JPH08257352A - 排ガス処理装置 - Google Patents
排ガス処理装置Info
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- JPH08257352A JPH08257352A JP7069600A JP6960095A JPH08257352A JP H08257352 A JPH08257352 A JP H08257352A JP 7069600 A JP7069600 A JP 7069600A JP 6960095 A JP6960095 A JP 6960095A JP H08257352 A JPH08257352 A JP H08257352A
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- electron beam
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】排ガス中の酸化物ガスの反応を促進でき、また
副生品の生成量の増加を実現し、エネルギー効率を大幅
に改善することが可能な排ガス処理装置を提供する。 【構成】SOxやNOx等の酸化物ガスを含有する排ガ
スに電子ビーム11を照射する電子線発生装置7aと、
電子ビーム11を照射された排ガス中の酸化物ガスを反
応せしめてエアロゾルを生成するための反応器3aと、
反応器3aにおいて生成したエアロゾルを分離回収する
回収部12とを備え、メッシュ材および箔体の少くとも
一方から成る充填材13を上記反応器3a内に配設した
ことを特徴とする。また充填材13は、アルミニウム
(Al),チタン(Ti),炭素(C),ほう素
(B),ベリリウム(Be)およびそれらの合金から選
択された少くとも1種の材料から構成するとよい。
副生品の生成量の増加を実現し、エネルギー効率を大幅
に改善することが可能な排ガス処理装置を提供する。 【構成】SOxやNOx等の酸化物ガスを含有する排ガ
スに電子ビーム11を照射する電子線発生装置7aと、
電子ビーム11を照射された排ガス中の酸化物ガスを反
応せしめてエアロゾルを生成するための反応器3aと、
反応器3aにおいて生成したエアロゾルを分離回収する
回収部12とを備え、メッシュ材および箔体の少くとも
一方から成る充填材13を上記反応器3a内に配設した
ことを特徴とする。また充填材13は、アルミニウム
(Al),チタン(Ti),炭素(C),ほう素
(B),ベリリウム(Be)およびそれらの合金から選
択された少くとも1種の材料から構成するとよい。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム照射によっ
て排ガス中に含有されるSOx、NOx、CO2 等の酸
化物ガスを除去する排ガス処理装置に係り、特にエネル
ギー効率を大幅に改善した排ガス処理装置に関する。
て排ガス中に含有されるSOx、NOx、CO2 等の酸
化物ガスを除去する排ガス処理装置に係り、特にエネル
ギー効率を大幅に改善した排ガス処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】火力発電所、ごみ焼却炉、高速道路のト
ンネルから排出される排ガス中には多量の硫黄酸化物
(SOx)、窒素酸化物(NOx)や炭酸ガス(C
O2 )などの酸化物ガスが含有されている。一般に上記
のようなSOx、NOxおよびCO2などの各種酸化物
ガスを、同時に一括して除去することは、現実的に困難
であり、従来から下記表1に示すように、それぞれのガ
スの特性に応じた処理方法で酸化物ガスの除去が実施さ
れている。
ンネルから排出される排ガス中には多量の硫黄酸化物
(SOx)、窒素酸化物(NOx)や炭酸ガス(C
O2 )などの酸化物ガスが含有されている。一般に上記
のようなSOx、NOxおよびCO2などの各種酸化物
ガスを、同時に一括して除去することは、現実的に困難
であり、従来から下記表1に示すように、それぞれのガ
スの特性に応じた処理方法で酸化物ガスの除去が実施さ
れている。
【0003】
【表1】
【0004】表1に示すように、排ガスの脱硫技術とし
ては、例えば湿式石灰石石膏法および水酸化マグネシウ
ム法が広く用いられている。石灰石石膏法ではスラリー
状の石灰石にSOxを吸収させた後に水分を除去するこ
とにより、排ガス中のSOxが石膏(CaSO4 ・2H
2 O、CaSO4 )の形で回収される。上記石膏法にお
ける排ガスの脱硫率および脱塵率はともに90%以上と
高い除去効率を示す。一方、水酸化マグネシウム法で
は、吸収剤として水酸化マグネシウムを用い、吸収過程
においてSOxを無害な硫酸マグネシウム(MgS
O4 )に変換し、SOxを除去した排ガスを系外に排出
する。上記石膏法および水酸化マグネシウム法は、液状
の吸収剤を用いた湿式の処理方法である。
ては、例えば湿式石灰石石膏法および水酸化マグネシウ
ム法が広く用いられている。石灰石石膏法ではスラリー
状の石灰石にSOxを吸収させた後に水分を除去するこ
とにより、排ガス中のSOxが石膏(CaSO4 ・2H
2 O、CaSO4 )の形で回収される。上記石膏法にお
ける排ガスの脱硫率および脱塵率はともに90%以上と
高い除去効率を示す。一方、水酸化マグネシウム法で
は、吸収剤として水酸化マグネシウムを用い、吸収過程
においてSOxを無害な硫酸マグネシウム(MgS
O4 )に変換し、SOxを除去した排ガスを系外に排出
する。上記石膏法および水酸化マグネシウム法は、液状
の吸収剤を用いた湿式の処理方法である。
【0005】一方、脱硝技術として用いられる選択接触
還元法は乾式プロセスである。この選択接触還元法で
は、触媒上でNOxを選択的にアンモニアと反応させ、
最終的にNOxをN2 やH2 O等の無害成分に還元す
る。
還元法は乾式プロセスである。この選択接触還元法で
は、触媒上でNOxを選択的にアンモニアと反応させ、
最終的にNOxをN2 やH2 O等の無害成分に還元す
る。
【0006】他方、CO2 の除去技術としては、湿式の
化学吸収法および乾式の接触水素化法などがある。化学
吸収法では、吸収剤であるアミンにCO2 を十分吸収さ
せた後に、再生処理を行ってアミンから放出させた高濃
度CO2 が回収される。また接触水素化法では、CO2
を触媒表面でH2 と反応させ、COやメタノールを生成
させ、排ガス中のCO2 を除去している。
化学吸収法および乾式の接触水素化法などがある。化学
吸収法では、吸収剤であるアミンにCO2 を十分吸収さ
せた後に、再生処理を行ってアミンから放出させた高濃
度CO2 が回収される。また接触水素化法では、CO2
を触媒表面でH2 と反応させ、COやメタノールを生成
させ、排ガス中のCO2 を除去している。
【0007】上記のような各種処理方法は、SOx、N
Ox、CO2 をそれぞれ単独に含む排ガスを処理する方
法として好適である。しかしながら、各種の酸化物ガス
を複合的に含有する排ガスから全ての酸化物ガスを同時
に除去するためには、湿式処理および乾式処理を併用し
た複雑な処理プロセスを構築する必要があり、処理設備
の建設費が膨大になり、運転費用の観点からも経済的で
はない。
Ox、CO2 をそれぞれ単独に含む排ガスを処理する方
法として好適である。しかしながら、各種の酸化物ガス
を複合的に含有する排ガスから全ての酸化物ガスを同時
に除去するためには、湿式処理および乾式処理を併用し
た複雑な処理プロセスを構築する必要があり、処理設備
の建設費が膨大になり、運転費用の観点からも経済的で
はない。
【0008】上記のような各種処理方法とは別に、排ガ
スに電子ビームを照射して排ガスを処理する電子ビーム
法を使用した処理プロセスが、特開平1−155935
号公報に開示されている。
スに電子ビームを照射して排ガスを処理する電子ビーム
法を使用した処理プロセスが、特開平1−155935
号公報に開示されている。
【0009】図5は上記電子ビーム法を利用した従来の
排ガス処理装置の構成を示す系統図である。この排ガス
処理装置は、排ガス発生源となるボイラー1と、冷却塔
2と、反応器3と、電気集塵機4と煙突5とを排ガス導
管6で直列に接続して構成され、反応器3の上部には、
反応器3内に電子ビームを照射する電子線発生装置7が
装備されている。
排ガス処理装置の構成を示す系統図である。この排ガス
処理装置は、排ガス発生源となるボイラー1と、冷却塔
2と、反応器3と、電気集塵機4と煙突5とを排ガス導
管6で直列に接続して構成され、反応器3の上部には、
反応器3内に電子ビームを照射する電子線発生装置7が
装備されている。
【0010】排ガス発生源であるボイラー1から排出さ
れ、SOxやNOxを含有する排ガスは、排ガス導管6
を通り冷却塔2に導入され、ここで排ガスは冷却水管8
から散布された冷却水によって露点以上で100℃以下
の温度にまで冷却される。さらに冷却塔2の2次側の排
ガス導管において、流量調節弁9を介して供給されたア
ンモニアが排ガス中に添加される。しかる後に、排ガス
は反応器3内の電子ビーム照射部に導入され、ここで電
子線発生装置7から発射された電子ビームの照射を受け
る。電子ビームの照射を受けた排ガス中のSOxおよび
NOxはアンモニアと反応してそれぞれ硫安および硝安
に変化する。
れ、SOxやNOxを含有する排ガスは、排ガス導管6
を通り冷却塔2に導入され、ここで排ガスは冷却水管8
から散布された冷却水によって露点以上で100℃以下
の温度にまで冷却される。さらに冷却塔2の2次側の排
ガス導管において、流量調節弁9を介して供給されたア
ンモニアが排ガス中に添加される。しかる後に、排ガス
は反応器3内の電子ビーム照射部に導入され、ここで電
子線発生装置7から発射された電子ビームの照射を受け
る。電子ビームの照射を受けた排ガス中のSOxおよび
NOxはアンモニアと反応してそれぞれ硫安および硝安
に変化する。
【0011】すなわち、排ガスに電子ビームを照射する
と、排ガス中の窒素、酸素、水、炭酸ガスなどの成分が
放射線分解されてCH,O,HO2 ,Nなどの活性なラ
ジカルが生成する。これらのラジカルは極めて反応性に
富んでいるため、酸化物ガスと反応し易い。そして排ガ
ス中のSOxやNOxはそれぞれ容易にラジカルと反応
し硫酸や硝酸に転化される。さらに生成した硫酸や硝酸
は、排ガス中に添加されたアンモニアと反応して最終的
に粉粒状の硫酸アンモニウム(硫安)や硝酸アンモニウ
ム(硝安)となる。
と、排ガス中の窒素、酸素、水、炭酸ガスなどの成分が
放射線分解されてCH,O,HO2 ,Nなどの活性なラ
ジカルが生成する。これらのラジカルは極めて反応性に
富んでいるため、酸化物ガスと反応し易い。そして排ガ
ス中のSOxやNOxはそれぞれ容易にラジカルと反応
し硫酸や硝酸に転化される。さらに生成した硫酸や硝酸
は、排ガス中に添加されたアンモニアと反応して最終的
に粉粒状の硫酸アンモニウム(硫安)や硝酸アンモニウ
ム(硝安)となる。
【0012】このようにして排ガス中に生成した硫安お
よび硝安は電気集塵機4において排ガスから分離除去さ
れ、分離された硫安および硝安は排出管10を経て副生
品として回収される。一方、酸化物ガスを除去された清
浄な排ガスは煙突5を経由して大気中に放出される。
よび硝安は電気集塵機4において排ガスから分離除去さ
れ、分離された硫安および硝安は排出管10を経て副生
品として回収される。一方、酸化物ガスを除去された清
浄な排ガスは煙突5を経由して大気中に放出される。
【0013】上記電子ビーム法を利用した排ガス処理装
置においては、SOxやNOxを同時に処理できる上
に、副生品として有用な硫安や硝安が得られるという利
点がある。さらに乾式処理であるため、湿式処理のよう
な廃水のさらなる2次処理が必要となることもない上
に、設備構成が単純で建設費が安いという特徴を有す
る。さらに適当な水素源を用いることにより、CO2 も
同時に除去できる可能性もあり、有利な処理方式であ
る。
置においては、SOxやNOxを同時に処理できる上
に、副生品として有用な硫安や硝安が得られるという利
点がある。さらに乾式処理であるため、湿式処理のよう
な廃水のさらなる2次処理が必要となることもない上
に、設備構成が単純で建設費が安いという特徴を有す
る。さらに適当な水素源を用いることにより、CO2 も
同時に除去できる可能性もあり、有利な処理方式であ
る。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記電子
ビーム法を利用した従来の排ガス処理装置においては、
投入電力量と比較して反応生成物量が少なく、エネルギ
ー効率が低くなる問題点があった。すなわち、電子ビー
ムの加速電圧を高めるほど、ラジカルの生成量は増大
し、酸化物ガスとの反応は促進される。しかしながら上
記の反応を進行させるためには、少なくとも600kVの
高加速電圧が必要であった。すなわち電子ビームを発生
させるための消費電力が大きいため、このエネルギーを
さらに有効に活用すべく、ガス反応を促進させて有用な
副生品である硫安や硝安の生成量をより増大化させるこ
とが技術上の課題となっていた。
ビーム法を利用した従来の排ガス処理装置においては、
投入電力量と比較して反応生成物量が少なく、エネルギ
ー効率が低くなる問題点があった。すなわち、電子ビー
ムの加速電圧を高めるほど、ラジカルの生成量は増大
し、酸化物ガスとの反応は促進される。しかしながら上
記の反応を進行させるためには、少なくとも600kVの
高加速電圧が必要であった。すなわち電子ビームを発生
させるための消費電力が大きいため、このエネルギーを
さらに有効に活用すべく、ガス反応を促進させて有用な
副生品である硫安や硝安の生成量をより増大化させるこ
とが技術上の課題となっていた。
【0015】本発明は上記課題を解決するためになされ
たものであり、排ガス中の酸化物ガスの反応を促進で
き、また副生品の生成量の増加を実現し、エネルギー効
率を大幅に改善することが可能な排ガス処理装置を提供
することを目的とする。
たものであり、排ガス中の酸化物ガスの反応を促進で
き、また副生品の生成量の増加を実現し、エネルギー効
率を大幅に改善することが可能な排ガス処理装置を提供
することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本願発明者らは種々の充填材を反応器内の電子ビーム照
射部に充填する一方、電子ビーム照射部の深さや充填材
の材質を種々変えて、排ガス処理を実施し、上記の要因
が反応生成物量やエネルギー効率に及ぼす影響を比較検
討した。その結果、特に金属ワイヤを編み上げて形成し
た金属メッシュ材や金属箔などの充填材を反応器の電子
ビーム照射部に配設したり、電子ビーム照射部の深さを
電子ビーム照射の有効範囲に合わせて小さく設定したと
きに排ガス中の酸化物ガスの反応効率を大幅に高めるこ
とが可能になるという知見を得た。また、充填材をAl
やTiなどの金属材で形成するとともに、反応器におけ
る電子ビーム照射部の幅を広くし、排ガスの流速を低下
させたときにも反応効率が高まり、装置全体としてのエ
ネルギー効率を改善できるという知見が得られた。本発
明は上記知見に基づいて完成されたものである。
本願発明者らは種々の充填材を反応器内の電子ビーム照
射部に充填する一方、電子ビーム照射部の深さや充填材
の材質を種々変えて、排ガス処理を実施し、上記の要因
が反応生成物量やエネルギー効率に及ぼす影響を比較検
討した。その結果、特に金属ワイヤを編み上げて形成し
た金属メッシュ材や金属箔などの充填材を反応器の電子
ビーム照射部に配設したり、電子ビーム照射部の深さを
電子ビーム照射の有効範囲に合わせて小さく設定したと
きに排ガス中の酸化物ガスの反応効率を大幅に高めるこ
とが可能になるという知見を得た。また、充填材をAl
やTiなどの金属材で形成するとともに、反応器におけ
る電子ビーム照射部の幅を広くし、排ガスの流速を低下
させたときにも反応効率が高まり、装置全体としてのエ
ネルギー効率を改善できるという知見が得られた。本発
明は上記知見に基づいて完成されたものである。
【0017】すなわち本発明に係る排ガス処理装置は、
SOxやNOx等の酸化物ガスを含有する排ガスに電子
ビームを照射する電子線発生装置と、電子ビームを照射
された排ガス中の酸化物ガスを反応せしめてエアロゾル
を生成するための反応器と、反応器において生成したエ
アロゾルを分離回収する回収部とを備え、メッシュ材お
よび箔体の少くとも一方から成る充填材を上記反応器内
に配設したことを特徴とする。
SOxやNOx等の酸化物ガスを含有する排ガスに電子
ビームを照射する電子線発生装置と、電子ビームを照射
された排ガス中の酸化物ガスを反応せしめてエアロゾル
を生成するための反応器と、反応器において生成したエ
アロゾルを分離回収する回収部とを備え、メッシュ材お
よび箔体の少くとも一方から成る充填材を上記反応器内
に配設したことを特徴とする。
【0018】また充填材は、アルミニウム(Al),チ
タン(Ti),炭素(C),ほう素(B),ベリリウム
(Be)およびそれらの合金から選択された少くとも1
種の材料から構成するとよい。
タン(Ti),炭素(C),ほう素(B),ベリリウム
(Be)およびそれらの合金から選択された少くとも1
種の材料から構成するとよい。
【0019】さらに電子ビームの加速電圧をVキロボル
ト(kV)とした場合に、反応器内における電子ビームの
照射部の深さを20×V1.55cm以内に設定したことを特
徴とする。
ト(kV)とした場合に、反応器内における電子ビームの
照射部の深さを20×V1.55cm以内に設定したことを特
徴とする。
【0020】本発明に係る排ガス処理装置においては、
メッシュ材および箔体の少くとも一方から成る充填材を
反応器内に配設しているため、排ガス中の酸化物ガスの
反応が促進され反応生成物量を大幅に増大化させること
ができる。
メッシュ材および箔体の少くとも一方から成る充填材を
反応器内に配設しているため、排ガス中の酸化物ガスの
反応が促進され反応生成物量を大幅に増大化させること
ができる。
【0021】図1(a)は気相中における反応機構を説
明する模式図であり、図1(b)は固体壁における反応
機構を説明する模式図である。充填材を配設せず、気相
中の反応のみによって副生品としての固体生成物を形成
するような従来の排ガス処理装置においては、図1
(a)に示すように、大量の気体分子同士の衝突が反応
を進行させるための前提となる。しかしながら、固体生
成物の生成初期の段階においては、気体分子同士の衝突
・反応により生じた固体生成物は非常に高いエネルギー
レベルを保持しながら気相中を浮遊しており、この固体
生成物は次の気体分子同士の衝突・反応が起こる前に分
離してしまう割合が多い。従って大量の気体分子同士の
衝突・反応が連続的に起こる割合は少なく、気相中の反
応だけで硫安や硝安などの副生品を得るには限界があ
る。
明する模式図であり、図1(b)は固体壁における反応
機構を説明する模式図である。充填材を配設せず、気相
中の反応のみによって副生品としての固体生成物を形成
するような従来の排ガス処理装置においては、図1
(a)に示すように、大量の気体分子同士の衝突が反応
を進行させるための前提となる。しかしながら、固体生
成物の生成初期の段階においては、気体分子同士の衝突
・反応により生じた固体生成物は非常に高いエネルギー
レベルを保持しながら気相中を浮遊しており、この固体
生成物は次の気体分子同士の衝突・反応が起こる前に分
離してしまう割合が多い。従って大量の気体分子同士の
衝突・反応が連続的に起こる割合は少なく、気相中の反
応だけで硫安や硝安などの副生品を得るには限界があ
る。
【0022】一方、充填材を反応器内に配設した本発明
の排ガス処理装置においては、図1(b)に示すように
充填材としての固体壁の表面が固体生成物の反応生成核
となり、反応生成核から固体生成物の移動は少なく、生
成後の安定性は優れている。しかも固体壁表面にはガス
が吸着され易いため、固体壁表面においてはガス同士の
衝突および反応が円滑に進行する。
の排ガス処理装置においては、図1(b)に示すように
充填材としての固体壁の表面が固体生成物の反応生成核
となり、反応生成核から固体生成物の移動は少なく、生
成後の安定性は優れている。しかも固体壁表面にはガス
が吸着され易いため、固体壁表面においてはガス同士の
衝突および反応が円滑に進行する。
【0023】また反応器の単位容積当りの固体壁の表面
積が大きいほど、当然、反応生成核は増加し、固体生成
物の生成量の増大化も図れる。従って反応器の内壁面に
加えて、反応器の電子ビーム照射部に、金属ワイヤを編
み上げたメッシュ材などの充填材を配設することによ
り、固体壁の表面積を大きく確保することが重要であ
る。
積が大きいほど、当然、反応生成核は増加し、固体生成
物の生成量の増大化も図れる。従って反応器の内壁面に
加えて、反応器の電子ビーム照射部に、金属ワイヤを編
み上げたメッシュ材などの充填材を配設することによ
り、固体壁の表面積を大きく確保することが重要であ
る。
【0024】ここで上記充填材を配設した場合の効果に
ついて説明する。図2は種々の配設密度でステンレス鋼
(SUS304)製のメッシュ材を反応器内に充填して
排ガス処理を実施した場合における反応器の単位体積当
りのメッシュ材の表面積が副生品の生成量に及ぼす影響
を測定した結果を示すグラフである。
ついて説明する。図2は種々の配設密度でステンレス鋼
(SUS304)製のメッシュ材を反応器内に充填して
排ガス処理を実施した場合における反応器の単位体積当
りのメッシュ材の表面積が副生品の生成量に及ぼす影響
を測定した結果を示すグラフである。
【0025】図2に示す結果から明らかなように、充填
材としての金属メッシュ材を配設することにより、配設
しない従来装置の場合と比較して副生品の生成量を大幅
に増加させることができる。また反応器の単位体積当り
のメッシュ材の表面積に比例して副生品の生成量は増加
する。特にメッシュ材の表面積割合を2500m2 /m
3 以上とすることにより、メッシュ材を配設しない従来
装置の場合と比較して副生品の生成量を2倍以上に増加
させることができる。従って副生品の生成量を増加させ
るためには、反応器の電子ビーム照射部に金属メッシュ
材等の充填材を配設することと、その充填材の表面積を
増加させることが、特に有効である。
材としての金属メッシュ材を配設することにより、配設
しない従来装置の場合と比較して副生品の生成量を大幅
に増加させることができる。また反応器の単位体積当り
のメッシュ材の表面積に比例して副生品の生成量は増加
する。特にメッシュ材の表面積割合を2500m2 /m
3 以上とすることにより、メッシュ材を配設しない従来
装置の場合と比較して副生品の生成量を2倍以上に増加
させることができる。従って副生品の生成量を増加させ
るためには、反応器の電子ビーム照射部に金属メッシュ
材等の充填材を配設することと、その充填材の表面積を
増加させることが、特に有効である。
【0026】充填材を構成する材料は、耐食性,加工
性,価格などの観点から選定されるが、Al,Ti,
C,B,Beおよびそれらの合金を使用することが好ま
しい。特に電子透過性が良好な軽金属で充填材を形成す
ることにより、反応生成核となる充填材自体に吸収され
てガス反応に寄与しない電子ビーム量を低減することが
でき、エネルギー効率を改善する上で極めて有効であ
る。
性,価格などの観点から選定されるが、Al,Ti,
C,B,Beおよびそれらの合金を使用することが好ま
しい。特に電子透過性が良好な軽金属で充填材を形成す
ることにより、反応生成核となる充填材自体に吸収され
てガス反応に寄与しない電子ビーム量を低減することが
でき、エネルギー効率を改善する上で極めて有効であ
る。
【0027】ここで充填材を構成する材料の種類が副生
品の生成量に及ぼす影響について図3を参照して説明す
る。図3は充填材としての金属メッシュ材をAl,T
i,Pt,C,Zr,Mo,ステンレス鋼(SUS30
4)で構成してそれぞれ排ガス処理を実施した場合にお
ける副生品の生成量を示すグラフである。なお副生品の
生成量は、金属メッシュ材を配設しない場合を基準とし
て相対的に評価した。
品の生成量に及ぼす影響について図3を参照して説明す
る。図3は充填材としての金属メッシュ材をAl,T
i,Pt,C,Zr,Mo,ステンレス鋼(SUS30
4)で構成してそれぞれ排ガス処理を実施した場合にお
ける副生品の生成量を示すグラフである。なお副生品の
生成量は、金属メッシュ材を配設しない場合を基準とし
て相対的に評価した。
【0028】図3に示すようにAlまたはTiで形成し
た金属メッシュ材を配設した場合の副生品の生成量はス
テンレス鋼(SUS304)製の金属メッシュ材を使用
した場合と比較して約1.4倍になった。また、Pt,
C,Zr,Mo製の金属メッシュ材を使用した場合の副
生品の生成量は、ステンレス鋼のメッシュ材を使用した
場合と比較して約1.2倍になった。従って反応効率を
改善し、副生品の収量を増大させるためには、反応生成
核となる充填材を、Al,Ti,C,B,Beおよびそ
の合金で形成することが好ましい。
た金属メッシュ材を配設した場合の副生品の生成量はス
テンレス鋼(SUS304)製の金属メッシュ材を使用
した場合と比較して約1.4倍になった。また、Pt,
C,Zr,Mo製の金属メッシュ材を使用した場合の副
生品の生成量は、ステンレス鋼のメッシュ材を使用した
場合と比較して約1.2倍になった。従って反応効率を
改善し、副生品の収量を増大させるためには、反応生成
核となる充填材を、Al,Ti,C,B,Beおよびそ
の合金で形成することが好ましい。
【0029】次に反応器内における電子ビームの照射部
の深さの限定理由について説明する。排ガスに照射され
た電子ビームのエネルギーは、排ガス中を透過する際に
急速に減衰し、通常は照射方向から所定の深さまで到達
した段階でラジカルを発生させるエネルギーが消失して
しまう。このような電子ビームが有するエネルギーがゼ
ロになる深さ、いわゆる飛程は電子阻止能から計算され
る。加速電圧が10〜1000kVにおける飛程の計算結
果を下記表2に示す。
の深さの限定理由について説明する。排ガスに照射され
た電子ビームのエネルギーは、排ガス中を透過する際に
急速に減衰し、通常は照射方向から所定の深さまで到達
した段階でラジカルを発生させるエネルギーが消失して
しまう。このような電子ビームが有するエネルギーがゼ
ロになる深さ、いわゆる飛程は電子阻止能から計算され
る。加速電圧が10〜1000kVにおける飛程の計算結
果を下記表2に示す。
【0030】
【表2】
【0031】上記表2に示す加速電圧Vと飛程Dとの関
係は下記の近似式によって表わされる。
係は下記の近似式によって表わされる。
【0032】
【数1】D=20×V1.55 上記飛程Dは電子ビーム照射が有効に発揮される深さで
あり、排ガス処理装置における反応器の電子ビーム照射
部の深さを上記飛程値以下に設定することにより、反応
器内の排ガス流路全体において酸化物ガスの反応が進行
することになる。従って装置全体の反応効率を高めるこ
とができる。
あり、排ガス処理装置における反応器の電子ビーム照射
部の深さを上記飛程値以下に設定することにより、反応
器内の排ガス流路全体において酸化物ガスの反応が進行
することになる。従って装置全体の反応効率を高めるこ
とができる。
【0033】酸化物ガスの反応によって生じた固体生成
物などのエアロゾルを分離回収する回収部としては汎用
の電気集塵機やミストセパレータを使用することができ
る。
物などのエアロゾルを分離回収する回収部としては汎用
の電気集塵機やミストセパレータを使用することができ
る。
【0034】
【作用】上記構成に係る排ガス処理装置によれば、メッ
シュ材および箔体の少くとも一方から成る充填材を反応
器内に配設しており、この充填材表面が反応生成核とな
って酸化物ガスの反応が促進されるため、反応生成物量
を大幅に増加させることができる。
シュ材および箔体の少くとも一方から成る充填材を反応
器内に配設しており、この充填材表面が反応生成核とな
って酸化物ガスの反応が促進されるため、反応生成物量
を大幅に増加させることができる。
【0035】また充填材を、Al,Ti,C,B,Be
およびそれらの合金のように電子透過性が良好な材料で
形成することにより、充填材自体に吸収されてしまい、
反応に寄与しない電子ビーム量を低減できるため、エネ
ルギー効率を大幅に改善することができる。
およびそれらの合金のように電子透過性が良好な材料で
形成することにより、充填材自体に吸収されてしまい、
反応に寄与しない電子ビーム量を低減できるため、エネ
ルギー効率を大幅に改善することができる。
【0036】さらに反応器内における電子ビーム照射部
の深さを、電子ビーム照射の有効範囲である20×V
1.55cm以内に設定することにより、反応器全体において
酸化物ガスの反応を進行させることができ、装置全体の
反応効率を高めることができる。
の深さを、電子ビーム照射の有効範囲である20×V
1.55cm以内に設定することにより、反応器全体において
酸化物ガスの反応を進行させることができ、装置全体の
反応効率を高めることができる。
【0037】
【実施例】次に本発明の一実施例について添付図面を参
照して説明する。図4は、電子ビーム照射法を利用した
本発明に係る排ガス処理装置の一実施例を示す斜視図で
ある。
照して説明する。図4は、電子ビーム照射法を利用した
本発明に係る排ガス処理装置の一実施例を示す斜視図で
ある。
【0038】すなわち本実施例に係る排ガス処理装置
は、SOxやNOx等の酸化物ガスを含有する排ガスに
電子ビーム11を照射する電子線発生装置7aと、電子
ビーム11を照射された排ガス中の酸化物ガスを反応せ
しめてエアロゾルを生成するための反応器3aと、反応
器3aにおいて生成したエアロゾルを分離回収する回収
部としての電気集塵機12とを備え、メッシュ材または
箔体から成る充填材13を上記反応器3a内に配設して
構成される。
は、SOxやNOx等の酸化物ガスを含有する排ガスに
電子ビーム11を照射する電子線発生装置7aと、電子
ビーム11を照射された排ガス中の酸化物ガスを反応せ
しめてエアロゾルを生成するための反応器3aと、反応
器3aにおいて生成したエアロゾルを分離回収する回収
部としての電気集塵機12とを備え、メッシュ材または
箔体から成る充填材13を上記反応器3a内に配設して
構成される。
【0039】また反応器3aは断面が四角形状の箱形に
形成されており、排ガス発生源から導出された排ガス導
管6の途中に配設される。
形成されており、排ガス発生源から導出された排ガス導
管6の途中に配設される。
【0040】ボイラー等の排ガス発生源から排ガス導管
6を経由して送給された排ガスは反応器3a内に導入さ
れる。一方、電子線発生装置7aから発射された電子ビ
ーム(EB)11が、反応器3a上面を覆う電子透過窓
14を通して排ガスに照射される。このとき反応器3a
内に配設された金属メッシュ材や箔体などの充填材13
が反応生成核となり、この反応生成核に排ガス中のSO
x,NOx,CO2 などの酸化物ガスが取り込まれて図
1(b)に示すような固体生成物が反応によって形成さ
れる。固体生成物は反応の進展によってさらに成長し、
排ガスの流れによって充填材13の表面から剥離する。
剥離した固体生成物はエアロゾルとなって反応器3aの
2次側に配設された回収部としての電気集塵機12に送
給され、ここで副生品として分離回収される。一方、酸
化物ガスを除去された清浄な排気ガスは系外に排出され
る。
6を経由して送給された排ガスは反応器3a内に導入さ
れる。一方、電子線発生装置7aから発射された電子ビ
ーム(EB)11が、反応器3a上面を覆う電子透過窓
14を通して排ガスに照射される。このとき反応器3a
内に配設された金属メッシュ材や箔体などの充填材13
が反応生成核となり、この反応生成核に排ガス中のSO
x,NOx,CO2 などの酸化物ガスが取り込まれて図
1(b)に示すような固体生成物が反応によって形成さ
れる。固体生成物は反応の進展によってさらに成長し、
排ガスの流れによって充填材13の表面から剥離する。
剥離した固体生成物はエアロゾルとなって反応器3aの
2次側に配設された回収部としての電気集塵機12に送
給され、ここで副生品として分離回収される。一方、酸
化物ガスを除去された清浄な排気ガスは系外に排出され
る。
【0041】またメッシュ材や箔体などの充填材13の
表面から固体生成物が剥離することにより、充填材13
の表面は清浄に再生され、新たな反応生成核となって酸
化物ガスの除去反応を継続する。
表面から固体生成物が剥離することにより、充填材13
の表面は清浄に再生され、新たな反応生成核となって酸
化物ガスの除去反応を継続する。
【0042】本実施例に係る排ガス処理装置によれば、
メッシュ材または箔体から成る充填材13を反応器3a
内に配設しており、この充填材13表面が反応生成核と
なって酸化物ガスの反応が促進されるため、反応生成物
量を大幅に増加させることができた。
メッシュ材または箔体から成る充填材13を反応器3a
内に配設しており、この充填材13表面が反応生成核と
なって酸化物ガスの反応が促進されるため、反応生成物
量を大幅に増加させることができた。
【0043】また反応器3aの電子ビーム照射部の深さ
を、電子ビーム照射の有効範囲(飛程)に合せて小さく
設定することにより、反応器3a内の電子ビーム照射部
全体において酸化物ガスの除去反応を進行させることが
でき、装置全体の反応効率を高めることができた。
を、電子ビーム照射の有効範囲(飛程)に合せて小さく
設定することにより、反応器3a内の電子ビーム照射部
全体において酸化物ガスの除去反応を進行させることが
でき、装置全体の反応効率を高めることができた。
【0044】さらに排ガスの流速が反応器内において減
少するように反応器の断面形状を調整し、電子ビーム照
射部の幅を広く形成することにより、同様に反応効率を
高めることができた。
少するように反応器の断面形状を調整し、電子ビーム照
射部の幅を広く形成することにより、同様に反応効率を
高めることができた。
【0045】次に上記実施例に係る排ガス処理装置にお
いて、充填材の材質,寸法,形態,単位容積当りの表面
積、反応器(電子ビーム(EB)照射部)の断面形状を
パラメータとして表3に示すように変化させて実施例1
〜6に係る排ガス処理装置を構成した。
いて、充填材の材質,寸法,形態,単位容積当りの表面
積、反応器(電子ビーム(EB)照射部)の断面形状を
パラメータとして表3に示すように変化させて実施例1
〜6に係る排ガス処理装置を構成した。
【0046】すなわち実施例1では厚さ0.005mmの
Al箔を、反応器の単位容積当りの表面積が10000
m2 /m3 となるように配設した。また実施例2〜3で
は、直径0.3mm(実施例2)、直径1.0mm(実施例
3)のAlワイヤーを編み上げて形成したメッシュ材を
表面積割合が10000m2 /m3 となるように配設し
た。また実施例4では、直径1.0mmのAlワイヤで形
成したメッシュ材を表面積割合が1000m2 /m3 と
なるように反応器内に配設した。実施例5〜6において
は、直径1.0mmのSUSワイヤーを編み上げて形成し
たメッシュ材を表面積割合が1000m2 /m3 となる
ように反応器内に配設した。
Al箔を、反応器の単位容積当りの表面積が10000
m2 /m3 となるように配設した。また実施例2〜3で
は、直径0.3mm(実施例2)、直径1.0mm(実施例
3)のAlワイヤーを編み上げて形成したメッシュ材を
表面積割合が10000m2 /m3 となるように配設し
た。また実施例4では、直径1.0mmのAlワイヤで形
成したメッシュ材を表面積割合が1000m2 /m3 と
なるように反応器内に配設した。実施例5〜6において
は、直径1.0mmのSUSワイヤーを編み上げて形成し
たメッシュ材を表面積割合が1000m2 /m3 となる
ように反応器内に配設した。
【0047】また実施例1〜5において、反応器の電子
ビーム(EB)照射部の高さHと幅Wとの比が0.5:
2となるように平坦な断面形状となるように設定した。
一方実施例6および従来例における反応器の電子ビーム
照射部の高さHと幅Wとの比が1:1となるように正方
形状となるように設定した。
ビーム(EB)照射部の高さHと幅Wとの比が0.5:
2となるように平坦な断面形状となるように設定した。
一方実施例6および従来例における反応器の電子ビーム
照射部の高さHと幅Wとの比が1:1となるように正方
形状となるように設定した。
【0048】さらに従来例として金属メッシュ材などの
充填材を一切配設せず、電子ビーム照射部の断面形状を
正方形とした排ガス処理装置も形成した。
充填材を一切配設せず、電子ビーム照射部の断面形状を
正方形とした排ガス処理装置も形成した。
【0049】上記のように形成した実施例1〜6および
従来例の排ガス処理装置を使用して、ボイラー排ガスを
処理して排ガス中の酸化物ガスを反応によって固定し副
生品として分離回収し、その生成量を測定して下記表3
に示す結果を得た。なお副生品の生成量は従来例の場合
を基準値1とし、実施例1〜6の場合を相対値として表
した。
従来例の排ガス処理装置を使用して、ボイラー排ガスを
処理して排ガス中の酸化物ガスを反応によって固定し副
生品として分離回収し、その生成量を測定して下記表3
に示す結果を得た。なお副生品の生成量は従来例の場合
を基準値1とし、実施例1〜6の場合を相対値として表
した。
【0050】
【表3】
【0051】表3に示す結果から明らかなように、電子
ビーム照射部の形状は従来通りとし、反応器内にメッシ
ュ材を配設した実施例6に係る排ガス処理装置におい
て、従来例と比較して副生品の生成量が10倍に増加し
た。すなわち充填材を配設するだけでも反応効率を大幅
に改善できることが判明した。
ビーム照射部の形状は従来通りとし、反応器内にメッシ
ュ材を配設した実施例6に係る排ガス処理装置におい
て、従来例と比較して副生品の生成量が10倍に増加し
た。すなわち充填材を配設するだけでも反応効率を大幅
に改善できることが判明した。
【0052】また実施例5〜6との比較から明らかなよ
うに、同一仕様の充填材を配設した場合においても、電
子ビーム照射部の断面形状を平坦な長方形状にした実施
例5の装置の方が、正方形状にした実施例6の装置と比
較して2倍の副生品が得られ、この副生品生成量は従来
例の20倍となった。すなわち電子ビーム照射部の断面
積を同一に設定した場合においての高さを、電子ビーム
の有効範囲に合わせてより小さく設定した方が反応効率
が大幅に改善されることが判明した。
うに、同一仕様の充填材を配設した場合においても、電
子ビーム照射部の断面形状を平坦な長方形状にした実施
例5の装置の方が、正方形状にした実施例6の装置と比
較して2倍の副生品が得られ、この副生品生成量は従来
例の20倍となった。すなわち電子ビーム照射部の断面
積を同一に設定した場合においての高さを、電子ビーム
の有効範囲に合わせてより小さく設定した方が反応効率
が大幅に改善されることが判明した。
【0053】さらに実施例4〜5との比較から明らかな
ように、単位容積当りのメッシュ材の表面積を同一に設
定した場合、メッシュ材をAlで形成した実施例4の方
が、SUS製のメッシュ材を使用した実施例5と比較し
て副生品生成量が1.5倍となった。この生成量は従来
例の30倍であった。すなわち充填材を構成する材料と
しては、電子透過性が良好なAlなどの軽金属がより有
利であることが判明した。
ように、単位容積当りのメッシュ材の表面積を同一に設
定した場合、メッシュ材をAlで形成した実施例4の方
が、SUS製のメッシュ材を使用した実施例5と比較し
て副生品生成量が1.5倍となった。この生成量は従来
例の30倍であった。すなわち充填材を構成する材料と
しては、電子透過性が良好なAlなどの軽金属がより有
利であることが判明した。
【0054】また実施例3〜4との比較から明らかなよ
うに、単位容積当りのメッシュ材の表面積を、実施例4
と比較して10倍に設定した実施例3の装置によれば、
副生品の生成量が2倍以上となった。この生成量は従来
例の70倍であった。すなわちメッシュ材の表面積が増
加するに伴って反応生成核も増大し、酸化物ガスの反応
が円滑に進行することが確認できた。
うに、単位容積当りのメッシュ材の表面積を、実施例4
と比較して10倍に設定した実施例3の装置によれば、
副生品の生成量が2倍以上となった。この生成量は従来
例の70倍であった。すなわちメッシュ材の表面積が増
加するに伴って反応生成核も増大し、酸化物ガスの反応
が円滑に進行することが確認できた。
【0055】さらに実施例2〜3との比較から明らかな
ように、メッシュ材の表面積を同一に設定した場合にお
いて、メッシュ材を構成するAlワイヤーの線径をより
小さくした実施例2の方が太いワイヤーを使用した実施
例3と比較して、副生品の生成量が1.5倍に増加し
た。この生成量は従来例の100倍に相当する。
ように、メッシュ材の表面積を同一に設定した場合にお
いて、メッシュ材を構成するAlワイヤーの線径をより
小さくした実施例2の方が太いワイヤーを使用した実施
例3と比較して、副生品の生成量が1.5倍に増加し
た。この生成量は従来例の100倍に相当する。
【0056】また実施例1〜2との比較から明らかなよ
うに、Alワイヤーを編み上げて形成したメッシュ材を
配設した実施例2の装置の場合と比較して、Al箔を配
設した実施例1の装置の方が副生品生成量が2倍多くな
った。この生成量は従来例の200倍に相当する。すな
わちメッシュ材と比較して箔体の方が、より高い反応効
率が得られることが判明した。
うに、Alワイヤーを編み上げて形成したメッシュ材を
配設した実施例2の装置の場合と比較して、Al箔を配
設した実施例1の装置の方が副生品生成量が2倍多くな
った。この生成量は従来例の200倍に相当する。すな
わちメッシュ材と比較して箔体の方が、より高い反応効
率が得られることが判明した。
【0057】以上の実施例においては、AlおよびSU
S304で形成したメッシュ材や箔体などの充填材を使
用した例を示しているが、上記の他にTi,C,B,B
eおよびそれらの合金から形成した充填材を使用した場
合についても、従来例と比較して同様に高い反応効率が
得られることが実証されている。
S304で形成したメッシュ材や箔体などの充填材を使
用した例を示しているが、上記の他にTi,C,B,B
eおよびそれらの合金から形成した充填材を使用した場
合についても、従来例と比較して同様に高い反応効率が
得られることが実証されている。
【0058】本実施例に係る排ガス処理装置によれば、
金属ワイヤーを編み上げて形成した金属メッシュ材また
は金属箔体などの充填材を反応器の電子ビーム照射部に
配設しているため、排ガス中の酸化物ガスの反応効率が
高まり、副生品の回収量を大幅に増加させることができ
た。
金属ワイヤーを編み上げて形成した金属メッシュ材また
は金属箔体などの充填材を反応器の電子ビーム照射部に
配設しているため、排ガス中の酸化物ガスの反応効率が
高まり、副生品の回収量を大幅に増加させることができ
た。
【0059】また充填材の構成材としてAlなどの軽金
属を使用したり、反応器の電子ビーム照射部の深さを電
子ビーム照射の有効範囲に合せて短く設定したり、照射
部の幅を広く設定して照射部における排ガスの流速を、
排ガス導管における流速より低下させたりすることによ
って、特に過大なエネルギーを付加することなくガス反
応を促進でき、また副生品生成量の増加が図られ、エネ
ルギー効率を大幅に改善した排ガス処理装置が得られ
た。
属を使用したり、反応器の電子ビーム照射部の深さを電
子ビーム照射の有効範囲に合せて短く設定したり、照射
部の幅を広く設定して照射部における排ガスの流速を、
排ガス導管における流速より低下させたりすることによ
って、特に過大なエネルギーを付加することなくガス反
応を促進でき、また副生品生成量の増加が図られ、エネ
ルギー効率を大幅に改善した排ガス処理装置が得られ
た。
【0060】
【発明の効果】以上説明の通り、本発明に係る排ガス処
理装置によれば、メッシュ材および箔体の少くとも一方
から成る充填材を反応器内に配設しており、この充填材
表面が反応生成核となって酸化物ガスの反応が促進され
るため、反応生成物量を大幅に増加させることができ
る。
理装置によれば、メッシュ材および箔体の少くとも一方
から成る充填材を反応器内に配設しており、この充填材
表面が反応生成核となって酸化物ガスの反応が促進され
るため、反応生成物量を大幅に増加させることができ
る。
【0061】また充填材を、Al,Ti,C,B,Be
およびそれらの合金のように電子透過性が良好な材料で
形成することにより、充填材自体に吸収されてしまい、
反応に寄与しない電子ビーム量を低減できるため、エネ
ルギー効率を大幅に改善することができる。
およびそれらの合金のように電子透過性が良好な材料で
形成することにより、充填材自体に吸収されてしまい、
反応に寄与しない電子ビーム量を低減できるため、エネ
ルギー効率を大幅に改善することができる。
【0062】さらに反応器内における電子ビーム照射部
の深さを、電子ビーム照射の有効範囲である20×V
1.55cm以内に設定することにより、反応器全体において
酸化物ガスの反応を進行させることができ、装置全体の
反応効率を高めることができる。
の深さを、電子ビーム照射の有効範囲である20×V
1.55cm以内に設定することにより、反応器全体において
酸化物ガスの反応を進行させることができ、装置全体の
反応効率を高めることができる。
【図1】(a)は気相中における反応機構を説明する模
式図であり、(b)は固体壁における反応機構を説明す
る模式図である。
式図であり、(b)は固体壁における反応機構を説明す
る模式図である。
【図2】反応器の単位体積当りの充填材(メッシュ材)
の表面積と、副生品の生成量との関係を示すグラフ。
の表面積と、副生品の生成量との関係を示すグラフ。
【図3】充填材の材質と副生品の生成量との関係を示す
グラフ。
グラフ。
【図4】本発明に係る排ガス処理装置の一実施例を示す
部分破断斜視図。
部分破断斜視図。
【図5】従来の排ガス処理装置の構成を示す系統図。
1 ボイラー 2 冷却塔 3,3a 反応器 4 電気集塵機 5 煙突 6 排ガス導管 7,7a 電子線発生装置 8 冷却水管 9 流量調節弁 10 排出管 11 電子ビーム(EB) 12 回収部(電気集塵機) 13 充填材(メッシュ材,箔体) 14 電子透過窓
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 19/12
Claims (3)
- 【請求項1】 SOxやNOx等の酸化物ガスを含有す
る排ガスに電子ビームを照射する電子線発生装置と、電
子ビームを照射された排ガス中の酸化物ガスを反応せし
めてエアロゾルを生成するための反応器と、反応器にお
いて生成したエアロゾルを分離回収する回収部とを備
え、メッシュ材および箔体の少くとも一方から成る充填
材を上記反応器内に配設したことを特徴とする排ガス処
理装置。 - 【請求項2】 充填材は、アルミニウム(Al),チタ
ン(Ti),炭素(C),ほう素(B),ベリリウム
(Be)およびそれらの合金から選択された少くとも1
種の材料から構成されることを特徴とする請求項1記載
の排ガス処理装置。 - 【請求項3】 電子ビームの加速電圧をVキロボルト
(kV)とした場合に、反応器内における電子ビームの照
射部の深さを20×V1.55cm以内に設定したことを特徴
とする請求項1記載の排ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7069600A JPH08257352A (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | 排ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7069600A JPH08257352A (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | 排ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08257352A true JPH08257352A (ja) | 1996-10-08 |
Family
ID=13407499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7069600A Pending JPH08257352A (ja) | 1995-03-28 | 1995-03-28 | 排ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08257352A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100375833B1 (en) * | 2002-05-16 | 2003-03-12 | Boram E & T Co Ltd | Apparatus for eliminating volatile organic compounds using electronic beam and catalyst |
| WO2003092868A1 (en) * | 2002-05-03 | 2003-11-13 | Jo-Chun Kim | Hybrid apparatus and method for removing volatile organic compounds and odorous substances by electron beam and catalyst |
-
1995
- 1995-03-28 JP JP7069600A patent/JPH08257352A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003092868A1 (en) * | 2002-05-03 | 2003-11-13 | Jo-Chun Kim | Hybrid apparatus and method for removing volatile organic compounds and odorous substances by electron beam and catalyst |
| KR100375833B1 (en) * | 2002-05-16 | 2003-03-12 | Boram E & T Co Ltd | Apparatus for eliminating volatile organic compounds using electronic beam and catalyst |
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