JPH0823627B2 - 色消しレンズ系 - Google Patents
色消しレンズ系Info
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- JPH0823627B2 JPH0823627B2 JP1234474A JP23447489A JPH0823627B2 JP H0823627 B2 JPH0823627 B2 JP H0823627B2 JP 1234474 A JP1234474 A JP 1234474A JP 23447489 A JP23447489 A JP 23447489A JP H0823627 B2 JPH0823627 B2 JP H0823627B2
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- JP
- Japan
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- lens
- plano
- lens system
- line
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、複数の波長に対して色収差の補正がなさ
れた色消しレンズ系、特にIC等の半導体装置の製造工程
のひとつであるフォトマスクのパターンを基板上に投影
焼付けする工程における使用に適した投影用のレンズ系
に関する。
れた色消しレンズ系、特にIC等の半導体装置の製造工程
のひとつであるフォトマスクのパターンを基板上に投影
焼付けする工程における使用に適した投影用のレンズ系
に関する。
（従来の技術） 半導体装置の製造工程のひとつにフォトマスクのパタ
ーン焼付け工程がある。このフォトマスクのパターン焼
付け工程とは、半導体基板上にフォトレジストを塗布
し、所定のマスクパターンを有するフォトマスクを介し
て半導体基板上に光を照射して、フォトレジストを露光
（以下「焼付け」という）するものである。通常、１つ
の半導体装置を製造するにあたっては、種類の異なるフ
ォトマスクを用意するとともに、そのフォトマスク毎に
フォトマスクのパターン焼付け工程を行う必要がある。
したがって、すでにパターン焼付け工程により半導体基
板上に形成されたパターンと、次のパターン焼付け工程
において半導体基板上に形成しようとするパターン（す
なわちマスクパターン）とが一定の位置関係をもつよう
に、その両者の位置関係を調整する必要がある。そこ
で、従来においては、顕微鏡を使用してその調整（以下
「アライメント」という）を目視観察により行ってい
る。
ーン焼付け工程がある。このフォトマスクのパターン焼
付け工程とは、半導体基板上にフォトレジストを塗布
し、所定のマスクパターンを有するフォトマスクを介し
て半導体基板上に光を照射して、フォトレジストを露光
（以下「焼付け」という）するものである。通常、１つ
の半導体装置を製造するにあたっては、種類の異なるフ
ォトマスクを用意するとともに、そのフォトマスク毎に
フォトマスクのパターン焼付け工程を行う必要がある。
したがって、すでにパターン焼付け工程により半導体基
板上に形成されたパターンと、次のパターン焼付け工程
において半導体基板上に形成しようとするパターン（す
なわちマスクパターン）とが一定の位置関係をもつよう
に、その両者の位置関係を調整する必要がある。そこ
で、従来においては、顕微鏡を使用してその調整（以下
「アライメント」という）を目視観察により行ってい
る。
（発明が解決しようとする課題） フォトレジストは、一般に短波長光に対して感度がよ
く、長波長光に対しては感度がない。したがって、アラ
イメント時には長波長光（例えばｅ線）が使用される一
方、焼付け時には短波長光（例えばｇ線等）が使用され
ている。
く、長波長光に対しては感度がない。したがって、アラ
イメント時には長波長光（例えばｅ線）が使用される一
方、焼付け時には短波長光（例えばｇ線等）が使用され
ている。
このように、フォトマスクのパターン焼付け工程で
は、長波長光を用いてアライメントを行った後、短波長
光を用いて焼付けが行われているため、レンズ系として
長波長光と短波長光について色収差補正されたものを使
用することが望ましい。仮に、レンズ系が長波長光と短
波長光について色収差補正されていない場合には、アラ
イメント時と焼付け時とでマスクパターンの結像位置が
光軸方向にずれるために、アライメントと焼付けとの切
換えのたびにフォトマスクあるいは基板を動かしてピン
トを合わせ直すという面倒が生じる。また、位置合わせ
を行った後にフォトマスクあるいは基板を移動させる過
程で、フォトマスクなどがずれてせっかくの位置合わせ
が無駄になることもある。
は、長波長光を用いてアライメントを行った後、短波長
光を用いて焼付けが行われているため、レンズ系として
長波長光と短波長光について色収差補正されたものを使
用することが望ましい。仮に、レンズ系が長波長光と短
波長光について色収差補正されていない場合には、アラ
イメント時と焼付け時とでマスクパターンの結像位置が
光軸方向にずれるために、アライメントと焼付けとの切
換えのたびにフォトマスクあるいは基板を動かしてピン
トを合わせ直すという面倒が生じる。また、位置合わせ
を行った後にフォトマスクあるいは基板を移動させる過
程で、フォトマスクなどがずれてせっかくの位置合わせ
が無駄になることもある。
一方、露光時間を短縮して作業能率を高める点では、
焼付け時に使用する波長の種類を増やすことが好まし
い。すなわち、例えばｇ線のみで焼付けを行うよりも、
g,h線で焼付けを行う方がより効率的である。この場
合、例えばg,h線等の２種類の短波長光により焼付けを
行うには、レンズ系を少なくともg,h線に対して色収差
補正する必要が生じる。
焼付け時に使用する波長の種類を増やすことが好まし
い。すなわち、例えばｇ線のみで焼付けを行うよりも、
g,h線で焼付けを行う方がより効率的である。この場
合、例えばg,h線等の２種類の短波長光により焼付けを
行うには、レンズ系を少なくともg,h線に対して色収差
補正する必要が生じる。
その結果、アライメント時におけるピント合わせ作業
をなくし、かつ、焼付け時における作業時間の短縮を図
るためには、アライメント時に使用される長波長光およ
び焼付け時に使用される２種類の短波長光に対して色消
しされたレンズ系を設計することが必要となるが、１つ
のレンズ系においてこのような３つ以上の波長について
の色消しは困難であった。
をなくし、かつ、焼付け時における作業時間の短縮を図
るためには、アライメント時に使用される長波長光およ
び焼付け時に使用される２種類の短波長光に対して色消
しされたレンズ系を設計することが必要となるが、１つ
のレンズ系においてこのような３つ以上の波長について
の色消しは困難であった。
（発明の目的） この発明は上記課題を解決するためになされたもの
で、３つの波長に対して色消しされた色消しレンズ系を
提供することである。
で、３つの波長に対して色消しされた色消しレンズ系を
提供することである。
（目的を達成するための手段） この発明は、レンズ群と、一定の厚みを有する平行平
面形状の光学素子とで構成され、複数の波長に対して色
収差の補正がなされた色消しレンズ系に関するもであ
る。
面形状の光学素子とで構成され、複数の波長に対して色
収差の補正がなされた色消しレンズ系に関するもであ
る。
この発明によれば、上記目的を達成するため、前記光学
素子として平面ガラスと平面ガラスとを交換使用するこ
とができるように構成するとともに、前記光学素子に前
記平面ガラスを用いることにより、前記レンズ群と前記
平面ガラスとからなる全系で第１および第２の波長に対
して色収差を補正する一方、前記光学素子に前記平面レ
ンズを用いることにより、前記レンズ群と前記平面レン
ズとからなる全系で第１および第３の波長に対して色収
差を補正している。なお、上記平面レンズは互いに等し
い曲率を有する平凹，平凸レンズの曲面を接着させるこ
とにより形成される。また、前記平凹，平凸レンズの硝
材として、前記平面ガラスと第１波長についての屈折率
がほぼ等しいが分散値が相互に異なるものをそれぞれ採
用している。
素子として平面ガラスと平面ガラスとを交換使用するこ
とができるように構成するとともに、前記光学素子に前
記平面ガラスを用いることにより、前記レンズ群と前記
平面ガラスとからなる全系で第１および第２の波長に対
して色収差を補正する一方、前記光学素子に前記平面レ
ンズを用いることにより、前記レンズ群と前記平面レン
ズとからなる全系で第１および第３の波長に対して色収
差を補正している。なお、上記平面レンズは互いに等し
い曲率を有する平凹，平凸レンズの曲面を接着させるこ
とにより形成される。また、前記平凹，平凸レンズの硝
材として、前記平面ガラスと第１波長についての屈折率
がほぼ等しいが分散値が相互に異なるものをそれぞれ採
用している。
（作用） この発明にかかる色消しレンズ系では、光学素子とし
て平面ガラスを使用した場合に第１および第２波長につ
いて色収差が補正され、平面ガラスの代わりに平面レン
ズを交換使用した場合に第１および第３波長について色
収差が補正されるので、光学素子の交換使用により３つ
の波長について色消しされる。
て平面ガラスを使用した場合に第１および第２波長につ
いて色収差が補正され、平面ガラスの代わりに平面レン
ズを交換使用した場合に第１および第３波長について色
収差が補正されるので、光学素子の交換使用により３つ
の波長について色消しされる。
（実施例） A.発明の原理 第1A図および第1B図はこの発明の原理を説明するため
の説明図であり、第1A図はアライメント時のレンズ構成
を示す一方、第1B図は焼付け時のレンズ構成を示してい
る。両図からわかるように、両レンズ構成において物体
側（紙面の左手側）に設けられた前側レンズ群LFと像側
（紙面の右手側）に設けられた後側レンズ群LRはアライ
メント時あるいは焼付け時を問わず同一構成である。こ
れに対して、前側レンズ群LFと後側レンズ群LRとの間に
設けられた一定厚みｄの光学素子については、アライメ
ント時と焼付け時とではその構成が異なり、アライメン
ト時あるいは焼付け時に応じて、その光学素子が交換使
用されるように構成されている。
の説明図であり、第1A図はアライメント時のレンズ構成
を示す一方、第1B図は焼付け時のレンズ構成を示してい
る。両図からわかるように、両レンズ構成において物体
側（紙面の左手側）に設けられた前側レンズ群LFと像側
（紙面の右手側）に設けられた後側レンズ群LRはアライ
メント時あるいは焼付け時を問わず同一構成である。こ
れに対して、前側レンズ群LFと後側レンズ群LRとの間に
設けられた一定厚みｄの光学素子については、アライメ
ント時と焼付け時とではその構成が異なり、アライメン
ト時あるいは焼付け時に応じて、その光学素子が交換使
用されるように構成されている。
すなわち、焼付け時には、第1B図に示すようにその光
学素子は厚みｄの平面ガラス１′により構成され、前側
レンズ群LFと、平面ガラス１′と、後側レンズ群LRとで
構成される色消しレンズ系（全系）で第１および第２波
長、例えばg,h線について色消しが行われている（第2B
図）。なお、これら２波長に対する収差補正は通常の補
正手段により容易に行うことができる。
学素子は厚みｄの平面ガラス１′により構成され、前側
レンズ群LFと、平面ガラス１′と、後側レンズ群LRとで
構成される色消しレンズ系（全系）で第１および第２波
長、例えばg,h線について色消しが行われている（第2B
図）。なお、これら２波長に対する収差補正は通常の補
正手段により容易に行うことができる。
一方、アライメント時には、第1A図に示すようにその
光学素子は、平面レンズ１により構成されている。こき
平面レンズ１は第１波長について上記平面ガラス１′と
ほぼ同一の屈折率を有するが互いに分散値が異なる２種
類の硝材によりなる平凹，平凸レンズ1a,1bによって構
成され、それらの平凹，平凸レンズ1a,1bの曲面同士を
接着させることにより形成されている。そして、前側レ
ンズ群LFと、平面レンズ１と、後側レンズ群LRとで構成
される色消しレンズ系（全系）で第１および第３波長、
例えばg,e線について色消しが行われている（第2A
図）。
光学素子は、平面レンズ１により構成されている。こき
平面レンズ１は第１波長について上記平面ガラス１′と
ほぼ同一の屈折率を有するが互いに分散値が異なる２種
類の硝材によりなる平凹，平凸レンズ1a,1bによって構
成され、それらの平凹，平凸レンズ1a,1bの曲面同士を
接着させることにより形成されている。そして、前側レ
ンズ群LFと、平面レンズ１と、後側レンズ群LRとで構成
される色消しレンズ系（全系）で第１および第３波長、
例えばg,e線について色消しが行われている（第2A
図）。
ここで注目すべきことは、第１波長（ｇ線）について
平凹，平凸レンズ1a,1bの屈折率と平面ガラス１′の屈
折率とがほぼ等しく、第１波長（ｇ線）に関しては、第
1A図および第1B図に示す両レンズ構成とも光学的には等
価であるということである。このため、アライメント時
のレンズ系（第1A図）により得られる第１波長（ｇ線）
についての像面位置と、焼付け時のレンズ系（第1B図）
により得られるそれとは、ほぼ一致する。また、アライ
メント時のレンズ系（第1A図）では、第2A図に示すよう
に、第１および第３波長（g,e線）について色消しが行
われ、これに対して焼付け時のレンズ系（第1B図）で
は、第2B図に示すように、第１および第２波長（g,h
線）について色消しが行われている。したがって、アラ
イメント時における第３波長（ｅ線）についての像面位
置は、第１波長（ｇ線）についてのそれとほぼ一致する
のみならず、焼付け時における第２波長（ｈ線）につい
てのそれとともほぼ一致する。
平凹，平凸レンズ1a,1bの屈折率と平面ガラス１′の屈
折率とがほぼ等しく、第１波長（ｇ線）に関しては、第
1A図および第1B図に示す両レンズ構成とも光学的には等
価であるということである。このため、アライメント時
のレンズ系（第1A図）により得られる第１波長（ｇ線）
についての像面位置と、焼付け時のレンズ系（第1B図）
により得られるそれとは、ほぼ一致する。また、アライ
メント時のレンズ系（第1A図）では、第2A図に示すよう
に、第１および第３波長（g,e線）について色消しが行
われ、これに対して焼付け時のレンズ系（第1B図）で
は、第2B図に示すように、第１および第２波長（g,h
線）について色消しが行われている。したがって、アラ
イメント時における第３波長（ｅ線）についての像面位
置は、第１波長（ｇ線）についてのそれとほぼ一致する
のみならず、焼付け時における第２波長（ｈ線）につい
てのそれとともほぼ一致する。
また、上記のように構成されたレンズ系では、光学素
子１（あるいは１′）を光軸方向に移動させると、像面
位置は変化しないが、像寸法がそれにともなって変化す
る。これは、光学素子1,1′を通過する光の位置が変化
するためである。したがって、光学素子１（あるいは
１′）の設置位置を適当に調整することにより、アライ
メント時における第３波長（ｅ線）についての像寸法
と、焼付け時における第１および第２波長（g,h線）に
ついてのそれとを一致させることができる。
子１（あるいは１′）を光軸方向に移動させると、像面
位置は変化しないが、像寸法がそれにともなって変化す
る。これは、光学素子1,1′を通過する光の位置が変化
するためである。したがって、光学素子１（あるいは
１′）の設置位置を適当に調整することにより、アライ
メント時における第３波長（ｅ線）についての像寸法
と、焼付け時における第１および第２波長（g,h線）に
ついてのそれとを一致させることができる。
したがって、上記のようにレンズ系の設計を行うとと
もに、アライメント時あるいは焼付け時に応じて、光学
素子1,1′を交換使用することにより、アライメント時
におけるｅ線の像と、焼付け時におけるg,h線の像とが
ほぼ一致して、アライメントと焼付けとの切換えのたび
にフォトマスクや基板を動かす必要がなくなり、作業効
率が向上するとともに、フォトマスク等の移動にともな
う位置ずれを防止することができる。
もに、アライメント時あるいは焼付け時に応じて、光学
素子1,1′を交換使用することにより、アライメント時
におけるｅ線の像と、焼付け時におけるg,h線の像とが
ほぼ一致して、アライメントと焼付けとの切換えのたび
にフォトマスクや基板を動かす必要がなくなり、作業効
率が向上するとともに、フォトマスク等の移動にともな
う位置ずれを防止することができる。
B.第１実施例 第3A図および第3B図はこの発明にかかる色消しレンズ
系の第１実施例を示す図であり、第3A図はアライメント
時のレンズ構成を示す一方、第3B図は焼付け時のレンズ
構成を示している。アライメント時のレンズ系は、第3A
図に示すように、物体側（同図の左手側）から順次配置
された前側レンズ群LF，平面レンズ１および後側レンズ
群LRにより構成されている。また、前側レンズ群LFは物
体側よりある間隔（後で詳説する）をもって順次配置さ
れた第１ないし第３レンズL1〜L3により構成されてい
る。また、平面レンズ１は同一曲率を有する平凹，平凸
レンズ1a,1bで構成されており、両曲面を接着させるこ
とにより平行平面形状に仕上げられている。さらに、後
側レンズ群LRは物体側よりある間隔（後で詳説する）を
もって順次配置された第４ないし第６レンズL4〜L6によ
り構成されている。第1A表は上記のように構成されたア
ライメント時のレンズ系のレンズデータを示すものであ
る。
系の第１実施例を示す図であり、第3A図はアライメント
時のレンズ構成を示す一方、第3B図は焼付け時のレンズ
構成を示している。アライメント時のレンズ系は、第3A
図に示すように、物体側（同図の左手側）から順次配置
された前側レンズ群LF，平面レンズ１および後側レンズ
群LRにより構成されている。また、前側レンズ群LFは物
体側よりある間隔（後で詳説する）をもって順次配置さ
れた第１ないし第３レンズL1〜L3により構成されてい
る。また、平面レンズ１は同一曲率を有する平凹，平凸
レンズ1a,1bで構成されており、両曲面を接着させるこ
とにより平行平面形状に仕上げられている。さらに、後
側レンズ群LRは物体側よりある間隔（後で詳説する）を
もって順次配置された第４ないし第６レンズL4〜L6によ
り構成されている。第1A表は上記のように構成されたア
ライメント時のレンズ系のレンズデータを示すものであ
る。
同表においてri（ｉ＝1,2,…,15）はレンズ面Siの曲率
半径を示すものであり、例えばr1は第１レンズL1の凸面
S1の曲率半径であり、r2は第１レンズL1の像面側を向い
た面S2の曲率半径である。ただし、r8は平凹，平凸レン
ズ1a,1bの接着面の曲率半径である。また、d1,d3,d5,
d7,d8,d10,d12,d14は第1,第2,第3,平凹，平凸，第4,第
５および第６レンズL1,L2,L3,1a,1b,L4,L5,L6の厚みを
それぞれ示し、d2,d4は第１ないし第３レンズL1〜L3の
隣り合うレンズ間の面間隔をそれぞれ示し、d6は第３レ
ンズL3と平面レンズ１との面間隔を示し、d9は第４レン
ズL4と平面レンズ１との面間隔をそれぞれ示し、d11,d
13は第４ないし第６レンズL4〜L6の隣り合うレンズ間の
面間隔をそれぞれ示している。また、n1〜n6はｄ線（58
7.56nm）についての第１ないし第６レンズL1〜L6の屈折
率をそれぞれ示し、n1a,n1bは平凹，平凸レンズ1a,1bの
屈折率をそれぞれ示している。さらに、υ1〜υ6は第１
ないし第６レンズL1〜L6の分散値をそれぞれ示し、
υ1a，υ1bは平凹，平凸レンズ1a,1bの分散値をそれぞ
れ示している。なお、同表への記載を省略したが、参考
のためにｇ線（435.83nm）についての平凹，平凸レンズ
1a,1bの屈折率nga,ngbを以下に示す。
半径を示すものであり、例えばr1は第１レンズL1の凸面
S1の曲率半径であり、r2は第１レンズL1の像面側を向い
た面S2の曲率半径である。ただし、r8は平凹，平凸レン
ズ1a,1bの接着面の曲率半径である。また、d1,d3,d5,
d7,d8,d10,d12,d14は第1,第2,第3,平凹，平凸，第4,第
５および第６レンズL1,L2,L3,1a,1b,L4,L5,L6の厚みを
それぞれ示し、d2,d4は第１ないし第３レンズL1〜L3の
隣り合うレンズ間の面間隔をそれぞれ示し、d6は第３レ
ンズL3と平面レンズ１との面間隔を示し、d9は第４レン
ズL4と平面レンズ１との面間隔をそれぞれ示し、d11,d
13は第４ないし第６レンズL4〜L6の隣り合うレンズ間の
面間隔をそれぞれ示している。また、n1〜n6はｄ線（58
7.56nm）についての第１ないし第６レンズL1〜L6の屈折
率をそれぞれ示し、n1a,n1bは平凹，平凸レンズ1a,1bの
屈折率をそれぞれ示している。さらに、υ1〜υ6は第１
ないし第６レンズL1〜L6の分散値をそれぞれ示し、
υ1a，υ1bは平凹，平凸レンズ1a,1bの分散値をそれぞ
れ示している。なお、同表への記載を省略したが、参考
のためにｇ線（435.83nm）についての平凹，平凸レンズ
1a,1bの屈折率nga,ngbを以下に示す。
nga＝1.72941,ngb＝1.72939 また、上記レンズデータを有する色消しレンズ系の焦
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝22.2° Ｆ＝４ ,M＝0.5 にそれぞれ設定されている。
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝22.2° Ｆ＝４ ,M＝0.5 にそれぞれ設定されている。
一方、焼付け時のレンズ系は、第3B図に示すように、
平面レンズ１の代わりに平面ガラス１′が設けられてい
る点を除けば、アライメント時のレンズ系と同一構成で
ある。第1B表は焼付け時のレンズ系のレンズデータを示
すものである。
平面レンズ１の代わりに平面ガラス１′が設けられてい
る点を除けば、アライメント時のレンズ系と同一構成で
ある。第1B表は焼付け時のレンズ系のレンズデータを示
すものである。
同表において、d7,n,υは平面ガラス１′の厚み,d線に
対する屈折率および分散値をそれぞれ示しており、その
他の記号は第1A表と同一である。なお、同表への記載を
省略したが、参考のためにｇ線（435.83nm）についての
平面ガラス１′の屈折率ngを以下に示す。
対する屈折率および分散値をそれぞれ示しており、その
他の記号は第1A表と同一である。なお、同表への記載を
省略したが、参考のためにｇ線（435.83nm）についての
平面ガラス１′の屈折率ngを以下に示す。
ng＝1.72939 また、上記レンズデータを有する色消しレンズ系の焦
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝22.2° Ｆ＝４ ,M＝0.5 にそれぞれ設定されている。
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝22.2° Ｆ＝４ ,M＝0.5 にそれぞれ設定されている。
第4A図，第4B図はそれぞれアライメント時および焼付
け時のレンズ系の球面収差を示す図であり、第5A図，第
5B図はそれぞれアライメント時および焼付け時のレンズ
系の非点収差を示す図であり、また第6A図，第6B図はア
ライメント時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差をそ
れぞれ示す図である。なお、第4A図および第4B図におい
て符号e,g,hはそれぞれｅ線（546.07nm）,g線（435.83n
m）,h線（404.66nm）についての球面収差を示してい
る。また、第5A図および第5B図において符号Ｓ（実線）
はｇ線についての球欠的像面（サジタル像面）の非点収
差を示し、符号Ｍ（点線）はその子午的像面（メリジオ
ナル像面）の非点収差を示している。なお、後で述べる
実施例においては上記と同一符号を付し、その説明を省
略する。
け時のレンズ系の球面収差を示す図であり、第5A図，第
5B図はそれぞれアライメント時および焼付け時のレンズ
系の非点収差を示す図であり、また第6A図，第6B図はア
ライメント時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差をそ
れぞれ示す図である。なお、第4A図および第4B図におい
て符号e,g,hはそれぞれｅ線（546.07nm）,g線（435.83n
m）,h線（404.66nm）についての球面収差を示してい
る。また、第5A図および第5B図において符号Ｓ（実線）
はｇ線についての球欠的像面（サジタル像面）の非点収
差を示し、符号Ｍ（点線）はその子午的像面（メリジオ
ナル像面）の非点収差を示している。なお、後で述べる
実施例においては上記と同一符号を付し、その説明を省
略する。
なお上記実施例では、第1A表および第1B表からわかる
ように、平面ガラス１′と平凸レンズ1bとが同一の硝材
（以下「硝材Ａ」という）により形成される一方、平凹
レンズ1aがｇ線について上記硝材Ａとほぼ同一の屈折率
をもつが分散値が異なる硝材（以下「硝材Ｂ」という）
により形成されているが、これら硝材の組み合わせは上
記に限定されない。例えば、平面ガラス１′と平凹レン
ズ1aとを硝材Ａにより形成する一方、平凸レンズ1bを硝
材Ｂにより形成してもよい。また、硝材A,Bの組み合わ
せとしては、第２表に示すものがある。
ように、平面ガラス１′と平凸レンズ1bとが同一の硝材
（以下「硝材Ａ」という）により形成される一方、平凹
レンズ1aがｇ線について上記硝材Ａとほぼ同一の屈折率
をもつが分散値が異なる硝材（以下「硝材Ｂ」という）
により形成されているが、これら硝材の組み合わせは上
記に限定されない。例えば、平面ガラス１′と平凹レン
ズ1aとを硝材Ａにより形成する一方、平凸レンズ1bを硝
材Ｂにより形成してもよい。また、硝材A,Bの組み合わ
せとしては、第２表に示すものがある。
C.第２実施例 上記第１実施例では、ｇ線を第１波長としたが、ｈ線
を第１波長として、色消しレンズを構成してもよい。以
下に、第２実施例について説明する。
を第１波長として、色消しレンズを構成してもよい。以
下に、第２実施例について説明する。
第7A図および第7B図はこの発明にかかる色消しレンズ
系の第２実施例を示す図であり、第7A図はアライメント
時のレンズ構成を示す一方、第7B図は焼付け時のレンズ
構成を示している。なお、両レンズ構成とも第１実施例
のそれらと同一であるため、ここではその説明を省略す
る。
系の第２実施例を示す図であり、第7A図はアライメント
時のレンズ構成を示す一方、第7B図は焼付け時のレンズ
構成を示している。なお、両レンズ構成とも第１実施例
のそれらと同一であるため、ここではその説明を省略す
る。
第3A表はアライメント時のレンズ系のレンズデータを
示すものである。
示すものである。
なお、同表への記載を省略したが、参考のためにｈ線
（404.66nm）についての平凹，平凸レンズ1a,1bの屈折
率nha，nhbを以下に示す。
（404.66nm）についての平凹，平凸レンズ1a,1bの屈折
率nha，nhbを以下に示す。
nha＝1.62872,nhb＝1.62863 また、上記レンズデータを有する色消しレンズ系の焦
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝22.2° Ｆ＝４ ， Ｍ＝0.5 にそれぞれ設定されている。
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝22.2° Ｆ＝４ ， Ｍ＝0.5 にそれぞれ設定されている。
一方、焼付け時のレンズ系は、第3B表に示すレンズデ
ータを有している。
ータを有している。
なお、同表への記載を省略したが、参考のためにｈ線
（404.66nm）についての平面ガラス１′の屈折率nhを以
下に示す。
（404.66nm）についての平面ガラス１′の屈折率nhを以
下に示す。
nh＝1.62863 また、上記レンズデータを有する色消しンズ系の焦点
距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝22.2° Ｆ＝４ ， Ｍ＝0.5 にそれぞれ設定されている。
距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝22.2° Ｆ＝４ ， Ｍ＝0.5 にそれぞれ設定されている。
第8A図，第8B図はそれぞれアライメント時および焼付
け時のレンズ系の球面収差を示す図であり、第9A図，第
9B図はそれぞれアライメント時および焼付け時のレンズ
系の非点収差をそれぞれ示す図であり、また第10A図，
第10B図はアライメント時および焼付け時きレンズ系の
歪曲収差を示す図である。
け時のレンズ系の球面収差を示す図であり、第9A図，第
9B図はそれぞれアライメント時および焼付け時のレンズ
系の非点収差をそれぞれ示す図であり、また第10A図，
第10B図はアライメント時および焼付け時きレンズ系の
歪曲収差を示す図である。
また、第9A図および第9B図において符号Ｓ（実線）は
ｈ線についての球欠的像面（サジタル像面）の非点収差
を示し、符号Ｍ（点線）はその子午的像面（メリジオナ
ル像面）の非点収差を示している。
ｈ線についての球欠的像面（サジタル像面）の非点収差
を示し、符号Ｍ（点線）はその子午的像面（メリジオナ
ル像面）の非点収差を示している。
なお第２実施例においても、第１実施例と同様に、平
面ガラス１′と平凸レンズ1bとが同一の硝材により形成
される一方、平凹レンズ1aが上記硝材とほぼ同一の屈折
率をもつが分散値が異なる硝材により形成されている
が、これら硝材の組み合わせは上記に限定されない。例
えば硝材の組み合わせとしては、第４表に示すものがあ
る。
面ガラス１′と平凸レンズ1bとが同一の硝材により形成
される一方、平凹レンズ1aが上記硝材とほぼ同一の屈折
率をもつが分散値が異なる硝材により形成されている
が、これら硝材の組み合わせは上記に限定されない。例
えば硝材の組み合わせとしては、第４表に示すものがあ
る。
D.第１および第２実施例の効果 以上のように上記第１および第２実施例では、アライ
メント時における第３波長（ｅ線）についての像と、焼
付け時における第１および第２波長（g,h線）について
のそれとが一致するので、アライメント時には平面レン
ズ１を第3A図または第7A図に示すように所定位置にセッ
トし、ｅ線によりアライメント操作を実行した後、平面
レンズ１の代わりに平面ガラス１′を第3B図または第7B
図に示すようにセットし、フォトマスクや基板を移動さ
せることなくそのままの状態で焼付け操作を実行するこ
とができる。そのため、作業効率が向上する。また、従
来のレンズ系を用いた場合に発生していたフォトマスク
等の移動にともなう位置ずれを防止することもできる。
メント時における第３波長（ｅ線）についての像と、焼
付け時における第１および第２波長（g,h線）について
のそれとが一致するので、アライメント時には平面レン
ズ１を第3A図または第7A図に示すように所定位置にセッ
トし、ｅ線によりアライメント操作を実行した後、平面
レンズ１の代わりに平面ガラス１′を第3B図または第7B
図に示すようにセットし、フォトマスクや基板を移動さ
せることなくそのままの状態で焼付け操作を実行するこ
とができる。そのため、作業効率が向上する。また、従
来のレンズ系を用いた場合に発生していたフォトマスク
等の移動にともなう位置ずれを防止することもできる。
なお、上記実施例のように一定厚みｄを有する平行平
面形状の光学素子1,1′をアライメント時あるいは焼付
け時に応じて交換使用する代わりに、適当なレンズ、例
えば凹レンズを２枚用意し、上記と同様にそれらのレン
ズを交換使用することにより本発明の目的を達成するこ
とも考えられる。すなわち、アライメント時には第11A
図に示すように平面レンズ１の代わりに、凹レンズ10を
使用して第１および第３波長について色収差を補正する
一方、焼付け時には第11B図に示すように平面ガラス
１′の代わりに凹レンズ10′を使用して第１および第２
波長について色収差を補正することが考えられる。
面形状の光学素子1,1′をアライメント時あるいは焼付
け時に応じて交換使用する代わりに、適当なレンズ、例
えば凹レンズを２枚用意し、上記と同様にそれらのレン
ズを交換使用することにより本発明の目的を達成するこ
とも考えられる。すなわち、アライメント時には第11A
図に示すように平面レンズ１の代わりに、凹レンズ10を
使用して第１および第３波長について色収差を補正する
一方、焼付け時には第11B図に示すように平面ガラス
１′の代わりに凹レンズ10′を使用して第１および第２
波長について色収差を補正することが考えられる。
しかしながら上記の場合には、交換使用するレンズ1
0,10′を精度良く位置決めする必要がある。なぜなら
ば、第11A図および第11B図に示すような構成では、その
レンズ10,10′に入射する光の方向とそのレンズから出
射する光の方向とが大きく異なり、レンズ10,10′の位
置が像寸法に大きく影響が及ぶからである。これに対し
て、上記第１および第２実施例では、光学素子は平行平
面形状であるため、例えば第3A図，第3B図に示すよう
に、入射方向と出射方向とがほぼ同一方向となり、この
光学素子1,1′の位置が光軸方向に多少ずれたとして
も、像寸法に及ぼす影響は少ない。特に、アライメント
時においては平面ガラス１′が使用されているため、入
射方向と出射方向とが同一であり、言い換えれば入射角
θ1（第3B図）と出射角θ2（第3B図）とが同一であるた
め、像寸法に対する影響はない。したがって、光学素子
1,1′の位置決めにおいては、上記凹レンズ10、10′を
使用する場合程精度は要求されない。
0,10′を精度良く位置決めする必要がある。なぜなら
ば、第11A図および第11B図に示すような構成では、その
レンズ10,10′に入射する光の方向とそのレンズから出
射する光の方向とが大きく異なり、レンズ10,10′の位
置が像寸法に大きく影響が及ぶからである。これに対し
て、上記第１および第２実施例では、光学素子は平行平
面形状であるため、例えば第3A図，第3B図に示すよう
に、入射方向と出射方向とがほぼ同一方向となり、この
光学素子1,1′の位置が光軸方向に多少ずれたとして
も、像寸法に及ぼす影響は少ない。特に、アライメント
時においては平面ガラス１′が使用されているため、入
射方向と出射方向とが同一であり、言い換えれば入射角
θ1（第3B図）と出射角θ2（第3B図）とが同一であるた
め、像寸法に対する影響はない。したがって、光学素子
1,1′の位置決めにおいては、上記凹レンズ10、10′を
使用する場合程精度は要求されない。
E.第３および第４実施例 上記においては、フォトエッチング工程のアライメン
ト時に使用される長波長光および焼付け時に使用される
２波長の短波長光に対して色消し可能なレンズ系につい
て説明したが、以下に説明するように硝材を適当に組み
合わせることにより、任意の３つの波長について色収差
補正を行うことができる。
ト時に使用される長波長光および焼付け時に使用される
２波長の短波長光に対して色消し可能なレンズ系につい
て説明したが、以下に説明するように硝材を適当に組み
合わせることにより、任意の３つの波長について色収差
補正を行うことができる。
以下において、具体的に実施例を示しながら詳細に説
明する。
明する。
Ｅ−1.第３実施例 第12A図および第12B図はこの発明にかかる色消しレン
ズ系の第３実施例を示す図であり、第12A図は第１のレ
ンズ構成を示す一方、第12B図は第２のレンズ構成を示
している。第１のレンズ系は、第12A図に示すように、
物体側（同図の左手側）から順次配置された前側レンズ
群LF，平面レンズ１および後側レンズ群LRにより構成さ
れている。また、前側レンズ群LFは物体側よりある間隔
（後で詳説する）をもって順次配置された第１ないし第
３レンズL31〜L33により構成されている。また、平面レ
ンズ１は同一曲率を有する平凹，平凸レンズ1a,1bで構
成されており、両曲面を接着させることにより平行平面
形状に仕上げられている。さらに、後側レンズ群LRは物
体側よりある間隔（後で詳説する）をもって順次配置さ
れた第４ないし第７レンズL34〜L37により構成されてい
る。第5A表は上記のように構成された第１のレンズ系の
レンズデータを示すものである。
ズ系の第３実施例を示す図であり、第12A図は第１のレ
ンズ構成を示す一方、第12B図は第２のレンズ構成を示
している。第１のレンズ系は、第12A図に示すように、
物体側（同図の左手側）から順次配置された前側レンズ
群LF，平面レンズ１および後側レンズ群LRにより構成さ
れている。また、前側レンズ群LFは物体側よりある間隔
（後で詳説する）をもって順次配置された第１ないし第
３レンズL31〜L33により構成されている。また、平面レ
ンズ１は同一曲率を有する平凹，平凸レンズ1a,1bで構
成されており、両曲面を接着させることにより平行平面
形状に仕上げられている。さらに、後側レンズ群LRは物
体側よりある間隔（後で詳説する）をもって順次配置さ
れた第４ないし第７レンズL34〜L37により構成されてい
る。第5A表は上記のように構成された第１のレンズ系の
レンズデータを示すものである。
同表においてrj（ｊ＝1,2,…,6,8,…,18）はレンズ面Sj
の曲率半径を示すものである。ただし、r9は平凹，平凸
レンズ1a,1bの接着面S9の曲率半径である。また、d1,
d3,d5,d8,d9,d11,d13,d15,d17は第1,第2,第3,平凸，平
凹，第４ないし第７レンズL31,L32,L33,1b,1a,L34,L35,
L36,L37の厚みをそれぞれ示し、d2,d4は第１ないし第３
レンズL31〜L33の隣り合うレンズ間の面間隔をそれぞれ
示し、d6は第３レンズL33と絞り（図示省略）との間の
間隔を示し、d7は絞りと平面レンズ１との間の間隔を示
し、d12,d14,d16は平面レンズ1,第４ないし第７レンズL
34〜L37の隣り合うレンズ間の面間隔をそれぞれ示して
いる。また、n1〜n7はｄ線（587.56nm）についての第１
ないし第７レンズL31〜L37の屈折率をそれぞれ示し、n
1a,n1bはｄ線についての平凹，平凸レンズ1a,1bの屈折
率をそれぞれ示している。さらに、υ1〜υ7は第１ない
し第７レンズL31〜L37の分散値をそれぞれ示し、υ1a，
υ1bは平凹，平凸レンズ1a,1bの分散値をそれぞれ示し
ている。なお、同表への記載を省略したが、参考のため
にｅ線（546.07nm）についての平凹，平凸レンズ1a,1b
の屈折率nea′nebを以下に示す。
の曲率半径を示すものである。ただし、r9は平凹，平凸
レンズ1a,1bの接着面S9の曲率半径である。また、d1,
d3,d5,d8,d9,d11,d13,d15,d17は第1,第2,第3,平凸，平
凹，第４ないし第７レンズL31,L32,L33,1b,1a,L34,L35,
L36,L37の厚みをそれぞれ示し、d2,d4は第１ないし第３
レンズL31〜L33の隣り合うレンズ間の面間隔をそれぞれ
示し、d6は第３レンズL33と絞り（図示省略）との間の
間隔を示し、d7は絞りと平面レンズ１との間の間隔を示
し、d12,d14,d16は平面レンズ1,第４ないし第７レンズL
34〜L37の隣り合うレンズ間の面間隔をそれぞれ示して
いる。また、n1〜n7はｄ線（587.56nm）についての第１
ないし第７レンズL31〜L37の屈折率をそれぞれ示し、n
1a,n1bはｄ線についての平凹，平凸レンズ1a,1bの屈折
率をそれぞれ示している。さらに、υ1〜υ7は第１ない
し第７レンズL31〜L37の分散値をそれぞれ示し、υ1a，
υ1bは平凹，平凸レンズ1a,1bの分散値をそれぞれ示し
ている。なお、同表への記載を省略したが、参考のため
にｅ線（546.07nm）についての平凹，平凸レンズ1a,1b
の屈折率nea′nebを以下に示す。
nea＝1.79191,neb＝1.79196 また、上記レンズデータを有する色消しレンズ系の焦
点距離f,全画角２θ，物像間距離IOD,倍率Ｍは ｆ＝30.494 ， ２θ＝18.2° IOD＝100.00 ， Ｍ＝0.5 にそれぞれ設定されている。
点距離f,全画角２θ，物像間距離IOD,倍率Ｍは ｆ＝30.494 ， ２θ＝18.2° IOD＝100.00 ， Ｍ＝0.5 にそれぞれ設定されている。
一方、第２のレンズ系は、第12B図に示すように、平
面レンズ１の代わりに平面ガラス１′が設けられている
点を除けば、第１のレンズ系と同一構成である。第5B表
は焼付け時のレンズ系のレンズデータを示すものであ
る。
面レンズ１の代わりに平面ガラス１′が設けられている
点を除けば、第１のレンズ系と同一構成である。第5B表
は焼付け時のレンズ系のレンズデータを示すものであ
る。
同表において、d8,n,υは平面ガラス１′の厚み,d線に
対する屈折率および分散値をそれぞれ示しており、その
他の記号は第5A表と同一である。なお、同表への記載を
省略したが、参考のためにｅ線（546.07nm）についての
平面ガラス１′の屈折率neを以下に示す。
対する屈折率および分散値をそれぞれ示しており、その
他の記号は第5A表と同一である。なお、同表への記載を
省略したが、参考のためにｅ線（546.07nm）についての
平面ガラス１′の屈折率neを以下に示す。
ne＝1.79196 また、上記レンズデータを有する色消しレンズ系の焦
点距離f,全画角２θ，物像間距離IOD,倍率Ｍは ｆ＝30.494 ， ２θ＝18.2° IOD＝100.00 ， Ｍ＝0.5 にそれぞれ設定されている。
点距離f,全画角２θ，物像間距離IOD,倍率Ｍは ｆ＝30.494 ， ２θ＝18.2° IOD＝100.00 ， Ｍ＝0.5 にそれぞれ設定されている。
第13A図，第13B図はそれぞれ第１および第２のレンズ
系の球面収差を示す図であり、第14A図，第14B図はそれ
ぞれ第１および第２のレンズ系の非点収差を示す図であ
り、また第15A図，第15B図はそれぞれ第１および第２の
レンズ系の歪曲収差を示す図である。なお、第14A図お
よび第14B図において符号Ｓ（実線）はｅ線についての
球欠的像面（サジタル像面）の非点収差を示し、符号Ｍ
（点線）はその子午的像面（メリジオナル像面）の非点
収差を示している。
系の球面収差を示す図であり、第14A図，第14B図はそれ
ぞれ第１および第２のレンズ系の非点収差を示す図であ
り、また第15A図，第15B図はそれぞれ第１および第２の
レンズ系の歪曲収差を示す図である。なお、第14A図お
よび第14B図において符号Ｓ（実線）はｅ線についての
球欠的像面（サジタル像面）の非点収差を示し、符号Ｍ
（点線）はその子午的像面（メリジオナル像面）の非点
収差を示している。
上記第13A図および第13B図からわかるように、第１のレ
ンズ系ではe,h線について色消しが行われ、第２のレン
ズ系ではe,g線について色消しが行われている。したが
って、上記実施例と同様に、光学素子1,1′を交換使用
することにより、３波長（e,g,h線）について色消しを
行うことができる。
ンズ系ではe,h線について色消しが行われ、第２のレン
ズ系ではe,g線について色消しが行われている。したが
って、上記実施例と同様に、光学素子1,1′を交換使用
することにより、３波長（e,g,h線）について色消しを
行うことができる。
また、第12A図および第12B図からわかるように、第３
実施例にかかる色消しレンズ系は像面側でテレセントリ
ック系となっている。すなわち、この発明は、テレセン
トリック系のレンズ系にも適用することができる。
実施例にかかる色消しレンズ系は像面側でテレセントリ
ック系となっている。すなわち、この発明は、テレセン
トリック系のレンズ系にも適用することができる。
なお第３実施例においても、第１および第２実施例と
同様に、平面ガラス１′と平凹レンズ1aとが同一の硝材
により形成される一方、平凸レンズ1bが上記硝材とほぼ
同一の屈折率をもつが分散値が異なる硝材により形成さ
れているが、これら硝材の組み合わせは上記に限定され
ない。
同様に、平面ガラス１′と平凹レンズ1aとが同一の硝材
により形成される一方、平凸レンズ1bが上記硝材とほぼ
同一の屈折率をもつが分散値が異なる硝材により形成さ
れているが、これら硝材の組み合わせは上記に限定され
ない。
また、上記第３実施例では、ｅ線を第１波長とし、３
波長（e,g,h線）について色消しを行う場合について説
明したが、硝材を適当に組み合わせることによって、ｅ
線を第１波長としながら任意の第２および第３波長につ
いて色消しを行うことができる。第６表はその組み合わ
せの一例を示すものである。
波長（e,g,h線）について色消しを行う場合について説
明したが、硝材を適当に組み合わせることによって、ｅ
線を第１波長としながら任意の第２および第３波長につ
いて色消しを行うことができる。第６表はその組み合わ
せの一例を示すものである。
Ｅ−2.第４実施例 第16A図および第16B図はこの発明にかかる色消しレン
ズ系の第４実施例を示す図であり、第16A図は第１のレ
ンズ構成を示す一方、、第16B図は第２のレンズ構成を
示している。第１のレンズ系は、第16A図に示すよう
に、物体側（同図の左手側）から順次配置された前側レ
ンズ群LF，平面レンズ１および後側レンズ群LRにより構
成されている。また、前側レンズ群LFは物体側よりある
間隔（後で詳説する）をもって順次配置された第１ない
し第４レンズL41〜L44により構成されている。また、平
面レンズ１は同一曲率を有する平凹，平凸レンズ1a,1b
で構成されており、両曲面を接着させることにより平行
平面形状に仕上げられている。さらに、後側レンズ群LR
は物体側よりある間隔（後で詳説する）をもって順次配
置された第５ないし第８レンズL45〜L48により構成され
ている。第7A表は上記のように構成された第１のレンズ
系のレンズデータを示すものである。
ズ系の第４実施例を示す図であり、第16A図は第１のレ
ンズ構成を示す一方、、第16B図は第２のレンズ構成を
示している。第１のレンズ系は、第16A図に示すよう
に、物体側（同図の左手側）から順次配置された前側レ
ンズ群LF，平面レンズ１および後側レンズ群LRにより構
成されている。また、前側レンズ群LFは物体側よりある
間隔（後で詳説する）をもって順次配置された第１ない
し第４レンズL41〜L44により構成されている。また、平
面レンズ１は同一曲率を有する平凹，平凸レンズ1a,1b
で構成されており、両曲面を接着させることにより平行
平面形状に仕上げられている。さらに、後側レンズ群LR
は物体側よりある間隔（後で詳説する）をもって順次配
置された第５ないし第８レンズL45〜L48により構成され
ている。第7A表は上記のように構成された第１のレンズ
系のレンズデータを示すものである。
同表においてrk（ｋ＝1,2,…,19）はレンズ面Skの曲率
半径を示すものであり、例えばr1は第１レンズL1の凸面
S1の曲率半径であり、r2は第１レンズL1の像面側を向い
た面S2の曲率半径である。ただし、r10は平凹，平凸レ
ンズ1a,1bの接着面S10の曲率半径である。また、d1,d3,
d5,d7,d9,d10,d12,d14,d16,d18は第1,第2,第3,第4,平
凸，平凹，第5,第6,第７および第８レンズL41,L42,L43,
L44,1b,1a,L45,L46,L47,L48の厚みをそれぞれ示し、d2,
d4,d6は第１ないし第４レンズL41〜L44の隣り合うレン
ズ間の面間隔をそれぞれ示し、d8は第４レンズL44と平
面レンズ１との間隔を示し、d11は第５レンズL45と平面
レンズ１との間隔をそれぞれ示し、d13,d15,d17は第５
ないし第８レンズL45〜L48の隣り合うレンズ間の面間隔
をそれぞれ示している。また、n1〜n8はｄ線（587.56n
m）についての第１ないし第８レンズL41〜L48の屈折率
をそれぞれ示し、n1a,n1bはｄ線についての平凹，平凸
レンズ1a,1bの屈折率をそれぞれ示している。さらに、
υ1〜υ8は第１ないし第８レンズL41〜L48の分散値をそ
れぞれ示し、υ1a，υ1bは平凹，平凸レンズ1a,1bの分
散値をそれぞれ示している。
半径を示すものであり、例えばr1は第１レンズL1の凸面
S1の曲率半径であり、r2は第１レンズL1の像面側を向い
た面S2の曲率半径である。ただし、r10は平凹，平凸レ
ンズ1a,1bの接着面S10の曲率半径である。また、d1,d3,
d5,d7,d9,d10,d12,d14,d16,d18は第1,第2,第3,第4,平
凸，平凹，第5,第6,第７および第８レンズL41,L42,L43,
L44,1b,1a,L45,L46,L47,L48の厚みをそれぞれ示し、d2,
d4,d6は第１ないし第４レンズL41〜L44の隣り合うレン
ズ間の面間隔をそれぞれ示し、d8は第４レンズL44と平
面レンズ１との間隔を示し、d11は第５レンズL45と平面
レンズ１との間隔をそれぞれ示し、d13,d15,d17は第５
ないし第８レンズL45〜L48の隣り合うレンズ間の面間隔
をそれぞれ示している。また、n1〜n8はｄ線（587.56n
m）についての第１ないし第８レンズL41〜L48の屈折率
をそれぞれ示し、n1a,n1bはｄ線についての平凹，平凸
レンズ1a,1bの屈折率をそれぞれ示している。さらに、
υ1〜υ8は第１ないし第８レンズL41〜L48の分散値をそ
れぞれ示し、υ1a，υ1bは平凹，平凸レンズ1a,1bの分
散値をそれぞれ示している。
また、上記レンズデータを有する色消しレンズ系の焦
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝19° Ｆ＝5.6 ， Ｍ＝１ にそれぞれ設定されている。
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝19° Ｆ＝5.6 ， Ｍ＝１ にそれぞれ設定されている。
一方、第２のレンズ系は、第16B図に示すように、平
面レンズ１の代わりに平面ガラス１′が設けられている
点を除けば、第１のレンズ系と同一構成である。第7B表
は第２のレンズ系のレンズデータを示すものである。
面レンズ１の代わりに平面ガラス１′が設けられている
点を除けば、第１のレンズ系と同一構成である。第7B表
は第２のレンズ系のレンズデータを示すものである。
同表において、d9,n,υは平面ガラス１′の厚み,d線に
対する屈折率および分散値をそれぞれ示しており、その
他の記号は第7A表と同一である。
対する屈折率および分散値をそれぞれ示しており、その
他の記号は第7A表と同一である。
また、上記レンズテータを有する色消しレンズ系の焦
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝19° Ｆ＝5.6 ， Ｍ＝１ にそれぞれ設定されている。
点距離f,全画角２θ，開放絞り値F,倍率Ｍは ｆ＝100.00 ， ２θ＝19° Ｆ＝5.6 ， Ｍ＝１ にそれぞれ設定されている。
第17A図，第17B図はそれぞれアライメント時および焼
付け時のレンズ系の球面収差を示す図であり、第18A
図，第18B図はそれぞれアライメント時および焼付け時
のレンズ系の非点収差を示す図であり、また第19A図，
第19B図はそれぞれアライメント時および焼付け時のレ
ンズ系の歪曲収差を示す図である。なお、第17A図およ
び第17B図において符号d,h,iはそれぞれｄ線,h線,i線
（365.01nm）についての球面収差を示している。
付け時のレンズ系の球面収差を示す図であり、第18A
図，第18B図はそれぞれアライメント時および焼付け時
のレンズ系の非点収差を示す図であり、また第19A図，
第19B図はそれぞれアライメント時および焼付け時のレ
ンズ系の歪曲収差を示す図である。なお、第17A図およ
び第17B図において符号d,h,iはそれぞれｄ線,h線,i線
（365.01nm）についての球面収差を示している。
また、第18A図および第18B図において符号Ｓ（実線）
はｄ線についての球欠的像面（サジタル像面）の非点収
差を示し、符号Ｍ（点線）はその子午的像面（メリジオ
ナル像面）の非点収差を示している。
はｄ線についての球欠的像面（サジタル像面）の非点収
差を示し、符号Ｍ（点線）はその子午的像面（メリジオ
ナル像面）の非点収差を示している。
上記第17A図および第17B図からわかるように、第１の
レンズ系ではd,i線について色消しが行われ、第２のレ
ンズ系ではd,h線について色消しが行われている。した
がって、上記実施例と同様に、光学素子1,1′を交換使
用することにより、３波長（d,h,i線）について色消し
を行うことができる。
レンズ系ではd,i線について色消しが行われ、第２のレ
ンズ系ではd,h線について色消しが行われている。した
がって、上記実施例と同様に、光学素子1,1′を交換使
用することにより、３波長（d,h,i線）について色消し
を行うことができる。
なお第４実施例においても、上記実施例と同様に、平
面ガラス１′と平凸レンズ1aとが同一の硝材により形成
される一方、平凹レンズ1bが上記硝材とほぼ同一の屈折
率をもつが分散値が異なる硝材により形成されている
が、これら硝材の組み合わせは上記に限定されない。
面ガラス１′と平凸レンズ1aとが同一の硝材により形成
される一方、平凹レンズ1bが上記硝材とほぼ同一の屈折
率をもつが分散値が異なる硝材により形成されている
が、これら硝材の組み合わせは上記に限定されない。
また、上記第４実施例では、ｄ線を第１波長とし、３
波長（d,h,i線）について色消しを行う場合について説
明したが、硝材を適当に組み合わせることによって、ｄ
線を第１波長としながら任意の第２および第３波長につ
いて色消しを行うことができる。第８表はその組合わせ
の一例を示すものである。
波長（d,h,i線）について色消しを行う場合について説
明したが、硝材を適当に組み合わせることによって、ｄ
線を第１波長としながら任意の第２および第３波長につ
いて色消しを行うことができる。第８表はその組合わせ
の一例を示すものである。
（発明の効果） 以上のようにこの発明によれば、光学素子として、平
面ガラスと、前記平面ガラスと第１波長についての屈折
率がほぼ等しいが分散値が相互に異なる二種類の硝材に
よりそれぞれ形成され、しかも互いに等しい曲率を有す
る平凹，平凸レンズの曲面を接着させて形成した平面レ
ンズとを交換使用するように構成しているので、そのレ
ンズ交換により実質上第１ないし第３波長について色消
しを行うことができる。
面ガラスと、前記平面ガラスと第１波長についての屈折
率がほぼ等しいが分散値が相互に異なる二種類の硝材に
よりそれぞれ形成され、しかも互いに等しい曲率を有す
る平凹，平凸レンズの曲面を接着させて形成した平面レ
ンズとを交換使用するように構成しているので、そのレ
ンズ交換により実質上第１ないし第３波長について色消
しを行うことができる。
第1A図および第1B図はそれぞれこの発明の原理を説明す
るための説明図、 第2A図および第2B図はそれぞれ第1A図および第1B図の球
面収差図、 第3A図および第3B図はそれぞれこの発明にかかる色消し
レンズ系の第１実施例を示す図、 第4A図および第4B図はそれぞれ第１実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の球面収差図、 第5A図および第5B図はそれぞれ第１実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の非点収差図、 第6A図および第6B図はそれぞれ第１実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差図、 第7A図および第7B図はそれぞれこの発明にかかる色消し
レンズ系の第２実施例を示す図、 第8A図および第8B図はそれぞれ第２実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の球面収差図、 第9A図および第9B図はそれぞれ第２実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の非点収差図、 第10A図および第10B図はそれぞれ第２実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差図、 第11A図および第11B図はそれぞれこの発明の実施例に対
する比較例を示す図、 第12A図および第12B図はそれぞれこの発明にかかる色消
しレンズ系の第３実施例を示す図、 第13A図および第13B図はそれぞれ第３実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の球面収差図、 第14A図および第14B図はそれぞれ第３実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の非点収差図、 第15A図および第15B図はそれぞれ第３実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差図、 第16A図および第16B図はそれぞれこの発明にかかる色消
しレンズ系の第４実施例を示す図、 第17A図および第17B図はそれぞれ第４実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の球面収差図、 第18A図および第18B図はそれぞれ第４実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の非点収差図、 第19A図および第19B図はそれぞれ第４実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差図である。 １……平面レンズ、１′……平面ガラス、1a……平凹レ
ンズ、1b……平凸レンズ
るための説明図、 第2A図および第2B図はそれぞれ第1A図および第1B図の球
面収差図、 第3A図および第3B図はそれぞれこの発明にかかる色消し
レンズ系の第１実施例を示す図、 第4A図および第4B図はそれぞれ第１実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の球面収差図、 第5A図および第5B図はそれぞれ第１実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の非点収差図、 第6A図および第6B図はそれぞれ第１実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差図、 第7A図および第7B図はそれぞれこの発明にかかる色消し
レンズ系の第２実施例を示す図、 第8A図および第8B図はそれぞれ第２実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の球面収差図、 第9A図および第9B図はそれぞれ第２実施例のアライメン
ト時および焼付け時のレンズ系の非点収差図、 第10A図および第10B図はそれぞれ第２実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差図、 第11A図および第11B図はそれぞれこの発明の実施例に対
する比較例を示す図、 第12A図および第12B図はそれぞれこの発明にかかる色消
しレンズ系の第３実施例を示す図、 第13A図および第13B図はそれぞれ第３実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の球面収差図、 第14A図および第14B図はそれぞれ第３実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の非点収差図、 第15A図および第15B図はそれぞれ第３実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差図、 第16A図および第16B図はそれぞれこの発明にかかる色消
しレンズ系の第４実施例を示す図、 第17A図および第17B図はそれぞれ第４実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の球面収差図、 第18A図および第18B図はそれぞれ第４実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の非点収差図、 第19A図および第19B図はそれぞれ第４実施例のアライメ
ント時および焼付け時のレンズ系の歪曲収差図である。 １……平面レンズ、１′……平面ガラス、1a……平凹レ
ンズ、1b……平凸レンズ
Claims (1)
- 【請求項１】レンズ群と、一定の厚みを有する平行平面
形状の光学素子とで構成され、複数の波長に対して色収
差の補正がなされた色消しレンズ系であって、 前記光学素子として、平面ガラスと、前記平面ガラスと
第１波長についての屈折率がほぼ等しいが分散値が相互
に異なる二種類の硝材により形成され、しかも互いに等
しい曲率を有する平凹，平凸レンズの曲面を接着させて
形成した平面レンズとを交換使用するものとし、 前記光学素子に前記平面ガラスを用いることにより、前
記レンズ群と前記平面ガラスとからなる全系で第１およ
び第２の波長に対して色収差を補正する一方、前記光学
素子に前記平面レンズを用いることにより、前記レンズ
群と前記平面レンズとからなる全系で第１および第３の
波長に対して色収差を補正することを特徴とする色消し
レンズ系。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1234474A JPH0823627B2 (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | 色消しレンズ系 |
| DE69014029T DE69014029T2 (de) | 1989-09-08 | 1990-09-07 | Apochromatisches Linsensystem. |
| EP90117300A EP0416651B1 (en) | 1989-09-08 | 1990-09-07 | Apochromatic lens system |
| US07/579,328 US5103342A (en) | 1989-09-08 | 1990-09-07 | Apochromatic lens system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1234474A JPH0823627B2 (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | 色消しレンズ系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0396912A JPH0396912A (ja) | 1991-04-22 |
| JPH0823627B2 true JPH0823627B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=16971582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1234474A Expired - Lifetime JPH0823627B2 (ja) | 1989-09-08 | 1989-09-08 | 色消しレンズ系 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5103342A (ja) |
| EP (1) | EP0416651B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0823627B2 (ja) |
| DE (1) | DE69014029T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109975950A (zh) * | 2017-12-27 | 2019-07-05 | 宁波舜宇车载光学技术有限公司 | 光学镜头 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5272236A (en) * | 1991-10-15 | 1993-12-21 | The Dow Chemical Company | Elastic substantially linear olefin polymers |
| US5172275A (en) * | 1990-12-14 | 1992-12-15 | Eastman Kodak Company | Apochromatic relay lens systems suitable for use in a high definition telecine apparatus |
| US5274503A (en) * | 1991-08-23 | 1993-12-28 | Eastman Kodak Company | High aperture finite conjugate lens system suitable for use as a micro relay lens |
| US5525695A (en) * | 1991-10-15 | 1996-06-11 | The Dow Chemical Company | Elastic linear interpolymers |
| US5257136A (en) * | 1991-12-23 | 1993-10-26 | International Business Machines Corporation | Reverse telephoto agron objective lens |
| US5568325A (en) * | 1993-08-25 | 1996-10-22 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Achromatic lens system |
| US5991099A (en) * | 1998-02-23 | 1999-11-23 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Adjustable chromatic correction lens |
| DE10040998A1 (de) * | 2000-08-22 | 2002-03-14 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage |
| US8867140B2 (en) | 2011-08-22 | 2014-10-21 | Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. | Low distortion athermalized imaging lens |
| EP3021152A4 (en) * | 2013-07-12 | 2017-02-15 | Nittoh Kogaku K.K. | Method for manufacturing optical system, optical system, and projector |
| CN104991423B (zh) * | 2013-09-16 | 2017-04-12 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 用于印刷电路板光刻领域ldi光刻设备的光刻方法 |
| DE102017207582A1 (de) | 2017-05-05 | 2018-11-08 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren |
| CN112099199B (zh) * | 2020-11-02 | 2021-02-02 | 瑞泰光学(常州)有限公司 | 摄像光学镜头 |
| CN113946028B (zh) * | 2021-12-20 | 2022-05-24 | 江西联创电子有限公司 | 投影镜头及投影装置 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3035488A (en) * | 1956-11-29 | 1962-05-22 | Twentieth Cent Fox Film Corp | Apparatus for compensating for residual chromatic aberration |
| US3495895A (en) * | 1966-09-01 | 1970-02-17 | Rodenstock Optik G | Apochromatic,symmetrical,wide-angle objective lens system |
| US3540795A (en) * | 1969-01-15 | 1970-11-17 | Ibm | Achromatic compensation apparatus using polarization rotation and birefringent elements |
| USRE29856E (en) * | 1971-11-24 | 1978-12-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection lens for mask pattern printing |
| JPS50145225A (ja) * | 1974-05-13 | 1975-11-21 | ||
| JPS5168242A (ja) * | 1974-12-10 | 1976-06-12 | Olympus Optical Co | |
| GB1582844A (en) * | 1976-11-06 | 1981-01-14 | Elliott Brothers London Ltd | Optical systems |
| LU79603A1 (fr) * | 1978-05-05 | 1979-12-06 | Angenieux P Ets | Dispositif pour le reglage de la valeur des aberrations de chromatismo d'un systeme optique et procede comportant l'application d'un tel dispositif pour le reglage de cameras de television en couleur en utilisant un diascope |
| JPS5826261B2 (ja) * | 1978-07-11 | 1983-06-01 | 新日本製鐵株式会社 | 電気機器巻線の緩み検出方法 |
| JPS63186206A (ja) * | 1987-01-29 | 1988-08-01 | Ricoh Co Ltd | 複写機用レンズ |
| EP0288970B1 (en) * | 1987-04-27 | 1993-08-11 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Optical system for flyingspot scanning system |
-
1989
- 1989-09-08 JP JP1234474A patent/JPH0823627B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-09-07 DE DE69014029T patent/DE69014029T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-07 US US07/579,328 patent/US5103342A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-07 EP EP90117300A patent/EP0416651B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109975950A (zh) * | 2017-12-27 | 2019-07-05 | 宁波舜宇车载光学技术有限公司 | 光学镜头 |
| CN109975950B (zh) * | 2017-12-27 | 2021-06-04 | 宁波舜宇车载光学技术有限公司 | 光学镜头 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0416651A3 (en) | 1992-02-26 |
| US5103342A (en) | 1992-04-07 |
| DE69014029T2 (de) | 1995-03-23 |
| EP0416651B1 (en) | 1994-11-09 |
| JPH0396912A (ja) | 1991-04-22 |
| DE69014029D1 (de) | 1994-12-15 |
| EP0416651A2 (en) | 1991-03-13 |
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