JPH08253680A - Aromatic polyether sulfone solution composition and method for producing film - Google Patents

Aromatic polyether sulfone solution composition and method for producing film

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JPH08253680A
JPH08253680A JP5701595A JP5701595A JPH08253680A JP H08253680 A JPH08253680 A JP H08253680A JP 5701595 A JP5701595 A JP 5701595A JP 5701595 A JP5701595 A JP 5701595A JP H08253680 A JPH08253680 A JP H08253680A
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Japan
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film
polyether sulfone
aromatic polyether
weight
solvent
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JP5701595A
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Hideaki Nitta
英昭 新田
Aritami Yonemura
有民 米村
Kaoru Iwata
薫 岩田
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 芳香族ポリエーテルスルホンフィルムを溶液
流延法により製造する際、支持基板からの流延フィルム
の剥離性を向上し、光学等方性、均質性に優れた芳香族
ポリエーテルスルホンフィルムの製造方法を提供する。 【構成】 1,3−ジオキソランを主体とする溶媒を含
む芳香族ポリエーテルスルホン溶液組成物中に、水およ
び/または低級脂肪族アルコールを少量含有する。
(57) [Summary] [Purpose] When an aromatic polyether sulfone film is produced by a solution casting method, it improves the releasability of the casting film from the supporting substrate, and it has excellent optical isotropy and homogeneity. Provided is a method for producing a family polyethersulfone film. [Structure] A small amount of water and / or lower aliphatic alcohol is contained in an aromatic polyether sulfone solution composition containing a solvent mainly composed of 1,3-dioxolane.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、芳香族ポリエーテルス
ルホンフィルムの溶液組成物、およびそれから得られる
芳香族ポリエーテルスルホンフィルムの製造方法に関す
る。さらに詳しくは、表示素子などの光学用途あるいは
電気・電子機器用途に有用な芳香族ポリエーテルスルホ
ンフィルムを溶液流延法(キャスティング法)により連
続製膜する際に、半乾燥状態にある流延フィルムを支持
基板から剥離する際の剥離性に優れ、表面性、透明性、
光学均質性の良好な芳香族ポリエーテルスルホンフィル
ムを与える安定な溶液組成物、およびそれを用いた該フ
ィルムの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solution composition of an aromatic polyether sulfone film and a method for producing an aromatic polyether sulfone film obtained from the solution composition. More specifically, a casting film in a semi-dried state when continuously casting an aromatic polyether sulfone film useful for optical applications such as display elements or electric / electronic equipment applications by a solution casting method (casting method) Excellent peelability when peeling from the support substrate, surface properties, transparency,
The present invention relates to a stable solution composition which gives an aromatic polyether sulfone film having good optical homogeneity, and a method for producing the film using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、液晶表示装置が消費電力が少な
く、かつ画像品質に優れている点から注目を浴び実用化
が進められている。これらの液晶表示装置においては、
偏光板、保護層、位相差板および電極基板などに高分子
フイルムが使用されている。その内、高分子電極基板す
なわちプラスチック基板は、液晶表示装置の軽薄化のた
めに従来のガラス基板の代わり用いられるもので、透過
する偏光を液晶層に正確に伝えるために極めて高い光学
等方性と均質性が求められる。さらに透明電極の製膜や
配向膜形成など加工時に加わる熱に耐えるだけの耐熱性
が求められる。そのために未延伸のポリカーボネートフ
イルム、ポリアリレートフイルムなどが用いられ、耐熱
性の観点からは芳香族ポリエーテルスルホンからなるフ
イルムも極めて優れた特性を示すことから有望視されて
いる[高瀬純治、「電極基板フイルムの最近の開発動
向」、高分子学会 高分子エレクトロニックス研究会要
旨集p20(1993年11月11日;於上智大
学)]。しかしながら、芳香族ポリエーテルスルホンは
芳香族基を分子内に含むために分極率が高く、従ってわ
ずかな分子配向によっても芳香族ポリエ−テルスルホン
フイルムに光学異方性を生じる欠点を有している。かか
る観点から、分子配向を極力抑え、光学等方性に優れた
芳香族ポリエーテルスルホンフイルムを製膜する技術の
開発が重要な課題となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display devices have been attracting attention because of their low power consumption and excellent image quality, and are being put into practical use. In these liquid crystal display devices,
Polymer films are used for polarizing plates, protective layers, retardation plates, electrode substrates and the like. Among them, the polymer electrode substrate, that is, the plastic substrate is used instead of the conventional glass substrate for making the liquid crystal display lighter and thinner, and has extremely high optical isotropy in order to accurately transmit the transmitted polarized light to the liquid crystal layer. And homogeneity is required. Furthermore, heat resistance is required to withstand heat applied during processing such as film formation of the transparent electrode and formation of an alignment film. For that purpose, unstretched polycarbonate film, polyarylate film, etc. are used, and from the viewpoint of heat resistance, a film made of aromatic polyether sulfone is also promising because it shows extremely excellent properties [Junji Takase, “Electrode Recent Development Trends of Substrate Films ", Proc. Of the Society of Polymer Electronics, Polymer Electronics Society, p20 (November 11, 1993; at Sophia University)]. However, the aromatic polyether sulfone has a high polarizability because it contains an aromatic group in the molecule, and therefore has a drawback that even a slight molecular orientation causes optical anisotropy in the aromatic polyether sulfone film. . From this point of view, the development of a technique for forming a film of an aromatic polyether sulfone film having excellent optical isotropy by suppressing the molecular orientation as much as possible is an important issue.

【0003】一方、位相差フイルムは、STN型液晶表
示素子やTN型液晶表示素子において画像の視認性を向
上させるために用いられるものであり、液晶層を透過し
た楕円偏光を直線偏光に変換する役割を担っている。こ
れらの素材として主として一軸延伸したポリカーボネー
トフイルムやポリビニルアルコールフイルムが用いられ
ている。最近高速応答性液晶デイスプレーの画像視認性
の向上の要請から、高速液晶層と一致した位相差(リタ
デーション)の波長分散性を有する位相差フイルムが求
められ、芳香族ポリエーテルスルホンフイルムが有望視
されている[村山昭夫、庄子雅人、近藤進、長谷川誠、
「単純マトリクスSTN−LCDの光学設計」、高分子
学会、第2回ポリマー材料フオーラム、p267(19
93年12月1,2日、於東京・国立教育会館)]。先
に述べたように、芳香族ポリエーテルスルホンは芳香族
基を分子内に含むために分極率が高く、フイルムを一軸
延伸して分子配向することにより光学異方性が得られや
すい。そのために位相差フイルムに要求される位相差を
わずかな延伸で得られる点が有利であるが、その反面、
光学的に均質な配向フイルムを得ることが難しい。かか
る配向フイルムを得るためには、未延伸フイルム(原反
フィルム)の段階で光学的に高度に等方性を有するフイ
ルムを用いる必要がある。
On the other hand, the retardation film is used for improving the visibility of images in STN type liquid crystal display elements and TN type liquid crystal display elements, and converts elliptically polarized light transmitted through the liquid crystal layer into linearly polarized light. Play a role. As these materials, a uniaxially stretched polycarbonate film or a polyvinyl alcohol film is mainly used. Due to the recent demand for improving the image visibility of high-speed response liquid crystal displays, a retardation film having a wavelength dispersion property of a retardation that matches the high-speed liquid crystal layer has been demanded, and an aromatic polyether sulfone film is promising. [Akio Murayama, Masato Shoko, Susumu Kondo, Makoto Hasegawa,
"Optical Design of Simple Matrix STN-LCD", Society of Polymer Science, 2nd Polymer Materials Forum, p267 (19)
December 1, 1993, Tokyo, National Education Center)]. As described above, the aromatic polyether sulfone has a high polarizability because it contains an aromatic group in the molecule, and optical anisotropy is easily obtained by uniaxially stretching the film for molecular orientation. Therefore, it is advantageous that the retardation required for the retardation film can be obtained by a slight stretching, but on the other hand,
It is difficult to obtain an optically uniform oriented film. In order to obtain such an oriented film, it is necessary to use a film which is optically highly isotropic at the stage of an unstretched film (raw film).

【0004】一般に芳香族ポリエーテルスルホンフィル
ムは溶融押し出し方法、特にTダイ法により製膜され
る。Tダイ法はプラスチックフィルムの製膜方法として
広く用いられているが、高粘度の融液を押し出すため
に、高分子鎖が配向しやすくさらには膜内に応力歪が残
りやすいため、光学等方性や均質性が得難い。溶融粘度
を下げるには、プラスチックの分子量を下げる、あるい
は製膜温度を上げることが必要であるが、分子量を下げ
るとフイルムの力学特性が低下し、また製膜温度を上げ
ると熱劣化や着色を誘発しやすくなる。また、Tダイか
ら押し出した融液を直接急速冷却するためにTダイによ
る筋、いわゆるダイラインが発生しやすく高度な表面性
を有するフイルムが得難い[高瀬純治、「電極基板フイ
ルムの最近の開発動向」、高分子学会 高分子エレクト
ロニックス研究会要旨集p20(1993年11月11
日;於上智大学)]。液晶表示装置に用いられるフイル
ムに要求される表面性、光学均質性はかなり厳しい。例
えば、プラスチック基板に対しては、表面厚み斑±5μ
m以下、位相差10nm以下、光学軸配向±10#以下
が要求され、位相差フイルム用原反フイルムには、表面
厚み斑2μm以下、位相差30nm以下、光学軸配向±
1°以下が要求される。ここで光学軸配向とは、フィル
ム面内で屈折率が最大となる方向、すなわち遅相軸の向
きを表す。このような厳しい要求を溶融押し出し法によ
り達成することは困難であるのが実状である。
Generally, an aromatic polyether sulfone film is formed by a melt extrusion method, particularly a T-die method. The T-die method is widely used as a method for forming a plastic film. However, since a high-viscosity melt is extruded, polymer chains are easily oriented and stress strain is likely to remain in the film. Quality and homogeneity are difficult to obtain. In order to lower the melt viscosity, it is necessary to lower the molecular weight of the plastic or raise the film-forming temperature, but lowering the molecular weight lowers the mechanical properties of the film, and raising the film-forming temperature causes thermal deterioration and coloring. It is easy to induce. Further, since the melt extruded from the T-die is directly and rapidly cooled, streaks due to the T-die, so-called die lines, tend to be generated, and it is difficult to obtain a film having a high surface property [Junji Takase, “Recent Development Trend of Electrode Substrate Film” , Society of Polymer Science, Polymer Electronics Society, p20 (November 11, 1993)
Sun; at Sophia University)]. The surface properties and optical homogeneity required for films used in liquid crystal display devices are quite severe. For example, for plastic substrates, surface thickness variation ± 5μ
m or less, a phase difference of 10 nm or less, and an optical axis alignment of ± 10 # or less are required, and the original film for a phase difference film has a surface thickness unevenness of 2 μm or less, a phase difference of 30 nm or less, an optical axis alignment of ±.
1 ° or less is required. Here, the optical axis orientation refers to the direction in which the refractive index is maximum in the film plane, that is, the direction of the slow axis. In reality, it is difficult to meet such strict requirements by the melt extrusion method.

【0005】このような状況から、高い表面性、光学等
方性、均質性を満たす芳香族ポリエーテルスルホンフィ
ルムの製膜法としては溶液流延法(キャステイング法)
が有力視されている。溶液流延法とは、溶液組成物(ド
ープ)を支持基板上に流延した後、加熱して大部分の溶
媒を除去して自立性のあるフィルムとしてから支持基板
から剥離し、さらに加熱乾燥して残りの溶媒を除去する
フィルム製膜法である。液晶表示装置に用いられるポリ
カーボネートフィルムの製膜法には、現在この溶液流延
法が用いられている。我々は先に、1,3−ジオキソラ
ンからなる芳香族ポリエーテルスルホン溶液組成物が、
溶液流延法による芳香族ポリエーテルスルホンフィルム
の製造に極めて有効であることを見いだし提案したが、
この検討過程で芳香族ポリエーテルスルホンは、ドープ
流延後、加熱して大部分の溶媒を除いた半乾燥状態のフ
ィルムを通常支持基板として用いられる金属板から剥離
する際、密着性が高く剥離性が悪いことが多い。剥離強
度が高いためにかかるフィルムに剥離筋、剥離傷が入っ
たり、フィルムがある一部分で引き延ばされ白化したり
して、液晶表示装置用途に求められる極めて高い光学等
方性、均質性、及び表面性の良好なフィルムを得ること
は極めて困難である。かかる課題を解決する手段として
容易に考えられるのは、ドープにフッ素系、シリコン
系、ステアリン酸系等の離型剤を添加することである。
しかしながらこれらの離型剤はフィルム製膜後もフィル
ム中に残存するため、フィルムのガラス転移点の低下が
避けられない。また離型剤の析出によりフィルムが白化
することがある。さらには離型剤の入ったフィルムを液
晶表示装置用途に用いる場合には、後加工工程における
他部材との接着性の低下が懸念され好ましくない。以上
のことから芳香族ポリエーテルスルホンフィルムの溶液
流延法に関して、フィルム物性は損なうことなく流延フ
ィルムの支持基板からの剥離性を改善する方法が求めら
れていた。
Under these circumstances, a solution casting method (casting method) is used as a method for forming an aromatic polyether sulfone film satisfying high surface properties, optical isotropy and homogeneity.
Is regarded as influential. The solution casting method is a method in which a solution composition (dope) is cast on a supporting substrate and then heated to remove most of the solvent to form a self-supporting film, which is then peeled off from the supporting substrate and further dried by heating. Then, the remaining solvent is removed to form a film. This solution casting method is currently used as a method for forming a polycarbonate film used in a liquid crystal display device. We previously reported that an aromatic polyether sulfone solution composition consisting of 1,3-dioxolane
It was found to be extremely effective in the production of an aromatic polyether sulfone film by the solution casting method, and proposed.
In the process of this study, aromatic polyether sulfone has high adhesion when peeling a semi-dried film that is heated to remove most of the solvent after dope casting and peeled from a metal plate that is usually used as a supporting substrate. Often bad Due to the high peeling strength, peeling streaks and peeling scratches are contained in the film, or the film is stretched and whitened at a part of the film. It is extremely difficult to obtain a film having good surface properties. An easily conceivable means for solving this problem is to add a release agent such as a fluorine-based, silicon-based, or stearic acid-based release agent to the dope.
However, since these release agents remain in the film even after the film is formed, it is unavoidable that the glass transition point of the film is lowered. Further, the film may be whitened due to the deposition of the release agent. Furthermore, when a film containing a release agent is used for a liquid crystal display device, it is not preferable because the adhesiveness to other members in the post-processing step may decrease. From the above, regarding the solution casting method of the aromatic polyether sulfone film, a method for improving the peelability of the cast film from the supporting substrate without impairing the physical properties of the film has been demanded.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、芳香
族ポリエーテルスルホンフィルムの溶液流延法におい
て、流延フィルムの支持基板からの剥離性の良好な、従
って表面性、透明性、光学均質性に優れた芳香族ポリエ
ーテルスルホンフイルムを製造する方法を提供すること
にある。
The object of the present invention is to provide a solution casting method of an aromatic polyether sulfone film, which has a good releasability of the casting film from a supporting substrate, and therefore has excellent surface properties, transparency and optical properties. An object of the present invention is to provide a method for producing an aromatic polyether sulfone film having excellent homogeneity.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、1,3−ジオキソラ
ンを主体とする溶媒に、水および/または低級脂肪族ア
ルコールを少量含んだ芳香族ポリエーテルスルホン溶液
組成物を用いると、流延フィルムの支持基板からの剥離
性が良好であり、従って表面性、透明性、光学均質性に
優れた芳香族ポリエーテルスルホンフィルムが得られる
ことを見い出し、本発明に到達した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have found that a solvent mainly containing 1,3-dioxolane contains a small amount of water and / or a lower aliphatic alcohol. When the aromatic polyether sulfone solution composition is used, the peelability of the cast film from the supporting substrate is good, and therefore, an aromatic polyether sulfone film having excellent surface properties, transparency and optical homogeneity can be obtained. They have found the present invention and reached the present invention.

【0008】すなわち本発明は、水および炭素数1〜6
の直鎖状または分岐鎖状の脂肪族アルコールの少なくと
も1種を1〜10重量%と、1,3−ジオキソランを主
体とする溶媒99〜90重量%とからなる溶媒系15〜
90重量部、及び芳香族ポリエーテルスルホン10重量
部を含有してなる芳香族ポリエーテルスルホン溶液組成
物である。
That is, the present invention is based on water and 1 to 6 carbon atoms.
1 to 10% by weight of at least one straight or branched chain aliphatic alcohol and 99 to 90% by weight of a solvent mainly comprising 1,3-dioxolane.
It is an aromatic polyether sulfone solution composition containing 90 parts by weight and 10 parts by weight of aromatic polyether sulfone.

【0009】以下に本発明について詳述する。The present invention will be described in detail below.

【0010】本発明において用いられる芳香族ポリエー
テルスルホンは、骨格に芳香族基がスルホン基およびエ
ーテル基により結合されているものを総称する。例え
ば、下記一般式(1)〜(3)
The aromatic polyether sulfone used in the present invention is a generic term for those having an aromatic group bonded to the skeleton by a sulfone group and an ether group. For example, the following general formulas (1) to (3)

【0011】[0011]

【化1】 (−Ar1 −SO2 −Ar2 −O−) (1) (−Ar3 −X−Ar4 −O−Ar5 −SO2 −Ar6 −O−) (2) (−Ar7 −SO2 −Ar8 −O−Ar9 −O−) (3) [式(1)中、Ar1 及びAr2 は同一または異なる炭
素数6〜12の芳香族炭化水素基である。式(2)中、
Ar3 〜Ar6 は同一または異なる炭素数6〜12の芳
香族炭化水素基であり、Xは炭素数1〜15の二価の炭
化水素基である。式(3)中、Ar7 〜Ar9 は同一ま
たは異なる炭素数6〜12の芳香族炭化水素基であ
る。]からなる群より選ばれる少なくとも一種の繰り返
し単位からなる芳香族ポリエーテルスルホンが挙げられ
る。
Embedded image (—Ar 1 —SO 2 —Ar 2 —O—) (1) (—Ar 3 —X—Ar 4 —O—Ar 5 —SO 2 —Ar 6 —O—) (2) (− Ar 7 -SO 2 -Ar 8 -O- Ar 9 -O-) (3) [ in the formula (1), Ar 1 and Ar 2 are the same or different aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms. In formula (2),
Ar 3 to Ar 6 are the same or different aromatic hydrocarbon groups having 6 to 12 carbon atoms, and X is a divalent hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms. In the formula (3), Ar 7 to Ar 9 are the same or different aromatic hydrocarbon groups having 6 to 12 carbon atoms. ] An aromatic polyether sulfone comprising at least one repeating unit selected from the group consisting of

【0012】ここで式(1)において好適なAr1 、A
2 としては炭素数6〜12のアリーレン基であり、炭
素数6〜10のアリーレン基がより好適である。具体的
には、m−フェニレン基、p−フェニレン基、ジメチル
−p−フェニレン基、テトラメチル−p−フェニレン
基、ナフチレン基、ビフェニレン基などが挙げられる。
Ar1 、Ar2 がともにp−フェニレン基である場合
が、製造面からも有利であり特に好適に用いられる。
Here, Ar 1 and A which are preferable in the formula (1)
r 2 is an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, and an arylene group having 6 to 10 carbon atoms is more preferable. Specific examples include an m-phenylene group, a p-phenylene group, a dimethyl-p-phenylene group, a tetramethyl-p-phenylene group, a naphthylene group, and a biphenylene group.
A case where both Ar 1 and Ar 2 are p-phenylene groups is advantageous in terms of production and is particularly preferably used.

【0013】式(2)において好適なAr3 〜Ar6
しては炭素数6〜12のアリーレン基であり、炭素数6
〜10のアリーレン基がより好適である。具体的にはm
−フェニレン基、p−フェニレン基、ジメチル−p−フ
ェニレン基、テトラメチル−p−フェニレン基、ナフチ
レン基、ビフェニレン基などが挙げられる。好適な例と
してAr3 〜Ar6 がいずれもp−フェニレン基が挙げ
られる。また、Xは炭素数1〜15の二価の炭化水素基
であり、炭素数1〜15の二価の脂肪族炭化水素基、脂
環族炭化水素基、およびアルアルキレン基から選ばれ
る。好適には炭素数1〜10の二価の脂肪族炭化水素
基、脂環族炭化水素基、アルアルキレン基である。具体
的にはメチレン基、1,1−エチレン基、2,2−プロ
ピレン基、2,2−ブチレン基、4−メチル−2,2−
ペンチレン基などの脂肪族炭化水素基、1,1−シクロ
ヘキシレン基、3,3,5−トリメチル−1,1−シク
ロヘキシレン基などの脂環族炭化水素基、1−フェニル
−1,1−エチレン基、ジフェニルメチレン基などのア
ルアルキレン基が例示できる。これらの中で2,2−プ
ロピレン基がさらにより好適に用いられる。式(2)に
おいて、特に好ましくはAr3 〜Ar6 がいづれもp−
フェニレン基であり、かつXが2,2−プロピレン基で
ある。さらに式(3)において、好適なAr7 、Ar8
としては炭素数6〜12のアリーレン基であり、炭素数
6〜10のアリーレン基がより好適である。具体的には
m−フェニレン基、p−フェニレン基、ジメチル−p−
フェニレン基、テトラメチル−p−フェニレン基、ナフ
チレン基、ビフェニレン基などが挙げられる。これらの
中でAr7 、Ar8 がともにp−フェニレン基がさらに
好適に用いられる。また好適なAr9 としては炭素数6
〜12のアリーレン基であり、炭素数6〜10のアリー
レン基がより好適である。具体的には、m−フェニレン
基、p−フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基
などが挙げられる。これらの中でp−フェニレン基、ビ
フェニレン基がさらにより好適である。式(3)におい
て特に好ましくはAr7 、Ar8 、Ar9 がいずれもp
−フェニレン基である。
Suitable Ar 3 to Ar 6 in the formula (2) is an arylene group having 6 to 12 carbon atoms and 6 carbon atoms.
More preferred are arylene groups of -10. Specifically, m
-Phenylene group, p-phenylene group, dimethyl-p-phenylene group, tetramethyl-p-phenylene group, naphthylene group, biphenylene group and the like. Preferable examples of all of Ar 3 to Ar 6 are p-phenylene groups. X is a divalent hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, and is selected from a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group, and an alkylene group. It is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group, or an alkylene group. Specifically, methylene group, 1,1-ethylene group, 2,2-propylene group, 2,2-butylene group, 4-methyl-2,2-
Aliphatic hydrocarbon group such as pentylene group, 1,1-cyclohexylene group, alicyclic hydrocarbon group such as 3,3,5-trimethyl-1,1-cyclohexylene group, 1-phenyl-1,1- Examples include alkylene groups such as ethylene group and diphenylmethylene group. Of these, the 2,2-propylene group is even more preferably used. In the formula (2), it is particularly preferable that Ar 3 to Ar 6 are all p-
It is a phenylene group, and X is a 2,2-propylene group. Further, in the formula (3), preferable Ar 7 , Ar 8
Is an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, and an arylene group having 6 to 10 carbon atoms is more preferable. Specifically, m-phenylene group, p-phenylene group, dimethyl-p-
Examples thereof include a phenylene group, a tetramethyl-p-phenylene group, a naphthylene group, and a biphenylene group. Of these, a p-phenylene group is more preferably used for both Ar 7 and Ar 8 . Also, preferred Ar 9 has 6 carbon atoms.
To 12 arylene groups, and more preferably 6 to 10 carbon arylene groups. Specific examples include an m-phenylene group, a p-phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, and the like. Among these, a p-phenylene group and a biphenylene group are even more preferable. In the formula (3), it is particularly preferable that Ar 7 , Ar 8 and Ar 9 are all p
A phenylene group.

【0014】本発明に用いられる芳香族ポリエーテルス
ルホンは、上記式(1)〜(3)で表される一種あるい
は二種以上の繰り返し単位からなる、組成物または共重
合体も好適に使用できる。例えば共重合体の場合、式
(1)の繰り返し単位および式(2)の繰り返し単位か
らなる芳香族ポリエーテルスルホン、式(1)の繰り返
し単位および式(3)の繰り返し単位からなる芳香族ポ
リエーテルスルホンが好ましく用いられる。その場合、
式(1)の繰り返し単位と式(2)の繰り返し単位、あ
るいは式(1)の繰り返し単位と式(3)の繰り返し単
位の割合、すなわち共重合組成比(1)/(2)、
(1)/(3)は得られる該芳香族ポリエーテルスルホ
ンの溶解性、耐熱性、製膜したフィルムの物性を鑑みて
決定すればよく特に制限はないが、式(1)の繰り返し
単位を0.1〜99.9モル%、好ましくは1〜99モ
ル%含有する芳香族ポリエーテルスルホンが好ましい。
As the aromatic polyether sulfone used in the present invention, a composition or a copolymer composed of one or more repeating units represented by the above formulas (1) to (3) can also be preferably used. . For example, in the case of a copolymer, an aromatic polyether sulfone including a repeating unit of the formula (1) and a repeating unit of the formula (2), an aromatic polyether sulfone including a repeating unit of the formula (1) and a repeating unit of the formula (3). Ether sulfone is preferably used. In that case,
The ratio of the repeating unit of the formula (1) and the repeating unit of the formula (2), or the ratio of the repeating unit of the formula (1) and the repeating unit of the formula (3), that is, the copolymerization composition ratio (1) / (2),
(1) / (3) may be determined in view of the solubility, heat resistance, and physical properties of the formed film of the aromatic polyether sulfone to be obtained and is not particularly limited, but the repeating unit of the formula (1) is Aromatic polyether sulfones containing 0.1 to 99.9 mol%, preferably 1 to 99 mol% are preferred.

【0015】以上に述べた芳香族ポリエーテルスルホン
の中でも、入手のしやすさ、耐熱性及び溶解性の点で、
次のタイプのものがより好ましい。すなわち、(i)A
1及びAr2 がともにp−フェニレン基である式
(1)の繰り返し単位が70〜90モル%であり、Ar
7 〜Ar9 が全てp−フェニレン基である式(3)の繰
り返し単位が30〜10モル%であるである共重合体、
(ii)Ar3 〜Ar6 が全てp−フェニレン基であり、
Xがイソプロピリデン基((CH3 2 <C)である式
(2)の繰り返し単位から実質的になる重合体、及び(i
ii) Ar3 〜Ar6が全てp−フェニレン基であり、か
つXがイソプロピリデン基である式(2)の繰り返し単
位が70モル%以上であり、Ar1 、Ar2 がともにp
−フェニレン基である式(1)の繰り返し単位が30モ
ル%以下である共重合体である。
Among the above-mentioned aromatic polyether sulfones, in terms of availability, heat resistance and solubility,
The following types are more preferable. That is, (i) A
The repeating unit of the formula (1) in which both r 1 and Ar 2 are p-phenylene groups is 70 to 90 mol%, and Ar is
A copolymer in which 7 to Ar 9 are all p-phenylene groups and the repeating unit of the formula (3) is 30 to 10 mol%,
(Ii) Ar 3 to Ar 6 are all p-phenylene groups,
A polymer essentially consisting of a repeating unit of the formula (2), wherein X is an isopropylidene group ((CH 3 ) 2 <C), and (i
ii) The repeating unit of the formula (2) in which Ar 3 to Ar 6 are all p-phenylene groups and X is an isopropylidene group is 70 mol% or more, and both Ar 1 and Ar 2 are p.
-A copolymer in which the repeating unit of the formula (1) which is a phenylene group is 30 mol% or less.

【0016】上記の芳香族ポリエーテルスルホンは公知
の方法で重合できる。例えばアルカリ金属炭酸塩の存在
下、非プロトン性極性溶媒中で水酸基およびハロゲン基
を末端に有するモノマーを重縮合することにより得るこ
とができる。
The above-mentioned aromatic polyether sulfone can be polymerized by a known method. For example, it can be obtained by polycondensing a monomer having a hydroxyl group and a halogen group at the terminals in the presence of an alkali metal carbonate in an aprotic polar solvent.

【0017】本発明において用いられる芳香族ポリエー
テルスルホンの分子量は、その尺度であるηsp/cで表示
すると0.1〜10dL/g、好ましくは0.3〜5.
0dL/gの範囲のものである。ただしこれらの粘度は
0.5g/dLのジオキソラン溶液中、30℃で測定し
た値である。0.1dL/gより小さいと丈夫なフィル
ムが得られず、また10dL/gを越えると該ポリマー
が得にくいばかりか溶解性が低下するために好ましくな
い。
The molecular weight of the aromatic polyether sulfone used in the present invention is 0.1-10 dL / g, preferably 0.3-5.
It is in the range of 0 dL / g. However, these viscosities are values measured at 30 ° C. in a 0.5 g / dL dioxolane solution. If it is less than 0.1 dL / g, a durable film cannot be obtained, and if it exceeds 10 dL / g, the polymer is difficult to obtain and the solubility is lowered, which is not preferable.

【0018】本発明における溶媒系は、1,3−ジオキ
ソランを主体とする溶媒と、水および/または炭素数1
〜6の脂肪族アルコールとからなる。本発明によれば、
芳香族ポリエーテルスルホン溶液組成物を構成する溶媒
としては、芳香族ポリエーテルスルホンを高濃度に溶解
し、かつ後述する水または炭素数1〜6の脂肪族アルコ
ールと相溶性があること、さらには低沸点溶媒であり、
溶解性、溶液安定性、製膜性の観点から、1,3−ジオ
キソランが優れていることを先に見い出した。本発明に
おける1,3−ジオキソランを主体とする溶媒は、1,
3−ジオキソランを溶媒全体の60重量%以上、好まし
くは70重量%以上含有することが好ましく、1,3−
ジオキソラン100重量%であることがより好ましい。
他の溶媒を使用する場合は特に限定はなく、効果を勘案
して用いればよい。ここでいう効果とは、溶解性や安定
性を犠牲にしない範囲で溶媒を混合することによる、た
とえば溶液流延法により製膜したフイルムの表面性の改
善(レベリング効果)、蒸発速度や系の粘度調節、結晶
化抑制効果などである。これらの効果の度合により混合
する溶媒の種類や添加量を決定すればよく、また混合す
る溶媒として1種または2種以上用いてもかまわない。
好適に用いられる他の溶媒としては1,4−ジオキサ
ン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル系溶媒、ト
ルエン、キシレンなどの炭化水素系溶媒、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶
媒、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、エ
チレングリコールジメチルエーテル、メトキシエチルア
セテートなどのエーテル系溶媒、塩化メチレン、クロロ
ホルム、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリク
ロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒が挙
げられる。
The solvent system in the present invention comprises a solvent mainly containing 1,3-dioxolane, water and / or a carbon number of 1.
~ 6 aliphatic alcohols. According to the present invention,
As a solvent constituting the aromatic polyether sulfone solution composition, aromatic polyether sulfone is dissolved in a high concentration, and is compatible with water or an aliphatic alcohol having 1 to 6 carbon atoms described later, and Is a low boiling point solvent,
It was previously found that 1,3-dioxolane is excellent from the viewpoint of solubility, solution stability, and film-forming property. In the present invention, the solvent containing 1,3-dioxolane as a main component is 1,
It is preferable that 3-dioxolane is contained in an amount of 60% by weight or more, preferably 70% by weight or more based on the whole solvent.
More preferably, it is 100% by weight of dioxolane.
When other solvent is used, it is not particularly limited and may be used in consideration of the effect. The effects here include mixing the solvent in a range that does not sacrifice solubility or stability, for example, improving the surface property of the film formed by the solution casting method (leveling effect), evaporation rate or system It has the effects of adjusting viscosity and suppressing crystallization. The kind and the addition amount of the solvent to be mixed may be determined depending on the degree of these effects, and one kind or two or more kinds may be used as the solvent to be mixed.
Other solvents preferably used include 1,4-dioxane, cyclic ether solvents such as tetrahydrofuran, hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate and the like. And an ester solvent such as ethylene glycol dimethyl ether and methoxyethyl acetate, and a halogen solvent such as methylene chloride, chloroform, 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane and chlorobenzene.

【0019】溶媒量は、上記溶媒系全体量の99〜90
重量%、好ましくは99〜92重量%、さらに好ましく
は98.5〜95重量%である。
The amount of solvent is 99 to 90 of the total amount of the above solvent system.
%, Preferably 99 to 92% by weight, more preferably 98.5 to 95% by weight.

【0020】本発明によれば、芳香族ポリエーテルスル
ホンを溶解した溶液組成物に、水および/または炭素数
1〜6の脂肪族アルコールを少量含有させると、驚くべ
きことに支持基板からの剥離性が著しく向上することを
見い出した。
According to the present invention, when a solution composition in which an aromatic polyether sulfone is dissolved contains a small amount of water and / or an aliphatic alcohol having 1 to 6 carbon atoms, surprisingly, peeling from the supporting substrate occurs. It has been found that the sex is significantly improved.

【0021】かかるアルコールとしては、炭素数1〜
6、好ましくは1〜4、より好ましくは2〜4の直鎖
状、あるいは分岐した脂肪族アルコールが好ましい。具
体的にはメタノール、エタノール、イソプロパノール、
ターシャリーブタノールなどが挙げられる。これらのう
ちエタノール、イソプロパノール、ターシャリーブタノ
ールは水とほぼ同等の効果が得られるので好ましい。理
由は明らかでないが溶媒の沸点、すなわち乾燥時の飛び
易さが関係しているものと推測している。また、炭素数
6を超える高級アルコールは、高沸点であるためフィル
ム製膜後も残留しやすくなるので好ましくない。
The alcohol has 1 to 1 carbon atoms.
6, preferably 1 to 4, more preferably 2 to 4 linear or branched aliphatic alcohols are preferred. Specifically, methanol, ethanol, isopropanol,
Examples include tertiary butanol. Of these, ethanol, isopropanol, and tert-butanol are preferable because they have substantially the same effects as water. Although the reason is not clear, it is presumed that it is related to the boiling point of the solvent, that is, the ease of flight during drying. Further, higher alcohols having more than 6 carbon atoms are not preferable because they have a high boiling point and tend to remain after the film formation.

【0022】水または炭素数1〜6の脂肪族アルコール
は単独で加えても良いし、2種類以上組み合わせて用い
ても何ら問題はない。
Water or an aliphatic alcohol having 1 to 6 carbon atoms may be added alone, or two or more kinds may be used in combination without any problem.

【0023】水やアルコールの含有量は慎重に選択され
なければならない。これらは芳香族ポリエーテルスルホ
ンに対する溶解性には乏しく、貧溶媒である。従ってあ
まり多く用いることはできず、満足すべき剥離性が得ら
れる最少量とすべきである。一般には溶媒系の全量、す
なわち1,3−ジオキソランを主体とする溶媒と、水お
よび/または該アルコールとの合計量に対して1〜10
重量%、好ましくは1〜8重量%、さらに好ましくは
1.5〜5重量%である。含有量が10重量%を超える
と該溶媒のポリマーに対する溶解性、ドープ安定性が低
下するので好ましくなく、1重量%未満では剥離性改善
の効果に乏しくなる。
The content of water and alcohol must be carefully selected. These have poor solubility in aromatic polyether sulfones and are poor solvents. Therefore, it cannot be used in a large amount, and should be the minimum amount that gives a satisfactory peeling property. Generally, 1 to 10 based on the total amount of the solvent system, that is, the total amount of the solvent mainly containing 1,3-dioxolane and water and / or the alcohol.
%, Preferably 1 to 8% by weight, more preferably 1.5 to 5% by weight. If the content exceeds 10% by weight, the solubility of the solvent in the polymer and the stability of the dope are deteriorated, and if it is less than 1% by weight, the effect of improving the peelability becomes poor.

【0024】少量の水および/またはアルコールを添加
することにより、流延フィルムの剥離性改善効果以外
の、別の好ましい効果が得られる。それは上記溶液組成
物からの芳香族ポリエーテルスルホンの環状オリゴマー
の析出を促進する効果である。
By adding a small amount of water and / or alcohol, another preferable effect other than the effect of improving the peelability of the cast film can be obtained. It has the effect of promoting the precipitation of cyclic oligomers of aromatic polyether sulfone from the solution composition.

【0025】本発明に用いられる芳香族ポリエーテルス
ルホンの中には、重合時に発生する不純物である結晶性
の環状オリゴマーを少量含むものがある。かかる環状オ
リゴマーとして下記の化合物が例示される(環状オリゴ
マーAと略す)。
Some of the aromatic polyether sulfones used in the present invention contain a small amount of a crystalline cyclic oligomer which is an impurity generated during polymerization. Examples of the cyclic oligomer include the following compounds (abbreviated as cyclic oligomer A).

【0026】[0026]

【化2】 Embedded image

【0027】このような化合物は、ポリマーを溶解後に
ドープから徐々に析出してくる。もちろん通常工業的に
採用されているように、ドープ貯蔵槽から製膜ヘッドま
での送液の途中フィルターで濾過して使用するために基
本的には問題はない。しかし、濾過後ドープが滞留しや
すい部分で結晶が析出し、フイルムの透明性を損ねるこ
とが多い。その対策として長期間かけてドープ中の環状
オリゴマーを充分に析出、結晶化させた後、濾別すれば
そのドープの保存安定性が高くなることが提案されてい
る(特開平05−329857号公報)。従って工業的
にはドープ調製後にできるだけ速やかに大部分の環状オ
リゴマーを析出させることが重要になる。本発明におけ
る少量の水および/またはアルコールを含む溶液組成物
は、含まない場合と比べ環状オリゴマーの析出速度が速
い。その結果ポリマー溶解後、一定時間経過後に析出し
た結晶を濾別したドープと比較して、本発明の溶液組成
物のほうがオリゴマーの結晶析出による白濁化速度が遅
く、より保存安定性の高いドープとなる。
Such a compound gradually precipitates from the dope after dissolving the polymer. Of course, there is basically no problem because it is used after being filtered by a filter during the liquid transfer from the dope storage tank to the film-forming head, as is usually adopted industrially. However, after filtration, crystals often precipitate in the portion where the dope is likely to stay, impairing the transparency of the film. As a countermeasure against this, it has been proposed that the storage stability of the dope can be increased by sufficiently precipitating and crystallizing the cyclic oligomer in the dope over a long period of time, and then filtering the dope (Japanese Patent Application Laid-Open No. 05-329857). ). Therefore, it is important industrially to precipitate most of the cyclic oligomer as soon as possible after the dope preparation. The solution composition containing a small amount of water and / or alcohol according to the present invention has a higher precipitation rate of the cyclic oligomer than the solution composition containing no solution. As a result, after dissolution of the polymer, as compared with a dope obtained by filtering out crystals precipitated after a certain period of time, the solution composition of the present invention has a slower clouding rate due to crystal precipitation of oligomers, and a dope with higher storage stability. Become.

【0028】本発明の溶液組成物は、結果としてヘイズ
の低い透明な溶液が得られればいかなる方法で調製して
もよい。あらかじめある溶媒に溶解させた芳香族ポリエ
ーテルスルホン溶液に、水および/または上記アルコー
ルを所定量添加してもよいし、水および/または上記ア
ルコールを含む溶媒に芳香族ポリエーテルスルホンを溶
解させてもよい。ただ先にも述べたように水やアルコー
ルは芳香族ポリエーテルスルホンの貧溶媒であるため、
前者の方法ではポリマーの析出によるドープ白濁の可能
性があり、後者の方法の方が好ましい。
The solution composition of the present invention may be prepared by any method that results in a clear solution with low haze. A predetermined amount of water and / or the alcohol may be added to an aromatic polyether sulfone solution previously dissolved in a solvent, or the aromatic polyether sulfone may be dissolved in a solvent containing water and / or the alcohol. Good. However, as mentioned above, since water and alcohol are poor solvents for aromatic polyether sulfone,
The former method may cause clouding of the dope due to polymer precipitation, and the latter method is preferable.

【0029】本発明における芳香族ポリエーテルスルホ
ンの溶液濃度は、芳香族ポリエーテルスルホンの分子量
に依存するが、芳香族ポリエーテルスルホン10重量部
に対して溶媒系の全量が15〜90重量部、好ましくは
20〜50重量部である。溶媒系の全量が90重量部を
越えると溶液の安定性は問題ないが、芳香族ポリエーテ
ルスルホンの実効濃度が低いために好ましくないばかり
かこの溶液組成物を用いて溶液流延法で製膜した場合、
溶液粘度が低いために外部擾乱が起きやすく表面平滑性
が得られず好ましくない。逆に溶媒系の全量が15重量
部未満では安定なドープが得られにくい。これらの濃度
は主としてドープの安定性、溶液粘度を勘案して決定さ
れる。
The solution concentration of the aromatic polyether sulfone in the present invention depends on the molecular weight of the aromatic polyether sulfone, but the total amount of the solvent system is 15 to 90 parts by weight with respect to 10 parts by weight of the aromatic polyether sulfone, It is preferably 20 to 50 parts by weight. If the total amount of the solvent system exceeds 90 parts by weight, the stability of the solution will not be a problem, but it is not preferable because the effective concentration of the aromatic polyether sulfone is low, and the solution composition is used to form a film by the solution casting method. if you did this,
Since the solution viscosity is low, external disturbance is likely to occur and surface smoothness cannot be obtained, which is not preferable. Conversely, if the total amount of the solvent system is less than 15 parts by weight, it is difficult to obtain a stable dope. These concentrations are determined mainly by considering the stability of the dope and the solution viscosity.

【0030】本発明においては、上記芳香族ポリエーテ
ルスルホン溶液組成物(ドープ)を支持基板上に流延し
た後、加熱して溶媒を蒸発させることによりフイルムを
得る。工業的連続製膜工程は一般に流延工程、前乾燥工
程、後乾燥工程の3工程からなる。流延工程はドープを
平滑に流延する工程であり、前乾燥工程は流延したドー
プから大部分の溶媒を蒸発除去する工程であり、後乾燥
工程は残りの溶媒を除去する工程である。
In the present invention, the above-mentioned aromatic polyether sulfone solution composition (dope) is cast on a supporting substrate and then heated to evaporate the solvent to obtain a film. The industrial continuous film forming step generally comprises three steps of a casting step, a pre-drying step and a post-drying step. The casting step is a step of smoothly casting the dope, the pre-drying step is a step of evaporating and removing most of the solvent from the cast dope, and the post-drying step is a step of removing the remaining solvent.

【0031】流延工程では、ダイから押し出す方法、ド
クターブレードによる方法、リバースロールコータによ
る方法等が用いられる。工業的には、ダイからドープを
ベルト状もしくはドラム状の支持基板に連続的に押し出
す方法が最も一般的である。用いられる支持基板として
はガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基
板、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック基板
などがある。支持基板の材質、表面状態も流延フィルム
の剥離性に大きな影響を与える。例えば表面張力の極め
て低いテフロン等でコーティングされた基板では、剥離
性は良好である。しかしながら高度に表面性、光学均質
性の優れたフィルムを工業的に連続製膜するには、表面
を鏡面仕上げした金属基板が最も一般的に用いられてお
り、本発明はそのような金属基板で効果が認められるも
のである。
In the casting process, a method of extruding from a die, a method of using a doctor blade, a method of using a reverse roll coater, etc. are used. Industrially, the most common method is to continuously extrude the dope from a die onto a belt-shaped or drum-shaped supporting substrate. Examples of the supporting substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel or a ferro type, and a plastic substrate such as polyethylene terephthalate. The material and surface condition of the supporting substrate also greatly affect the releasability of the cast film. For example, a substrate coated with Teflon or the like having an extremely low surface tension has good releasability. However, in order to industrially continuously form a film having a highly surface property and excellent optical homogeneity, a metal substrate having a mirror-finished surface is most commonly used, and the present invention is such a metal substrate. The effect is recognized.

【0032】一般にドープから透明かつ平滑なフイルム
を製膜するにあたり溶液粘度は極めて重要な因子であ
る。溶液粘度はポリマーの濃度、分子量および溶媒の種
類に依存するが、本発明の溶液組成物の粘度は、500
〜50,000cps、好ましくは700〜30,00
0cpsである。これを越えると溶液の流動性が下がる
ために平滑なフイルムが得られないことがあり好ましく
ない。また、それ未満では流動性が高すぎ、通常キャス
トに用いるTダイからドープが均一に吐出しにくくなっ
たり、外部擾乱のために表面に乱れが生じ均質・平滑な
フイルムが得られないことがある。水やアルコールを添
加することによる溶液粘度への影響は、添加量が微量な
こともありわずかなものである。
In general, the solution viscosity is a very important factor in forming a transparent and smooth film from a dope. Although the solution viscosity depends on the concentration of the polymer, the molecular weight and the kind of the solvent, the viscosity of the solution composition of the present invention is 500
~ 50,000 cps, preferably 700 to 30,000
It is 0 cps. If it exceeds this range, the fluidity of the solution is lowered and a smooth film may not be obtained, which is not preferable. On the other hand, if it is less than that, the fluidity is too high, the dope cannot be uniformly discharged from the T die used for normal casting, and the surface may be disturbed due to external disturbance, so that a uniform and smooth film may not be obtained. . The effect of adding water or alcohol on the viscosity of the solution is slight because the amount added may be minute.

【0033】上記溶液組成物の流延時の温度は用いる溶
媒によるが、10〜60℃、好ましくは15〜40℃の
範囲で行われる。平滑性の優れたフィルムを得るために
はダイから押し出された溶液が支持基板上で流延・平滑
化する必要がある。この際流延温度が高すぎると、平滑
になる前に表面の乾燥・固化が起きることがあるため好
ましくない。また温度が低すぎると、流延溶液が冷却さ
れて粘度が上昇し、平滑性が得られにくいばかりか結露
する場合があるために好ましくない。
The temperature at the time of casting the above solution composition depends on the solvent used, but is in the range of 10 to 60 ° C, preferably 15 to 40 ° C. In order to obtain a film having excellent smoothness, the solution extruded from the die needs to be cast and smoothed on the supporting substrate. At this time, if the casting temperature is too high, the surface may be dried and solidified before it becomes smooth, which is not preferable. On the other hand, if the temperature is too low, the casting solution is cooled to increase the viscosity, which may cause difficulty in obtaining smoothness and may cause dew condensation, which is not preferable.

【0034】流延工程から乾燥工程に移る前に、ある程
度の時間乾燥を抑制しドープの流動性を確保することに
より、フィルムの表面性を高度に平滑化(レベリング効
果)することが可能である。
Before transferring from the casting process to the drying process, it is possible to highly smooth the surface properties of the film (leveling effect) by suppressing the drying for a certain period of time and ensuring the fluidity of the dope. .

【0035】前乾燥工程においては、できるだけ短時間
に支持基板上に流延されたドープから大部分の溶媒を蒸
発除去する必要がある。しかしながら、急激な蒸発が起
こると発泡による変形を受けるために、乾燥条件は慎重
に選択すべきである。本発明においては、使用する溶媒
の中で最も低い沸点、好適にはその(沸点−5℃)を上
限とする範囲から乾燥を開始するのがよい。その後、逐
次的あるいは連続的に昇温して乾燥効率をあげるべきで
ある。この工程における最終段階での温度の上限は、1
20℃、好ましくは100℃が採用される。この工程で
は、残留溶媒が多い場合は25重量%も含まれるため
に、それ以上高温にすると発泡が生じるために好ましく
ない。また、必要に応じて風を送ってもよい。その場
合、一般には風速20m/秒以下、好ましくは15m/
秒以下の範囲が用いられる。それを越えると風の擾乱の
ために平滑面が得られないために好ましくない。風速は
段階的ないしは連続的に増大させてもよいし、むしろ好
ましい。初期の段階では風の擾乱を避けるために無風で
もよい。
In the pre-drying step, it is necessary to evaporate and remove most of the solvent from the dope cast on the supporting substrate in the shortest possible time. However, the drying conditions should be chosen carefully, as they undergo deformation due to foaming when rapid evaporation occurs. In the present invention, it is preferable to start the drying from the lowest boiling point of the solvents used, preferably from the range having the (boiling point-5 ° C) as the upper limit. After that, the temperature should be raised sequentially or continuously to improve the drying efficiency. The upper limit of the temperature at the final stage of this process is 1
20 ° C., preferably 100 ° C. is adopted. In this step, when the amount of residual solvent is large, 25% by weight is contained, and further higher temperature causes foaming, which is not preferable. Moreover, you may blow air as needed. In that case, the wind speed is generally 20 m / sec or less, preferably 15 m / sec.
A range of seconds or less is used. If it exceeds this, a smooth surface cannot be obtained due to wind disturbance, which is not preferable. The wind speed may be increased stepwise or continuously and is rather preferable. In the early stages, there may be no wind to avoid wind turbulence.

【0036】この前乾燥工程ではフイルムは基板上にあ
り、工程の最後に基板から剥離される。その際に残留溶
媒量が多いとフイルムが柔らかいために変形が起き、ま
た残留溶媒が少ないと、本発明の溶液組成物からキャス
トした流延フィルムでも、支持基板との密着性が高くな
り剥離性が悪くなるため応力歪、剥離筋、剥離傷が生じ
る。従って残留溶媒量は重要な因子であり、好適には残
留溶媒量5〜25重量%、さらに好適には7〜20重量
%の範囲が選択される。金属基板を用いた溶液流延法で
は、一般に製膜開始当初は剥離性良好であるが、剥離を
繰り返すうちに次第に剥離性が低下していくことが多
い。この原因は定かではないが、次第に基板表面に表面
張力の高い金属原子が多く露出してくる、あるいは極微
量のポリマーが表面に付着していき、それがいわば接着
層のように働き始める、などと推定している。この対策
として定期的に基板表面を洗浄する、例えば水で基板面
を拭くなどすれば剥離性は回復させることができるが、
工業的な連続製膜工程では極めてわずらわしい作業であ
り効率的ではない。本発明によれば、そのような作業を
することなく支持基板からの流延フィルムの剥離性を良
好に維持することができる。
In this pre-drying step, the film is on the substrate and is peeled off from the substrate at the end of the step. At that time, deformation occurs because the film is soft when the amount of residual solvent is large, and when the residual solvent is small, even the cast film cast from the solution composition of the present invention has high adhesion to the supporting substrate and releasability. Deteriorates, resulting in stress strain, peeling streaks, and peeling scratches. Therefore, the residual solvent amount is an important factor, and the range of the residual solvent amount is preferably 5 to 25% by weight, and more preferably 7 to 20% by weight. In the solution casting method using a metal substrate, generally, the peelability is good at the beginning of film formation, but the peelability often decreases as the peeling is repeated. The cause of this is not clear, but gradually many metal atoms with high surface tension are exposed on the surface of the substrate, or a trace amount of polymer adheres to the surface, and it begins to act like an adhesive layer. Is estimated. As a countermeasure for this, the peelability can be recovered by periodically cleaning the substrate surface, for example, by wiping the substrate surface with water.
In an industrial continuous film forming process, it is extremely troublesome work and is not efficient. According to the present invention, the releasability of the cast film from the supporting substrate can be favorably maintained without performing such an operation.

【0037】後乾燥工程においては、基板より剥離した
フイルムをさらに乾燥し、残留溶媒量を3重量%以下、
好ましくは1重量%以下、さらに好ましくは0.5重量
%以下にする必要がある。残留溶媒が多いと経時的に変
形が起こったり、後加工工程で熱が加わると寸法変化、
いわゆる熱収縮が起こるためである。一般に後乾燥工程
は、工業的にはピンテンター方式あるいはロール懸垂方
式等でフイルムを搬送しながら乾燥する方法が採られる
が、これらの方法では乾燥途中でフィルムに様々な力が
加わる。従って液晶表示装置用途等、光学的に高度な均
質性が求められるフィルムの製膜では乾燥温度はフィル
ムの変形が生じない範囲から選択することが望ましい。
一般には、用いる芳香族ポリエーテルスルホンのガラス
転移温度をTg(℃)とするとき、(Tg−120℃)
〜Tgの範囲、好ましくは(Tg−100℃)〜(Tg
−10℃)の範囲が選ばれる。Tgを超えるとフイルム
の熱変形が起こることがあり好ましくなく、(Tg−1
20℃)より低いと乾燥速度が著しく遅くなるために好
ましくない。熱変形は残留溶媒が少なくなるにつれて起
きにくくなる。従って、該範囲内で初期に低温で、その
後段階的ないしは連続的に昇温する方法をとることが好
ましい。この後乾燥工程においては前乾燥工程と同様に
送風してもよい。またフィルム搬送速度は特に限定はな
いが一般には、0.5〜15m/分、好ましくは1〜1
0m/分の範囲で行われる。
In the post-drying step, the film peeled from the substrate is further dried so that the residual solvent amount is 3% by weight or less,
It should be preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less. If there is a lot of residual solvent, deformation occurs over time, and if heat is applied in the post-processing step, dimensional change
This is because so-called heat shrinkage occurs. Generally, in the post-drying step, industrially, a method of drying while transporting the film by a pin tenter method, a roll suspension method, or the like is adopted, but in these methods, various forces are applied to the film during the drying. Therefore, it is desirable to select the drying temperature from the range in which the film is not deformed in the production of a film which is required to have a high optical homogeneity such as a liquid crystal display device.
Generally, when the glass transition temperature of the aromatic polyether sulfone used is Tg (° C), (Tg-120 ° C)
To Tg, preferably (Tg-100 ° C) to (Tg
The range of −10 ° C.) is selected. If Tg is exceeded, thermal deformation of the film may occur, which is not preferable, and (Tg-1
If it is lower than 20 ° C., the drying speed will be remarkably slow, which is not preferable. Thermal deformation becomes less likely to occur as the residual solvent decreases. Therefore, it is preferable to adopt a method in which the temperature is initially low within the range, and then the temperature is raised stepwise or continuously. In this post-drying step, air may be blown as in the pre-drying step. The film transport speed is not particularly limited, but generally 0.5 to 15 m / min, preferably 1 to 1
It is performed in the range of 0 m / min.

【0038】本発明において、上記芳香族ポリエーテル
スルホンフィルムを製造する際には、空気雰囲気中で行
ってもよいし、窒素ガス、炭酸ガス等の不活性ガス雰囲
気中で乾燥を実施してもよい。1,3−ジオキソラン等
の可燃性の溶媒を使用する場合は、蒸発により溶媒ガス
濃度が高いため、該溶媒の爆発限界を考慮した安全性の
面からこの不活性ガス雰囲気中での乾燥方法が好まし
い。この場合、溶媒のガス濃度は3vol%以上が望ま
しい。また不活性ガス雰囲気中の酸素濃度は10vol
%以下が望ましい。
In the present invention, the aromatic polyether sulfone film may be produced in an air atmosphere or may be dried in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or carbon dioxide gas. Good. When a flammable solvent such as 1,3-dioxolane is used, since the solvent gas concentration is high due to evaporation, a drying method in an inert gas atmosphere is recommended from the viewpoint of safety considering the explosion limit of the solvent. preferable. In this case, the gas concentration of the solvent is preferably 3 vol% or more. The oxygen concentration in the inert gas atmosphere is 10 vol.
% Or less is desirable.

【0039】本発明によって得られるフィルムの厚み
は、10〜300μm、好ましくは50〜200μmの
範囲である。特に液晶表示装置を構成するプラスチック
基板、位相差フィルム用原反フィルムには50〜200
μmの厚みが好んで用いられる。これより厚いと残留溶
媒を除去することが困難であり、これより薄いと厚み斑
を抑制することが困難である。
The thickness of the film obtained according to the present invention is in the range of 10 to 300 μm, preferably 50 to 200 μm. In particular, the plastic substrate constituting the liquid crystal display device and the original film for the retardation film have a film thickness of 50 to 200.
The thickness of μm is preferably used. If it is thicker than this, it is difficult to remove the residual solvent, and if it is thinner than this, it is difficult to suppress thickness unevenness.

【0040】[0040]

【発明の効果】本発明によれば、1,3−ジオキソラン
を主体とする溶媒を含む芳香族ポリエーテルスルホン溶
液組成物中に、水および/または低級脂肪族アルコール
を少量含有することにより、溶液流延法において支持基
板からの流延フィルムの剥離性を向上することができ
る。従って透明で平滑な芳香族ポリエーテルスルホンフ
ィルムを連続的に製造するのに非常に有利である。
According to the present invention, a small amount of water and / or lower aliphatic alcohol is contained in an aromatic polyether sulfone solution composition containing a solvent mainly composed of 1,3-dioxolane, to thereby form a solution. In the casting method, the peelability of the casting film from the supporting substrate can be improved. Therefore, it is very advantageous for continuously producing a transparent and smooth aromatic polyether sulfone film.

【0041】また、少量の水および/または上記アルコ
ールを含有することで、かかる溶液組成物中の不純物で
ある環状オリゴマーを短時間で析出させ、濾過により除
去できるために、長期保存できる安定性の高いドープを
得ることができる。
Further, by containing a small amount of water and / or the above alcohol, the cyclic oligomer, which is an impurity in such a solution composition, can be precipitated in a short time and removed by filtration, so that the stability for long-term storage is improved. A high dope can be obtained.

【0042】得られるフィルムは剥離傷、剥離筋などの
ない良好な表面性、位相差が小さく、位相差及び遅相軸
のバラツキの少ない光学等方性及び均質性を有してお
り、液晶表示等に用いられる光学用フィルム、特に位相
差フィルム、プラスチック基板等に有用である。
The obtained film has good surface properties without peeling scratches and peeling streaks, has a small retardation, has optical isotropy and homogeneity with little variation in retardation and slow axis, and has a liquid crystal display. It is useful as an optical film used for the above, especially a retardation film, a plastic substrate and the like.

【0043】[0043]

【実施例】以下に実施例により本発明を詳述する。ただ
し本発明はこれに限定されるものではない。なお実施例
で行った測定項目は以下の方法で測定した。
EXAMPLES The present invention will be described in detail below with reference to examples. However, the present invention is not limited to this. The measurement items performed in the examples were measured by the following methods.

【0044】溶液粘度:東京計器(株)製B型粘度計B
H型を使用し、30℃で測定した。 ガラス転移温度:TAInstruments製 29
20型DSCを使用し、昇温速度は20℃/分で測定し
た。 フィルム膜厚:アンリツ(株)製触針式膜厚計を使用し
た。 光線透過率:島津製作所(株)製紫外可視分光器(UV
−240)を使用した。 ヘイズ値:日本電色工業(株)製自動デジタルヘイズメ
ータ−UDH−20Dを使用した。 位相差および遅相軸:自動複屈折計KOBURA−21
ADH(KSシステムズ(株)製)を使用した。 残留溶媒の定量:窒素雰囲気中で200℃で16時間加
熱し、その前後の重量測定により求めた。
Solution viscosity: B type viscometer B manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd.
It was measured at 30 ° C. using a H type. Glass transition temperature: 29 manufactured by TA Instruments
The temperature rising rate was measured at 20 ° C./min using a 20 type DSC. Film thickness: A stylus type film thickness meter manufactured by Anritsu Corporation was used. Light transmittance: Shimadzu Corporation UV-visible spectroscope (UV
-240) was used. Haze value: An automatic digital haze meter-UDH-20D manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. was used. Phase difference and slow axis: Automatic birefringence meter KOBURA-21
ADH (made by KS Systems Co., Ltd.) was used. Quantification of residual solvent: The solvent was heated at 200 ° C. for 16 hours in a nitrogen atmosphere, and the weight was measured before and after the heating.

【0045】[実施例1]水を2重量%含む1,3−ジ
オキソラン溶媒30重量部に対して、前記式(2)中の
Ar3 〜Ar6 がいずれもp−フェニレン基であり、X
が2,2−プロピレン基である繰り返し単位から主とし
てなる芳香族ポリエーテルスルホン[ηsp/c=0.50
dL/g(0.5g/dLジオキソラン中、30℃)、
ガラス転移点=193℃]10重量部を50℃で撹拌し
ながら溶解して、透明で粘ちょうなドープを得た。この
ドープの30℃における溶液粘度は3.5×103 cp
sであった。このドープを密閉容器中、50℃で一晩放
置すると環状オリゴマーAの析出によりドープが白濁し
た。この結晶を孔径5μmのフィルターを用いて濾別
後、ドープをドクターブレードを用いてフェロタイプ基
板上に流延した。この基板は新品のフェロタイプ板を十
分に洗浄、乾燥したものである。引き続き65℃で10
分、90℃で10分間加熱乾燥してからフィルムを基板
から剥離した。剥離性は極めてよく、フィルム表面に剥
離傷、剥離筋等は見られなかった。なおこの剥離時点で
のフィルム中の残留溶媒量は15.9%、膜厚は110
μmであった。同一基板を用いて同様の操作により製膜
を繰り返し、得られる各フィルムの表面に剥離傷、剥離
筋などが付くことなく剥離可能な回数を調べることで剥
離性を評価することにして、この場合引き続いて5回製
膜を繰り返したが、各フィルムの基板からの剥離性は変
化することなくいずれも良好であった。
Example 1 With respect to 30 parts by weight of a 1,3-dioxolane solvent containing 2% by weight of water, Ar 3 to Ar 6 in the above formula (2) are all p-phenylene groups, and X
Aromatic polyether sulfone [ηsp / c = 0.50] which is mainly composed of repeating units in which is a 2,2-propylene group.
dL / g (0.5 g / dL in dioxolane, 30 ° C.),
10 parts by weight of glass transition point = 193 ° C.] were dissolved with stirring at 50 ° C. to obtain a transparent and viscous dope. The solution viscosity of this dope at 30 ° C. is 3.5 × 10 3 cp
It was s. When this dope was left in a closed container at 50 ° C. overnight, the dope became cloudy due to precipitation of cyclic oligomer A. The crystals were filtered using a filter having a pore size of 5 μm, and the dope was cast on a ferrotype substrate using a doctor blade. This substrate is a new ferrotype plate thoroughly washed and dried. 10 at 65 ° C
Min, the film was peeled off from the substrate after heating and drying at 90 ° C. for 10 minutes. The peelability was extremely good, and peeling scratches and peeling streaks were not found on the film surface. The residual solvent amount in the film at the time of peeling was 15.9% and the film thickness was 110.
μm. Repeat the film formation by the same operation using the same substrate, to evaluate the peelability by examining the number of peelable without peeling scratches, peeling streaks, etc. on the surface of each film obtained, in this case Subsequently, the film formation was repeated 5 times, and the releasability of each film from the substrate was unchanged and was good.

【0046】[実施例2]エタノールを3重量%含む
1,3−ジオキソラン溶媒30重量部に対して実施例1
で用いた芳香族ポリエーテルスルホン10重量部を50
℃で撹拌しながら溶解して、透明で粘ちょうなドープを
得た。このドープの30℃における溶液粘度は2.7×
103 cpsであった。実施例1と同様に濾過後製膜し
て剥離性を調べたが、6回製膜を繰り返していずれもフ
ィルムの剥離性は良好であった。
Example 2 Example 1 was applied to 30 parts by weight of a 1,3-dioxolane solvent containing 3% by weight of ethanol.
50 parts by weight of the aromatic polyether sulfone used in
It melt | dissolved, stirring at 0 degreeC, and the transparent and viscous dope was obtained. The solution viscosity of this dope at 30 ° C. is 2.7 ×
It was 10 3 cps. The film was formed after filtration in the same manner as in Example 1, and the peelability was examined. The film formation was repeated 6 times, and the peelability of the film was good in all cases.

【0047】[実施例3]イソプロパノールを2重量%
含む1,3−ジオキソランとイソプロパノールの混合溶
媒30重量部に対して実施例1で用いた芳香族ポリエー
テルスルホン10重量部を50℃で撹拌しながら溶解し
て、透明で粘ちょうなドープを得た。このドープの30
℃における溶液粘度は3.0×103 cpsであった。
実施例1と同様に濾過後製膜して剥離性を調べたが、6
回製膜を繰り返していずれもフィルムの剥離性は良好で
あった。
Example 3 2% by weight of isopropanol
10 parts by weight of the aromatic polyether sulfone used in Example 1 was dissolved in 30 parts by weight of a mixed solvent of 1,3-dioxolane and isopropanol containing 50 parts by stirring to obtain a transparent and viscous dope. It was 30 of this dope
The solution viscosity at 0 ° C. was 3.0 × 10 3 cps.
Similar to Example 1, the film was formed after filtration and the peelability was examined.
The film was repeatedly peeled repeatedly, and the peelability of the film was good.

【0048】[比較例1]1,3−ジオキソラン30重
量部に対して実施例1で用いた芳香族ポリエーテルスル
ホン10重量部を50℃で撹拌しながら溶解して、透明
で粘ちょうなドープを得た。このドープの30℃におけ
る溶液粘度は3.2×103 cpsであった。実施例1
と同様に濾過後製膜してフィルムの剥離性を調べたとこ
ろ、2回目までは剥離性良好であったが、3回目からは
剥離強度が高くなり、フィルム表面に多数の剥離筋が見
られた。
Comparative Example 1 10 parts by weight of the aromatic polyether sulfone used in Example 1 was dissolved in 30 parts by weight of 1,3-dioxolane while stirring at 50 ° C. to give a transparent, viscous dope. Got The solution viscosity of this dope at 30 ° C. was 3.2 × 10 3 cps. Example 1
When the film was formed after filtration in the same manner as described above and the peeling property of the film was examined, the peeling property was good up to the second time, but the peeling strength increased from the third time, and many peeling lines were found on the film surface. It was

【0049】[比較例2]水を0.5重量%含む1,3
−ジオキソラン溶媒30重量部に対して実施例1で用い
た芳香族ポリエーテルスルホン10重量部を50℃で撹
拌しながら溶解して、透明で粘ちょうなドープを得た。
このドープの30℃における溶液粘度は3.1×103
cpsであった。実施例1と同様に濾過後製膜して剥離
性を調べたところ、2回目までは剥離性良好であった
が、3回目からは剥離強度が高くなり、フィルム表面に
多数の剥離筋が見られた。
[Comparative Example 2] 1,3 containing 0.5% by weight of water
10 parts by weight of the aromatic polyether sulfone used in Example 1 was dissolved in 30 parts by weight of the dioxolane solvent while stirring at 50 ° C. to obtain a transparent and viscous dope.
The solution viscosity of this dope at 30 ° C. was 3.1 × 10 3.
It was cps. When the film was formed after filtration in the same manner as in Example 1 and the peelability was examined, the peelability was good up to the second time, but the peel strength increased from the third time, and a large number of peeling lines were observed on the film surface. Was given.

【0050】[比較例3]エタノールを12重量%含む
1,3−ジオキソラン溶媒30重量部に対して実施例1
で用いた芳香族ポリエーテルスルホン10重量部を50
℃で撹拌しながら溶解させたが、溶解性が悪く白濁した
ドープしか得られなかった。
Comparative Example 3 Example 1 was applied to 30 parts by weight of a 1,3-dioxolane solvent containing 12% by weight of ethanol.
50 parts by weight of the aromatic polyether sulfone used in
It was dissolved with stirring at ℃, but the solubility was poor and only a cloudy dope was obtained.

【0051】[実施例4]水を3重量%含む1,3−ジ
オキソラン溶媒25重量部に対して、前記式(1)中の
Ar1 、Ar2 がともにp−フェニレン基である繰り返
し単位が24モル%、前記式(2)中のAr3 〜Ar6
がいずれもp−フェニレン基であり、Xが2,2−プロ
ピレン基である繰り返し単位が76モル%からなる芳香
族ポリエーテルスルホン[ηsp/c=0.42dL/g
(0.5g/dLジオキソラン中、30℃)、ガラス転
移点=196℃]10重量部を50℃で撹拌しながら溶
解して、透明で粘ちょうなドープを得た。このドープの
30℃における溶液粘度は3.4×103 cpsであっ
た。このドープを密閉容器中50℃で一晩放置すると環
状オリゴマーAの析出によりドープが白濁したが、実施
例1ほど析出物は多くなかった。結晶を孔径5μmのフ
ィルターを用いて濾別後、ドープをドクターブレードを
用いてフェロタイプ基板上に流延した。この基板は新品
のフェロタイプ板を十分に洗浄、乾燥したものである。
引き続き65℃で10分、90℃で10分間加熱乾燥し
てからフィルムを基板から剥離した。剥離性は極めてよ
く、フィルム表面に剥離傷、剥離筋等は見られなかっ
た。なおこの剥離時点でのフィルム中の残留溶媒量は1
5.5%、膜厚は108μmであった。同一基板を用い
て同様の操作を行い、フィルム製膜を5回繰り返した
が、フィルムの基板からの剥離性は変化することなくい
ずれも良好であった。
Example 4 With respect to 25 parts by weight of a 1,3-dioxolane solvent containing 3% by weight of water, a repeating unit in which both Ar 1 and Ar 2 in the above formula (1) are p-phenylene groups was used. 24 mol%, Ar 3 to Ar 6 in the above formula (2)
Are both p-phenylene groups and X is a 2,2-propylene group, and the aromatic polyether sulfone [ηsp / c = 0.42 dL / g] is composed of 76 mol% of repeating units.
(0.5 g / dL dioxolane, 30 ° C.), glass transition point = 196 ° C.] 10 parts by weight were dissolved with stirring at 50 ° C. to obtain a transparent and viscous dope. The solution viscosity of this dope at 30 ° C. was 3.4 × 10 3 cps. When this dope was allowed to stand overnight at 50 ° C. in a closed container, the dope became cloudy due to the precipitation of cyclic oligomer A, but the amount of the precipitate was not so large as in Example 1. The crystals were filtered using a filter having a pore size of 5 μm, and the dope was cast on a ferrotype substrate using a doctor blade. This substrate is a new ferrotype plate thoroughly washed and dried.
Subsequently, the film was peeled from the substrate by heating and drying at 65 ° C. for 10 minutes and 90 ° C. for 10 minutes. The peelability was extremely good, and peeling scratches and peeling streaks were not found on the film surface. The amount of residual solvent in the film at the time of peeling was 1
The film thickness was 5.5% and the film thickness was 108 μm. The same operation was performed using the same substrate, and film formation was repeated 5 times, but the peelability of the film from the substrate did not change and was good.

【0052】[比較例4]1,3−ジオキソラン25重
量部に対して実施例4で用いた芳香族ポリエーテルスル
ホン10重量部を50℃で撹拌しながら溶解して、透明
で粘ちょうなドープを得た。このドープの30℃におけ
る溶液粘度は3.3×103 cpsであった。実施例4
と同様に濾過後製膜してフィルムの剥離性を調べたとこ
ろ2回目までは剥離性良好であったが、3回目からは剥
離強度が高くなり、フィルム表面に多数の剥離筋が見ら
れた。
Comparative Example 4 10 parts by weight of the aromatic polyether sulfone used in Example 4 was dissolved in 25 parts by weight of 1,3-dioxolane while stirring at 50 ° C. to give a transparent, viscous dope. Got The solution viscosity of this dope at 30 ° C. was 3.3 × 10 3 cps. Example 4
When the film was formed after filtration in the same manner as described above and the peeling property of the film was examined, the peeling property was good up to the second time, but the peeling strength increased from the third time, and many peeling lines were observed on the film surface. .

【0053】[実施例5]水を3重量%含む1,3−ジ
オキソラン溶媒23重量部に対して、前記式(1)中の
Ar1 、Ar2 がともにp−フェニレン基である繰り返
し単位が78モル%、前記式(3)中のAr7 Ar8
よびAr9 が全てp−フェニレン基である繰り返し単位
が22モル%からなる芳香族ポリエーテルスルホン[η
sp/c=033dL/g(0.5g/dLジオキソラン
中、30℃)、ガラス転移点=223℃]10重量部を
50℃で撹拌しながら溶解して、透明で粘ちょうなドー
プを得た。このドープの30℃における溶液粘度は2.
9×103 cpsであった。このドープは室温下密閉状
態で1週間放置しても変化は見られなかった。孔径5μ
mのフィルターを用いて濾過した後、ドープをドクター
ブレードを用いてフェロタイプ基板上に流延した。この
基板は新品のフェロタイプ板を十分に洗浄、乾燥したも
のである。引き続き65℃で10分、90℃で10分間
加熱乾燥してからフィルムを基板から剥離した。剥離性
は極めてよく、フィルム表面に剥離傷、剥離筋等は見ら
れなかった。なおこの剥離時点でのフィルム中の残留溶
媒量は15.4%、膜厚は108μmであった。同一基
板を用いて同様の操作を行い製膜をさらに5回繰り返し
たが、剥離性は変化することなくいずれも良好であっ
た。
Example 5 With respect to 23 parts by weight of a 1,3-dioxolane solvent containing 3% by weight of water, a repeating unit in which both Ar 1 and Ar 2 in the above formula (1) are p-phenylene groups was used. Aromatic polyether sulfone [η] having 78 mol% and 22 mol% of repeating units in which Ar 7 Ar 8 and Ar 9 in the formula (3) are all p-phenylene groups.
10 parts by weight of sp / c = 033 dL / g (in 0.5 g / dL dioxolane, 30 ° C., glass transition point = 223 ° C.) were dissolved with stirring at 50 ° C. to obtain a transparent and viscous dope. . The solution viscosity of this dope at 30 ° C. is 2.
It was 9 × 10 3 cps. No change was observed in this dope even if it was left in a sealed state at room temperature for 1 week. Pore diameter 5μ
After filtering with a m filter, the dope was cast on a ferrotype substrate using a doctor blade. This substrate is a new ferrotype plate thoroughly washed and dried. Subsequently, the film was peeled from the substrate by heating and drying at 65 ° C. for 10 minutes and 90 ° C. for 10 minutes. The peelability was extremely good, and peeling scratches and peeling streaks were not found on the film surface. The amount of residual solvent in the film at the time of peeling was 15.4%, and the film thickness was 108 μm. The same operation was performed using the same substrate, and the film formation was repeated 5 more times. The peelability did not change and all were good.

【0054】[比較例5]1,3−ジオキソラン23重
量部に対して実施例5で用いた芳香族ポリエーテルスル
ホン10重量部を50℃で撹拌しながら溶解して、透明
で粘ちょうなドープを得た。このドープの30℃におけ
る溶液粘度は2.8×103 cpsであった。
COMPARATIVE EXAMPLE 5 10 parts by weight of the aromatic polyether sulfone used in Example 5 was dissolved in 23 parts by weight of 1,3-dioxolane while stirring at 50 ° C. to give a transparent and viscous dope. Got The solution viscosity of this dope at 30 ° C. was 2.8 × 10 3 cps.

【0055】実施例5と同様に濾過後製膜して剥離性を
調べたところ1回目は剥離性良好であったが、2回目か
らは剥離強度が高くなり、フィルム表面に多数の剥離筋
が見られた。
When the film was formed after filtration in the same manner as in Example 5 and the releasability was examined, the releasability was good at the first time, but the peel strength increased from the second time, and a large number of peeling lines were formed on the film surface. I was seen.

【0056】以上の実施例1〜5及び比較例1〜5の結
果を表1にまとめた。ここで剥離回数とはフィルム表面
に剥離傷、剥離筋などが付くことなくスムーズに剥離で
きた回数の上限を示す。表1から明らかなように、適正
量の水、エタノールおよびイソプロパノールを添加する
と基板からの剥離性が著しく向上した。
The results of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 are summarized in Table 1. Here, the number of times of peeling refers to the upper limit of the number of times that the film can be smoothly peeled without peeling scratches or peeling streaks on the film surface. As is clear from Table 1, when appropriate amounts of water, ethanol and isopropanol were added, the releasability from the substrate was remarkably improved.

【0057】[0057]

【表1】 [Table 1]

【0058】A:実施例1で用いた芳香族ポリエーテル
スルホン(前記式(2)) B:実施例4で用いた芳香族ポリエーテルスルホン(前
記式(1)/(2)=24/76) C:実施例5で用いた芳香族ポリエーテルスルホン(前
記式(1)/(3)=78/22))
A: Aromatic polyether sulfone used in Example 1 (formula (2)) B: Aromatic polyether sulfone used in Example 4 (formula (1) / (2) = 24/76) ) C: Aromatic polyether sulfone used in Example 5 (the above formula (1) / (3) = 78/22))

【0059】[実施例6、比較例6]ポリマー、濃度が
同じである実施例1のドープ(2重量%の水を含む1,
3−ジオキソラン溶液、以下Dと略記)と比較例1のド
ープ(1,3−ジオキソラン溶液、以下Eと略記)につ
いて、結晶析出速度及び濾過後のドープ安定性を比較し
た。溶解直後の両者のドープを光路長1cmのセルに入
れて測定したヘイズ値は、0.5%(D)、0.3%
(E)であった。このドープを18時間、50℃で保存
したところどちらも白色沈澱が析出したが、外見から明
らかにDのほうが析出量が多かった。これらを孔径0.
5μmのフイルターを用いて濾過した結果、濾液のヘイ
ズ値はいずれも0.1%であった。しかしながら、さら
に濾液を2日間、室温に放置した結果、ドープ(E)か
ら出発した濾液のヘイズ値は34%であったのに対し
て、ドープ(D)から出発した濾液のヘイズ値は0.1
%であり変化が認められなかった。
Example 6, Comparative Example 6 Polymer, dope of Example 1 with the same concentration (containing 1% by weight of water
The crystal precipitation rate and the dope stability after filtration were compared between the 3-dioxolane solution (abbreviated as D below) and the dope of Comparative Example 1 (1,3-dioxolane solution, abbreviated as E below). Haze values measured by putting both dopes immediately after dissolution in a cell having an optical path length of 1 cm are 0.5% (D) and 0.3%.
It was (E). When this dope was stored at 50 ° C. for 18 hours, a white precipitate was deposited in both, but from the appearance, D was clearly larger in precipitation amount. These have a pore size of 0.
As a result of filtration using a 5 μm filter, the haze value of each filtrate was 0.1%. However, as a result of further leaving the filtrate at room temperature for 2 days, the haze value of the filtrate starting from the dope (E) was 34%, while the haze value of the filtrate starting from the dope (D) was 0. 1
%, And no change was observed.

【0060】[実施例7]実施例1で用いた芳香族ポリ
エーテルスルホン溶液を用いて連続製膜を行った。キャ
スティング装置は、ろ過工程を経てドープをダイからベ
ルトへ押し出し、ベルトが4段階に区分された前乾燥炉
に接続されている方式を採用した。ベルトは表面を鏡面
仕上げした金属基板からなり、その長さは18mであ
る。また、後乾燥炉は6室に区分されたロール懸垂方式
の炉を採用した。この長さは120mである。ベルトの
搬送速度を1m/分、流延フィルム幅を50cmに設定
した。この装置を用いて流延した後、前乾燥炉の温度を
段階的に、45℃(無風)、65℃(風速1m/秒)、
90℃(風速5m/秒)に昇温し、最後に40℃にして
冷却した。そして残留溶媒量が12重量%の自立性のあ
るフィルムにした。この段階でベルトからフィルムを剥
離して後乾燥炉に送った。このときの該ベルトからの流
延フィルム(残留溶媒量が12重量%の自立性のあるフ
ィルム)の剥離性は良好であった。
[Example 7] The aromatic polyether sulfone solution used in Example 1 was used to carry out continuous film formation. The casting apparatus used was a system in which the dope was extruded from the die to the belt through a filtration process, and the belt was connected to a pre-drying furnace divided into four stages. The belt is made of a metal substrate whose surface is mirror-finished and has a length of 18 m. As the post-drying furnace, a roll-suspended furnace having 6 compartments was adopted. This length is 120 m. The belt conveyance speed was set to 1 m / min and the cast film width was set to 50 cm. After casting using this device, the temperature of the pre-drying furnace is gradually changed to 45 ° C. (no wind), 65 ° C. (wind speed 1 m / sec),
The temperature was raised to 90 ° C. (air velocity 5 m / sec), and finally 40 ° C. and cooled. Then, a self-supporting film having a residual solvent amount of 12% by weight was formed. At this stage, the film was peeled from the belt and then sent to a drying oven. At this time, the peelability of the cast film (a self-supporting film having a residual solvent amount of 12% by weight) from the belt was good.

【0061】後乾燥炉では70℃、110℃、145
℃、165℃、175℃、183℃と段階的に昇温して
乾燥フィルムを得た。得られたフィルムは剥離傷、剥離
筋は認められず、表面性に優れたものであった。厚みは
100±1.1μmであり、極めて均質であった。フィ
ルム中の残留溶媒量は0.3重量%と極めて微量であ
り、添加した水もほとんど残っていなかった。このフィ
ルムのガラス転移点は185℃であった。また550n
mの波長における光線透過率は89.2%、ヘイズ値は
0.3%であり光学的に透明であった。波長590nm
における位相差は10nm以下であり、またフィルム内
でのバラツキも少なかった。また遅相軸(フィルム面内
で屈折率が最大となる方向)のバラツキも±10°以下
であり光学的にも均質なフィルムであった。この連続製
膜試験は16時間連続して行ったが、その間ベルトから
のフィルムの剥離性は良好なままであった。
In the post-drying furnace, 70 ° C., 110 ° C., 145
C., 165.degree. C., 175.degree. C., and 183.degree. The obtained film was excellent in surface property without peeling scratches and peeling streaks. The thickness was 100 ± 1.1 μm, which was extremely uniform. The amount of residual solvent in the film was extremely small at 0.3% by weight, and almost no added water remained. The glass transition point of this film was 185 ° C. Also 550n
The light transmittance at the wavelength of m was 89.2%, and the haze value was 0.3%, which was optically transparent. Wavelength 590nm
The retardation was less than 10 nm, and the variation within the film was small. Further, the variation of the slow axis (direction in which the refractive index becomes maximum in the film plane) was ± 10 ° or less, and the film was optically uniform. This continuous film forming test was conducted continuously for 16 hours, during which the peelability of the film from the belt remained good.

【0062】[比較例7]比較例1で用いた芳香族ポリ
エーテルスルホン溶液を用いて連続製膜試験を行った。
実施例7と同じ装置を使い同条件で製膜を行ったが、ド
ープの流延を開始して1時間経過した頃から流延フィル
ムのベルトからの剥離強度が高くなり剥離性が悪化して
いった。最終的に乾燥したフィルムにも次第に剥離傷、
剥離筋が顕著に現れるようになった。
Comparative Example 7 A continuous film forming test was conducted using the aromatic polyether sulfone solution used in Comparative Example 1.
Film formation was carried out using the same equipment as in Example 7 under the same conditions, but the peel strength from the belt of the cast film increased from the time 1 hour after the start of casting the dope, and the peelability deteriorated. It was. Peeling scratches gradually on the finally dried film,
Peeling muscles became prominent.

【0063】[実施例8]実施例5で用いた芳香族ポリ
エーテルスルホン溶液を用いて連続製膜を行った。製膜
装置は実施例9と同じものを使用した。ベルトの搬送速
度を1m/分、流延フィルム幅を50cmに設定した。
この装置を用いて流延した後、前乾燥炉の温度を段階的
に、45℃(無風)、65℃(風速1m/秒)、90℃
(風速5m/秒)に昇温し、最後に40℃にして冷却し
た。そして残留溶媒量が13重量%の自立性のあるフィ
ルムにした。この段階でベルトからフィルムを剥離して
後乾燥炉に送った。このときの該ベルトからの流延フィ
ルム(自立性のある該フィルム)の剥離性は良好であり
の剥離性は良好であり後乾燥炉では75℃、110℃、
140℃、175℃、190℃、200℃と段階的に昇
温して乾燥フィルムを得た。得られたフィルムは剥離
傷、剥離筋は認められず、表面性に優れたものであっ
た。厚みは100±1.4μmであり、極めて均質であ
った。フィルム中の残留溶媒量は0.3重量%と極めて
微量であり、添加した水もほとんど残っていなかった。
このフィルムのガラス転移点は216℃であった。また
550nmの波長における光線透過率は88.2%、ヘ
イズ値は0.3%であり光学的に透明であった。波長5
90nmにおける位相差は10nm以下であり、またフ
ィルム内でのバラツキも少なかった。また遅相軸(フィ
ルム面内で屈折率が最大となる方向)のバラツキも±1
0°以下であり光学的にも均質なフィルムであった。こ
の連続製膜試験は16時間連続して行ったが、その間ベ
ルトからのフィルムの剥離性は良好なままであった。
Example 8 Continuous film formation was carried out using the aromatic polyether sulfone solution used in Example 5. The same film forming apparatus as in Example 9 was used. The belt conveyance speed was set to 1 m / min and the cast film width was set to 50 cm.
After casting using this device, the temperature of the pre-drying furnace is gradually changed to 45 ° C (no wind), 65 ° C (wind speed 1 m / sec), 90 ° C.
The temperature was raised to (wind speed of 5 m / sec), and finally 40 ° C. and cooled. Then, a self-supporting film having a residual solvent amount of 13% by weight was formed. At this stage, the film was peeled from the belt and then sent to a drying oven. At this time, the peelability of the cast film (the film having self-supporting property) from the belt is good, and the peelability is good. In the post-drying oven, 75 ° C, 110 ° C,
The temperature was raised stepwise at 140 ° C, 175 ° C, 190 ° C and 200 ° C to obtain a dry film. The obtained film was excellent in surface property without peeling scratches and peeling streaks. The thickness was 100 ± 1.4 μm, which was extremely uniform. The amount of residual solvent in the film was extremely small at 0.3% by weight, and almost no added water remained.
The glass transition point of this film was 216 ° C. The light transmittance at a wavelength of 550 nm was 88.2% and the haze value was 0.3%, which was optically transparent. Wavelength 5
The retardation at 90 nm was 10 nm or less, and the variation within the film was small. Also, the variation of the slow axis (direction in which the refractive index is maximum in the film plane) is ± 1.
The film was 0 ° or less and was an optically homogeneous film. This continuous film forming test was conducted continuously for 16 hours, during which the peelability of the film from the belt remained good.

【0064】[比較例8]比較例5で用いた芳香族ポリ
エーテルスルホン溶液を用いて連続製膜試験を行った。
実施例8と同じ装置を使い同条件で製膜を行ったが、ド
ープの流延を開始して40分経過した頃から流延フィル
ムのベルトからの剥離強度が高くなり剥離性が悪化して
いった。最終的に乾燥したフィルムにも次第に剥離傷、
剥離筋が顕著に現れるようになった。
[Comparative Example 8] A continuous film-forming test was conducted using the aromatic polyether sulfone solution used in Comparative Example 5.
Film formation was carried out using the same equipment as in Example 8 under the same conditions, but the peeling strength from the belt of the cast film increased from the time when 40 minutes had elapsed after starting the casting of the dope, and the peelability deteriorated. It was. Peeling scratches gradually on the finally dried film,
Peeling muscles became prominent.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08K 5/06 C08K 5/06 C08L 71/10 LQH C08L 71/10 LQH // B29K 81:00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI Technical display location C08K 5/06 C08K 5/06 C08L 71/10 LQH C08L 71/10 LQH // B29K 81:00

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 水および炭素数1〜6の直鎖状または分
岐鎖状の脂肪族アルコールの少なくとも1種を1〜10
重量%と、1,3−ジオキソランを主体とする溶媒99
〜90重量%とからなる溶媒系15〜90重量部、及び
芳香族ポリエーテルスルホン10重量部を含有してなる
芳香族ポリエーテルスルホン溶液組成物。
1. Water and at least one linear or branched aliphatic alcohol having 1 to 6 carbon atoms in an amount of 1 to 10
%, And solvent 99 mainly composed of 1,3-dioxolane 99
An aromatic polyether sulfone solution composition comprising 15 to 90 parts by weight of a solvent system consisting of ˜90% by weight, and 10 parts by weight of aromatic polyether sulfone.
【請求項2】 請求項1に記載の溶液組成物を支持基板
上に流延し、溶媒を含む流延フィルムを加熱して溶媒を
蒸発させることを特徴とする芳香族ポリエーテルスルホ
ンフィルムの製造方法。
2. A method for producing an aromatic polyether sulfone film, which comprises casting the solution composition according to claim 1 on a supporting substrate and heating a casting film containing a solvent to evaporate the solvent. Method.
JP5701595A 1995-03-16 1995-03-16 Aromatic polyether sulfone solution composition and method for producing film Pending JPH08253680A (en)

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