JPH08233733A - 肌の化粧品残度検出方法およびその装置 - Google Patents
肌の化粧品残度検出方法およびその装置Info
- Publication number
- JPH08233733A JPH08233733A JP3570595A JP3570595A JPH08233733A JP H08233733 A JPH08233733 A JP H08233733A JP 3570595 A JP3570595 A JP 3570595A JP 3570595 A JP3570595 A JP 3570595A JP H08233733 A JPH08233733 A JP H08233733A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 化粧品残度を客観的に検出する。
【構成】 肌2に赤外光光源1により赤外光を照射し、
肌2からの反射光をバンドパスフィルタ3、チョッパ4
を通して検出器5に導き、検出器5の出力信号に基づい
て吸光度算出部6により第1光と第2光との吸光度を算
出し、傾き算出部7により両吸光度の傾きに相当する値
を算出し、変換部8により化粧品残度に変換する。
肌2からの反射光をバンドパスフィルタ3、チョッパ4
を通して検出器5に導き、検出器5の出力信号に基づい
て吸光度算出部6により第1光と第2光との吸光度を算
出し、傾き算出部7により両吸光度の傾きに相当する値
を算出し、変換部8により化粧品残度に変換する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は肌の化粧品残度を検出
するための新規な方法およびその装置に関する。
するための新規な方法およびその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、美しい肌を保つためには、し
っかりと汚れを落とすことが大切であり、これを怠ると
肌荒れや吹き出物、くすみの原因になり、肌の老化を早
めることになることが知られている。ここで、汚れとし
ては、ホコリの付着、化粧品の残留などが挙げられる。
また、これらのうち、汚れがホコリの付着によるもので
ある場合には、水洗いや化粧石鹸により簡単に、かつ十
分に汚れを落とすことができる。
っかりと汚れを落とすことが大切であり、これを怠ると
肌荒れや吹き出物、くすみの原因になり、肌の老化を早
めることになることが知られている。ここで、汚れとし
ては、ホコリの付着、化粧品の残留などが挙げられる。
また、これらのうち、汚れがホコリの付着によるもので
ある場合には、水洗いや化粧石鹸により簡単に、かつ十
分に汚れを落とすことができる。
【0003】しかし、汚れが化粧品によるものである場
合には、水洗いや化粧石鹸だけでは簡単には汚れを落と
すことができない。また、洗顔によりどの程度汚れが落
ちたかは個人の感覚に頼っている。
合には、水洗いや化粧石鹸だけでは簡単には汚れを落と
すことができない。また、洗顔によりどの程度汚れが落
ちたかは個人の感覚に頼っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】汚れが化粧品によるも
のである場合には、化粧品が各種の有機物質、無機物質
を含んでいるのであるから、美しい肌を保つためには化
粧品を完全に落とさなければならない。しかし、汚れが
どの程度落ちたかは個人の感覚に頼っているのであるか
ら、化粧品による汚れが完全に落ちたか否かを正確に判
断することができない。この結果、個人の感覚では汚れ
が完全に落ちていると判断できた場合であっても、化粧
品による汚れが残留していることがあり、このような場
合には、美しい肌を保つことができなくなってしまう。
のである場合には、化粧品が各種の有機物質、無機物質
を含んでいるのであるから、美しい肌を保つためには化
粧品を完全に落とさなければならない。しかし、汚れが
どの程度落ちたかは個人の感覚に頼っているのであるか
ら、化粧品による汚れが完全に落ちたか否かを正確に判
断することができない。この結果、個人の感覚では汚れ
が完全に落ちていると判断できた場合であっても、化粧
品による汚れが残留していることがあり、このような場
合には、美しい肌を保つことができなくなってしまう。
【0005】
【発明の目的】この発明は上記の問題点に鑑みてなされ
たものであり、汚れの原因になる化粧品の残度を客観的
に検出することができる肌の化粧品残度検出方法および
その装置を提供することを目的としている。
たものであり、汚れの原因になる化粧品の残度を客観的
に検出することができる肌の化粧品残度検出方法および
その装置を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の肌の化粧品残
度検出方法は、肌に赤外光を照射し、反射される赤外光
のうち、素肌による吸光度が高い波長を有する第1光の
吸光度と、化粧品に含まれる物質による吸光度が高い波
長を有する第2光の吸光度とを検出し、両吸光度の割合
に基づいて肌の化粧品残度を検出する方法である。
度検出方法は、肌に赤外光を照射し、反射される赤外光
のうち、素肌による吸光度が高い波長を有する第1光の
吸光度と、化粧品に含まれる物質による吸光度が高い波
長を有する第2光の吸光度とを検出し、両吸光度の割合
に基づいて肌の化粧品残度を検出する方法である。
【0007】請求項2の肌の化粧品残度検出装置は、肌
に赤外光を照射する赤外光光源と、反射される赤外光の
うち、素肌による吸光度が高い波長を有する第1光の吸
光度と、化粧品に含まれる物質による吸光度が高い波長
を有する第2光の吸光度とを検出する吸光度検出手段
と、両吸光度の割合を算出し、算出結果に基づいて肌の
化粧品残度を検出する化粧品残度検出手段とを有してい
る。
に赤外光を照射する赤外光光源と、反射される赤外光の
うち、素肌による吸光度が高い波長を有する第1光の吸
光度と、化粧品に含まれる物質による吸光度が高い波長
を有する第2光の吸光度とを検出する吸光度検出手段
と、両吸光度の割合を算出し、算出結果に基づいて肌の
化粧品残度を検出する化粧品残度検出手段とを有してい
る。
【0008】ここで、第1光としては、皮膚組織による
吸収が顕著な波長の光であることが好ましく、第2波長
としては、化粧品中の無機質(例えばSiO2)による
吸収が顕著な波長の光であることが好ましい。
吸収が顕著な波長の光であることが好ましく、第2波長
としては、化粧品中の無機質(例えばSiO2)による
吸収が顕著な波長の光であることが好ましい。
【0009】
【作用】請求項1の肌の化粧品残度検出装置であれば、
肌に赤外光を照射し、反射される赤外光のうち、素肌に
よる吸光度が高い波長を有する第1光の吸光度と、化粧
品に含まれる物質による吸光度が高い波長を有する第2
光の吸光度とを検出し、両吸光度の割合に基づいて肌の
化粧品残度(化粧品が残っている度合)を検出するので
あるから、従来は不可能であった化粧品残度の客観的な
検出を達成することができる。
肌に赤外光を照射し、反射される赤外光のうち、素肌に
よる吸光度が高い波長を有する第1光の吸光度と、化粧
品に含まれる物質による吸光度が高い波長を有する第2
光の吸光度とを検出し、両吸光度の割合に基づいて肌の
化粧品残度(化粧品が残っている度合)を検出するので
あるから、従来は不可能であった化粧品残度の客観的な
検出を達成することができる。
【0010】請求項2の肌の化粧品残度検出装置は、赤
外光光源により肌に赤外光を照射し、吸光度検出手段に
より、反射される赤外光のうち、素肌による吸光度が高
い波長を有する第1光の吸光度と、化粧品に含まれる物
質による吸光度が高い波長を有する第2光の吸光度とを
検出し、化粧品残度検出手段により、両吸光度の割合を
算出し、算出結果に基づいて肌の化粧品残度を検出す
る。したがって、従来は不可能であった化粧品残度の客
観的な検出を達成することができる。
外光光源により肌に赤外光を照射し、吸光度検出手段に
より、反射される赤外光のうち、素肌による吸光度が高
い波長を有する第1光の吸光度と、化粧品に含まれる物
質による吸光度が高い波長を有する第2光の吸光度とを
検出し、化粧品残度検出手段により、両吸光度の割合を
算出し、算出結果に基づいて肌の化粧品残度を検出す
る。したがって、従来は不可能であった化粧品残度の客
観的な検出を達成することができる。
【0011】換言すれば、第1光の吸光度は化粧品残度
が少ないほど大きくなり、第2光の吸光度は化粧品残度
が多いほど高くなる、いわゆる相反関係にある。したが
って、第1光の吸光度と第2光の吸光度との割合を算出
することにより、肌の化粧品残度を高精度に、かつ客観
的に検出することができる。
が少ないほど大きくなり、第2光の吸光度は化粧品残度
が多いほど高くなる、いわゆる相反関係にある。したが
って、第1光の吸光度と第2光の吸光度との割合を算出
することにより、肌の化粧品残度を高精度に、かつ客観
的に検出することができる。
【0012】
【実施例】以下、実施例を示す添付図面によってこの発
明を詳細に説明する。図1はこの発明の肌の化粧品残度
検出装置の一実施例を示す概略図である。この装置は、
顔2に対して赤外光を照射するための、タングステンフ
ィラメントなどからなる赤外光光源1と、顔2により反
射され、または散乱反射された赤外光に含まれる各種の
波長の光の中から、第1光または第2光のみを透過させ
るフィルタ(バンドパスフィルタ)3と、フィルタ3を
透過した光を断続光に変換するチョッパ4と、チョッパ
4から出力される断続光を受光するための、焦電素子か
らなる検出器5と、検出器5から出力される光強度を入
力として各光の吸光度を得る吸光度算出部6と、第1光
の吸光度から第2光の吸光度を減算して吸光度差を算出
し、この吸光度差を第1光の波長と第2光の波長との差
で除算して傾きに相当する値を得る傾き算出部7と、こ
の傾きに相当する値を化粧品残度に変換する変換部8と
を有している。ただし、顔2に代えて、手、首などに赤
外光を照射するようにしてもよい。
明を詳細に説明する。図1はこの発明の肌の化粧品残度
検出装置の一実施例を示す概略図である。この装置は、
顔2に対して赤外光を照射するための、タングステンフ
ィラメントなどからなる赤外光光源1と、顔2により反
射され、または散乱反射された赤外光に含まれる各種の
波長の光の中から、第1光または第2光のみを透過させ
るフィルタ(バンドパスフィルタ)3と、フィルタ3を
透過した光を断続光に変換するチョッパ4と、チョッパ
4から出力される断続光を受光するための、焦電素子か
らなる検出器5と、検出器5から出力される光強度を入
力として各光の吸光度を得る吸光度算出部6と、第1光
の吸光度から第2光の吸光度を減算して吸光度差を算出
し、この吸光度差を第1光の波長と第2光の波長との差
で除算して傾きに相当する値を得る傾き算出部7と、こ
の傾きに相当する値を化粧品残度に変換する変換部8と
を有している。ただし、顔2に代えて、手、首などに赤
外光を照射するようにしてもよい。
【0013】なお、第1光として、皮膚組織、タンパク
質・アミノ酸による吸収が顕著な波長の光(例えば、波
長が6.1μm近傍、または波長が6.5μm近傍の
光)を採用し、第2光として、SiO2による吸収が顕
著な波長の光(例えば、波長が10.2μm近傍の光)
を採用している。ここで、SiO2は、カオリン、タル
ク類として殆どの化粧品に含まれているのであるから、
第2光をこのように設定することにより、どのような化
粧品にも対処できる。また、フィルタ3、チョッパ4、
および検出器5は、第1光、第2光のそれぞれに対応さ
せて設けているが、図1には1系統分だけを示してい
る。または、フィルタ3を第1光及び第2光のみ通す様
に切り替えることで、1系統のみで構成することも可能
である。さらに、吸光度算出部6は、例えば、赤外光光
源1から出射される各光の強度に対する、対応する検出
器5による検出信号の割合を算出することにより吸光度
を得るものであり、好ましくは、該当する場合に、上記
各波長近傍におけるピーク値を吸光度として得る。さら
にまた、変換部8は、例えば、複数の化粧品残度に対応
させて、傾きに相当する値を予め得て保持しているもの
であり、傾き算出部7により得られた値と保持している
値とに基づいて化粧品残度を得て出力する。
質・アミノ酸による吸収が顕著な波長の光(例えば、波
長が6.1μm近傍、または波長が6.5μm近傍の
光)を採用し、第2光として、SiO2による吸収が顕
著な波長の光(例えば、波長が10.2μm近傍の光)
を採用している。ここで、SiO2は、カオリン、タル
ク類として殆どの化粧品に含まれているのであるから、
第2光をこのように設定することにより、どのような化
粧品にも対処できる。また、フィルタ3、チョッパ4、
および検出器5は、第1光、第2光のそれぞれに対応さ
せて設けているが、図1には1系統分だけを示してい
る。または、フィルタ3を第1光及び第2光のみ通す様
に切り替えることで、1系統のみで構成することも可能
である。さらに、吸光度算出部6は、例えば、赤外光光
源1から出射される各光の強度に対する、対応する検出
器5による検出信号の割合を算出することにより吸光度
を得るものであり、好ましくは、該当する場合に、上記
各波長近傍におけるピーク値を吸光度として得る。さら
にまた、変換部8は、例えば、複数の化粧品残度に対応
させて、傾きに相当する値を予め得て保持しているもの
であり、傾き算出部7により得られた値と保持している
値とに基づいて化粧品残度を得て出力する。
【0014】また、図1には顔2からの反射光をフィル
タ3に導くためのミラー9が設けられているが、ミラー
9を省略してもよいことはもちろんである。上記の構成
の化粧品残度検出装置を用いて顔の化粧品残度を検出す
る場合には、第1光の吸光度および第2光の吸光度から
傾きに相当する値を算出することにより、正確、かつ客
観的な化粧品残度を検出することができる。
タ3に導くためのミラー9が設けられているが、ミラー
9を省略してもよいことはもちろんである。上記の構成
の化粧品残度検出装置を用いて顔の化粧品残度を検出す
る場合には、第1光の吸光度および第2光の吸光度から
傾きに相当する値を算出することにより、正確、かつ客
観的な化粧品残度を検出することができる。
【0015】換言すれば、化粧品残度が大きい場合に
は、第2光の吸光度が化粧品の残度に応じて大きくな
り、第1光の吸光度が化粧品の残度に応じて小さくな
る。逆に、化粧品残度が小さい場合には、化粧品が殆ど
残留していないのであるから、第2光の吸光度が小さく
なり、第1光の吸光度が大きくなる。即ち、第1光の吸
光度と第2光の吸光度とは、化粧品の残度に応じて変化
するだけでなく、互いに相反的に変化するのであるか
ら、傾きに相当する値の化粧品残度に対する変化割合を
大きくすることができる。したがって、何れか一方の光
の吸光度のみに基づいて化粧品残度を検出しようとする
場合には、個人差、化粧品の組成差などによるばらつき
の影響を大きく受けてしまうのであるが、この実施例で
は、両光の吸光度に基づいて化粧品残度を検出している
のであるから、個人差、化粧品の組成差などによるばら
つきの影響を抑制することができ、この結果、化粧品残
度の検出精度を高めることができる。
は、第2光の吸光度が化粧品の残度に応じて大きくな
り、第1光の吸光度が化粧品の残度に応じて小さくな
る。逆に、化粧品残度が小さい場合には、化粧品が殆ど
残留していないのであるから、第2光の吸光度が小さく
なり、第1光の吸光度が大きくなる。即ち、第1光の吸
光度と第2光の吸光度とは、化粧品の残度に応じて変化
するだけでなく、互いに相反的に変化するのであるか
ら、傾きに相当する値の化粧品残度に対する変化割合を
大きくすることができる。したがって、何れか一方の光
の吸光度のみに基づいて化粧品残度を検出しようとする
場合には、個人差、化粧品の組成差などによるばらつき
の影響を大きく受けてしまうのであるが、この実施例で
は、両光の吸光度に基づいて化粧品残度を検出している
のであるから、個人差、化粧品の組成差などによるばら
つきの影響を抑制することができ、この結果、化粧品残
度の検出精度を高めることができる。
【0016】なお、上記実施例においては、フィルタ3
により第1光、第2光のみを検出器5に導くようにして
いるが、フィルタ3を省略して、所定の波長範囲に含ま
れる全ての光を検出器(分光検出器)により検出し、検
出結果の中から、第1光、第2光に対応する検出信号の
みを抽出するようにしてもよい。もちろん、焦電素子以
外の検出器を採用することも可能である。
により第1光、第2光のみを検出器5に導くようにして
いるが、フィルタ3を省略して、所定の波長範囲に含ま
れる全ての光を検出器(分光検出器)により検出し、検
出結果の中から、第1光、第2光に対応する検出信号の
みを抽出するようにしてもよい。もちろん、焦電素子以
外の検出器を採用することも可能である。
【0017】図2から図4は素肌から化粧を全く落とし
ていない肌までに対応する吸光度を示す図である。な
お、何れの図においても、A1で示す円で囲んだ部分が
6.1μm近傍の波長を有する第1光の吸光度を示し、
A2で示す円で囲んだ部分が6.5μm近傍の波長を有
する第1光の吸光度を示し、B1で示す円で囲んだ部分
が10.2μm近傍の波長の第2光の吸光度を示してい
る。また、これらの図の縦軸は吸光度であり、横軸は波
長を示すカイザー(波数)である。
ていない肌までに対応する吸光度を示す図である。な
お、何れの図においても、A1で示す円で囲んだ部分が
6.1μm近傍の波長を有する第1光の吸光度を示し、
A2で示す円で囲んだ部分が6.5μm近傍の波長を有
する第1光の吸光度を示し、B1で示す円で囲んだ部分
が10.2μm近傍の波長の第2光の吸光度を示してい
る。また、これらの図の縦軸は吸光度であり、横軸は波
長を示すカイザー(波数)である。
【0018】図2は、第1光の吸光度と第2光の吸光度
とを結ぶ線分の傾きが負であるのに対して、図3は、同
じ線分の傾きがほぼ0であり、図4は同じ線分の傾きが
正である。したがって、例えば、上記線分の傾きがほぼ
0または正の場合に、洗顔が不十分である(化粧品残度
が十分には小さくなっていない)と判定し、それ以外の
場合に洗顔が十分に行われていると判定することができ
る。
とを結ぶ線分の傾きが負であるのに対して、図3は、同
じ線分の傾きがほぼ0であり、図4は同じ線分の傾きが
正である。したがって、例えば、上記線分の傾きがほぼ
0または正の場合に、洗顔が不十分である(化粧品残度
が十分には小さくなっていない)と判定し、それ以外の
場合に洗顔が十分に行われていると判定することができ
る。
【0019】また、図5はカオリンの吸光度を示す図、
図6はタルクの吸光度を示す図である。両図から明らか
なように、第1光に対するカオリン、タルクの吸光度は
著しく小さいのであるから、第1光の吸光度により肌の
影響を検出することができ、第2光の吸光度により化粧
品の影響を検出することができる。この結果、図2から
図4に示すように、化粧品による汚れがほぼ完全に落と
された状態、化粧品による汚れが殆ど落とされていない
状態、これらの中間の状態にそれぞれ対応して上記線分
の傾きが変化し、この傾きの変化を検出することによ
り、化粧品の残度を正確に、かつ客観的に検出すること
ができる。
図6はタルクの吸光度を示す図である。両図から明らか
なように、第1光に対するカオリン、タルクの吸光度は
著しく小さいのであるから、第1光の吸光度により肌の
影響を検出することができ、第2光の吸光度により化粧
品の影響を検出することができる。この結果、図2から
図4に示すように、化粧品による汚れがほぼ完全に落と
された状態、化粧品による汚れが殆ど落とされていない
状態、これらの中間の状態にそれぞれ対応して上記線分
の傾きが変化し、この傾きの変化を検出することによ
り、化粧品の残度を正確に、かつ客観的に検出すること
ができる。
【0020】また、図5、図6において負の吸光度が示
されているのは、光を当てたときの試料の角度、測定の
仕方、ベースラインの設定などに起因するものであり、
分光分析を行う場合によく見られる現象である。ただ
し、実際に入射光量よりも反射光量が多くなることを意
味しているのではない。また、このように局部的に負の
吸光度が検出されても、第1光の吸光度と第2光の吸光
度とによる傾きにより化粧品残度を検出しているので、
特に不都合はない。
されているのは、光を当てたときの試料の角度、測定の
仕方、ベースラインの設定などに起因するものであり、
分光分析を行う場合によく見られる現象である。ただ
し、実際に入射光量よりも反射光量が多くなることを意
味しているのではない。また、このように局部的に負の
吸光度が検出されても、第1光の吸光度と第2光の吸光
度とによる傾きにより化粧品残度を検出しているので、
特に不都合はない。
【0021】なお、上記実施例においてはA1とB1、
またはA2とB1に基づいて化粧品残度を検出するよう
にしているが、A1とA2とB1とに基づいて(例え
ば、A1とA2の平均値とB1との傾きに基づいて)化
粧品残度を検出するようにしてもよい。
またはA2とB1に基づいて化粧品残度を検出するよう
にしているが、A1とA2とB1とに基づいて(例え
ば、A1とA2の平均値とB1との傾きに基づいて)化
粧品残度を検出するようにしてもよい。
【0022】
【発明の効果】請求項1の発明は、従来は不可能であっ
た化粧品残度の客観的な検出を達成することができると
いう特有の効果を奏する。請求項2の発明は、従来は不
可能であった化粧品残度の客観的な検出を達成すること
ができるという特有の効果を奏する。
た化粧品残度の客観的な検出を達成することができると
いう特有の効果を奏する。請求項2の発明は、従来は不
可能であった化粧品残度の客観的な検出を達成すること
ができるという特有の効果を奏する。
【図1】この発明の肌の化粧品残度検出装置の一実施例
を示す概略図である。
を示す概略図である。
【図2】化粧品残度が著しく小さい状態における吸光度
を示す図である。
を示す図である。
【図3】化粧品残度がある程度ある場合の吸光度を示す
図である。
図である。
【図4】化粧品残度が大きい場合の吸光度を示す図であ
る。
る。
【図5】カオリンの吸光度を示す図である。
【図6】タルクの吸光度を示す図である。
1 赤外光光源 2 顔 3 フィルタ 4 チョッパ 5 検出器 6 吸光度算出部 7 傾き算出部 8 変換部
Claims (2)
- 【請求項1】 肌に赤外光を照射し、反射される赤外光
のうち、素肌による吸光度が高い波長を有する第1光の
吸光度と、化粧品に含まれる物質による吸光度が高い波
長を有する第2光の吸光度とを検出し、両吸光度の割合
に基づいて肌の化粧品残度を検出することを特徴とする
肌の化粧品残度検出方法。 - 【請求項2】 肌(2)に赤外光を照射する赤外光光源
(1)と、反射される赤外光のうち、素肌(2)による
吸光度が高い波長を有する第1光の吸光度と、化粧品に
含まれる物質による吸光度が高い波長を有する第2光の
吸光度とを検出する吸光度検出手段(3)(4)(5)
(6)と、両吸光度の割合を算出し、算出結果に基づい
て肌の化粧品残度を検出する化粧品残度検出手段(7)
(8)とを有することを特徴とする肌の化粧品残度検出
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3570595A JPH08233733A (ja) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | 肌の化粧品残度検出方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3570595A JPH08233733A (ja) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | 肌の化粧品残度検出方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08233733A true JPH08233733A (ja) | 1996-09-13 |
Family
ID=12449290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3570595A Pending JPH08233733A (ja) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | 肌の化粧品残度検出方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08233733A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1475637A1 (de) * | 2003-05-09 | 2004-11-10 | Institut Dr. Schrader Creachem GmbH | Verfahren zur Prüfung der Hautverträglichkeit von Substanzen |
| KR100836491B1 (ko) * | 2002-12-17 | 2008-06-09 | (주)아모레퍼시픽 | 생체광자의 측정을 통한 기능성 화장품의 제조방법 및효능검증방법 및 그 방법에 의해 제조되거나 검증된화장품 조성물 |
| JP2008224286A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Shiseido Co Ltd | 化粧態様の測定方法 |
| KR20160097760A (ko) | 2015-02-10 | 2016-08-18 | (주)아모레퍼시픽 | 메이크업 화장품의 도포 균일성 평가방법 |
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