JPH08231993A

JPH08231993A - 洗浄剤組成物

Info

Publication number: JPH08231993A
Application number: JP7062206A
Authority: JP
Inventors: Hirotoshi Ushiyama; 広俊牛山
Original assignee: Lion Corp
Current assignee: Lion Corp
Priority date: 1995-02-24
Filing date: 1995-02-24
Publication date: 1996-09-10

Abstract

(57)【要約】【構成】アジピン酸ジエチルエステル等のエステル化
合物と、エチレングリコールジエチルエーテル等のグリ
コールエーテルと、炭素数８〜１６のパラフィン系また
はオレフィン系炭化水素、界面活性剤および水を含有す
る液晶用、ピッチ用等の洗浄剤組成物。【効果】ハロゲン化炭化水素系溶剤を用いることがな
くても、高粘度／半固体／固体状の汚れが付着した被洗
物に対して、高度な洗浄性を発揮する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フロン−１１３や、ト
リクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエ
チレン、メチレンクロライド等の塩素系溶剤に替わり、
環境や人体に対して安全な新規洗浄剤組成物を提供する
ものである。上記溶剤はその優れた洗浄力と乾燥性から
金属部品、ガラス部品、プラスチック部品等産業界のあ
らゆる部品に付着しているほとんどすべての汚れ成分に
対して良好な洗浄剤として用いられていた。しかし、近
年の全世界的環境対策の一環としてこれらの溶剤の使用
規制が始まり、それに伴い代替洗浄剤の要求が活発化し
ている。本発明は現在までの代替洗浄剤において電子部
品等の洗浄で、特に洗浄が困難であった高粘度を有する
あるいは常温固体状の汚れ成分の洗浄に対して有効な溶
剤代替洗浄剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶パネル、プリント基板、レンズ、集
積回路等の電子部品や、それらの組立工程に用いられる
治工具等は、通常の切削油、プレス油等の加工油、塵埃
以外にも、それらの部品製造工程中や、作業中に付着し
た液晶、フラックス、油脂類、ピッチ、保護膜、研磨材
等の高粘性／半固体／固体状の物質に汚染されることが
多く、一般的にこれらの汚れは非常に洗浄し難い。しか
しながら近年、エレクトロニクス技術の発展に伴いこれ
らの難洗浄汚れが増加してきている。エレクトロニクス
製品のより高度化、高信頼性のために、使用する洗浄剤
に対してもこれらの汚れに対し、高度な洗浄性能が要求
されている。

【０００３】例えば、液晶パネルの製造に関しては、透
明電極が形成された２枚の基板間に液晶を封入すべく、
一部開口を残して上下基板をその周縁部接着剤により張
り合わせて液晶室を形成し、空の液晶セルを作成する。
この空セルは真空にした注入室内で開口部が液晶材に浸
され、ついで注入室を大気解放することにより液晶材が
液晶室内に吸引され、開口部をシールする事によって液
晶パネルが形成される。しかしながら２枚の液晶パネル
基板の接着部の外側には液晶パネル基板が微小ギャップ
で対向する空隙部の生じることが避けられない。そのた
め、上記の空セルへの液晶材の注入時に毛細管現象で液
晶材がこの空隙部に入り込む。この空隙部には透明電極
に信号を印加するための電極端子が各々絶縁を保って高
密度に形成されていることから、この部分の液晶をその
まま放置すると液晶材が大気中の汚染物質を溶解し、絶
縁不良を起こす。そこでこの空隙部に浸入した液晶材を
洗浄除去する必要がある。しかし、この空隙部の間隔は
１０μｍ以下と狭いため、浸入した液晶材を完全に洗浄
除去するには洗浄剤に対して高度な洗浄性能が要求され
る。

【０００４】また、光学レンズ加工工程においても、高
精度の平面／球面を得るため研削工程や研磨工程、芯取
り工程がある。そのために固定剤、接着剤、保護材とし
て各種の固体状化合物が使用されている。これらの固定
剤や保護膜はそのまま放置すると、固着化し除去しにく
くなるばかりか、場合によっては表面物性値を劣化させ
る。従ってできる限り早い時期に洗浄除去する事が重要
となり、これら固体状汚れ成分に対して優れた洗浄性を
発揮する洗浄剤が望まれている。

【０００５】その他、プリント基板の半田付けの際のフ
ラックス洗浄や、コンデンサー部品、ハードディスク、
フロッピーディスク用の磁気ディスクヘッド等の電子部
品として用いられる金属部品やプラスチック部品や治具
に付着しているピッチ、ワックス、グリース等の油脂類
の洗浄に対しても同様に、高度な洗浄性が要求されてい
る。以上のようにこれらの高粘度／半固体／固体状付着
物を高度に洗浄するために従来からフロン、トリクロロ
エタン等の塩素系溶剤が大量に用いられていた。

【０００６】フロン等の塩素系溶剤を用いない洗浄剤と
しては、ジエチレングリコールジエチルエーテル等のグ
リコールエーテルと、アジピン酸ジメチル等の二塩基酸
エステルとを配合した、主として半田フラックスの洗浄
を目的とした洗浄剤が報告されている（特開平６−９３
２９２号公報）。しかしながら、洗浄力に対して更に高
性能化された洗浄剤が望まれている。また更に、本公報
に記載されている発明事項はいわゆる溶剤混合物のた
め、基本的に引火点を示す危険物となる。また水を添加
した組成物事例もあるが、この添加水は一時的に引火点
を上昇あるいは消減させる目的で少量使用される。

【０００７】この様に溶剤が組成物の殆どを占める洗浄
剤は、実使用時、水分蒸発により引火点を示すようにな
るため水分管理等の煩わしい工程が必要となったり、一
般的に洗浄剤自体が水不溶性になるため、水でのすすぎ
が不可能となったり、大量の水や強い機械力を必要とす
るような不具合が生じることもある。これら引火点や、
すすぎ性の不具合に対しても解消された洗浄剤の要求が
近年高まってきている。

【０００８】しかし洗浄力を更に高めるためには上記公
報記載の化合物では、限界がある。また、引火点やすす
ぎ性の不具合を解決するため、単純に水含有量を増加さ
せると洗浄力が劣化する。この様な状況に鑑み、あらゆ
る汚れに対して塩素系溶剤に匹敵する洗浄力を示す洗浄
剤組成物の開発及び、引火点やすすぎ性への危惧のない
洗浄剤の開発に鋭意検討した結果、二塩基酸エステル−
グリコールエーテル−炭素水素三元系において本目的を
達成できることを見いだし、本発明の完成に至った。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、液晶パネ
ル、レンズ、プリント基板、磁気ヘッド金属部品等のあ
らゆる材質の電子部品に付着している高粘度／半固体／
固体状の汚染物質に対して高度な洗浄性能を発揮する洗
浄剤組成物を提供するものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の洗浄剤組成物
は、以下の（ａ），（ｂ）および（ｃ）成分を必須成分
として含有し、さらに（ｄ）成分および（ｅ）成分を含
有せしめてもよい。（ａ）化４の一般式（Ｉ）で表わされる化合物。

【００１１】

【化４】Ｒ₁−ＯＯＣ−Ｘ−ＣＯＯ−Ｒ₂…（Ｉ）（Ｒ₁，Ｒ₂：炭素数１〜１５のアルキル基、アルケニル
基またはアルキルフェニル基を示し、どちらか一方が水
素原子でもよいＸ：炭素数２〜４の脂肪族炭化水素基またはフェニレン
基）（ｂ）化５の一般式（ＩＩ）で表わされる化合物。

【００１２】

【化５】Ｒ₃−Ｏ−（Ａ₁Ｏ）ｎ−Ｒ₄…（Ｉ）（Ｒ₃：炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル基また
はアルキルフェニル基Ｒ₄：水素原子、炭素数１〜９のアルキル基ないしはア
ルケニル基Ａ₁：炭素数２〜４のアルキレン基ｎ：アルキレンオキシドＡ₁Ｏの平均付加モル数を表わ
し、１〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していても、２種以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）（ｃ）化６の一般式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表わさ
れる化合物。

【００１３】

【化６】（ｄ）界面活性剤（ｅ）水

【００１４】

【発明の実施態様】本発明の洗浄剤組成物として規定さ
れる各化合物について順次説明する。（ａ）成分の化合
物は下記化７の一般式（Ｉ）で示されるエステル化合物
である。

【００１５】

【化７】Ｒ₁−ＯＯＣ−Ｘ−ＣＯＯ−Ｒ₂…（Ｉ）（Ｒ₁，Ｒ₂：炭素数１〜１５のアルキル基、アルケニル
基またはアルキルフェニル基を示し、どちらか一方が水
素原子でもよいＸ：炭素数２〜４の脂肪族炭化水素基またはフェニレン
基）

【００１６】一般式（Ｉ）で示されるエステルとして
は、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、グルタル酸、ア
ジピン酸等のモノメチルエステル、モノエチルエステル
等のモノエステル、ジメチルエステル、ジエチルエステ
ル、ジブチルエステル、ジオクチルエステル等のジエス
テル類を、またフタル酸のジヘプチルエステル、ジノニ
ルエステル等を挙げることができる。これらの化合物は
それぞれ単独で使用しても良いが、２種以上組み合わせ
て使用しても良い。

【００１７】一般式（Ｉ）で示される化合物の中でも特
に好ましい化合物はアジピン酸、グルタル酸、コハク酸
のジメチルエステル、ジエチルエステルである。（ｂ）
成分の一般式（ＩＩ）で示される化合物は、グリコール
のモノエーテルまたはジエーテルである。

【００１８】

【化８】Ｒ₃−Ｏ−（Ａ₁Ｏ）ｎ−Ｒ₄…（ＩＩ）（Ｒ₃：炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル基また
はアルキルフェニル基Ｒ₄：水素原子、炭素数１〜９のアルキル基ないしはア
ルケニル基Ａ₁：炭素数２〜４のアルキレン基ｎ：アルキレンオキシドＡ₁Ｏの平均付加モル数を表わ
し、１〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していても、２種以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）

【００１９】一般式（ＩＩ）のグリコールモノエーテル
類としては、エチレングリコールモノメチルエーテル
（Ｃ１Ｅ１）、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル（Ｃ１Ｅ２）、トリエチレングチコールモノメチルエ
ーテル（Ｃ１Ｅ３）、エチレングリコールモノプロピル
エーテル（Ｃ３Ｅ１）、ジエチレングリコールモノプロ
ピルエーテル（Ｃ３Ｅ２）、トリエチレングリコールモ
ノプロピルエーテル（Ｃ３Ｅ３）、エチレングリコール
モノブチルエーテル（Ｃ４Ｅ１）、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル（Ｃ４Ｅ２）、トリエチレングリ
コールモノブチルエーテル（Ｃ４Ｅ３）、エチレングリ
コールモノヘキシルエーテル（Ｃ６Ｅ１）、ジエチレン
グリコールモノヘキシルエーテル（Ｃ６Ｅ２）、エチレ
ングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル（Ｃ２
Ｃ６Ｅ１）、ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘ
キシルエーテル（Ｃ２Ｃ６Ｅ２）等が挙げられる。

【００２０】グリコールジエーテル類としては、エチレ
ングリコールジメチルエーテル（Ｃ１Ｅ１Ｃ１）、エチ
レングリコールジエチルエーテル（Ｃ２Ｅ１Ｃ２）、エ
チレングリコールジブチルエーテル（Ｃ４Ｅ１Ｃ４）、
ジエチレングリコールジブチルエーテル（Ｃ４Ｅ２Ｃ
４）等が挙げられる。これらの化合物はそれぞれ単独で
使用しても良いが、２種以上組み合わせて使用しても良
い。

【００２１】一般式（ＩＩ）のグリコールエーテル化合
物の中でも、末端エーテル残基の合計炭素数（Ｒ₃＋Ｒ₄
の合計炭素数）が４以上のものが好ましく、また、グリ
コール部分はエチレンオキシドまたはプロピレンオキシ
ドの付加により形成されることが好ましく、その付加モ
ル数ｎは１から４が好適である。（ｃ）成分の化合物は
炭化水素であり、下記化９の一般式（ＩＩＩ）と（Ｉ
Ｖ）の化合物の両者を包含する。

【００２２】

【化９】

【００２３】具体的には、炭素数６から２２のパラフィ
ン系炭化水素、オレフィン系炭化水素であり、最も好ま
しい炭素鎖長は８から１６である。もちろん、パラフィ
ン系炭化水素とオレフィン系炭化水素とを併用して配合
してもよい。上記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）成分はいずれ
も、組成中に０．５から８０重量％含有する事ができる
が、好ましくは１０から５０重量％である。

【００２４】本発明の洗浄剤組成物中には、上記
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）成分に対し、更に（ｄ）成分と
して界面活性剤を、また（ｅ）成分として２０〜８０重
量％、好ましくは２５〜７０重量％の範囲で水を配合
し、洗浄性能の向上を図ったり、水溶液として使用可能
な水系の洗浄剤とすることもできる。界面活性剤として
は、非イオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カ
チオン性界面活性剤、両性界面活性剤を用いることが可
能であるが、特に非イオン性界面活性剤、アニオン性界
面活性剤が有効である。これら組み合わせる界面活性剤
の種類によって、汚れ成分の種類に応じた最適な洗浄剤
を調整可能となる。

【００２５】すなわち、金属粉、研磨材等に代表される
粒子状汚れを多量に含有する汚れ成分の洗浄にはアニオ
ン性界面活性剤を、半田フラックスや液晶、レンズ保護
膜、グリスに代表される固体状／半固体状汚れの洗浄に
は非イオン性界面活性剤を用いることにより、より一層
優れた洗浄性を確保する事が可能となる。非イオン性界
面活性剤としては、以下のものが例示される。ここで、
ｐはアルキレンオキシドの平均付加モル数を示す。アル
キレンオキシドとしてはエチレンオキシド、プロピレン
オキシド、ブチレンオキシドまたはこれらの混合付加物
が用いられる。

【００２６】１）ポリオキシアルキレン（ｐ＝３〜４
０）アルキルまたはアルケニル（Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂）エーテル２）ポリオキシアルキレン（ｐ＝３〜４０）アルキルま
たはアルケニル（Ｃ₆〜Ｃ₁₂）フェニルエーテル３）ポリオキシアルキレン（ｐ＝０．５〜４０）アルキ
ルまたはアルケニル（Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂）アミン４）ポリオキシアルキレン（ｐ＝０．５〜５０）アルキ
ルまたはアルケニル（Ｃ₁₀〜Ｃ₂₂）アミド５）エチレンオキシド／プロピレンオキシドブロック付
加物（プルロニック型界面活性剤）上記非イオン性界面活性剤の中でも、下記化１０の一般
式（Ｖ）に示した非イオン性界面活性剤が本発明に最適
である。

【００２７】

【化１０】Ｒ₅−Ｏ−（Ａ₃Ｏ）ｐ−Ｈ …（Ｖ）（Ｒ₅：炭素数１０〜２２のアルキル基、アルケニル基
またはアルキルフェニル基Ａ₃：炭素数２〜４のアルキレン基ｐはアルキレンオキシドＡ₃Ｏの平均付加モル数を表
し、３〜２０の数。但し同一のアルキレンオキシドが単
独で付加していてもよく、２種類以上のアルキレンオキ
シドが混合して付加していてもよい。）これら界面活性剤は、単独で配合してもよいが２種類以
上を適宜に組み合わせてもよい。

【００２８】アニオン性界面活性剤としては、例えば以
下のものが例示できる。１）平均炭素数８〜１６のアルキル基を有する直鎖アル
キルベンゼンスルホン酸塩２）平均炭素数１０〜２０のアルファオレフィンスルホ
ン酸塩３）アルキル基またはアルケニル基の炭素数が４〜１０
のジアルキルスルホコハク酸塩４）化１１の一般式（ＶＩ）で表される脂肪酸低級アル
キルエステルのスルホン酸塩または脂肪酸スルホン化物
のジ塩

【００２９】

【化１１】（Ｒ：炭素数８〜２０のアルキル基またはアルケニル基Ｙ：炭素数１〜３のアルキル基または対イオンＺ：対イオン）

【００３０】５）平均炭素数１０〜２０のアルキル硫酸
塩６）平均炭素数１０〜２０の直鎖または分岐鎖のアルキ
ル基もしくはアルケニル基を有し、平均０．５〜８モル
のエチレンオキシドを付加したアルキルエーテル硫酸塩７）平均炭素数１０〜２２の飽和または不飽和脂肪酸塩

【００３１】これらのアニオン性界面活性剤における対
イオンとしては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金
属、またはモノエタノールアミン、ジエタノールアミン
等のアルカノールアミン塩が用いられる。これらの界面
活性剤は、単独で配合しても良いが、２種類以上を適宜
に組み合わせても良い。

【００３２】界面活性剤は、本発明の洗浄剤組成物中に
１〜７０重量％配合することが好ましく、より好ましく
は５〜５０重量％である。本発明の洗浄剤組成物には、
その他必要に応じて任意成分を配合することが出来る。
これらの任意成分としては、クエン酸塩、リン酸塩、エ
チレンジアミン四酢酸塩等の洗浄ビルダー、液安定性を
保持するためのエチレングリコール、プロピレングリコ
ール等のグリコール類、メタノール、エタノール等の低
級アルコール類、トルエンスルホン酸塩、キシレンスル
ホン酸塩等のハイドロトロープ剤、さらには目的に応じ
てベンゾトリアゾール、ｔ−ブチル安息香酸塩等の防錆
剤を配合することが可能である。

【００３３】本発明の洗浄剤組成物は、組成物そのまま
の濃度で用いて洗浄することも、また、水で希釈して水
溶液や分散液として使用することも可能である。本発明
の洗浄剤組成物は、前述の通り、液晶、フラックス、油
脂類、ピッチ、ワックス、保膜膜、研摩材等の高粘性／
半固体／固体状の汚れ用洗浄剤として好適に用いられる
が、その一例を挙げれば液晶用洗浄剤、ピッチ用洗浄剤
がある。

【００３４】

【発明の効果】本発明によればハロゲン化炭化水素系溶
剤を用いることがなくても、高粘度／半固体／固体状の
汚れが付着した被洗浄物に対して、高度な洗浄性を発揮
する洗浄剤を得ることが出来る。

【００３５】

【実施例】以下に本発明を用い、代表的な部品に対して
行った洗浄性評価結果を示す。表１から表４に示した各
洗浄剤組成物を調製し、以下の方法及び洗浄性基準を用
いて洗浄力を評価した。その結果を同表に示した。なお
表１と表２、表３と表４でそれぞれ１つの組成物を示し
ている。

【００３６】（１）液晶パネルの液晶材洗浄性評価方法
（液晶用洗浄剤としての利用）空隙部が５μｍの液晶表示パネルを用い、その空隙部に
汚れ成分として液晶材を塗布し、空隙部位を液晶材で満
たす。更に、１００℃恒温槽内で４０時間の加熱処理を
行い、被洗浄サンプルとする。用意した洗浄剤組成物の
原液を用い、５０℃１０分間の超音波洗浄を行う。洗浄
槽から取り出し、水で充分にすすぎを行い、１２０℃恒
温槽で２０分間の乾燥を行い偏光顕微鏡で空隙部を観察
し洗浄性の評価を行う。以下の評価基準に従って洗浄性
を評価する。 ◎・・・完全に洗浄されている ○・・・ほとんど洗浄されている △・・・少し洗浄されている。 ×・・・全く洗浄されない ○以上が合格である。

【００３７】（２）光学レンズのピッチ洗浄性評価方法
（ピッチ用洗浄剤としての利用）ガラス製光学レンズにコールタール系ピッチを１００℃
溶融塗布し、室温に冷却しレンズ表面にピッチの均一被
膜を形成させ、被洗浄レンズを作製する。用意した洗浄
剤組成物の原液を用い、４０℃３分間の超音波洗浄を行
う。洗浄槽から取り出し、水で充分にすすぎを行いエア
ーブロー乾燥する。表面の観察を行い、洗浄性を目視判
定する。 ◎・・・完全に洗浄されている ○・・・ほとんど洗浄されている △・・・少し洗浄されている。 ×・・・全く洗浄されない ○以上が合格である。

【００３８】（３）光学レンズの研磨材洗浄性評価方法
（研磨材用洗浄剤としての利用）研磨工程を終了した実際の光学レンズを用い、用意した
洗浄剤組成物の原液で、４０℃３分間の超音波洗浄を行
う。洗浄槽から取り出し、水で充分にすすぎを行いエアーブ
ロー乾燥する。部品表面の観察を行い、洗浄性を目視判
定する。 ◎・・・完全に洗浄されている ○・・・ほとんど洗浄されている △・・・少し洗浄されている。 ×・・・全く洗浄されない ○以上が合格である。

【００３９】（４）電子部品の半田フラックス洗浄性評
価方法（フラックス用洗浄剤としての利用）ロジン系半田フラックスが付着、固化した実際の銅製電
子部品を用い、用意した洗浄剤組成物の原液で４０℃３
分間の超音波洗浄を行う。洗浄槽から取り出し、水で充
分にすすぎを行いエアーブロー乾燥する。部品表面の観
察を行い、洗浄性を目視判定する。 ◎・・・完全に洗浄されている ○・・・ほとんど洗浄されている △・・・少し洗浄されている。 ×・・・全く洗浄されない ○以上が合格である。

【００４０】表中の略号の意味は以下の通りである。ＥＯ：エチレンオキシドの付加単位ＰＯ：プロピレンオキシドの付加単位ＬＡＳ−Ｎａ：直鎖アルキル（Ｃ₁₀〜Ｃ₁₄）ベンゼンス
ルホン酸ナトリウムＡＯＳ−Ｎａ：Ｃ₁₀〜Ｃ₁₈アルファオレフィンスルホン
酸ナトリウムＡＳ−ＭＥＡ：高級アルキル（Ｃ₁₀〜Ｃ₁₄）エーテル硫
酸エステルモノエタノールアミンＡＳＳ−Ｎａ：ジオクチルスルホコハク酸ナトリウムＡＰＥ（Ｐ＝８）：ポリオキシエチレン（Ｐ＝８）ノニ
ルフェニルエーテルＳＡＥ（Ｐ＝８）：ポリオキシエチレン（Ｐ＝８）アル
キル（Ｃ₁₀〜Ｃ₁₄）エーテル

【００４１】

【表１】表１：組成（ｗｔ％）その１実施例 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 (a)成分 CH₃OOC-CH₂-CH₂-COOCH₃− 60 5 − 5 − − − − 5 CH₃OOC-CH₂-CH₂-CH₂-COOCH₃− − 5 − − − − 5 5 5 CH₃OOC-CH₂-(CH₂)₂-CH₂-COOCH₃30 − 5 − − 30 5 10 10 5 C₈H₁₇OOCCH=CH-COOC₈H₁₇− − − 5 − − − − − − C₈H₁₇OOC-(CH₂)₄-COOC₈H₁₇− − − − 20 − − − − − C₈H₁₇OOC-(C₆H₄)-COOC₈H₁₇− − − 5 − − − − − − (b)成分 CH₃O(EO)₃CH₃40 20 − 10 − − − − − − C₅H₁₁-(C₆H₄)O-(EO)₈H − − − − − 10 − − − − C₆H₁₃O(EO)₂H 20 − 15 − 20 − 7 12 12 12 C₄H₉O(EO)₂C₄H₉− − − 10 − 10 5 7 7 7 C₄H₉O(EO)₁(PO)₂H − 15 − 20 5 − 5 − − − (c)成分 C₆H₁₄10 − − 10 − − − − − − C₁₀H₂₂− 5 − − 10 − 5 − − 5 C₁₄H₃₀− − 5 − − − − 5 5 − C₁₈H₃₈− − − − − 5 − − − − C₈H₁₆− − − − − 10 − − − 5 C₁₄H₂₈− − 5 − 20 − − 5 5 −

【００４２】

【表２】表２：組成（ｗｔ％）その２および評価結果実施例 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 界面活性剤 APE(P=8) − − 15 15 − 35 − − 5 − SAE(P=9) − − − − 20 − − − 5 5 ASS-Na − − − − − − 7 5 5 5 AS-MEA − − − − − − − 5 − 5 LAS-Na − − − − − − − 5 − − 水 − − 45 25 − − 66 41 41 41 評価結果液晶洗浄性 ○ ◎ ◎ ○ ○ ◎ ○ ○ ◎ ◎ ワックス洗浄性 ◎ ◎ ○ ○ ◎ ◎ ○ ◎ ◎ ◎ 研磨材洗浄性 ○ ○ ○ ○ ○ ○ ◎ ◎ ◎ ◎ フラックス洗浄性 ◎ ◎ ◎ ○ ◎ ◎ ○ ○ ◎ ◎

【００４３】

【表３】表３：組成（ｗｔ％）その１比較例 1 2 3 4 5 (a)成分 CH₃OOC-CH₂-CH₂-COOCH₃− − − − − CH₃OOC-CH₂-CH₂-CH₂-COOCH₃− − − − − CH₃OOC-CH₂-(CH₂)₂-CH₂-COOCH₃100 50 − − − C₈H₁₇OOCCH=CH-COOC₈H₁₇− − − − − C₈H₁₇OOC-(CH₂)₄-COOC₈H₁₇− − − − − C₈H₁₇OOC-(C₆H₄)-COOC₈H₁₇− − − − − (b)成分 CH₃O(EO)₃CH₃− − 30 − − C₅H₁₁-(C₆H₄)O-(EO)₈H − − − − − C₆H₁₃O(EO)₂H − 50 50 − − C₄H₉O(EO)₂C₄H₉− − − − − C₄H₉O(EO)₁(PO)₂H − − − − − (c)成分 C₆H₁₄− − 10 − − C₁₀H₂₂− − − 20 − C₁₄H₃₀− − − − − C₁₈H₃₈− − − − − C₈H₁₆− − − − − C₁₄H₂₈− − − − −

【００４４】

【表４】

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ１１Ｄ 7:24）

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記の化１の一般式（Ｉ）で表わされる
化合物、化２の一般式（ＩＩ）で表わされる化合物およ
び化３の一般式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）で表わされる
化合物を含有することを特徴とする洗浄剤組成物。【化１】Ｒ₁−ＯＯＣ−Ｘ−ＣＯＯ−Ｒ₂…（Ｉ）（Ｒ₁，Ｒ₂：炭素数１〜１５のアルキル基、アルケニル
基またはアルキルフェニル基を示し、どちらか一方が水
素原子でもよいＸ：炭素数２〜４の脂肪族炭化水素基またはフェニレン
基）【化２】Ｒ₃−Ｏ−（Ａ₁Ｏ）ｎ−Ｒ₄…（Ｉ）（Ｒ₃：炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル基、フ
ェニル基またはアルキルフェニル基Ｒ₄：水素原子、炭素数１〜９のアルキル基ないしはア
ルケニル基Ａ₁：炭素数２〜４のアルキレン基ｎ：アルキレンオキシドＡ₁Ｏの平均付加モル数を表わ
し、１〜２０の数。但し、同一のアルキレンオキシドが
単独で付加していても、２種以上のアルキレンオキシド
が混合して付加していてもよい）【化３】
【請求項２】更に、界面活性剤を含有する請求項１に
記載の洗浄剤組成物。
【請求項３】水の含有量が２０〜８０重量％の範囲に
ある請求項１記載の洗浄剤組成物。