れ、それぞれの傾斜孔２２の延長上に爪部１２を位置さ
せている。したがって、それぞれの傾斜孔２２から噴出
された乾燥気体は、流体流出溝１５に向けて広がるよう
にして分散しながら外部に流出されることになり、６つ
程度の流体流出溝１５によってもワークＷの表面にはこ
れに沿って全体的にほぼ均一となった乾燥空気の流れが
形成される。ただし、爪部１２の数を増加させるように
しても良い。

【００２６】垂直孔２１と傾斜孔２２の内径や数および
傾斜孔２２の傾斜角度θ、そして乾燥用気体の流速は、
ワークＷの表面に沿って流れる気体によるベンチュリー
効果によって、ワークＷが支持部材１１の先端部の爪部
１２に固定されるように設定される。

【００２７】図１〜図４に示す乾燥装置にあっては、ベ
ンチュリー効果を利用してワークＷを固定するようにし
た結果、図７に示す場合のように、押さえピン９によっ
て機械的に固定することが不要となり、押さえピン９を
上下動するための機構が不要となるばかりでなく、ワー
クに対する悪影響の発生を防止することができる。ま
た、迅速に表面全体の液滴を迅速に乾燥させることがで
きるので、ウォータマークを発生させることなく、効率
良く乾燥を行うことができる。

【００２８】（実施例２）図５は本発明の他の実施例で
ある乾燥装置を示す図であり、前記実施例における部位
と共通する部位には同一の符号が付されている。

【００２９】この乾燥装置はワークＷを乾燥しながらこ
れを搬送するようにしており、たとえば、洗浄工程とこ
の洗浄処理後に行われる処理工程との間に配置されてい
る。

【００３０】前記実施例における基台１０に対応する基
台３０は、図示しない駆動手段により上下方向および水
平方向に移動自在となっており、搬送部材を構成してい
る。この実施例は、前記実施例と相違してこの基台３０
の下側に前記実施例と同様の構造の支持部材１１が設け
られており、ワークＷは洗浄処理がなされて液滴が付着
した表面が上向きとなっている。そして、搬送部材とし
ての基台３０により支持部材は、たとえば図６に示す処
理工程にあっては、洗浄装置２を第１の位置とし、乾燥
装置３を経ることなく、次の処理装置を第２の位置とし
て、その装置に直接搬送されるようになっている。

【００３１】たとえば、洗浄処理が終了した後のワーク
Ｗに向けて基台３０を下降移動させて爪部１２の当接面
１４をワークＷの近傍にまで接近させた状態で気体を乾
燥用ノズル１７から乾燥用気体を噴出させると、ベンチ
ュリー効果によってワークＷは当接面１４に引き寄せら
れて接触する。

【００３２】この状態で基台３０を上昇移動させた後に
水平移動させることにより、ワークＷは次の処理工程に
搬送されることになる。この搬送過程で、ワークＷの表
面に付着された液滴は除去されて乾燥される。

【００３３】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。

【００３４】たとえば、図１に示す乾燥装置にあって
は、ワークＷのうち乾燥処理がなされる表面が下向きと
なり、図５に示す乾燥装置にあっては、表面が上向きと
なっているが、ワークＷの表面の向きは任意の向きとす
ることができる。

【００３５】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその利用分野である半導体ウエハの処理
工程に適用した場合について説明したが、これに限定さ
れるものではなく、たとえば、表面が平坦となったワー
クであれは、ほぼ円形なウエハに限られず、四辺形等種
々の形状のワークを乾燥する技術にも適用できる。

【００３６】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。

【００３７】(1).ワークを乾燥するための乾燥用気体の
ベンチュリー効果によってワークを支持部材に固定する
ようにした結果、ワークを支持部材に固定するための機
構が不要となり、乾燥装置の部品を低減することができ
るのみならず、ワークに付着した液滴を効率良く乾燥す
ることができる。

【００３８】(2).また、ベンチュリー効果によりワーク
を固定するようにしたことから、ワークには過度の押し
付け力が加わることなく、ワークに割れ等の悪影響が発
生することを防止することができる。

【００３９】(3).ベンチュリー効果を発生させるべく、
ワークの表面に沿って乾燥用気体を流すようにしたこと
から、ワークの表面を迅速に乾燥させることがで、ウォ
ータマークの発生を防止することができる。

【００４０】(4).ウォータマークの発生を防止すること
ができることから、乾燥工程の歩留りを向上させること
ができる。

【００４１】(5).ワークを固定するための機構が不要と
なることから、ワークのハンドリングが容易となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例である乾燥装置を示す断面図
である。

【図２】図１に示された支持部材を示す斜視図である。

【図３】図２の平面図である。

【図４】（Ａ）は図１に示されたノズルの平面図であ
り、（Ｂ）はノズルの正面図であり、（Ｃ）はノズルの
断面図である。

【図５】本発明の他の実施例である乾燥装置を示す断面
図である。

【図６】ワークの処理工程を示す工程図である。

【図７】開発の対象となった乾燥装置を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

１０基台１１支持部材１２爪部１３案内面１４当接面１５流体流出溝１６搬送用アーム１７乾燥用ノズル１８気体案内孔１９供給ホース２１垂直孔２２傾斜孔３０基台（搬送部材）Ｗワーク

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】乾燥処理がなされる平坦な表面を有する
ワークの前記表面を乾燥する乾燥装置であって、先端部
に前記ワークの外周部が当接する複数の爪部および前記
爪部相互間に形成された流体流出溝が形成された筒状の
支持部材と、前記流体流出溝に向けて乾燥用気体を噴出
して前記ワークに対して前記爪部に向かう吸引力を発生
させつつ前記表面の液滴を除去する乾燥用ノズルとを有
することを特徴とする乾燥装置。
【請求項２】乾燥処理がなされる平坦な表面を有する
ワークの前記表面を乾燥する乾燥装置であって、第１の
位置と第２の位置との間を移動自在に設けられた搬送部
材と、この搬送部材に取り付けられ、先端部に前記ワー
クの外周部が当接する複数の爪部および前記爪部相互間
に形成された流体流出溝が形成された筒状の支持部材
と、前記流体流出溝に向けて乾燥用気体を噴出して前記
ワークに対して前記爪部に向かう吸引力を発生させつつ
前記表面の液滴を除去する乾燥用ノズルとを有し、前記
ワークを乾燥しながら前記第１の位置から前記第２の位
置に前記ワークを搬送するようにしたことを特徴とする
乾燥装置。
【請求項３】前記爪部は前記ワークが前記支持部材の
径方向に対する移動を規制する案内面と、前記ワークの
外周部の表面に当接する当接面とを有し、前記流体流出
溝と前記ワークとの間に流体流出孔を形成するようにし
たことを特徴とする請求項１または２記載の乾燥装置。
【請求項４】前記爪部は上方を向き、前記表面が下向
きとなった前記ワークを爪部で支持しながら前記ワーク
の表面の液滴を除去するようにしたことを特徴とする請
求項１または３記載の乾燥装置。
【請求項５】前記爪部は下方を向き、前記表面が上向
きとなった前記ワークを前記爪部に吸着しながら前記ワ
ークを搬送するようにしたことを特徴とする請求項２ま
たは３記載の乾燥装置。