JPH08255334A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH08255334A JPH08255334A JP7084505A JP8450595A JPH08255334A JP H08255334 A JPH08255334 A JP H08255334A JP 7084505 A JP7084505 A JP 7084505A JP 8450595 A JP8450595 A JP 8450595A JP H08255334 A JPH08255334 A JP H08255334A
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Abstract
ることであり、特にMEテープとのヘッド当たり互換性
が良好で、出力低下や目詰まりがなく、かつヘッド摩耗
が少ない媒体を提供する。 【構成】 非磁性支持体上に、主として無機粉末と結合
剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも強磁
性金属粉末と結合剤とを含む一層以上の磁性層を設けた
磁気記録媒体において、前記磁性層の厚みが0.05μ
以上0.8μ以下で、磁性層に含まれる磁性体の主成分
がFeであり、Feに対して、Coを10原子%以上4
0原子%以下、Yを1.5原子%以上10原子%以下含
むことを特徴とする磁気記録媒体。
Description
タル信号を高密度で記録再生する磁気記録媒体に関する
ものであり、更に詳しくは高周波での出力、CNRに優
れ、蒸着型磁気テ−プとの互換性が良好でヘッド摩耗が
少ない塗布型磁気記録媒体に関するものである。
ープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く用
いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記録波
長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデジ
タル方式まで検討されている。この高密度化の要求に対
して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒体が検討さ
れているが、生産性、腐食性等の実用信頼性の点で強磁
性粉末を結合剤中に分散して、支持体に塗布したいわゆ
る塗布型の磁気記録媒体が優れる。塗布型磁気記録媒体
としては、強磁性酸化鉄、Co変性強磁性酸化鉄、Cr
O2 、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を
非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。しかし
ながら、金属薄膜に対して塗布型磁気記録媒体は磁性体
の充填度が低いために電磁変換特性が劣る。
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては十分なものではない。また、近年、高密度化と共
に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚い
と出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚み
損失の問題が大きくなっており、極薄層の塗布型磁気記
録媒体も提案されている。また、近年Hi−8や民生用
デジタルVCRでは金属薄膜を蒸着したテ−プ、いわゆ
るME(metal evaporated)テ−プが実用化されてきてお
り、合金粉末テ−プいわゆるMP(metal particulate)
テ−プとMEテ−プとの両者が使用されるシステムが実
用化されてきている。
れた、DVCではHi−8MEテープより更に性能が高
いMEテープがサブリファレンスとして、設定されてい
る。このMEテープは従来のHi−8MEテープと磁性
体組成が異なり、Co−Ni合金からCo系へ変更して
いる。更に、金属薄膜を保護するために、DLC(Diam
ond like carbon )膜を設けている。
ためには、MPテープもMEテープ同様、磁性層を薄層
化して高出力化を図らねばならない。また、MEテープ
は硬い金属と表層を保護するDLC(Diamond like car
bon)膜を有するので、MPテープとはヘッド当たりが異
なる。さらに、DVC用MEテープはヘッド摩耗が従来
のHi8−MEテープに比べて非常に少なくなっている
ので、DVCではヘッド先端の有効厚みがこれまでのシ
ステムに比べて少なく設計している。
少なくするために、磁性層内にモース硬度が高い研磨材
を添加する事が一般的である。しかしながら、研磨材を
多く添加するとヘッド摩耗が増加する弊害が出てくる。
逆に、研磨材を減らして、ヘッド摩耗を減らそうとする
と、目詰まりや出力低下が発生し易くなる。本出願人は
下層に非磁性層を設けて、上層磁性層を薄くすることに
よる極薄層磁気記録媒体を提案してきた。
3297号には、平均長軸長が0.3μm未満で結晶子
サイズが300A未満である強磁性粉末を分散し、非磁
性層上に塗布する媒体が開示されているが、本発明では
必ずしもMEテープ同等以下のヘッド摩耗とMEテープ
とのヘッド当たり互換性を得ることができなかった。
みを0.3μ未満にし、かつ厚みの標準偏差を一定の範
囲に納めることにより、オーバーライト特性(1.9M
Hzの信号を7.6MHzの信号でオーバーライト)と
デジタル記録時の歪が少ない媒体を得る事が開示されて
いるが、MEテープとのヘッド当たり互換性及びヘッド
摩耗に関する開示はない。
みを1μm以下、かつその厚み変動を規制する事によ
り、短波長領域での自己減磁損失を低減し、平滑な磁性
層によりスペース損失を排除した高出力を、低域から高
域に至るまで達成できるMEテ−プに匹敵する性能のM
Pテ−プが提供できる旨の開示があり、ヘッド当たりが
良好でかつ保存安定性、走行耐久性に優れ、ドロップア
ウト、ブロックエラーレートが低く、エッジダメージが
少ない磁気記録媒体を提供するとしているが、DLC膜
を有する高性能MEテープとのヘッド当たり互換性を改
良する事に関する開示はない。
結合剤と半固状または液状の添加剤のみからなり、磁性
層の厚みが1μm以下の磁気記録媒体を開示し、面あれ
をを防止し、波形応答性、オーバーライト特性(10M
Hzの信号を20MHzの信号でオーバーライト)、4
0MHzでの出力等を改善するとしているが、MEテー
プとのヘッド当たり互換性及びヘッド摩耗に関する記載
はない。
中のFeに対するAlと希土類元素との比率を規定し、
電磁変換特性、走行耐久性が改良されることが開示され
ているが、Co量や希土類にYの開示はあるが、MEテ
ープとのヘッド当たり互換性やヘッド摩耗との関係は開
示されておらず、本願の目的を達成しなかった。
が良好な磁気記録媒体を提供することであり、特にME
テープとのヘッド当たり互換性が良好で、出力低下や目
詰まりがなく、かつヘッド摩耗が少ない媒体を得ること
が目的である。
る高性能MEテープとのヘッド当たり互換性を確保しつ
つ、ヘッド摩耗を低減し、かつMEテープ同等以上の電
磁変換特性を有する磁気記録媒体を研究してきた。その
結果、以下の要件を満たすと、先の目的を達成すること
を明らかにした。すなわち、非磁性支持体上に、主とし
て無機粉末と結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上
に少なくとも強磁性金属粉末と結合剤とを含む一層以上
の磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記磁性層の
厚みが0.05μ以上0.8μ以下で、磁性層に含まれ
る磁性体の主成分がFeであり、Feに対して、Coを
10原子%以上40原子%以下、Yを1.5原子%以上
10原子%以下含むことを特徴とする磁気記録媒体であ
る。
る。 (1)前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主として、
粒径0.08μm以下の粒状非磁性金属酸化物であるこ
と。 (2)前記下層塗布層に含まれる無機粉末が主として、
長軸長0.3μm以下でアスペクト比が2〜20の針状
非磁性金属酸化物であること。
Hcは1800Oe以上、3500Oe以下、かつσS が1
25emu/g 以上、180emu/g 以下の金属磁性粉末を用
いること。その際、磁性体には実質的にNiを含まない
事が好ましい。 (4)前記金属磁性体の長軸長が0.04μm以上0.
13μm以下、結晶子サイズが100A以上220A以
下、針状比が3以上10以下であること。
磁性体に対して、8重量%以上24重量%以下、好まし
くは9重量%以上22重量%以下、更に好ましくは10
重量%以上15重量%以下であること。 (6)前記磁性層に含まれる非磁性粉末の含有量が2重
量%以上15重量%以下であること。
ネートを含まず、下層非磁性層分散液にポリイソシアネ
ートを含むこと。 (8)前記磁性層に含まれるモース硬度6以上の非磁性
粉末を磁性体100重量部に対して、2重量部以上15
重量部以下、好ましくは2.2重量部以上10重量部以
下、更に好ましくは2.5重量部以上7.5重量部以下
含むこと。
6以上の最も多く含まれている非磁性粉末の平均粒子径
が、0.05μm以上0.4μm以下であること。 (10)前記金属磁性体中に含まれるCoがFeに対
し、好ましくは10原子%以上40原子%以下、更に好
ましくは15原子%以上35原子%以下、より好ましく
は20原子%以上35原子%以下であること。
量が、0.1原子%以上5原子%以下であること。
達成される。従来用いられていた強磁性金属粉末に含ま
れるCoはせいぜい、5原子%が限度であったが、これ
では、高性能MEテープと良好なヘッド当たり互換性を
取ることは出来なかった。我々は、高性能MEテープが
Coを主成分とする磁性層を有するので、それになら
い、Feを主成分とはするが、Coを更に多く添加した
Fe/Co合金の磁性粉末を結合剤中に分散すること
で、同じくCo主成分の高性能MEテープとヘッドの馴
染みがよくなると考えた。結果は実施例に示すが、ME
テープと同等程度の磁性層厚みである0.05〜0.8
μmに設定すると、非常に良好なヘッド当たりを確保す
ることができるようになった。また、従来、焼結防止剤
にはAlを含む素材が用いられていたが、Co添加量を
増加させるためには焼結防止剤にYを含む素材を採用し
て、それを所定量使用することで、Co量を従来以上に
多量に含有でき、かつ粒子サイズの揃ったFe/Co合
金を得る事ができるようになった。ヘッド摩耗を低減す
るためには、以上のように、Co及びYを磁性体に添加
することでヘッドとの馴染みがよくなり、かつ、ヘッド
との摺動もなめらかになったので、摩耗も減ったものと
推定している。
する。本発明の下層塗布層に用いられる無機粉末は、非
磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金
属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の
無機質化合物から選択することができる。無機化合物と
しては例えばα化率90%以上のα−アルミナ、β−ア
ルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸
化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コ
ランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、
二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タング
ステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭
酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化
モリブデンなどが単独または組合せて使用される。特に
好ましいのは、入手の容易さ、コスト、粒度分布の小さ
さ、機能付与の手段が多い事等から、酸化チタン、酸化
亜鉛、α−酸化鉄、硫酸バリウム、アルミナ(Al2 O
3 )であり、更に好ましいのは酸化チタン、α−酸化鉄
である。これら非磁性粉末の粒子サイズは0.005〜
2μmが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる
非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒
径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。
とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは0.0
1μm〜0.2μmである。タップ密度は0.05〜2
g/ml、好ましくは0.2〜1.5g/mlである。
非磁性粉末の含水率は0.1〜5重量%、好ましくは
0.2〜3重量%、更に好ましくは0.3〜1.5重量
%である。非磁性粉末のpHは2〜11であるが、pH
は5〜10の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積
は1〜100m2 /g、好ましくは5〜70m2 /g、
更に好ましくは10〜65m2 /gである。非磁性粉末
の結晶子サイズは0.004μm〜1μmが好ましく、
0.04μm〜0.1μが更に好ましい。DBPを用い
た吸油量は5〜100ml/100g、好ましくは10〜
80ml/100g、更に好ましくは20〜60ml/10
0gである。比重は1〜12、好ましくは3〜6であ
る。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良
い。
ましく、本来ないことが最も好ましいと考えられる。本
発明に用いられる上記無機粉体のモース硬度は4以上、
10以下のものが好ましい。これらの粉体表面のラフネ
スファクターは0.8〜1.5が好ましく、更に好まし
いラフネスファクターは0.9〜1.2である。無機粉
体のSA(ステアリン酸)吸着量は1〜20μmol /m
2 、更に好ましくは2〜15μmol /m2 である。下層
塗布層非磁性粉体の25℃での水への湿潤熱は200er
g/cm2 〜600erg/cm2 の範囲にあることが好ましい。
また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することがで
きる。100〜400℃での表面の水分子の量は1〜1
0個/100Aが適当である。水中での等電点のpH
は、3〜6の間にあることが好ましい。
O2、TiO2、ZrO2、SnO2、Sb2O3 、ZnO3、Y2O3で表面処理
することが好ましい。特に分散性に好ましいのはAl2O
3 、SiO2、TiO2、ZrO2であるが、更に好ましいのはAl2O
3 、SiO2、ZrO2である。これらは組み合わせて使用して
も良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応
じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアル
ミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、
またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処
理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質
で密である方が一般には好ましい。
末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友
化学製HIT-100 、ZA-G1 、戸田工業社製αヘマタイト、
DPN-250 、DPN-250BX 、DPN-245 、DPN-270BX 、石原産
業製酸化チタンTTO-51B 、TTO-55A 、TTO-55B 、TTO-55
C 、TTO-55S 、TTO-55D 、SN-100、αヘマタイトE270、
E271、E300、チタン工業製STT-4D、STT-30D 、STT-30、
STT-65C 、テイカ製MT-100S 、MT-100T 、MT-150W 、MT
-500B 、MT-600B 、MT-100F 、MT-500HD、堺化学製FINE
X-25、BF-1、BF-10 、BF-20 、ST-M、同和鉱業製DEFIC-
Y 、DEFIC-R 、日本アエロジル製AS2BM 、TiO2P25 、宇
部興産製100A、500A 、チタン工業製Y-LOP 及びそれを
焼成したものが挙げられる。
α−酸化鉄である。α−酸化鉄(ヘマタイト)は以下の
ような諸条件の基で作製される。即ち、本発明における
α−Fe2 O3 粒子粉末は、通常の第一鉄水溶液に等
量以上水酸化アルカリ水溶液を加えて得られる水酸化第
一鉄コロイドを含む懸濁液をpH11以上にて80℃以
下の温度で酸素含有ガスを通気して酸化反応を行う事に
より針状ゲータイト粒子を生成させる方法、第一鉄塩
水溶液と炭酸アルカリ水溶液とを反応させて得られるF
eCO3 を含む懸濁液に酸素含有ガスを通気して酸化反
応を行う事により紡錘状を呈したゲータイト粒子を生成
させる方法、第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸化アル
カリ水溶液または炭酸アルカリ水溶液を添加して得られ
る水酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含
有ガスを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイ
ト核粒子を生成させ、次いで、該針状ゲータイト核粒子
を含む第一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中のFe2+
に対し等量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加した後、
酸素含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒子を成
長させる方法及び第一鉄水溶液と等量未満の水酸化ア
ルカリまたは炭酸アルカリ水溶液を添加して得られる水
酸化第一鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガ
スを通気して酸化反応を行う事により針状ゲータイト核
粒子を生成させ、次いで、酸性乃至中性領域で前記針状
ゲータイト核粒子を成長させる方法等により得られた針
状ゲータイト粒子を前駆体粒子とする。
末の特性向上等の為に通常添加されているNi、Zn,
P、Si等の異種元素が添加されていても支障はない。
00〜500℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じ
て、更に350〜800℃の温度範囲で加熱処理により
焼き鈍しをして針状α−Fe2 O3 を粒子を得る。
イト粒子が表面にP、Si、B、Zr、Sb等の焼結防
止剤が付着していても支障はない。
より焼き鈍しをするのは、脱水されて得られた針状α−
Fe2 O3 粒子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍し
により、粒子の極表面を溶融させて空孔ををふさいで平
滑な表面形態とさせる事が好ましいからである。
粒子粉末は、前記脱水または焼き鈍しをして得られた針
状α−Fe2 O3 粒子を水溶液中に分散して懸濁液と
し、Al化合物を添加しpH調整をして前記α−Fe2
O3 の粒子表面に前記添加化合物を被覆した後、濾過、
水洗、乾燥、粉砕、必要により更に脱気・厚密処理等を
施す事により得られる。用いられるAl化合物は酢酸ア
ルミニウム、硫酸アルミニウム、塩化アルミニウム、硝
酸アルミニウム等のアルミニウム塩やアルミン酸ソーダ
等のアルミン酸アルカリ塩を使用することができる。こ
の場合のAl化合物添加量はα−Fe2 O3 粒子粉末に
対してAl換算で0.01〜50重量%である。0.0
1重量%未満である場合には、結合剤樹脂中における分
散が不十分であり、50重量%を超える場合には粒子表
面に浮遊するAl化合物同士が相互作用するために好ま
しくない。本発明における下層の非磁性粉末において
は、Al化合物とともにSi化合物を始めとして、P、
Ti、Mn、Ni、Zn、Zr、Sn、Sbから選ばれ
る化合物の1種または2種以上を用いて被覆することも
できる。Al化合物とともに用いるこれらの化合物の添
加量は、それぞれα−Fe2 O3 粒子粉末に対して0.
01〜50重量%の範囲である。0.01重量%未満で
ある場合には添加による分散性向上の効果が殆どなく、
50重量%を超える場合には、粒子表面以外に浮遊する
化合物同士が相互作用をする為に好ましくない。
ある。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法
がある。硫酸法はイルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸解
し、Ti、Feなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を
晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製
後、熱加水分解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させ
る。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径
調節剤などを添加した後、80〜1000℃で焼成すれ
ば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水
分解の時に添加される核剤の種類により分けられる。こ
の粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して、
酸化チタンを作成する。塩素法は原鉱石は天然ルチルや
合成ルチルが用いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化
され、TiはTiCl4 に、FeはFeCl2 となり、
冷却により固体となった酸化鉄は液体のTiCl4 と分
離される。得られた粗TiCl4 は精留により精製した
後核生成剤を添加し、1000℃以上の温度で酸素と瞬
間的に反応させ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工
程で生成した粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための
仕上げ方法は硫酸法と同じである。
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれ
る。まず、所定量のAl、Si、Ti、Zr、Sb、S
n、Znなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸ま
たはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チタ
ン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカンテ
ーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリー
pHを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済み
ケーキはスプレードライヤーまたはハンドドライヤーで
乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕さ
れ、製品になる。また、水系ばかりでなく酸化チタン粉
体にAlCl3 、SiCl4 の蒸気を通じその後水蒸気
を流入してAl、Si表面処理を施すことも可能であ
る。その他の顔料の製法については、G.D.Parfitt and
K.S.W.Sing ”Characterization of Powder Surfaces
”Academic Press,1976 を参考にすることができる。
て公知の効果である表面電気抵抗Rsを下げること、光
透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイ
クロビッカース硬度を得ることができる。下層塗布層の
マイクロビッカース硬度は通常、25〜60kg/mm2 、
好ましくはヘッド当たりを調整するために、30〜50
kg/mm2 であり、NEC製薄膜硬度計HMA−400を
用いて、稜角80度、先端半径0.1μmのダイヤモン
ド製三角錐針を圧子先端に用いて測定する。光透過率は
一般に波長900nm程度の赤外線の吸収が3%以下、
例えばVHSテープでは0.8%以下であることが規格
化されている。このためにはゴム用ファ−ネス、ゴム用
サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック、等
を用いることができる。
00m2 /g、好ましくは150〜400m2 /g、D
BP吸油量は20〜400ml/100g、好ましくは3
0〜200ml/100gである。カ−ボンブラックの粒
子径は5μm〜80μm、好ましくは10〜50μm、
さらに好ましくは10〜40μmである。カ−ボンブラ
ックのpHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タッ
プ密度は0.1〜1g/mlが好ましい。本発明に用いら
れるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボット
社製BLACKPEARLS 2000、1300、1
000、900、800、880、700、VULCA
N XC−72、三菱化成工業社製#3050B、31
50B、3250B、#3750B、#3950B、#
950、#650B、#970B、#850B、MA−
600、MA−230、#4000、#4010、コン
ロンビアカ−ボン社製CONDUCTEX SC、RA
VEN 8800、8000、7000、5750、5
250、3500、2100、2000、1800、1
500、1255、1250、アクゾー社製ケッチェン
ブラックECなどがあげられる。カ−ボンブラックを分
散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用
しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用し
てもかまわない。また、カ−ボンブラックを塗料に添加
する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。こ
れらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して50
重量%を越えない範囲、非磁性層総重量の40%を越え
ない範囲で使用できる。これらのカ−ボンブラックは単
独、または組合せで使用することができる。
えば「カ−ボンブラック便覧」(カ−ボンブラック協会
編)を参考にすることができる。また下層塗布層には有
機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例え
ば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン系
樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料
が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエス
テル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系
樹脂粉末、ポリフッ化エチレン系樹脂粉末も使用するこ
とができる。その製法は、特開昭62−18564号、
特開昭60−255827号に記されているようなもの
が使用できる。
設けることが行われているが、これは支持体と磁性層等
の接着力を向上させるために設けられるものであって、
厚さも0.5μm以下が一般的である。
剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層のそれが適
用できる。特に、バインダー量、種類、添加剤、分散剤
の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適
用できる。
発明の上層磁性層に使用する強磁性粉末としては、α−
Feを主成分とする強磁性合金粉末が好ましい。これら
の強磁性粉末には所定の原子以外にAl、Si、S、S
c、Ca、Ti、V、Cr、Cu、Y、Mo、Rh、P
d、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、Ta、W、Re、
Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce、Pr、Nd、
P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、Bなどの原子を含
んでもかまわない。特に、金属磁性体の場合はAl、S
i、Ca、Y、Ba、La、Nd、Co、Ni、Bがα
−Fe以外に含まれる元素として重要である。これらの
強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭44−14090
号、特公昭45−18372号、特公昭47−2206
2号、特公昭47−22513号、特公昭46−284
66号、特公昭46−38755号、特公昭47−42
86号、特公昭47−12422号、特公昭47−17
284号、特公昭47−18509号、特公昭47−1
8573号、特公昭39−10307号、特公昭46−
39639号、米国特許第3026215号、同303
1341号、同3100194号、同3242005
号、同3389014号などに記載されている。
ついては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよ
い。強磁性合金微粉末の公知の製造方法により得られた
ものを用いることができ、下記の方法を挙げることがで
きる。複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)と水素など
の還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元
性気体で還元してFeあるいはFe−Co粒子などを得
る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁
性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸
塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する
方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性合
金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬し
たのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含
有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥さ
せる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分
圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを
施したものでも用いることができる。
よる比表面積で表せば45〜80m2 /gであり、好ま
しくは50〜70m2 /gである。40m2 /g以下で
はノイズが高くなり、80m2 /g以上では表面性が得
にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結
晶子サイズは350〜80Aであり、好ましくは250
〜100A、更に好ましくは200〜140Aである。
磁性金属粉末のσS は125〜180emu/g が好まし
く、さらに好ましくは110emu/g 〜170emu/g 、更
に好ましくは125〜160emu/g である。金属粉末の
抗磁力は1,800Oe以上3,500Oe以下が好まし
く、更に好ましくは1,800Oe以上3000Oe以下で
ある。強磁性粉末の針状比は3以上10以下が好まし
く、更に好ましくは5以上12以下である。強磁性粉末
の含水率は0.01〜2%とするのが好ましい。結合剤
の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好
ましい。
合せにより最適化することが好ましい。その範囲は4〜
12であるが、好ましくは6〜10である。強磁性粉末
は必要に応じ、Al、Si、Pまたはこれらの酸化物な
どで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性粉
末に対し0.1〜10%であり表面処理を施すと脂肪酸
などの潤滑剤の吸着が100mg/m2 以下になり好ま
しい。強磁性粉末には可溶性のNa、Ca、Fe、N
i、Srなどの無機イオンを含む場合がある。これら
は、本質的に無い方が好ましいが、200ppm以下で
あれば特に特性に影響を与えることは少ない。
孔が少ないほうが好ましくその値は20容量%以下、さ
らに好ましくは5容量%以下である。また形状について
は先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針
状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。強磁性
粉末のSFDが0.6以下を達成するためには、強磁性
粉末のHcの分布を小さくする必要がある。尚、SFD
が0.6以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が
高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少な
くなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。強磁性
粉末のHcの分布を小さくするためには、ゲ−タイトの
粒度分布を良くする、γ−ヘマタイトの焼結を防止する
方法がある。
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−100〜150℃、数平均分子量が1,0
00〜200,000、好ましくは10,000〜10
0,000、重合度が約50〜1,000程度のもので
ある。
ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−との混合物、ポリエステルポリオ
−ルとポリイソシアネ−トとの混合物、ポリウレタンと
ポリイソシアネートとの混合物等があげられる。これら
の樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンド
ブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線
硬化型樹脂を下層塗布層、または上層磁性層に使用する
ことも可能である。
昭62−256219号に詳細に記載されている。以上
の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいも
のとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−ル樹脂、塩化ビニ
ル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体の中から選ばれる
少なくとも1種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこ
れらにポリイソシアネ−トを組み合わせたものがあげら
れる。ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレ
タン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テルポリエ
ステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレタン、
ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリカプ
ロラクトンポリウレタン、ポリオレフィンポリウレタン
など公知のものが使用できる。ここに示したすべての結
合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るために
は必要に応じ、−COOM、−SO3 M、−OSO3
M、−P=O(OM)2 、−O−P=O(OM)2 、
(以上につきMは水素原子またはアルカリ金属塩基)、
−OH、−NR2 、−N+R3 (Rは炭化水素基)、エ
ポキシ基、−SH、−CN、スルホベタイン、ホスホベ
タイン、カルボキシベタインなどから選ばれる少なくと
もひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入し
たものを用いることが好ましい。このような極性基の量
は10-1〜10-8当量/gであり、好ましくは10-2〜
10-6当量/gである。
的な例としてはユニオンカ−バイト社製VAGH、VY
HH、VMCH、VAGF、VAGD、VROH、VY
ES、VYNC、VMCC、XYHL、XYSG、PK
HH、PKHJ、PKHC、PKFE、日信化学工業社
製MPR−TA、MPR−TA5、MPR−TAL、M
PR−TSN、MPR−TMF、MPR−TS、MPR
−TM、MPR−TAO、電気化学社製1000W、D
X80、DX81、DX82、DX83、100FD、
日本ゼオン社製MR−104、MR−105、MR11
0、MR100、400X−110A、日本ポリウレタ
ン社製ニッポランN2301、N2302、N230
4、大日本インキ社製パンデックスT−5105、T−
R3080、T−5201、バ−ノックD−400、D
−210−80、クリスボン6109、7209、東洋
紡社製バイロンUR8200、UR8300、UR−8
600、UR−5500、UR−4300、RV53
0、RV280、FB−84、FB−79、大日精化社
製ダイフェラミン4020、5020、5100、53
00、9020、9022、7020、三菱化成社製M
X5004、三洋化成社製サンプレンSP−150、T
IM−3003、TIM−3005、旭化成社製サラン
F310、F210などがあげられる。この中でMR−
104、MR110、MPR−TA、UR−8200、
UR8300、UR−8600、UR−5500、UR
−4300、TIM−3005が好ましい。
性粉末に対し、5〜25重量%の範囲、好ましくは8〜
22重量%の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用
いる場合は5〜30重量%、ポリウレタン樹脂を用いる
場合は2〜20重量%、ポリイソシアネ−トは2〜20
重量%の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好まし
い。特に、上層にポリイソシアネートを含まず、下層に
ポリイソシアネートを含む構成が望ましい。
合はガラス転移温度が−50〜100℃、破断伸びが1
00〜2,000%、破断応力は0.05〜10Kg/
cm2 、降伏点は0.05〜10Kg/cm2 が好まし
い。
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ下層塗布層と上層磁性層、その他磁性層と
で変えることはもちろん可能であり、多層磁性層に関す
る公知技術を適用できる。例えば、上下層、中間層でバ
インダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らす
ためには上層磁性層のバインダー量を増量することが有
効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にする為
には、上層磁性層以外の磁性層か中間層のバインダー量
を多くして柔軟性を持たせることにより達成される。
は、トリレンジイソシアネ−ト、4−4’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−1,
5−ジイソシアネ−ト、o−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製コロネートL、コロネ−トHL、コロネ−
ト2030、コロネ−ト2031、ミリオネ−トMR、
ミリオネ−トMTL、武田薬品社製タケネ−トD−10
2、タケネ−トD−110N、タケネ−トD−200、
タケネ−トD−202、住友バイエル社製デスモジュ−
ルL、デスモジュ−ルIL、デスモジュ−ルNデスモジ
ュ−ルHL、大日本インキ製バーノックD502などが
あり、これらを単独または硬化反応性の差を利用して二
つもしくはそれ以上の組合せで下層塗布層、上層磁性層
とも用いることができる。
ム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、
アセチレンブラックなどを用いることができる。比表面
積は5〜500m2 /g、DBP吸油量は10〜400
ml/100g、粒子径は5mμ〜300mμ、pHは
2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ密度は0.
1〜1g/ccが好ましい。本発明に用いられるカ−ボン
ブラックの具体的な例としてはキャボット社製BLAC
KPEARLS 2000、1300、1000、90
0、800、700、VULCAN XC−72、旭カ
−ボン社製#80、#60、#55、#50、#35、
三菱化成工業社製#2400B、#2300、#5、#
900、#950、#970、#1000、#30、#
40、#10B、コンロンビアカ−ボン社製CONDU
CTEX SC、RAVEN 150、50、40、1
5などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらの
カ−ボンブラックは単独、または組合せで使用すること
ができる。カ−ボンブラックを使用する場合は強磁性粉
末に対する量の0.1〜30%で用いることが好まし
い。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカ−ボンブラックは上層磁性層、
下層塗布層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒
子サイズ、吸油量、電導度、pHなどの先に示した諸特
性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能
である。本発明の磁性層で使用できるカ−ボンブラック
は例えば「カ−ボンブラック便覧」(カ−ボンブラック
協会編)を参考にすることができる。
90%以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイヤモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカ−
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素など、主
としてモ−ス硬度6以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体
(研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの)を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が90%以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは
0.01〜2μmが好ましいが、必要に応じて粒子サイ
ズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも
粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもでき
る。タップ密度は0.3〜2g/cc、含水率は0.1
〜5%、PHは2〜11、比表面積は1〜30m2 /g
が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、
球状、サイコロ状のいずれでも良いが、形状の一部に角
を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用いら
れる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製AKP
−20、AKP−30、AKP−50、HIT−50、
HIT−60、HiT−60A、HIT−70A、HI
T−80、HIT−80G、HIT−100、日本化学
工業社製G5、G7、S−1、戸田工業社製TF−10
0、TF−140などがあげられる。本発明に用いられ
る研磨剤は下層塗布層、上層磁性層で種類、量および組
合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可
能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処
理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本発明
の磁気記録媒体の磁性層表面および磁性層端面に存在す
る研磨剤は5個/100μm2以上が好ましい。
果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などをもつもの
が使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステ
ン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−
ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ
−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、
フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−
ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリ
フェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、炭素数10〜24の一塩基性
脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない)、および、これらの金属塩(Li、Na、
K、Cuなど)または、炭素数12〜22の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、(不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない)、炭素数
12〜22のアルコキシアルコ−ル、炭素数10〜24
の一塩基性脂肪酸(不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない)と炭素数2〜12の一価、二価、
三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一つ(不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない)
とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステル
またはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物
のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素数8〜
22の脂肪酸アミド、炭素数8〜22の脂肪族アミンな
どが使用できる。
スチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ス
テアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン
酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン
酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オ
クチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソル
ビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステ
アレ−ト、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、オ
レイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ルがあげられる。
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド付加
体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルア
ミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、
複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカ
チオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐
酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を
含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン
酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、
アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用でき
る。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便
覧」(産業図書株式会社発行)に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも100%
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は30%以下が好ましく、さらに好
ましくは10%以下である。
活性剤は中間層、磁性層でその種類、量を必要に応じ使
い分けることができる。例えば、中間層、磁性層で融点
の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、
沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出
しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安
定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして
潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した
例のみに限られるものではない。
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目
的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布
で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的
が達成される場合がある。また、目的によってはカレン
ダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑
剤を塗布することもできる。
としては、日本油脂社製NAA−102、NAA−41
5、NAA−312、NAA−160、NAA−18
0、NAA−174、NAA−175、NAA−22
2、NAA−34、NAA−35、NAA−171、N
AA−122、NAA−142、NAA−160、NA
A−173K、ヒマシ硬化脂肪酸、NAA−42、NA
A−44、カチオンSA、カチオンMA、カチオンA
B、カチオンBB、ナイミ−ンL−201、ナイミ−ン
L−202、ナイミ−ンS−202、ノニオンE−20
8、ノニオンP−208、ノニオンS−207、ノニオ
ンK−204、ノニオンNS−202、ノニオンNS−
210、ノニオンHS−206、ノニオンL−2、ノニ
オンS−2、ノニオンS−4、ノニオンO−2、ノニオ
ンLP−20R、ノニオンPP−40R、ノニオンSP
−60R、ノニオンOP−80R、ノニオンOP−85
R、ノニオンLT−221、ノニオンST−221、ノ
ニオンOT−221、モノグリMB、ノニオンDS−6
0、アノンBF、アノンLG、ブチルステアレ−ト、ブ
チルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製オレイン酸、
竹本油脂社製FAL−205、FAL−123、新日本
理化社製、エヌジェルブLO、エヌジョルブIPM、サ
ンソサイザ−E4030、信越化学社製TA−3、KF
−96、KF−96L、KF96H、KF410、KF
420、KF965、KF54、KF50、KF56、
KF907、KF851、X−22−819、X−22
−822、KF905、KF700、KF393、KF
−857、KF−860、KF−865、X−22−9
80、KF−101、KF−102、KF−103、X
−22−3710、X−22−3715、KF−91
0、KF−3935、ライオンア−マ−社製ア−マイド
P、ア−マイドC、ア−モスリップCP、ライオン油脂
社製デュオミンTDO、日清製油社製BA−41G、三
洋化成社製プロファン2012E、ニュ−ポ−ルPE6
1、イオネットMS−400、イオネットMO−20
0、イオネットDL−200、イオネットDS−30
0、イオネットDS−1000、イオネットDO−20
0などが挙げられる。
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノ−ル、
エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルア
ルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキ
サノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチ
ル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、
酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエ
ーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等
のグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クレゾール、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素
類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化
炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロ
ルベンゼン等の塩素化炭化水素類、N,N−ジメチルホ
ルムアミド、ヘキサン等を使用できる。これら有機溶媒
は必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外に異性
体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不
純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は30%
以下が好ましく、さらに好ましくは10%以下である。
本発明で用いる有機溶媒は磁性層と中間層でその種類は
同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかま
わない。中間層に表面張力の高い溶媒(シクロヘキサノ
ン、ジオキサンなど)を用い塗布の安定性を上げる、具
体的には上層磁性層溶剤組成の算術平均値が下層塗布層
溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。
分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好
ましく、溶剤組成の内、誘電率が15以上20以下の溶
剤が50重量%以上含まれることが好ましい。また、溶
解パラメ−タは8〜11であることが好ましい。
支持体が1〜100μmであるが、特に、1〜8μmの
薄い非磁性支持体を用いる場合に有効である。上層磁性
層磁性層と下層塗布層を合わせた厚みは非磁性支持体の
厚みの1/100〜2倍の範囲で用いられる。また、非
磁性支持体と下層塗布層の間に密着性向上のためのの接
着層を設ける。接着層の厚みは0.01〜2μm、この
ましくは0.02〜0.5μmである。また、非磁性支
持体の磁性層側と反対側にバックコ−ト層を設けてもか
まわない。この厚みは0.1〜2μm、好ましくは0.
3〜1.0μmである。これらの接着層、バックコ−ト
層は公知のものが使用できる。
クロビッカース硬度が75kg/mm2以上のものであり、二
軸延伸を行ったポリエチレンナフタレート、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミ
ド、ポリベンズオキシダゾールなどの公知のフィルムが
使用できる。特に、アラミド樹脂もしくはポリエチレン
ナフタレートを用いた非磁性支持体が好ましい。これら
の非磁性支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズ
マ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っても
良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体の磁
性層を塗布する面の中心線平均表面粗さが10nm以下
0.1nm以上、好ましくは6nm以下0.2nm以
上、さらに好ましくは4nm以下0.5nm以上のもの
を使用する必要がある。また、これらの非磁性支持体は
単に中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、1μm
以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ
形状は必要に応じて非磁性支持体に添加されるフィラ−
の大きさと量により自由にコントロ−ルされるものであ
る。これらのフィラ−としては一例としてはAl、C
a、Si、Tiなどの酸化物や炭酸塩で結晶性、非晶質
を問わない他、アクリル系、メラミン系などの有機微粉
末があげられる。また、走行耐久性との両立を図るため
には、バックコート層を塗布する面の粗さは磁性層を塗
布する面の粗さより粗い事が好ましい。バックコート層
塗布面の中心線表面粗さは好ましくは1nm以上、更に
好ましくは4nm以上である。磁性層塗布面とバックコ
ート層塗布面との粗さを変える場合には、デュアル構成
の支持体を用いても良いし、コーテイング層を設ける事
によって変えても構わない。
走行方向のF−5値は好ましくは10〜50kg/mm
2 、テ−プ幅方向のF−5値は好ましくは10〜30K
g/mm2 であり、テ−プの長手方向のF−5値がテ−
プ幅方向のF−5値より高いのが一般的であるが、特に
幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでな
い。また、非磁性支持体のテ−プ走行方向および幅方向
の100℃30分での熱収縮率は好ましくは3%以下、
さらに好ましくは1.5%以下、80℃30分での熱収
縮率は好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%
以下である。破断強度は両方向とも5〜100Kg/m
m2 、弾性率は100〜2,000Kg/mm2 が好ま
しい。また、本発明での波長900nmでの光透過率は3
0%以下が好ましく、更に好ましくは3%以下である。
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ2段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を2つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成する
ためには、従来公知の製造技術の一部の工程を用いるこ
とができることは勿論であるが、混練工程では連続ニ−
ダや加圧ニ−ダなど強い混練力をもつものを使用するこ
とにより初めて本発明の磁気記録媒体の高いBrを得る
ことができた。連続ニ−ダまたは加圧ニ−ダを用いる場
合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部(ただ
し全結合剤の30%以上が好ましい)および強磁性粉末
100部に対し15〜500部の範囲で混練処理され
る。これらの混練処理の詳細については特開平1−16
6338号、特開昭64−79274号に記載されてい
る。また、下層塗布層非磁性層液を調整する場合には高
比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニ
アビーズが好適である。
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 1.磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層
がウェット状態にのうちに特公平1−46186号や特
開昭60−238179号、特開平2−265672号
に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布
装置により上層磁性層を塗布する。
−17971号、特開平2−265672号に開示され
ているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの
塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。 3.特開平2−174965号に開示されているバック
アップロール付きエクストルージョン塗布装置により上
下層をほぼ同時に塗布する。
の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭62−
95174号や特開平1−236968号に開示されて
いるような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断
を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度につ
いては、特開平3−8471号に開示されている数値範
囲を満足する必要がある。
な配向を行う必要がある。1,000G以上のソレノイ
ドと2,000G以上のコバルト磁石を同極対向で併用
することが好ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高
くなるように配向前に予め適度の乾燥工程を設けること
が好ましい。高密度記録を行うためには、針状、板状に
関わらず、磁化容易軸を垂直方向に傾けることが有効で
あることが知られており、これと組み合わせることも有
効である。
る以前にポリマーを主成分とする接着層を設けることや
コロナ放電、UV照射、EB照射することにより接着性
を高める公知の手法を組み合わせることが好ましい。
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロ−ルを使用する。また、金属
ロ−ル同志で処理することも出来る。処理温度は、好ま
しくは70〜120℃、さらに好ましくは80〜100
℃以上である。線圧力は好ましくは200〜500kg
/cm、さらに好ましくは300〜400Kg/cm以
上である。
の反対面のSUS420Jに対する摩擦係数は、好まし
くは0.1〜0.5、さらに好ましくは0.2〜0.3
である。表面固有抵抗は好ましくは104 〜1012オー
ム/sq、磁性層の0.5%伸びでの弾性率は走行方
向、幅方向とも好ましくは100〜2,000Kg/m
m2 、破断強度は好ましくは1〜30Kg/cm2 、磁
気記録媒体の弾性率は走行方向、長さ方向とも好ましく
は100〜1,500Kg/mm2 、残留伸びは好まし
くは0.5%以下、100℃以下のあらゆる温度での熱
収縮率は好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5
%以下、もっとも好ましくは0.1%以下で、0%が理
想である。磁性層のガラス転移温度(110Hzで測定
した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は50℃以
上120℃以下が好ましく、下層塗布層のそれは0℃〜
100℃が好ましい。損失弾性率は1×108 〜8×1
09dyne/cm2 の範囲にあることが好ましく、損失正接は
0.2以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎ
ると粘着故障がでやすい。磁性層中に含まれる残留溶媒
は好ましくは100mg/m2 以下、さらに好ましくは
10mg/m2 以下であり、上層磁性層に含まれる残留
溶媒が下層塗布層に含まれる残留溶媒より少ないほうが
好ましい。磁性層が有する空隙率は非磁性下層塗布層、
磁性層とも好ましくは30容量%以下、さらに好ましく
は20容量%以下である。空隙率は高出力を果たすため
には小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確
保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重
視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい
方が走行耐久性は好ましいことが多い。
0kOeでVSMで測定した場合、テ−プ走行方向のH
cは2000〜3000Oe、更に好ましくは2100〜
2500Oeである。角形比は0.75以上であり、好ま
しくは0.80以上であり、さらに好ましくは0.85
以上である。テ−プ走行方向に直角な二つの方向の角型
比は走行方向の角型比の80%以下となることが好まし
い。磁性層のSFDは0.6以下であることが好まし
く、更に好ましくは0.5以下、理想的には0である。
長手方向のレマネンス抗磁力Hrも1800Oe以上30
00Oe以下が好ましい。垂直方向のHc及びHrは10
00Oe以上5000Oe以下であることが好ましい。
0nmが好ましいが、その値は目的により適宜設定され
るべきである。電磁変換特性を良好にする為にはRaは
小さいほど好ましいが、走行耐久性を良好にするために
は逆に大きいほど好ましい。AFMによる評価で求めた
RMS表面粗さRRMS は2nm〜15nmの範囲にある
ことが好ましい。
磁性層を有するが、目的に応じ下層塗布層と磁性層でこ
れらの物理特性を変えることができるのは容易に推定さ
れることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行
耐久性を向上させると同時に下層塗布層の弾性率を磁性
層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くす
るなどである。また、支持体のテンシライズ方法を変更
して、ヘッド当たりを改良することが本発明においても
有効であり、テ−プ長手方向に対し、直角な方向にテン
シライズした支持体の方がヘッド当たりが良好になる場
合が多い。
本発明を説明する。実施例中、「部」との表示は「重量
部」を表す。
オープンニ−ダで混練したのち、サンドミルを用いて分
散させた。得られた下層分散液にポリイソシアネ−ト
(日本ポリウレタン(株)製コロネートL)を下層塗布
層の塗布液には5部加え、さらにそれぞれにメチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒40部を加え、1
μmの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下
層塗布層、磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整した。
さが1.0μmになるようにさらにその直後にその上に
磁性層の厚さが0.12μmになるように、厚さ5.5
μmで磁性層塗布面の中心線表面粗さが0.002μm
のポリエチレンナフタレート支持体上に同時重層塗布を
行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに3000Gの磁
力をもつコバルト磁石と3000Gの磁力をもつソレノ
イドにより配向させ乾燥後、金属ロ−ルのみから構成さ
れる7段のカレンダで温度90℃にて分速200m/min.
で処理を行い、その後、厚み0.5μmのバック層を塗
布した。6.35mmの幅にスリットし、DVC用デジタ
ルビデオテ−プを製造した。
外は、実施例1と同様にしてDVC用デジタルビデオテ
−プを製造した。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=90/10 100部 Hc 2500Oe、 BET法による比表面積 62m2/g 結晶子サイズ190A 焼結防止剤Al2O3 4原子% Y2O3 7原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.11μm 針状比 10 σs:160emu/g
外は、実施例1と同様にしてDVC用デジタルビデオテ
−プを製造した。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=61/39 100部 Hc 2250Oe、 BET法による比表面積 49m2/g 結晶子サイズ 180A 焼結防止剤Al2O3 4原子% Y2O3 7原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.08μm 針状比 5 σs: 145emu/g
外は、実施例1と同様にしてDVC用デジタルビデオテ
−プを製造した。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=55/45 100部 Hc 1850Oe、 BET法による比表面積 62m2/g 結晶子サイズ 165A 焼結防止剤Al2O3 4原子% Y2O3 7原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.08μm 針状比 5 σs: 135emu/g
外は、実施例1と同様にしてDVC用デジタルビデオテ
−プを製造した。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=97/3 100部 Hc 1880Oe、 BET法による比表面積 58m2/g 結晶子サイズ 170A 焼結防止剤Al2O3 4原子% Y2O3 7原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.08μm 針状比 5 σs: 120emu/g
ら0.04μmに変更した以外は、実施例1と同様にし
てDVC用デジタルビデオテ−プを製造した。
ら0.8μmに変更するとともに、更に下層非磁性層お
よびベース厚さを変更した以外は、実施例1と同様にし
てDVC用デジタルビデオテ−プを製造した。
ら1.0μmに変更するとともに、更に下層非磁性層お
よびベース厚さを変更した以外は、実施例1と同様にし
てDVC用デジタルビデオテ−プを製造した。
外は、実施例1と同様にしてDVC用デジタルビデオテ
−プを製造した。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=70/30 100部 Hc 2200Oe、 BET法による比表面積 56m2/g 結晶子サイズ 160A 焼結防止剤Al2O3 4原子% Y2O3 10原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.08μm 針状比 6 σs: 137emu/g
ら12原子%に変更した以外は、実施例1と同様にして
DVC用デジタルビデオテ−プを製造した。尚、磁性体
の物性は以下の通りである。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=70/30 100部 Hc 2250Oe、 BET法による比表面積 52m2/g 結晶子サイズ 160A 焼結防止剤Al2O3 4原子% Y2O3 12原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.08μm 針状比 7 σs: 125emu/g
ら2原子%に変更した以外は、実施例1と同様にしてD
VC用デジタルビデオテ−プを製造した。尚、磁性体の
物性は以下の通りである。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=70/30 100部 Hc 2180Oe、 BET法による比表面積 58m2/g 結晶子サイズ 180A 焼結防止剤Al2O3 4原子% Y2O3 2原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.08μm 針状比 4 σs: 139emu/g
ら1原子%に変更した以外は、実施例1と同様にしてD
VC用デジタルビデオテ−プを製造した。尚、磁性体の
物性は以下の通りである。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=70/30 100部 Hc 1540Oe、 BET法による比表面積 69m2/g 結晶子サイズ 195A 焼結防止剤Al2O3 4原子% Y2O3 1原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.08μm 針状比 4 σs: 140emu/g
ら1.3μmに変更した以外は、実施例1と同様にして
DVC用デジタルビデオテ−プを製造した。
外は、実施例1と同様にしてDVC用デジタルビデオテ
−プを製造した。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=70/30 100部 Hc 2250Oe、 BET法による比表面積 58m2/g 結晶子サイズ 180A 焼結防止剤Al2O3 11原子% Y2O3 7原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.08μm 針状比 5 σs: 135emu/g
外は、実施例1と同様にしてDVC用デジタルビデオテ
−プを製造した。 強磁性金属微粉末 組成 Fe/Co=70/30 100部 Hc 2250Oe、 BET法による比表面積 62m2/g 結晶子サイズ 170A 焼結防止剤Al2O3 13原子% Y2O3 7原子% 粒子サイズ(長軸径) 0.08μm 針状比 5 σs: 115emu/g
た。 <磁性層の厚み測定方法>磁気記録媒体の長手方向に渡
ってダイアモンドカッターで約0.1μmの厚みに切り
出し、透過型電子顕微鏡で倍率3万倍で観察し、その写
真撮影を行った。写真のプリントサイズはA4版であ
る。その後、磁性層、非磁性層の強磁性粉末や非磁性粉
末の形状差に着目して界面を目視判断して黒く縁どり、
かつ磁性層表面も同様に黒く縁どった。その後、Zei
ss社製画像処理装置IBAS2にて縁とりした線の間
隔を測定した。試料写真の長さが21cmの範囲に渡り
測定点を点取って測定した。その際の測定値の単純加算
平均値を磁性層の厚みとした。
プ(USカンタークロム社製)を用いた。250℃,3
0分間窒素雰囲気で脱水後BET一点法(分圧0.3
0)で測定した。
型磁束計(東英工業製)を用い、Hm10kOeで測定し
た。Bmは上記磁性層厚み測定方法により求めた。
PO3Dを用いて、媒体表面をMIRAU法で約250
nm×250nmの面積のRaを測定した。測定波長は
約650nmで球面補正、円筒補正を加えている。本方
式は光干渉にて測定する非接触の表面粗さ計である。
型電子顕微鏡写真を撮影し、その写真から強磁性粉末の
短軸径と長軸径とを直接読みとる方法と画像解析装置カ
ールツァイス社製IBASS1で透過型顕微鏡写真をト
レースして読みとる方法とを適宜併用して平均粒子径を
求めた。
りγ酸化鉄強磁性粉末では(4,4,0)面と(2,
2,0)面の回折線の半値幅の広がり分から求めた。金
属強磁性粉末の場合は同様に(1,1,0)面と(2,
2,0)面の回折線の半値幅の広がり分から求められ
る。
のメタル磁性体に4Nの塩酸を加え、25mlとして溶
解した後、1Nに希釈し、標準液と濃度が合うように、
1Nの塩酸溶液で希釈し、濃度調整を行い、検液とす
る。この検液をセイコー電子工業製のICP発光分析装
置(SPS1200A)にて測定し、各元素の含有量を
求め、Feに対する割合を原子%で表す。なお、標準液
は市販の原子吸光分析用試薬(金属標準液)を用いた。
をTbと呼ぶことにする。レファレンスはHD協議会で
設定した高性能ME:MTR−1221(松下電器産業
製)で、外当て式ドラムテスタを用いて、相対速度1
0.2m/secで21MHzの信号を入力し、その再
生出力を測定した。用いたヘッドはFe系MIGヘッド
でBsが1.5Tである。DVCにおける1/2Tb信
号の記録波長は0.49μに相当する。1/2Tbの出
力は高いほど好ましい。MTR−1221に対して、−
1dB以上であるとDVC用ビデオテ−プとして用いる
ことができる。
ムテスターに信号を上記の要領で記録し、1/2Tb出
力、1/2.25Tbでの総ノイズ、1/1.18での
総ノイズ、1/2Tbでのアンプノイズを測定する。解
像度帯域は30kHzである。1/2Tb周波数でのテ
−プノイズを以下の様に定義する。
dB表示して1/2TbのCNRと定義する。サブレフ
ァレンステ−プMTR−1221に対するdB差を1/
2TbのCNRと呼ぶ。1/2TbのCNRが−2dB
以上であるとDVC用テ−プとして使用することができ
る。
を1時間走行させ、その後試験テ−プにモノスコ信号を
記録し、それを再生してエンベロープを測定する。最も
出力が低い部分と高い部分との比を%で表示する。90
%以上であることが好ましい。ヘッド当たり互換性の尺
度として用いる。
準備し、25℃50%RHの環境で100時間走行させ
て走行前後のヘッドハイト量の差を測定した。用いたヘ
ッドはTSSでギャップ長は0.2μである。
にある試料は再生出力、CNR、エンベロープ平坦度に
優れ、またヘッド摩耗が少ないことが確認された。
磁気特性に優れることは勿論のこと、MEテープとのヘ
ッド当たり互換性が良好で、出力低下や目詰まりがな
く、かつヘッド摩耗が少ない磁気記録媒体が提供され
る。
Claims (6)
- 【請求項1】 非磁性支持体上に、主として無機粉末と
結合剤とを含む下層塗布層を設け、その上に少なくとも
強磁性金属粉末と結合剤とを含む一層以上の磁性層を設
けた磁気記録媒体において、前記磁性層の厚みが0.0
5μ以上0.8μ以下で、磁性層に含まれる磁性体の主
成分がFeであり、Feに対して、Coを10原子%以
上40原子%以下、Yを1.5原子%以上10原子%以
下含むことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項2】 上記磁性体がFeに対してAlを0原子
%以上12原子%以下含み、かつ、Feに対するYの含
有原子比率がAlのそれより多いことを特徴とする請求
項1記載の磁気記録媒体。 - 【請求項3】 上記磁性層にモース硬度6以上の非磁性
粉末を磁性体100重量部に対して、2重量部以上15
重量部以下含む事を特徴とする請求項1または2に記載
の磁気記録媒体。 - 【請求項4】 上記磁性層に含まれるモース硬度6以上
の非磁性粉末がα−Al2 O3 、γ−Al2 O3 、Cr
2 O3 、α−Fe2 O3 、β−SiC、ダイヤモンドか
ら選ばれる1種類以上であることを特徴とする請求項3
に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項5】 前記下層塗布層に含まれる無機粉末が酸
化チタン、α−酸化鉄、硫酸バリウム、酸化亜鉛、アル
ミナの中から選ばれる一種以上であることを特徴とする
請求項1に記載のの磁気記録媒体。 - 【請求項6】 前記下層塗布層と少なくともそれに接す
る磁性層がウェットオンウェット塗布方式で形成された
ものであることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録
媒体。
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