JPH08243749A - ガスシールドアーク溶接法 - Google Patents

ガスシールドアーク溶接法

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JPH08243749A
JPH08243749A JP5082395A JP5082395A JPH08243749A JP H08243749 A JPH08243749 A JP H08243749A JP 5082395 A JP5082395 A JP 5082395A JP 5082395 A JP5082395 A JP 5082395A JP H08243749 A JPH08243749 A JP H08243749A
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仁志 松井
Tetsuo Suga
哲男 菅
Masaharu Sato
正晴 佐藤
Toshihiko Nakano
利彦 中野
Susumu Imaoka
進 今岡
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 ワイヤの送給性劣化及び溶接欠陥の発生を防
止しつつ、溶落ちを防止し、健全な溶接部を得ることが
できるガスシールドアーク溶接法。 【構成】 厚さ1.2mm〜1.6mmの薄鋼板を対象
とする。直径が公称1.2mmで、C,Si,Mn,
S,Oを特定し、残部が鉄及び不可避的不純物からな
り、不可避的不純物においてTi,Alを規制し、更に
Si+Mn,Si×(Si+Mn)を規制した溶接ワイ
ヤを用い、Arに3〜7体積%のO2を混合したシール
ドガス中でワイヤ送給速度を4〜7m/minとし、溶
接電流の出力電流を、ピーク電流値が380〜460
A、ピーク期間が0.8〜2.5msのパルス波形とし
て、スプレーアークにてパルスマグ溶接する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車製造工程等の薄
鋼板の溶接に好適であって、溶接電流及び溶接速度の低
減並びにワイヤの細径化等を行うことなく、いわゆる鋼
板の「溶落ち」を防止して健全な溶接部を得ることがで
きるガスシールドアーク溶接法に関する。
【0002】
【従来の技術】薄鋼板のガスシールドアーク溶接におけ
る溶落ち防止策としては、従来、主として、通常の直
径1.2mmのワイヤを用いて低電流・低速度で溶接す
るか、又は細径(直径0.6〜1.0mm等)ワイヤ
を用いて低電流で溶接する等、溶接条件面からの対応が
一般的であり、シールドガスとしては通常のCO2又は
Ar−20%CO2を用いている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術において、直径が1.2mmのワイヤを用い
る場合は、溶接速度が低下するため溶接作業の能率が低
下するという難点がある。また、細径(直径0.6〜
1.0mm等)のワイヤを用いる場合は、直径1.2m
mのワイヤに比してワイヤ狙い位置の許容範囲が狭くな
ると共に、ワイヤの送給性が劣化するため、溶接欠陥が
発生し易くなるという欠点がある。また、細径ワイヤ専
用のコンタクトチップ及びコンジットライナー等を使用
する必要があり、部品管理が必要となる等の点で、大き
な課題がある。
【0004】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、溶接電流及び溶接速度の低下、並びにワイ
ヤの細径化を行うことなく、即ち、ワイヤの送給性劣化
及び溶接欠陥の発生を防止しつつ、また、格別の部品管
理を要することなく、溶落ちを防止し、健全な溶接部を
得ることができるガスシールドアーク溶接法を提供する
ことを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明に係るガスシール
ドアーク溶接法は、厚さ1.2mm〜1.6mmの薄鋼
板を対象とするガスシールドアーク溶接法において、直
径が公称1.2mmであって、C:0.03〜0.10
重量%、Si:0.5〜1.2重量%、Mn:0.7〜
1.3重量%、S:0.005〜0.03重量%、O:
0.001〜0.015重量%、残部が鉄及び不可避的
不純物からなり、この不可避的不純物においてTi:
0.01重量%以下、Al:0.01重量%以下に規制
し、更にSi+Mn:1.3〜2.3重量%、Si×
(Si+Mn):0.75〜2.45に規制した化学組
成を有する溶接用ワイヤを使用し、Arに3〜7体積%
のO2を混合したシールドガス中でワイヤ送給速度を4
〜7m/minとし、溶接電源の出力電流を、ピーク電
流値が380〜460A、ピーク期間が0.8〜2.5
msのパルス波形として、スプレーアークにてパルスマ
グ溶接することを特徴とする。
【0006】
【作用】本発明においては、ワイヤ組成とシールドガス
組成の組み合わせを最適化することにより、従来の溶接
方法と比較して溶込みを小さくすると共に溶融池の広が
りを拡大する。これにより、従来方法では鋼板の溶落ち
又は開先面への溶融池の架橋不良等が発生する継ぎ手に
対しても、溶接電流及び溶接速度の低減並びにワイヤの
細径化を行うことなく溶接することが可能となる。ま
た、溶接電源の出力電流波形を特許請求の範囲に規定す
るように調整し、スプレーアークにて溶接することによ
り、溶滴移行が1溶滴/1パルスとなるパルス波形とす
ることができ、溶融池の安定性が向上して溶落ち及び架
橋不良等を更に一層抑制することができる。
【0007】従って、溶接(アーク発生)時間の短縮及
び溶接欠陥に対する手直し工数の低減などの効果によ
り、溶接全体の能率が向上すると共に、継ぎ手品質も改
善される。
【0008】以下、本発明におけるワイヤ組成及び溶接
条件の限定理由について説明する。ワイヤの直径:公称1.2mm ワイヤ直径が公称1.2mm未満では、直径が適正範囲
より小さいためにアーク及び溶融池が小さくなり、ワイ
ヤ狙い位置の許容範囲が減少する。また、ワイヤ断面積
の減少によってワイヤの剛性が低下し、湾曲した送給系
ではワイヤの曲がり及び座屈の発生頻度が増大する。そ
のため、ワイヤの狙いずれ及び送給不良によって溶落ち
及び架橋不良等が発生し易くなる。
【0009】ワイヤ直径が公称1.2mmを超えると、
ワイヤ断面積の増加によって電流密度が低下し、溶滴移
行及び溶融池が不安定となるため、開先面への溶融池の
架橋不良等が発生し易くなる。一方、溶滴移行及び溶融
池が安定するように溶接電流を増加させると、溶込みが
深くなり、溶落ちが発生し易くなる。また、断面積の増
加によって剛性が増大し、送給抵抗が増加する。このた
め、湾曲した送給系ではワイヤの送給不良により、溶落
ち及び架橋不良等の発生頻度が増大する。
【0010】図1は横軸にワイヤの直径をとり、縦軸に
ルート間隔をとって、ワイヤ径と溶接可能なルート間隔
との関係を示すグラフ図である。ワイヤ径が1.2mm
の場合に、最大のルート間隔が得られることがわかる。
【0011】従って、アーク及び溶融池の広がりが比較
的大きく、溶滴移行及び溶融池が安定し、且つワイヤの
狙いずれ及び送給不良が発生し難いという観点から、適
用ワイヤの直径は公称1.2mmとする。シールドガス組成:Arに3〜7体積%O2を加えた混
合ガス Ar−O2系の雰囲気はAr−CO2系に比して著しく酸
化性が強く、極少量のO2を添加することによって溶融
金属の酸素量は増加する。そのため、溶融金属の表面張
力及び粘度の低下が顕著となり、開先面への溶融池の架
橋が容易になる。また、溶融金属の表面張力及び粘度に
及ぼすO2の影響はCO2に比して大きいため、Ar−O
2系では、Ar−CO2系に比してシールドガス中のAr
量を増加できる。Arの電位傾度はO2及びCO2に比し
て小さいため、ワイヤ送給速度とアーク長を一定にした
溶接では、Ar含有量が増加するにつれてアーク電圧は
低下し、溶込み深さが小さくなる。
【0012】従って、開先面への溶融池の架橋性及び溶
込み深さの観点より、シールドガスはAr−O2系とす
る。このAr−O2系のシールドガスにおいて、O2含有
量が3体積%未満の場合は、溶融金属の表面張力及び粘
度の減少量が小さいため、開先面への溶融池の架橋性が
不十分となり、ビード外観及び形状不良等が発生し易く
なる。
【0013】一方、Ar−O2シールドガス系でO2含有
量が7体積%を超えると、溶融金属の表面張力及び粘度
の減少量が過剰となり、開先の隙間(即ち、ルートギャ
ップ)に溶融金属が入り込む等してビード外観・形状が
劣化し易くなる。また、Ar含有量の減少により、ワイ
ヤ送給速度とアーク長を一定にした溶接ではアーク電圧
が増大し、溶込み深さが大きくなる。このため、溶落ち
が発生し易くなる。
【0014】図2は横軸にO2ガスの添加率をとり、縦
軸にルート間隔をとってO2添加率と溶接可能なルート
間隔との関係を示すグラフ図である。O2添加率が3〜
7%O2の場合に、最大のルート間隔が得られる。
【0015】従って、開先面への溶融池の架橋性及び溶
込み深さの点より、シールドガス組成はArに3〜7体
積%のO2を添加した混合ガスとする。ワイヤ送給速度:4〜7m/min 前記ワイヤ系とシールドガス組成の組み合わせにおい
て、ワイヤ送給速度が4m/min未満の場合は溶接電
源の出力電流波形(パルス波形)を所定のものに調整し
てもスプレーアークとすることは困難であり、ショート
アークによるスパッタの発生が増加する。
【0016】スプレーアークとは、溶滴径がワイヤ径
よりも小さく、溶滴が溶融池に短絡することなく移行
することが特徴である。これを達成するために必要な力
としては、電磁ピンチ力が重要である。この力はワイヤ
送給速度の増加、即ち溶接電流の増加に伴って増大す
る。
【0017】本発明においては、ワイヤ送給速度が4m
/min未満になると、溶接電流が小さいため、スプレ
ーアークを達成するのに十分な電磁ピンチ力が得られな
い。これにより、溶滴は溶融池と短絡して移行し、いわ
ゆるショートアークとなる。
【0018】ショートアークでは、溶滴が溶融池に短絡
してアークが消失し、溶融池への移行が終了する際にア
ークが再発生する。このとき、特に本発明のようなパル
スマグ溶接では、ピーク電流である400A程度の高い
電流によって強いアーク力が発生するため、溶滴又は溶
融池内の溶融金属が吹き飛ばされて大粒のスパッタが多
量に発生する。
【0019】このショートアークではアーク及び溶融池
の広がりがスプレーアークよりも小さいため、開先へ溶
融池を架橋させるには溶接速度を低下させる必要があ
り、好ましくない。
【0020】ワイヤ送給速度が7m/minを超える
と、スプレーアークは容易に得られるが、溶接電流が増
加するため、溶込み深さ等が増大して溶落ちが発生し易
くなる。
【0021】従って、スパッタ発生量、溶接速度及び溶
込み深さの点より、ワイヤ送給速度は4〜7m/min
とする。図3に示すように、ワイヤ送給速度が4〜7m
/minの場合にスパッタが少なく、溶接可能なルート
間隔が大きいことがわかる。溶接電源の出力電流:ピーク電流が380〜460A、
ピーク期間が0.8〜2.5msのパルス波形 前記ワイヤ径、シールドガス組成及びワイヤ送給速度の
組み合わせにおいて、ピーク電流が380A未満の場合
には、ピーク期間等のパルス条件を調整しても溶滴移行
を1溶滴/1パルスとすることは困難であり、溶滴移行
が乱れるためにスパッタ発生量が増加する。
【0022】ピーク電流が460Aを超えると、ピーク
期間等のパルス条件を調整しても、溶接入熱量の増加に
よって溶込み深さが増大し、溶落ちが発生し易くなる。
【0023】ピーク電流が380〜460Aの範囲で溶
滴移行を1溶滴/パルスとするには、ピーク期間を0.
8〜2.5msの範囲に設定する必要がある。その範囲
外では1溶滴/1パルスが得られないため、溶滴移行が
乱れてスパッタ発生量が増加する。
【0024】図4は横軸にピーク期間をとり、縦軸にピ
ーク電流をとって、これらのパルス波形と溶落ちスパッ
タとの関係を示すグラフ図である。この図4に示すよう
に、本発明の範囲を外れると、溶落ちが発生し、又はス
パッタが多発して溶滴移行が不安定になる。
【0025】従って、溶接電源の出力電流は、ピーク電
流が380〜460A、ピーク期間が0.8〜2.5m
sのパルス波形とする。溶接用ワイヤの化学組成 C:0.03〜0.10重量% Cは溶滴の細粒化作用を有しており、スパッタ発生量の
低減を目的として添加する。C含有量が0.03重量%
未満では、溶滴の細粒化が不十分であるため、スパッタ
の発生量及び大きさの低減に関して良好な効果が得られ
ない。一方、C含有量が0.10重量%を超えると小粒
のスパッタの発生量が増加する。また、薄板の高速溶接
では溶接金属の強度及び硬さが母材に対して過大とな
る。そして、Cは高温割れ誘起元素であるため、割れが
発生する危険性が増大する。従って、Cの添加量は0.
03〜0.10重量%とする。Si:0.5〜1.2重量% Siは通常の脱酸作用に加えてワイヤの電気抵抗率を高
める作用を有しており、同一ワイヤ送給速度では、添加
量の増加に伴って溶接電流を低減することが可能であ
る。これにより、溶込み深さが減少して溶落ちの発生が
抑制される。このため、Siは溶融池の粘度及び表面張
力の適正化、溶込み深さの低減及び脱酸不足による気孔
の発生防止を目的として添加する。
【0026】Si添加量が0.5重量%未満では溶接電
流の減少量が小さく、溶込み深さの低減は顕著ではな
い。このため、溶落ちの発生防止に十分な効果が得られ
ない。また、脱酸作用が小さいため、溶融池の粘度及び
表面張力が過度に減少してルートギャップに溶融金属が
入り込み、ビード外観及び形状が劣化する。更に、脱酸
不足による気孔も発生し易くなる。
【0027】一方、Si含有量が1.2重量%を超える
と、脱酸作用によって溶融池の粘度及び表面張力の増加
が過剰となり、開先面への溶融池の架橋性が低下するた
め、ビード外観及び形状が劣化する。また、薄板の高速
溶接では溶接金属の強度及び硬さが母材に対して過大と
なる。従って、Siの添加量は0.5〜1.2重量%と
する。Mn:0.7〜1.3重量% Mnは溶融池の粘度及び表面張力の適正化と脱酸不足に
よる気孔の発生防止を目的として添加する。Mn含有量
が0.7重量%未満では脱酸作用が小さいため、Siと
同様に溶融池の粘度及び表面張力が過度に減少してルー
トギャップに溶融金属が入り込み、ビード外観及び形状
が劣化する。また、脱酸不足による気孔も発生し易くな
る。一方、Mn含有量が1.3重量%を超えると脱酸作
用によって溶融池の粘度及び表面張力の増加が過剰とな
り、開先面への溶融池の架橋性が低下するため、ビード
外観及び形状が劣化する。また、薄板の高速溶接では溶
接金属の強度及び硬さが母材に対して過大となる。従っ
て、Mnの添加量は0.7〜1.3重量%とする。S:0.005〜0.03重量% Sはそれ単体で溶融金属の表面張力を低下させる作用が
あるため、添加量の増加によって溶融池の表面張力が減
少し、開先面への架橋性が向上する。また、溶滴の細粒
化によってスパッタ発生量が減少する。これらの効果を
目的としてSを添加する。
【0028】S添加量が0.005重量%未満では溶融
池の表面張力を低減する効果が小さいため、開先面への
架橋性の向上は顕著でない。また、溶滴の細粒化効果が
小さく、スパッタ発生量の低減も十分でない。一方、S
添加量が0.03重量%を超えると溶融池の表面張力の
減少が過剰となり、ルートギャップに溶融金属が入り込
むためビード外観及び形状が劣化する。また、溶滴の表
面張力も過度に減少してワイヤからの離脱が不安定とな
るため、スパッタ発生量が増加する。更に、Sは高温割
れ誘起元素であるため、割れが発生する危険性が増大す
る。従って、Sの添加量は0.005〜0.03重量%
とする。O:0.001〜0.015重量% Oはワイヤ中にSi及びMn等の酸化物として、また、
ワイヤ表面には塗布油の成分として含まれており、溶滴
及び溶融池の粘度及び表面張力等に影響を及ぼす。その
ため、架橋不良及びスパッタ発生量の増加等を防止する
観点より、それらの物性を適正化するために、O添加量
を所定範囲に規定する。
【0029】O含有量が0.001重量%未満では溶滴
の表面張力が過度に増加するため、溶滴径が増大して大
粒のスパッタが発生する。一方、O含有量が0.015
重量%を超えると、溶滴及び溶融池の粘度並びに表面張
力の減少が過剰となるため、溶滴移行が不安定となって
スパッタ発生量が増加したり、ビード外観及び形状が劣
化する。従って、Oの含有量は0.001〜0.015
重量%とする。不可避的不純物中のTi、Al:0.01重量%以下 Ti及びAlは強脱酸元素であるため、Ti及びAl含
有量が夫々0.01重量%を超えると溶融池の酸素量が
減少して粘度及び表面張力が増加する。これによって、
開先面への溶融池の架橋性が低下し、ビード外観及び形
状が劣化する。また、溶滴の表面張力も増加して溶滴が
大きくなるため、大粒スパッタの発生量が増加する。従
って、Ti及びAlの含有量は夫々0.01重量%以下
とする。Si+Mn:1.3〜2.3重量% Si及びMnの添加量が前述範囲内であっても、それら
の合計量によっては、開先面への架橋不良並びにビード
外観及び形状不良が発生する場合がある。
【0030】即ち、Si+Mnの総量が1.3重量%未
満では脱酸作用が小さいため、溶融池の粘度及び表面張
力が過度に減少してルートギャップに溶融金属が入り込
み、ビード外観及び形状が劣化する。一方、Si+Mn
の総量が2.3重量%を超えると、溶融池の粘度及び表
面張力の増加が過剰となり、開先面への溶融池の架橋不
良が発生し易くなる。従って、Si及びMnの添加量の
総和は1.3〜2.3重量%とする。Si×(Si+Mn):0.75〜2.45 Si添加量及びSiとMnの添加量の総和が前記範囲内
であっても、それらの積によっては溶落ち、架橋不良又
はビード外観及び形状不良が発生する場合がある。
【0031】Si×(Si+Mn)が0.75未満では
Si量が比較的少ないため、ワイヤ電気抵抗率の増加に
よる溶接電流の低減作用が小さく、溶込み深さは減少し
難い。また、Mn量も少ないため、溶融池の粘度及び表
面張力の減少量が大きい。これらより、溶落ち又はビー
ド外観及び形状不良の発生頻度が増大する。
【0032】Si×(Si+Mn)が2.45を超える
と、Siの増加によってワイヤ電気抵抗率が増加するた
め、溶接電流は低下する。これによって、溶込み深さが
小さくなり、溶落ちは発生し難くなる。しかし、Si及
びMn共に添加量が増加するため、脱酸作用によって溶
融池の粘度及び表面張力が過大となり、開先面への架橋
不良が発生し易くなる。従って、Si×(Si+Mn)
は0.75〜2.45とする。
【0033】図5は、横軸にワイヤ中のSi量をとり、
縦軸にMn量をとって、溶接作業性が良好な組成範囲を
示すグラフ図である。この図5に示すように、Si及び
Mnが前述の、、、の条件を満たす場合に、良
好な作業性が得られる。
【0034】
【実施例】以下、本発明の実施例について本発明の特許
請求の範囲から外れる比較例と比較して説明する。
【0035】下記表1に示す組成及び形状の鋼板を下記
表2に示す溶接条件にて溶接した。供試ワイヤの組成は
下記表3に示す。そして、鋼板の溶落ち及びスパッタ発
生量等を実験した結果を下記表4に示す。なお、前記溶
接条件としては、ワイヤ径、シールドガス組成、ワイヤ
送給速度、溶接機の出力電流波形を変化させ、ワイヤ組
成等と共に、その特性を調査した。
【0036】
【表1】
【0037】
【表2】
【0038】
【表3】
【0039】
【表4】 この表4に示すように、本発明の特許請求の範囲にて規
定した条件を満足する場合に、アーク形態がスプレーで
あり、溶接速度が100cm/minと速くても良好な
溶接結果が得られた。しかし、前記条件から外れる比較
例の場合は、スパッタが多発するか、ビード形状が不良
となり、また架橋不良が発生した。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
1.2〜1.6mm厚の薄鋼板の溶接において、溶接能
率を低下させることなく、スパッタを防止し、溶落ちを
防止することができ、ビード外観及び形状が良好であ
り、架橋不良を防止できるガスシールドアーク溶接方法
を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】横軸にワイヤの直径をとり、縦軸にルート間隔
をとって、ワイヤ径と溶接可能なルート間隔との関係を
示すグラフ図である。
【図2】横軸にO2ガスの添加率をとり、縦軸にルート
間隔をとってO2添加率と溶接可能なルート間隔との関
係を示すグラフ図である。
【図3】横軸にワイヤ送給速度をとり、縦軸にルート間
隔をとって、ワイヤ送給速度と溶接可能なルート間隔と
の関係を示すグラフ図である。
【図4】横軸にピーク期間をとり、縦軸にピーク電流を
とって、これらのパルス波形と溶落ち、スパッタとの関
係を示すグラフ図である。
【図5】横軸にワイヤ中のSi量をとり、縦軸にMn量
をとって、溶接作業性が良好な組成範囲を示すグラフ図
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C22C 38/00 301 C22C 38/00 301Y 38/14 38/14 (72)発明者 佐藤 正晴 神奈川県藤沢市宮前字裏河内100番1 株 式会社神戸製鋼所藤沢事業所内 (72)発明者 中野 利彦 神奈川県藤沢市宮前字裏河内100番1 株 式会社神戸製鋼所藤沢事業所内 (72)発明者 今岡 進 神奈川県藤沢市宮前字裏河内100番1 株 式会社神戸製鋼所藤沢事業所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 厚さ1.2mm〜1.6mmの薄鋼板を
    対象とするガスシールドアーク溶接法において、直径が
    公称1.2mmであって、C:0.03〜0.10重量
    %、Si:0.5〜1.2重量%、Mn:0.7〜1.
    3重量%、S:0.005〜0.03重量%、O:0.
    001〜0.015重量%、残部が鉄及び不可避的不純
    物からなり、この不可避的不純物においてTi:0.0
    1重量%以下、Al:0.01重量%以下に規制し、更
    にSi+Mn:1.3〜2.3重量%、Si×(Si+
    Mn):0.75〜2.45に規制した化学組成を有す
    る溶接用ワイヤを使用し、Arに3〜7体積%のO2
    混合したシールドガス中でワイヤ送給速度を4〜7m/
    minとし、溶接電源の出力電流を、ピーク電流値が3
    80〜460A、ピーク期間が0.8〜2.5msのパ
    ルス波形として、スプレーアークにてパルスマグ溶接す
    ることを特徴とするガスシールドアーク溶接法。
JP5082395A 1995-03-10 1995-03-10 ガスシールドアーク溶接法 Expired - Lifetime JP2922814B2 (ja)

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