JPH08231248A - グレード・ベース層を有する多層非反射性コーティング - Google Patents
グレード・ベース層を有する多層非反射性コーティングInfo
- Publication number
- JPH08231248A JPH08231248A JP7327518A JP32751895A JPH08231248A JP H08231248 A JPH08231248 A JP H08231248A JP 7327518 A JP7327518 A JP 7327518A JP 32751895 A JP32751895 A JP 32751895A JP H08231248 A JPH08231248 A JP H08231248A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- refractive index
- grade
- coating
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 92
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 75
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 29
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 25
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 17
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 10
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical group O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 7
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 6
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 5
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 5
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 5
- YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K butyltin trichloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)Cl YMLFYGFCXGNERH-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J tin(iv) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N triethyl phosphite Chemical compound CCOP(OCC)OCC BDZBKCUKTQZUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
- G02B1/116—Multilayers including electrically conducting layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/732—Anti-reflective coatings with specific characteristics made of a single layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
- C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/91—Coatings containing at least one layer having a composition gradient through its thickness
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
- Y10T428/2495—Thickness [relative or absolute]
- Y10T428/24967—Absolute thicknesses specified
- Y10T428/24975—No layer or component greater than 5 mils thick
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
増加するにしたがって化学組成が連続的に変化し且つそ
れに対応して屈折率が連続的に変化する第一の層と、非
反射性を付与する目的で選択された屈折率と厚みとを有
する比較的均質な第二の層とを有する多層の非反射性コ
ーティングで基体をコーティングする方法。
Description
性コーティングの技術に関し、更に詳細にはガラス上で
の多層非反射性コーティングの技術に関する。
化物とガラス基体との間の屈折率の差を減少させる方法
は、ザロム(Zaromb)への米国特許第3,378,39
6号明細書に開示されており、この方法では、ガラス基
体を、空気などの酸化性雰囲気中で一定温度で加熱した
ガラス基体に塩化スズ溶液および塩化ケイ素溶液の別々
のスプレーを同時に注ぐことによってコーティングを行
っている。ガラス基体の熱により、金属塩化物がその金
属酸化物に熱的に変換される。スプレーの互いの比率を
徐々に変化させて、コーティングにおける金属酸化物の
重量%の比率を変化させる。生成するコーティングはそ
の厚みに沿って組成が連続的に変化し、例えばガラス−
コーティング界面付近では、コーティングは酸化ケイ素
が支配的であり、ガラス−コーティング界面から最も離
れたコーティングの表面は酸化スズが支配的であり、こ
れらの表面の間では、コーティングは様々な重量%の量
の酸化ケイ素と酸化スズとから成っている。
4,440,882号明細書では、前記のようなグラデ
ィエントコーティング(gradient coating)でフッ素を
ドーピングした酸化スズから成る第二のコーティングの
蒸着が教示されている。
ティング界面からの距離が増加するにしたがって化学組
成が連続的に変化し且つそれに対応して屈折率が連続的
に変化する第一の層と、非反射性を付与する目的で選択
された屈折率と厚みとを有する比較的均質な第二の層と
を有する多層の非反射性コーティングで基体をコーティ
ングする方法に関する。第一の層は、本明細書ではグレ
ード層(graded layer)と表すが、屈折率が基体表面に
おける基体の屈折率とほぼ同等のものからコーティング
と基体との界面から離れたグレード層の表面での高い値
まで徐々に変化する。グレード層の上部に配置されてい
る第二の層は、本明細書では非反射性層と表わす。グレ
ード層の高値での近似的な屈折率を選択して、近似的に
は入射媒質の屈折率に高値のグレード層の屈折率を掛け
たものの平方根である屈折率を有する非反射性層となる
ように組成が選択されるようにする。非反射性層を、設
計波長、すなわち最適非反射性を得る目的で選択した波
長、の1/4の光学厚みに適用する。したがって、例え
ば、通常の入社では、高値のグレード層の屈折率が2.
1であり且つ入射媒質が空気であって屈折率が1.0で
あれば、非反射性層の屈折率は約1.45となり、設計
波長5000Åに対しては物理的厚みは約900Åとな
る。本発明の非反射性コーティングの性能は、グレード
層と非反射性層との間に屈折率が比較的大きく且つ光学
厚みが設計波長の約1/2である中間層を配置すること
によって、反射波長の広汎な範囲にまで拡大することが
できる。
含有前駆体、例えばケイ素含有前駆体及びスズ含有前駆
体の蒸気コーティング組成物をガラスリボンの表面に注
ぎ、蒸気の第一の部分を第一の方向でリボン表面の第一
の領域に沿って移動させ且つ蒸気の第二の部分を第二の
反対方向で第二の領域に沿って移動させ、コーティング
組成物の第二の部分を第二の領域に保持するより長時間
コーティング組成物の第一の部分を第一の領域に保持し
て、ガラスリボン上にコーティングを提供してコーティ
ング−ガラス界面からの距離にしたがって金属酸化物の
組成が変化するようにする段階を含む。
えば酸化ケイ素および酸化スズから成るコーティングを
その上に有する透明な基体、例えばガラス基体を含んで
いる。コーティング組成物では、ガラス−コーティング
界面からの距離が増加するにつれて酸化ケイ素対酸化ス
ズの比率が連続的に変化し、例えばガラス−コーティン
グ界面では実質的に総てが酸化ケイ素であり、グレード
層の反対側の表面では実質的に総てが酸化スズである。
ガラス−コーティング界面と、反対側のコーティング表
面との間には、酸化ケイ素対金属酸化物の一定の比率の
層があったとしてもごく僅かであり、リン、ホウ素およ
び/またはアルミニウムを含む化合物を促進剤として用
いてコーティング付着速度を増加させ且つコーティング
の形態を制御するときには、コーティングにこれらの元
素が分散されることがある。
化する第一の層と、具体的に選択された屈折率および厚
みを有する第二の層とを有することによって、可視光線
の反射ができるだけ少なくなるコーティングを有する透
明または着色ガラスなどの基体を有している。半波光学
厚みの任意の層をグレード層と非反射性層との間に付着
させて、一層広汎な波長スペクトルに亙って非反射性能
が改良されるようにすることができる。この中間層の屈
折率は比較的大きく、好ましくは1.7〜3.0の範囲
であり、更に好ましくは1.8〜2.8の範囲である。
この中間層の好ましい組成は、二酸化チタン、TiO2
である。下記の例では、基体はガラス基体である。コー
ティングの第一の層は、好ましくは酸化ケイ素と、酸化
スズのような金属酸化物との混合物から成っている。コ
ーティングは、ガラス−コーティング界面からの距離が
増加するにしたがって、組成が連続的に変化する。一般
的には、ガラス−コーティング界面付近では、コーティ
ングは酸化ケイ素が支配的であり、コーティングの反対
側の表面、すなわちガラス−コーティング界面から最も
遠いコーティング表面では、コーティングの組成は酸化
スズが支配的である。コーティングを酸化スズと酸化ケ
イ素との第一の層を用いて説明するが、本発明はこれに
限定されるものではなく、以下の説明から理解されるよ
うに、任意の2種類以上の化合物を本発明の実施に用い
てグレード層の屈折率を変化させることができる。
月16日に出願された米国特許出願連続番号08/01
7,930号明細書に詳細に記載されているコーティン
グ法、装置および反応体は、ケイ素および金属含有前駆
体の混合物からのコーティングの化学蒸着(CVD)を
行い、本発明によるグレード層を形成するのに特に有効
である。
レード層は、好ましくは約400℃〜約815℃(約7
50°F〜約1500°F)の温度で酸素の存在下にて
気化して対応する酸化物に転換することができるスズ含
有前駆体およびケイ素含有前駆体の混合物から作られて
いる。本発明はこれらに限定されず、他の金属含有前駆
体をコーティング装置を用いて前記のコーティング法で
用いることができることが理解されるであろう。
に、混合酸化物、例えば酸化ケイ素および酸化スズの混
合物を化学蒸着させて、その上にグレード層を得るとき
には、グレード層は、ガラス−コーティング界面からの
距離が増加するに従い、組成が連続的に変化し、コーテ
ィング生成物の反射率が実質的に減少するようにするこ
とを特徴としている。実質的に酸化ケイ素と酸化スズと
から成るコーティングを仮定すると、ガラス−コーティ
ング界面に隣接するコーティングの部分は主として酸化
ケイ素から成り、ガラス−コーティング界面からの距離
が増加するに従い、連続的に変化する組成のそれぞれの
連続する領域は、ガラス−コーティング界面からの距離
が増加するに従って変化する酸化ケイ素対酸化スズの比
率を含んでいる。更に詳細には、酸化ケイ素の割合は酸
化スズの割合が増加すると減少し、グレード層の反対側
の表面に到達すると、その領域は酸化スズから成るのが
支配的となる。
基体表面におけるほぼ同等のものから高い値まで弾力的
に変化させることができることである。最も単純な方法
は、基体および高屈折率末端で徐々に移行する線形変化
である。しかし、多くの他の方法も好適である。本発明
のグレード層の主要な要件は、屈折率の漸進的変化が基
体の屈折率と高屈折率値との間にあることである。漸進
的とは、本明細書では、グレードコーティングの一つの
部分と隣接部分との屈折率の変化が約0.1以下となる
ように定義されている。グレード層の屈折率の値は、こ
の変化が漸進的であり且つコーティング中の真の変化が
高値間での増加である限り、コーティングの部分につい
て減少することができる。屈折率の変化は、複数の固定
屈折率層として提供することができる。グレード層の厚
みは少なくとも光学的厚みの約1/4でなければならな
いが、非反射性コーティングの性能はこの層の厚みが増
加するに従って向上する。最大厚みは、主として費用に
よって制限される。非反射性コーティングの厚みおよび
グレード層の組成および厚みの微妙な変化が、所定の用
途に対してコーティング性能を最適にしまたは観察角の
影響を補償するのに必要なことがある。
することのもう一つの利点は、コーティング製品を自動
車の風防ガラスなどのように大きな設置角度で用いよう
とする場合に得られる。設置角がコーティングのブルー
スター角(Brewster angle)(屈折率の逆正接として定
義される)より大きいときには、s(垂直)およびp
(平行)分極状態を同時に最小にすることはできない。
グレード層は一層大きな屈折率、したがって一層大きな
ブルースター角を有する新たな表面を提供するので、非
反射性能はより大きな設置角で最適にすることができ
る。例えば、屈折率が1.52のガラス基体は、ブルー
スター角が56°である。グレード層のより大きな屈折
率の値が、例えば2.0であれば、ブルースター角は6
3°である。グレードのより大きな屈折率の値が例えば
2.4であれば、ブルースター角は67°となる。低屈
折率の非反射率層、例えば約1.45のシリカを蒸着す
るより大きな屈折率表面では、多層コーティングを設計
してsおよびp分極状態を両方とも最小にして、より大
きな設置角での全体的な非反射性能を一層良好にするこ
とができる。このような改良された非反射率は、本発明
により達成され、コーティングを一層薄くし、しかも単
純且つ弾力性のある多層コーティングの形状とすること
もできる。
解されるであろう。最初の7つの例では、屈折率が約
1.5の酸化ケイ素と、屈折率が約2.0の亜鉛および
スズの酸化物との様々な混合物から成る第一のグレード
層、および屈折率が約1.5のシリカの第二の均質な層
について、屈折率が約1.5の緑色に着色したガラスの
基体上で、入射媒質が屈折率が1.0の空気でデータを
得る。最後の例は、浮游ガラス浴で化学蒸着によって製
造されるケイ素およびスズの酸化物のグレード層に対し
て様々なシリカ層厚みを有している。データは、通常の
入射および通常の入射から65°での反射率について得
る。
ケイ素、亜鉛およびスズの酸化物から成る第一のグレー
ド層でコーティングする。グレード層は、ガラス−コー
ティング界面では主として酸化ケイ素からなり、反対側
のコーティング表面の主として金属酸化物まで組成が変
化する。グレード層の厚みは約1190Åである。グレ
ード層上には、シリカの均質な層が蒸着されている。S
iO2 層の厚みは、約1120Åである。コーティング
した表面の視感反射率Yは約5.5%であり、可視スペ
クトルに対してコーティング表面空の平均反射率は約8
%である。屈折率勾配を1aに示し、通常の入射角から
65°について最適にした反射率を図1bに示す。
ケイ素、亜鉛およびスズの酸化物から成り、ガラス−コ
ーティング界面では主として酸化ケイ素からなり、反対
側のコーティング表面では主として金属酸化物からな
り、厚みが約1190Åの第一のグレード層でコーティ
ングする。グレード層上に、シリカ厚みが約886Åで
あること以外は前例と同様にしてシリカをコーティング
する。コーティング表面からの平均反射率は、約1.3
4%であり、視感反射率Yは1%未満である。屈折率勾
配を2aに示し、通常の(90°)入射角について最適
にした反射率を図2bに示す。
グレード層の厚みが約1373Åであること以外は、前
例と同様にしてグレード層でコーティングする。グレー
ド層上に、シリカ厚みが約911Åであること以外は前
例と同様にしてシリカをコーティングする。コーティン
グ表面からの視感反射率Yは約0.44%であり、コー
ティング表面からの平均反射率は、約0.8%である。
屈折率勾配を3aに示す。このコーティング形状は、図
3bに示した平均反射率を最適にし、すなわち最小限に
する。
グレード層の厚みが約1338Åであること以外は、前
例と同様にしてグレード層でコーティングする。グレー
ド層上に、シリカ厚みが約934Åであること以外は前
例と同様にしてシリカをコーティングする。コーティン
グ表面からの平均反射率は約1%であり、視感反射率Y
は約0.33%である。屈折率勾配を4aに示す。この
コーティング形状は、図4bに示されるように通常の入
射での視感反射率Yを最適にし、すなわち最小限にす
る。
厚みが約1338Åであるグレード層で前例と同様にし
てコーティングする。グレード層上に、シリカ層の厚み
が約1200Åであること以外は前例と同様にしてシリ
カをコーティングする。屈折率勾配を図5aに示す。こ
の例のコーティング形状は、図5bに示されるように、
設計波長7000Åでは反射率が本質的にゼロである。
厚みが約1338Åのグレード層で前例と同様にしてコ
ーティングする。グレード層上に、厚みが約1115Å
の二酸化チタンをコーティングする。この酸化チタン層
上に、厚みが933Åのシリカ層を蒸着する。屈折率勾
配を6aに示す。このコーティング表面は、図6bに示
されるように、平均反射率が3.2%であり、視感反射
率Yは0.2%である。
厚みが約960Åのグレード層で前例と同様にしてコー
ティングする。グレード層上に、厚みが約1008Åで
あること以外は、前例と同様にして二酸化チタンをコー
ティングする。シリカの最終的層の厚みは、908Åで
ある。屈折率勾配を7aに示す。このコーティング表面
は、図7bに示されるように、可視スペクトルの反射率
が極めて小さく、平均反射率が1.4%であり、視感反
射率Yは0.03%である。
且つこれに沿って280インチ(約7.1m)/分移動
するソーダ石灰−シリカ浮游ガラスリボンを、その最上
面に、様々な濃度のテトラエトキシシラン(TEOS)
および三塩化モノブチルスズ(MBTC)の混合蒸気に
約650℃(約1200°F)の温度でその表面を接触
させることによって、グレード層をコーティングする。
第一の化学蒸着(CVD)セルに、90 SCFMキャ
リヤーガス流中のモル%で14%酸素/窒素、水0.
4、MBTC0.2、TEOS0.29およびトリエチ
ルホスファイト(TEP、促進剤)0.28の濃度のコ
ーティング混合物を供給した。第一のセルから下流にあ
る第二のセルに、水0.58、MBTC0.62、TE
OS0.62及びTEP0.1の混合物を供給した。生
成するグレード層を浮遊浴(float bath)の外側で、3
段階の厚み、749Å、815Å、および1113Åの
シリカ層でコーティングした。これら3種の形状につい
ての通常の入射で可視スペクトルにおける波長の関数と
しての両表面からの合わせた反射率を、図8aに示す。
通常の観察、または設置から65°の角度だけでのコー
ティング表面からの反射率を、図8bに示す。
を示している。様々な組成物を、特に異なる屈折率の物
質または入射媒質を用いるときには、グレード層及び均
質層に用いることができる。コーティングの蒸着には任
意の好都合な方法を用いることができ、特に均質層につ
いては、スパッターリングが好ましいことがある。本発
明の範囲は、特許請求の範囲によって定義される。
るコーティングについての屈折率曲線であり、基体表
面、グレード層、次いで均質層からの距離の関数として
の屈折率を示し、グレード層の厚みは1189Åであ
り、SiO2 層は1121Åである。
対する波長の関数としての反射率を示し、視感反射率Y
は5.5%であり、平均反射率は8%である。
射での視感反射率Yを最適にしたこと以外は、図1と同
様のグレード層でのコーティングの屈折率。
%のコーティングについての対応する反射率曲線。
で最適にしたグレード層でのコーティングについての屈
折率曲線。グレード層の厚みは1373Åであり、シリ
カ層厚みは911Åである。
対応する反射率であり、平均反射率は0.8%であり、
視感反射率Yは0.44%である。
が934Åを有する、視感反射率Yの最適化についての
様々な勾配。
反射率。平均反射率1.02%、視感反射率Y0.33
%。
長での反射率を最小にしたこと以外は、グレード層の厚
みが1338Åである図4と同じグレード層に対する屈
折率曲線。シリカ層厚みは1200Å。
る、波長の関数としての反射率。
波厚み層を有すること以外は、図4および5に示したの
と同じグレード層についての屈折率曲線。結果は、一層
広いバンド反射率が良好であり、図4における例につい
て視感反射率Yが低い。
酸化チタン層を用いて最適化したグレード層でのコーテ
ィングの屈折率曲線。グレード層960Å、二酸化チタ
ン半波層1008Å、シリカ層908Å。
す。平均反射率1.4%。視感反射率Y0.03%。
上の3種類の異なる厚みのシリカについての波長の関数
としての通常の反射率。
ズの混合酸化物のグレード層上の同様な3種類のシリカ
層厚みの反射率。
Claims (20)
- 【請求項1】 表面からの可視反射率を有する基体と、
前記基体表面の可視反射率を減少させる前記基体表面の
少なくとも一部にコーティングとを有して成る低反射率
コーティング製品において、 a. 第一の層と基体表面との界面における層の屈折率
が基体の屈折率付近であり、グレード層の屈折率が組成
と共に変化して、グレード層と基体との界面と反対側の
グレード層の表面の屈折率が高くなるような様々な組成
の第一のグレード層と、 b. 前記の第一のグレード層上に、実質的に均質な組
成の第二の層であって、屈折率が、グレード層の高屈折
率とグレード層に面している表面とは反対側の前記第二
の層の表面と接触している媒質の屈折率との積の平方根
にほぼ等しく、且つ光学厚みが選択された設計波長の約
1/4であるものとを含んでなる、低反射率コーティン
グ製品。 - 【請求項2】 基体がガラスである、請求項1に記載の
低反射率コーティング製品。 - 【請求項3】 第二の層がシリカである、請求項2に記
載の低反射率コーティング製品。 - 【請求項4】 第一のグレード層が酸化物の混合物から
成る、請求項3に記載の低反射率コーティング製品。 - 【請求項5】 グレード層がケイ素とスズとの酸化物か
ら成る、請求項4に記載の低反射率コーティング製品。 - 【請求項6】 グレード層と、屈折率が比較的高く且つ
光学的厚みが設計波長の約1/2である第二の層とを含
んで成る、請求項5に記載の製品。 - 【請求項7】 グレード層の厚みが約500〜3000
Åの範囲である、請求項6に記載の製品。 - 【請求項8】 グレード層の厚みが約700〜1500
Åの範囲である、請求項7に記載の製品。 - 【請求項9】 シリカ層の厚みが約400〜2000Å
の範囲である、請求項8に記載の製品。 - 【請求項10】 シリカ層の厚みが約700〜1400
Åの範囲である、請求項9に記載の製品。 - 【請求項11】 表面からの可視反射率が4〜40%で
ある基体と、前記基体表面の可視反射率を減少させるそ
の少なくとも表面部分にコーティングとを有して成る低
反射率コーティング製品において、 a. 第一の層と基体表面との界面における層の屈折率
が基体の屈折率付近であり、屈折率が組成と共に変化し
て、グレード層と基体との界面と反対側のグレード層の
表面の屈折率が高くなるような様々な組成の第一のグレ
ード層と、 b. 前記の第一のグレード層上に、実質的に均質な組
成の第二の層であって、屈折率が、グレード層の高屈折
率とグレード層に面している表面とは反対側の前記第二
の層の表面と接触している媒質の屈折率との積の平方根
にほぼ等しく、且つ光学厚みが選択された設計波長の約
1/4であるものとを含んでなる、低反射率コーティン
グ製品。 - 【請求項12】 基体が、表面からの可視反射率が4〜
10%の範囲であり且つ屈折率が1.5〜1.7の範囲
のガラスである、請求項1に記載の低反射率コーティン
グ製品。 - 【請求項13】 第二の層が、屈折率が1.4〜1.5
の範囲のシリカである、請求項12に記載の低反射率コ
ーティング製品。 - 【請求項14】 グレード層の屈折率が、グレード層と
基体との界面では1.4〜1.65の範囲である、請求
項13に記載の低反射率コーティング製品。 - 【請求項15】 グレード層の屈折率が、グレード層と
基体との界面と反対側のグレード層の表面では約1.7
〜2.8の範囲である、請求項14に記載の低反射率コ
ーティング製品。 - 【請求項16】 グレード層が、ガラス界面では主とし
て酸化ケイ素から、ガラス界面から最も離れたグレード
層の表面近くでは主として酸化スズまでの、様々な組成
のケイ素及びスズの酸化物から成る、請求項15に記載
の低反射率コーティング製品。 - 【請求項17】 グレード層と第二の層との間に、屈折
率が比較的大きく且つ光学厚みが設計波長の約1/2で
ある中間層を更に含む、請求項16に記載の低反射率コ
ーティング製品。 - 【請求項18】 コーティングした表面からの平均反射
率が0.01〜1.5%の範囲である、請求項17に記
載の低反射率コーティング製品。 - 【請求項19】 視感反射率Yが0.01〜1.5%の
範囲である、請求項18に記載の低反射率コーティング
製品。 - 【請求項20】 平均反射率が0.1〜1.5%の範囲
であり、視感反射率Yが0.01〜1.5%の範囲であ
る、請求項19に記載の低反射率コーティング製品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US364148 | 1994-12-27 | ||
| US08/364,148 US5811191A (en) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | Multilayer antireflective coating with a graded base layer |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08231248A true JPH08231248A (ja) | 1996-09-10 |
Family
ID=23433237
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7327518A Ceased JPH08231248A (ja) | 1994-12-27 | 1995-12-15 | グレード・ベース層を有する多層非反射性コーティング |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5811191A (ja) |
| EP (1) | EP0721112B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08231248A (ja) |
| KR (1) | KR100186922B1 (ja) |
| CN (1) | CN1134555A (ja) |
| AT (1) | ATE224064T1 (ja) |
| AU (1) | AU669319B1 (ja) |
| CA (1) | CA2161282C (ja) |
| DE (1) | DE69528143T2 (ja) |
| DK (1) | DK0721112T3 (ja) |
| ES (1) | ES2182862T3 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6984436B2 (en) | 2000-07-18 | 2006-01-10 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Graded material and method for synthesis thereof and method for processing thereof |
Families Citing this family (86)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5811191A (en) * | 1994-12-27 | 1998-09-22 | Ppg Industries, Inc. | Multilayer antireflective coating with a graded base layer |
| US20050096288A1 (en) * | 1997-06-13 | 2005-05-05 | Aragene, Inc. | Lipoproteins as nucleic acid vectors |
| US6436541B1 (en) * | 1998-04-07 | 2002-08-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Conductive antireflective coatings and methods of producing same |
| US6797388B1 (en) | 1999-03-18 | 2004-09-28 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Methods of making low haze coatings and the coatings and coated articles made thereby |
| US6380480B1 (en) * | 1999-05-18 | 2002-04-30 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd | Photoelectric conversion device and substrate for photoelectric conversion device |
| JP2001060702A (ja) | 1999-06-18 | 2001-03-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 光電変換装置用基板およびこれを用いた光電変換装置 |
| JP2001060708A (ja) * | 1999-06-18 | 2001-03-06 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 透明積層体およびこれを用いたガラス物品 |
| US6379014B1 (en) | 2000-04-27 | 2002-04-30 | N & K Technology, Inc. | Graded anti-reflective coatings for photolithography |
| US6576349B2 (en) | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
| US6942923B2 (en) | 2001-12-21 | 2005-09-13 | Guardian Industries Corp. | Low-e coating with high visible transmission |
| US7232615B2 (en) * | 2001-10-22 | 2007-06-19 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating stack comprising a layer of barrier coating |
| US6602608B2 (en) * | 2001-11-09 | 2003-08-05 | Guardian Industries, Corp. | Coated article with improved barrier layer structure and method of making the same |
| US6589658B1 (en) | 2001-11-29 | 2003-07-08 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
| US6586102B1 (en) | 2001-11-30 | 2003-07-01 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
| US6830817B2 (en) * | 2001-12-21 | 2004-12-14 | Guardian Industries Corp. | Low-e coating with high visible transmission |
| KR100956214B1 (ko) * | 2001-12-21 | 2010-05-04 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광촉매 기능을 갖는 부재 및 그 제조방법 |
| EP1490860B1 (en) * | 2002-02-27 | 2010-12-15 | Innovative Solutions and Support, Inc. | Improved low reflectivity flat panel display |
| US20050031876A1 (en) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Songwei Lu | Nanostructured coatings and related methods |
| US8679580B2 (en) | 2003-07-18 | 2014-03-25 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Nanostructured coatings and related methods |
| US7005190B2 (en) * | 2002-12-20 | 2006-02-28 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with reduced color shift at high viewing angles |
| ATE382585T1 (de) * | 2003-06-24 | 2008-01-15 | Cardinal Cg Co | Konzentrationsmodulierte beschichtungen |
| US6842288B1 (en) * | 2003-10-30 | 2005-01-11 | 3M Innovative Properties Company | Multilayer optical adhesives and articles |
| WO2005063646A1 (en) | 2003-12-22 | 2005-07-14 | Cardinal Cg Company | Graded photocatalytic coatings |
| JP2005313620A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 薄膜積層体 |
| WO2006017311A1 (en) | 2004-07-12 | 2006-02-16 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
| US20060029754A1 (en) * | 2004-08-05 | 2006-02-09 | Medwick Paul A | Coated substrate with improved solar control properties |
| US7431992B2 (en) * | 2004-08-09 | 2008-10-07 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated substrates that include an undercoating |
| US20060046089A1 (en) * | 2004-09-01 | 2006-03-02 | O'shaughnessy Dennis J | Metal based coating composition and related coated substrates |
| US7947373B2 (en) * | 2004-10-14 | 2011-05-24 | Pittsburgh Glass Works, Llc | High luminance coated glass |
| US8092660B2 (en) | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
| US7923114B2 (en) | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
| EP1852402A1 (en) * | 2004-12-06 | 2007-11-07 | Nippon Sheet Glass Company Limited | Glass member having photocatalytic function and heat ray reflective function, and double layer glass employing it |
| US7498058B2 (en) * | 2004-12-20 | 2009-03-03 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Substrates coated with a polycrystalline functional coating |
| US20060210783A1 (en) * | 2005-03-18 | 2006-09-21 | Seder Thomas A | Coated article with anti-reflective coating and method of making same |
| US7473471B2 (en) * | 2005-03-21 | 2009-01-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coating composition with solar properties |
| US7438948B2 (en) * | 2005-03-21 | 2008-10-21 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method for coating a substrate with an undercoating and a functional coating |
| US7547106B2 (en) * | 2005-07-29 | 2009-06-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Simulated high refractive index glass |
| WO2007019030A2 (en) * | 2005-08-08 | 2007-02-15 | Guardian Industries Corp. | Transparent articles with anti-reflective coating and methods of making the same |
| CN1321926C (zh) * | 2005-11-08 | 2007-06-20 | 浙江大学蓝星新材料技术有限公司 | 浮法在线生产涂层玻璃的方法 |
| US20070113881A1 (en) * | 2005-11-22 | 2007-05-24 | Guardian Industries Corp. | Method of making solar cell with antireflective coating using combustion chemical vapor deposition (CCVD) and corresponding product |
| US8153282B2 (en) * | 2005-11-22 | 2012-04-10 | Guardian Industries Corp. | Solar cell with antireflective coating with graded layer including mixture of titanium oxide and silicon oxide |
| US8097340B2 (en) * | 2006-02-08 | 2012-01-17 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Coated substrates having undercoating layers that exhibit improved photocatalytic activity |
| US20070236798A1 (en) * | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Shelestak Larry J | Antireflective coating and substrates coated therewith |
| EP2013150B1 (en) | 2006-04-11 | 2018-02-28 | Cardinal CG Company | Photocatalytic coatings having improved low-maintenance properties |
| WO2007124291A2 (en) | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
| US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
| US20080072956A1 (en) * | 2006-09-07 | 2008-03-27 | Guardian Industries Corp. | Solar cell with antireflective coating comprising metal fluoride and/or silica and method of making same |
| US8076571B2 (en) | 2006-11-02 | 2011-12-13 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
| JP5475461B2 (ja) * | 2007-01-15 | 2014-04-16 | サン−ゴバン グラス フランス | 改良された機械的強度を有する層でコーティングされたガラス基板 |
| US7767253B2 (en) * | 2007-03-09 | 2010-08-03 | Guardian Industries Corp. | Method of making a photovoltaic device with antireflective coating |
| US7894137B2 (en) * | 2007-04-24 | 2011-02-22 | The Board Of Regents For Oklahoma State University | Omnidirectional antireflection coating |
| US8237047B2 (en) * | 2007-05-01 | 2012-08-07 | Guardian Industries Corp. | Method of making a photovoltaic device or front substrate for use in same with scratch-resistant coating and resulting product |
| US20080295884A1 (en) * | 2007-05-29 | 2008-12-04 | Sharma Pramod K | Method of making a photovoltaic device or front substrate with barrier layer for use in same and resulting product |
| US8728634B2 (en) * | 2007-06-13 | 2014-05-20 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Appliance transparency |
| US8445774B2 (en) * | 2007-07-26 | 2013-05-21 | Guardian Industries Corp. | Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same |
| US8450594B2 (en) * | 2007-07-26 | 2013-05-28 | Guardian Industries Corp. | Method of making an antireflective silica coating, resulting product and photovoltaic device comprising same |
| US7820309B2 (en) | 2007-09-14 | 2010-10-26 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings, and methods for producing low-maintenance coatings |
| US20090075092A1 (en) * | 2007-09-18 | 2009-03-19 | Guardian Industries Corp. | Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same |
| US20090101209A1 (en) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Guardian Industries Corp. | Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same |
| US8319095B2 (en) * | 2007-11-27 | 2012-11-27 | Guardian Industries Corp. | Method of making an antireflective silica coating, resulting product, and photovoltaic device comprising same |
| US8114472B2 (en) * | 2008-01-08 | 2012-02-14 | Guardian Industries Corp. | Method of making a temperable antiglare coating, and resulting products containing the same |
| US20090181256A1 (en) * | 2008-01-14 | 2009-07-16 | Guardian Industries Corp. | Methods of making silica-titania coatings, and products containing the same |
| US8668961B2 (en) * | 2008-07-31 | 2014-03-11 | Guardian Industries Corp. | Titania coating and method of making same |
| US20100259823A1 (en) * | 2009-04-09 | 2010-10-14 | General Electric Company | Nanostructured anti-reflection coatings and associated methods and devices |
| US8617641B2 (en) * | 2009-11-12 | 2013-12-31 | Guardian Industries Corp. | Coated article comprising colloidal silica inclusive anti-reflective coating, and method of making the same |
| US20110151222A1 (en) * | 2009-12-22 | 2011-06-23 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Anti-reflective coatings and methods of making the same |
| US9272949B2 (en) | 2010-07-09 | 2016-03-01 | Guardian Industries Corp. | Coated glass substrate with heat treatable ultraviolet blocking characteristics |
| FR2980279B1 (fr) | 2011-09-20 | 2013-10-11 | Soitec Silicon On Insulator | Procede de fabrication d'une structure composite a separer par exfoliation |
| JP6049401B2 (ja) | 2011-11-18 | 2016-12-21 | キヤノン株式会社 | 光学部材、撮像装置及び光学部材の製造方法 |
| JP5882689B2 (ja) | 2011-11-18 | 2016-03-09 | キヤノン株式会社 | 光学部材の製造方法及び撮像装置の製造方法 |
| JP6016582B2 (ja) | 2011-12-15 | 2016-10-26 | キヤノン株式会社 | 光学部材の製造方法 |
| JP5976575B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2016-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 低屈折率膜形成用硬化性組成物、光学部材セットの製造方法及び硬化性組成物の製造方法 |
| US9703011B2 (en) * | 2013-05-07 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with a gradient layer |
| US9366784B2 (en) | 2013-05-07 | 2016-06-14 | Corning Incorporated | Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film |
| US9110230B2 (en) | 2013-05-07 | 2015-08-18 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with retained optical properties |
| US20150077646A1 (en) * | 2013-09-17 | 2015-03-19 | Apple Inc. | Touch Sensitive Display With Graded Index Layer |
| US11267973B2 (en) | 2014-05-12 | 2022-03-08 | Corning Incorporated | Durable anti-reflective articles |
| EP3770649A1 (en) | 2015-09-14 | 2021-01-27 | Corning Incorporated | High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles |
| WO2018013462A2 (en) | 2016-07-11 | 2018-01-18 | Corning Incorporated | Coatings of non-planar substrates and methods for the production thereof |
| EP3541762B1 (en) | 2016-11-17 | 2022-03-02 | Cardinal CG Company | Static-dissipative coating technology |
| US11725275B2 (en) * | 2017-07-13 | 2023-08-15 | Uchicago Argonne, Llc | Low refractive index surface layers and related methods |
| EP3837223A1 (en) | 2018-08-17 | 2021-06-23 | Corning Incorporated | Inorganic oxide articles with thin, durable anti-reflective structures |
| US12147009B2 (en) | 2020-07-09 | 2024-11-19 | Corning Incorporated | Textured region to reduce specular reflectance including a low refractive index substrate with higher elevated surfaces and lower elevated surfaces and a high refractive index material disposed on the lower elevated surfaces |
| CN116589193B (zh) * | 2021-01-29 | 2026-04-21 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 憎水憎油性优异的镀膜微晶玻璃及其制法 |
| CN113671742A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-11-19 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 液晶显示面板及互动式显示设备 |
| CN113999579B (zh) * | 2021-10-29 | 2022-10-04 | 宁波瑞凌新能源科技有限公司 | 漫反射涂料和漫反射涂层 |
Family Cites Families (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA418289A (en) * | 1944-02-08 | Francis Nadeau Gale | Non-reflecting coating | |
| US2331716A (en) * | 1940-09-26 | 1943-10-12 | Eastman Kodak Co | Nonreflecting coating |
| US3378396A (en) * | 1967-03-27 | 1968-04-16 | Zaromb Solomon | Conductive oxide-coated articles |
| US3804491A (en) * | 1971-08-16 | 1974-04-16 | Olympus Optical Co | Multilayer reflection proof film |
| US4440822A (en) * | 1977-04-04 | 1984-04-03 | Gordon Roy G | Non-iridescent glass structures |
| US4206252A (en) * | 1977-04-04 | 1980-06-03 | Gordon Roy G | Deposition method for coating glass and the like |
| DE3222528A1 (de) | 1982-06-16 | 1983-12-22 | Chemische Werke Hüls AG, 4370 Marl | Emulsion auf der basis epoxidharz/polyammoniumsalz und verfahren zu ihrer herstellung |
| US4422721A (en) * | 1982-08-09 | 1983-12-27 | Optical Coating Laboratory, Inc. | Optical article having a conductive anti-reflection coating |
| US4583822A (en) * | 1984-10-31 | 1986-04-22 | Rockwell International Corporation | Quintic refractive index profile antireflection coatings |
| US4857361A (en) * | 1988-04-18 | 1989-08-15 | Ppg Industries, Inc. | Haze-free infrared-reflecting coated glass |
| US4965093A (en) * | 1988-07-05 | 1990-10-23 | Ppg Industries, Inc. | Chemical vapor deposition of bismuth oxide |
| US4896928A (en) * | 1988-08-29 | 1990-01-30 | Coherent, Inc. | Chromatically invariant multilayer dielectric thin film coating |
| DE4024308C2 (de) * | 1989-07-31 | 1993-12-02 | Central Glass Co Ltd | Wärmeisolierglas mit dielektrischem Vielschichtenüberzug |
| US5318830A (en) * | 1991-05-29 | 1994-06-07 | Central Glass Company, Limited | Glass pane with reflectance reducing coating |
| US5234748A (en) * | 1991-06-19 | 1993-08-10 | Ford Motor Company | Anti-reflective transparent coating with gradient zone |
| US5254392A (en) * | 1991-06-24 | 1993-10-19 | Ford Motor Company | Anti-iridescence coatings |
| US5168003A (en) * | 1991-06-24 | 1992-12-01 | Ford Motor Company | Step gradient anti-iridescent coatings |
| US5248545A (en) * | 1991-06-24 | 1993-09-28 | Ford Motor Company | Anti-iridescent coatings with gradient refractive index |
| FR2684095B1 (fr) * | 1991-11-26 | 1994-10-21 | Saint Gobain Vitrage Int | Produit a substrat en verre muni d'une couche a basse emissivite. |
| US5356718A (en) * | 1993-02-16 | 1994-10-18 | Ppg Industries, Inc. | Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glasss and coated glass substrates |
| US5395698A (en) * | 1993-06-04 | 1995-03-07 | Ppg Industries, Inc. | Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making |
| US5362552A (en) * | 1993-09-23 | 1994-11-08 | Austin R Russel | Visible-spectrum anti-reflection coating including electrically-conductive metal oxide layers |
| US5811191A (en) * | 1994-12-27 | 1998-09-22 | Ppg Industries, Inc. | Multilayer antireflective coating with a graded base layer |
-
1994
- 1994-12-27 US US08/364,148 patent/US5811191A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-10-24 CA CA002161282A patent/CA2161282C/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-10-25 AU AU34426/95A patent/AU669319B1/en not_active Ceased
- 1995-12-09 DK DK95119423T patent/DK0721112T3/da active
- 1995-12-09 AT AT95119423T patent/ATE224064T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-12-09 ES ES95119423T patent/ES2182862T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-09 EP EP95119423A patent/EP0721112B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-12-09 DE DE69528143T patent/DE69528143T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-15 JP JP7327518A patent/JPH08231248A/ja not_active Ceased
- 1995-12-26 KR KR1019950056863A patent/KR100186922B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-12-26 CN CN95120169A patent/CN1134555A/zh active Pending
-
1998
- 1998-04-03 US US09/054,566 patent/US5948131A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6984436B2 (en) | 2000-07-18 | 2006-01-10 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Graded material and method for synthesis thereof and method for processing thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2161282A1 (en) | 1996-06-28 |
| CN1134555A (zh) | 1996-10-30 |
| DE69528143D1 (de) | 2002-10-17 |
| US5811191A (en) | 1998-09-22 |
| EP0721112A3 (en) | 1998-07-15 |
| KR100186922B1 (ko) | 1999-04-15 |
| CA2161282C (en) | 2001-07-24 |
| DE69528143T2 (de) | 2003-04-17 |
| DK0721112T3 (da) | 2003-01-20 |
| AU669319B1 (en) | 1996-05-30 |
| KR960022314A (ko) | 1996-07-18 |
| EP0721112B1 (en) | 2002-09-11 |
| ATE224064T1 (de) | 2002-09-15 |
| US5948131A (en) | 1999-09-07 |
| EP0721112A2 (en) | 1996-07-10 |
| ES2182862T3 (es) | 2003-03-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH08231248A (ja) | グレード・ベース層を有する多層非反射性コーティング | |
| KR100574720B1 (ko) | 반사방지 필름 | |
| RU2127231C1 (ru) | Остекление и способ его получения | |
| RU2120919C1 (ru) | Способ получения зеркал и зеркало | |
| JP3485919B2 (ja) | ガラス用の被覆組成物 | |
| US7195821B2 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
| CN1100015C (zh) | 中低辐射系数的涂覆的玻璃制品及其制备方法 | |
| US6124026A (en) | Anti-reflective, reduced visible light transmitting coated glass article | |
| JPH05229852A (ja) | 低放射率フィルムを備えたガラス基材を含む製品 | |
| USRE40315E1 (en) | Coated substrate with high reflectance | |
| JP4452774B2 (ja) | 少なくとも1つの反射層を施された透明基材を得る方法 | |
| JPS56162702A (en) | Manufacture of reflecting mirror | |
| TH12174B (th) | สิ่งของที่เป็นแก้วซึ่งเคลือบให้มีสภาพเปล่งรังสีต่ำที่เป็นกลางและวิธีเตรียม | |
| TH17377A (th) | สิ่งของที่เป็นแก้วซึ่งเคลือบให้มีสภาพเปล่งรังสีต่ำที่เป็นกลางและวิธีเตรียม |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050516 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050705 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20051005 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20051012 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060105 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060627 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060925 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070313 |
|
| A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20070720 |