JPH08259976A - 潤滑性物質とこれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents
潤滑性物質とこれを用いた磁気記録媒体Info
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- JPH08259976A JPH08259976A JP7086109A JP8610995A JPH08259976A JP H08259976 A JPH08259976 A JP H08259976A JP 7086109 A JP7086109 A JP 7086109A JP 8610995 A JP8610995 A JP 8610995A JP H08259976 A JPH08259976 A JP H08259976A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高速、低速、高負荷、低負荷にかかわらず、
接触する２固体間を低摩擦、低摩耗で摺動させることが
でき、しかも環境にやさしい潤滑性物質を得ること、ま
たこの潤滑性物質を潤滑剤として用いて耐久性および走
行性が改善された磁気記録媒体を得ることを目的とす
る。 【構成】 潤滑性物質として、フツ化ブロツク−非フツ
化ブロツク−フツ化ブロツクのトリブロツク体からな
り、かつ非フツ化ブロツクが分岐または環状構造を有す
るものを使用する。また、非磁性支持体の片面または両
面に磁性層を有し、この磁性層の内部または表面に潤滑
剤として上記構成の潤滑性物質を存在させて磁気記録媒
体を構成する。
接触する２固体間を低摩擦、低摩耗で摺動させることが
でき、しかも環境にやさしい潤滑性物質を得ること、ま
たこの潤滑性物質を潤滑剤として用いて耐久性および走
行性が改善された磁気記録媒体を得ることを目的とす
る。 【構成】 潤滑性物質として、フツ化ブロツク−非フツ
化ブロツク−フツ化ブロツクのトリブロツク体からな
り、かつ非フツ化ブロツクが分岐または環状構造を有す
るものを使用する。また、非磁性支持体の片面または両
面に磁性層を有し、この磁性層の内部または表面に潤滑
剤として上記構成の潤滑性物質を存在させて磁気記録媒
体を構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高速、低速、高負荷、
低負荷にかかわらず、接触する２固体間を低摩擦、低摩
耗で摺動させる潤滑性物質と、この潤滑性物質を潤滑剤
として用いた磁気記録媒体に関するものである。
低負荷にかかわらず、接触する２固体間を低摩擦、低摩
耗で摺動させる潤滑性物質と、この潤滑性物質を潤滑剤
として用いた磁気記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】接触する２固体間を低摩擦、低摩耗で摺
動させ、機器、装置の使用期間を延ばす目的のため、固
体表面の硬質化と潤滑剤の開発が行われている。とく
に、ＯＡ機器の分野では、サイズダウンの要求が強く、
摺動部位には年々精密な機構が採用されている。精密部
品が幅広い環境下で継続的または断続的に摺動する将来
の機器では、これまで以上に摺動開始時、摺動時または
終了時の摩擦、摩耗を低下させ、モ―タなどの負荷を低
下させる必要がある。
動させ、機器、装置の使用期間を延ばす目的のため、固
体表面の硬質化と潤滑剤の開発が行われている。とく
に、ＯＡ機器の分野では、サイズダウンの要求が強く、
摺動部位には年々精密な機構が採用されている。精密部
品が幅広い環境下で継続的または断続的に摺動する将来
の機器では、これまで以上に摺動開始時、摺動時または
終了時の摩擦、摩耗を低下させ、モ―タなどの負荷を低
下させる必要がある。
【０００３】これまで、保護潤滑剤系では、摺動部位に
硬く摩耗しにくい表面層を設けて、潤滑剤としてグリ―
スやオイル状の半固体または液体潤滑剤が用いられてき
た。しかしながら、接触部位の平滑化が進んだ精密機器
においては、未だ、高速、低速、高負荷、低負荷にかか
わらず、接触する２固体間を低摩擦、低摩耗で摺動させ
る潤滑性物質は得られておらず、このため、起動不良や
摺動時に偶発的に摩擦力が急増する問題を回避できなか
つた。
硬く摩耗しにくい表面層を設けて、潤滑剤としてグリ―
スやオイル状の半固体または液体潤滑剤が用いられてき
た。しかしながら、接触部位の平滑化が進んだ精密機器
においては、未だ、高速、低速、高負荷、低負荷にかか
わらず、接触する２固体間を低摩擦、低摩耗で摺動させ
る潤滑性物質は得られておらず、このため、起動不良や
摺動時に偶発的に摩擦力が急増する問題を回避できなか
つた。
【０００４】たとえば、強磁性金属またはそれらの合金
などを真空蒸着などによつて非磁性支持体上に被着して
つくられる強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体では、塗布
型の磁気記録媒体に比べて、磁性層の高抗磁力化や薄膜
化を図りやすく、高密度記録特性にすぐれる反面、靱性
のある結合剤樹脂を用いず、また強磁性金属薄膜や保護
膜の表面活性がよいため、磁気ヘツドとの摩擦係数が大
きくなつて摩耗や損傷を受けやすく、耐久性や走行性に
劣るという難点がある。
などを真空蒸着などによつて非磁性支持体上に被着して
つくられる強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体では、塗布
型の磁気記録媒体に比べて、磁性層の高抗磁力化や薄膜
化を図りやすく、高密度記録特性にすぐれる反面、靱性
のある結合剤樹脂を用いず、また強磁性金属薄膜や保護
膜の表面活性がよいため、磁気ヘツドとの摩擦係数が大
きくなつて摩耗や損傷を受けやすく、耐久性や走行性に
劣るという難点がある。
【０００５】このため、たとえば、特開昭６０−８５４
２７号、特開昭６２−２３６１１８号、特開平２−２１
０６１５号などの公報において、パ―フルオロポリエ―
テル系潤滑剤、フツ化カルボン酸系潤滑剤、部分フツ化
カルボン酸系潤滑剤などの各種の潤滑剤を用いて、これ
らの潤滑剤を強磁性金属薄膜上に存在させて、耐久性お
よび走行性を改善することが提案されている。
２７号、特開昭６２−２３６１１８号、特開平２−２１
０６１５号などの公報において、パ―フルオロポリエ―
テル系潤滑剤、フツ化カルボン酸系潤滑剤、部分フツ化
カルボン酸系潤滑剤などの各種の潤滑剤を用いて、これ
らの潤滑剤を強磁性金属薄膜上に存在させて、耐久性お
よび走行性を改善することが提案されている。
【０００６】また、磁性粉を樹脂で結合させた塗布型の
磁気記録媒体においても、記録の高密度化が進み、従来
の炭化水素系潤滑剤やシリコン系潤滑剤に代わるすぐれ
た潤滑剤として、上記のようなフツ素系潤滑剤の使用が
望まれている。
磁気記録媒体においても、記録の高密度化が進み、従来
の炭化水素系潤滑剤やシリコン系潤滑剤に代わるすぐれ
た潤滑剤として、上記のようなフツ素系潤滑剤の使用が
望まれている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記のフツ
素系潤滑剤によつても、磁気記録媒体の耐久性や走行性
を高度に改善できるものとは必ずしもいえず、しかも、
この種の潤滑剤を磁性層中に含有させ、また磁性層表面
に付着させるには、この潤滑剤をフツ素系有機溶剤に溶
解させて、塗布、浸漬、噴霧などの操作を行わなければ
ならない。フツ素系有機溶剤は、オゾン層の破壊などの
環境破壊につながり、また溶剤が高価なために回収の費
用が必要となるなどの問題点が多い。
素系潤滑剤によつても、磁気記録媒体の耐久性や走行性
を高度に改善できるものとは必ずしもいえず、しかも、
この種の潤滑剤を磁性層中に含有させ、また磁性層表面
に付着させるには、この潤滑剤をフツ素系有機溶剤に溶
解させて、塗布、浸漬、噴霧などの操作を行わなければ
ならない。フツ素系有機溶剤は、オゾン層の破壊などの
環境破壊につながり、また溶剤が高価なために回収の費
用が必要となるなどの問題点が多い。
【０００８】本発明は、上述の事情に鑑み、接触部位の
平滑化が進む将来の精密機器においても、高速、低速、
高負荷、低負荷にかかわらず、接触する２固体間を低摩
擦、低摩耗で摺動させることができ、しかも環境にやさ
しい潤滑性物質を得ること、また、この潤滑性物質を潤
滑剤として用いることにより、耐久性や走行性を高度に
改善した磁気記録媒体を得ることを目的としている。
平滑化が進む将来の精密機器においても、高速、低速、
高負荷、低負荷にかかわらず、接触する２固体間を低摩
擦、低摩耗で摺動させることができ、しかも環境にやさ
しい潤滑性物質を得ること、また、この潤滑性物質を潤
滑剤として用いることにより、耐久性や走行性を高度に
改善した磁気記録媒体を得ることを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するため、鋭意検討した結果、フツ素系潤滑剤
として特定のトリブロツク体を用いると、汎用の有機溶
剤にて潤滑剤の塗布、浸漬、噴霧などの操作が可能とな
つて、フツ素系有機溶剤の使用による環境破壊などの弊
害を招くことなく、接触する２固体間を低摩擦、低摩耗
で摺動させることができ、また、これをとくに磁気記録
媒体用の潤滑剤として用いたときには、耐久性および走
行性が高度に改善された磁気記録媒体が得られることを
知り、本発明を完成するに至つたものである。
的を達成するため、鋭意検討した結果、フツ素系潤滑剤
として特定のトリブロツク体を用いると、汎用の有機溶
剤にて潤滑剤の塗布、浸漬、噴霧などの操作が可能とな
つて、フツ素系有機溶剤の使用による環境破壊などの弊
害を招くことなく、接触する２固体間を低摩擦、低摩耗
で摺動させることができ、また、これをとくに磁気記録
媒体用の潤滑剤として用いたときには、耐久性および走
行性が高度に改善された磁気記録媒体が得られることを
知り、本発明を完成するに至つたものである。
【００１０】すなわち、本発明の第１は、フツ化ブロツ
ク−非フツ化ブロツク−フツ化ブロツクのトリブロツク
体からなり、かつ非フツ化ブロツクが分岐または環状構
造を有することを特徴とする潤滑性物質に係るものであ
る。また、本発明の第２は、非磁性支持体の片面または
両面に磁性層を有する磁気記録媒体において、磁性層の
内部または表面に、潤滑剤として、上記第１の発明に係
る潤滑性物質を有することを特徴とする磁気記録媒体に
係るものである。
ク−非フツ化ブロツク−フツ化ブロツクのトリブロツク
体からなり、かつ非フツ化ブロツクが分岐または環状構
造を有することを特徴とする潤滑性物質に係るものであ
る。また、本発明の第２は、非磁性支持体の片面または
両面に磁性層を有する磁気記録媒体において、磁性層の
内部または表面に、潤滑剤として、上記第１の発明に係
る潤滑性物質を有することを特徴とする磁気記録媒体に
係るものである。
【００１１】
【発明の構成・作用】本発明に用いるトリブロツク体
は、非フツ化ブロツクの分子両端にフツ化ブロツクが結
合した分子構造を有するものであつて、分子両端のフツ
化ブロツクは汎用の有機溶剤にはほとんど溶解しない
が、非フツ化ブロツクが分岐または環状構造を有して汎
用の有機溶剤に対し高い溶解性を示すことから、汎用の
有機溶剤中では上記の非フツ化ブロツクが見掛け上広が
つた状態となり、分子全体として十分な溶解性を示すも
のと考えられる。
は、非フツ化ブロツクの分子両端にフツ化ブロツクが結
合した分子構造を有するものであつて、分子両端のフツ
化ブロツクは汎用の有機溶剤にはほとんど溶解しない
が、非フツ化ブロツクが分岐または環状構造を有して汎
用の有機溶剤に対し高い溶解性を示すことから、汎用の
有機溶剤中では上記の非フツ化ブロツクが見掛け上広が
つた状態となり、分子全体として十分な溶解性を示すも
のと考えられる。
【００１２】このようなトリブロツク体は、つぎの一般
式（１）； Ｒｆ−ｘ−Ｒｈ−ｙ−Ｒｆ´ … （１） Ｒｆ ： フツ化ブロツク Ｒｈ ： 分岐または環状構造を有する非フツ化ブロツ
ク Ｒｆ´： フツ化ブロツク で表わされ、この式において、フツ化ブロツク（Ｒｆ，
Ｒｆ´）と非フツ化ブロツク（Ｒｈ）とを連結するｘ，
ｙは、通常、エステル結合、エ―テル結合、アミド結
合、ウレタン結合またはウレア結合のいずれかの結合か
らなり、この両結合ｘ，ｙは同一であつても異なつてい
てもよい。
式（１）； Ｒｆ−ｘ−Ｒｈ−ｙ−Ｒｆ´ … （１） Ｒｆ ： フツ化ブロツク Ｒｈ ： 分岐または環状構造を有する非フツ化ブロツ
ク Ｒｆ´： フツ化ブロツク で表わされ、この式において、フツ化ブロツク（Ｒｆ，
Ｒｆ´）と非フツ化ブロツク（Ｒｈ）とを連結するｘ，
ｙは、通常、エステル結合、エ―テル結合、アミド結
合、ウレタン結合またはウレア結合のいずれかの結合か
らなり、この両結合ｘ，ｙは同一であつても異なつてい
てもよい。
【００１３】このトリブロツク体において、非フツ化ブ
ロツク（Ｒｈ）は、分岐または環状構造の炭素骨格を有
し、環状構造には、ベンゼン環、ナフタレン環、アント
ラセン環などの芳香族環、シクロヘキサン環のような脂
肪族環などがある。環状構造中に酸素、窒素、硫黄など
の元素を含む複素環であつてもよい。炭素の数は３以
上、好ましくは４以上、より好ましくは６以上で、多い
ほど有機溶剤や濃度の選択幅が広くなるが、通常は１，
０００までであるのがよい。
ロツク（Ｒｈ）は、分岐または環状構造の炭素骨格を有
し、環状構造には、ベンゼン環、ナフタレン環、アント
ラセン環などの芳香族環、シクロヘキサン環のような脂
肪族環などがある。環状構造中に酸素、窒素、硫黄など
の元素を含む複素環であつてもよい。炭素の数は３以
上、好ましくは４以上、より好ましくは６以上で、多い
ほど有機溶剤や濃度の選択幅が広くなるが、通常は１，
０００までであるのがよい。
【００１４】また、フツ化ブロツク（Ｒｆ，Ｒｆ´）
は、直鎖、分岐または環状構造のいずれの炭素骨格を有
していてもよく、またこの炭素骨格が飽和または不飽和
のいずれでもよく、さらに構成炭素の一部のみがフツ素
化されたものであつてもよい。フツ素特有の潤滑性を得
るためには、フツ素の結合した炭素の数は４以上、とく
に６以上であるのがよく、またフツ素の結合していない
炭素の数は１〜４で、合計の炭素の数としては１，００
０までであるのがよい。このフツ化ブロツクにおける分
子末端には、必要により水酸基、カルボキシル基、アミ
ノ基、ハロゲン、メルカプト基、スルホン酸基、リン酸
基などの官能基またはそれらの塩が結合されていてもよ
い。
は、直鎖、分岐または環状構造のいずれの炭素骨格を有
していてもよく、またこの炭素骨格が飽和または不飽和
のいずれでもよく、さらに構成炭素の一部のみがフツ素
化されたものであつてもよい。フツ素特有の潤滑性を得
るためには、フツ素の結合した炭素の数は４以上、とく
に６以上であるのがよく、またフツ素の結合していない
炭素の数は１〜４で、合計の炭素の数としては１，００
０までであるのがよい。このフツ化ブロツクにおける分
子末端には、必要により水酸基、カルボキシル基、アミ
ノ基、ハロゲン、メルカプト基、スルホン酸基、リン酸
基などの官能基またはそれらの塩が結合されていてもよ
い。
【００１５】このようなトリブロツク体は、いかなる方
法により合成されたものであつてもよい。工業的に有効
な合成法の一例を示すと、たとえば、分子両末端に水酸
基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネ―ト基など
を有する非フツ化物と、分子片末端にイソシアネ―ト
基、アミノ基、カルボキシル基、水酸基などを有するフ
ツ化物とを用いて、両者間で官能基同志の反応を行わせ
て、両者をエステル結合、エ―テル結合、アミド結合、
ウレタン結合またはウレア結合などの結合により化学結
合させる方法がある。
法により合成されたものであつてもよい。工業的に有効
な合成法の一例を示すと、たとえば、分子両末端に水酸
基、カルボキシル基、アミノ基、イソシアネ―ト基など
を有する非フツ化物と、分子片末端にイソシアネ―ト
基、アミノ基、カルボキシル基、水酸基などを有するフ
ツ化物とを用いて、両者間で官能基同志の反応を行わせ
て、両者をエステル結合、エ―テル結合、アミド結合、
ウレタン結合またはウレア結合などの結合により化学結
合させる方法がある。
【００１６】本発明の潤滑性物質は、上記のトリブロツ
ク体の１種または２種以上を有効成分としたものである
が、この潤滑性物質は、使用に際して、必要により、脂
肪酸またはその金属塩、脂肪酸エステル、脂肪族アミ
ド、脂肪族アルコ―ル、モノサルフアイド、パラフイン
類、シリコ―ン化合物、脂肪族とフツ化物のエステル、
パ―フルオロポリエ―テル、ポリテトラフルオロエチレ
ンなどの他の一般の潤滑性物質との混合系で、用いるよ
うにしてもよい。
ク体の１種または２種以上を有効成分としたものである
が、この潤滑性物質は、使用に際して、必要により、脂
肪酸またはその金属塩、脂肪酸エステル、脂肪族アミ
ド、脂肪族アルコ―ル、モノサルフアイド、パラフイン
類、シリコ―ン化合物、脂肪族とフツ化物のエステル、
パ―フルオロポリエ―テル、ポリテトラフルオロエチレ
ンなどの他の一般の潤滑性物質との混合系で、用いるよ
うにしてもよい。
【００１７】本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体の
片面または両面に磁性層を有して、この磁性層の内部ま
たは表面に、潤滑剤として、上記構成のトリブロツク体
からなる潤滑性物質を有することを特徴としている。こ
こで、上記の潤滑性物質を磁性層の内部または表面に設
けるには、潤滑性物質を炭化水素、アルコ―ル、ケト
ン、エ―テルなどの汎用の有機溶剤に溶解させ、この溶
液を非磁性支持体上にあらかじめ形成された磁性層上
に、塗布または噴霧して乾燥するか、あるいは逆に上記
の溶液中に磁性層を浸漬して乾燥すればよい。
片面または両面に磁性層を有して、この磁性層の内部ま
たは表面に、潤滑剤として、上記構成のトリブロツク体
からなる潤滑性物質を有することを特徴としている。こ
こで、上記の潤滑性物質を磁性層の内部または表面に設
けるには、潤滑性物質を炭化水素、アルコ―ル、ケト
ン、エ―テルなどの汎用の有機溶剤に溶解させ、この溶
液を非磁性支持体上にあらかじめ形成された磁性層上
に、塗布または噴霧して乾燥するか、あるいは逆に上記
の溶液中に磁性層を浸漬して乾燥すればよい。
【００１８】磁性層が強磁性金属薄膜からなる場合、こ
の薄膜上に真空蒸着、スパツタリング、プラズマなどで
炭素（ダイヤモンド状やアモルフアス状）膜、酸化珪素
膜、酸化クロム膜や、その他有機化合物などからなる保
護膜を設けたものであつてもよい。また、それらにフツ
素や珪素などを含ませた保護膜を設けてもよい。さら
に、この強磁性金属薄膜は表面に微量の水分が付着した
ものであつてもよいし、ベンゾトリアゾ―ル系などの防
錆剤を塗布したものであつてもよい。
の薄膜上に真空蒸着、スパツタリング、プラズマなどで
炭素（ダイヤモンド状やアモルフアス状）膜、酸化珪素
膜、酸化クロム膜や、その他有機化合物などからなる保
護膜を設けたものであつてもよい。また、それらにフツ
素や珪素などを含ませた保護膜を設けてもよい。さら
に、この強磁性金属薄膜は表面に微量の水分が付着した
ものであつてもよいし、ベンゾトリアゾ―ル系などの防
錆剤を塗布したものであつてもよい。
【００１９】強磁性金属薄膜上への潤滑性物質の付着量
は、薄膜表面に対し０．５〜２０mg／m2の範囲とするの
がよい。過少では、薄膜表面に均一に付着させにくく、
スチル耐久性を十分に向上させることができない。ま
た、過多となると、磁気ヘツドと強磁性金属薄膜とが貼
り付いたりするため、好ましくない。
は、薄膜表面に対し０．５〜２０mg／m2の範囲とするの
がよい。過少では、薄膜表面に均一に付着させにくく、
スチル耐久性を十分に向上させることができない。ま
た、過多となると、磁気ヘツドと強磁性金属薄膜とが貼
り付いたりするため、好ましくない。
【００２０】塗布型の磁気記録媒体では、塗布，噴霧，
浸漬などによる付着形成以外に、汎用の有機溶剤を用い
た磁性塗料中に潤滑剤を混合し、これを非磁性支持体上
に塗着して、潤滑剤含有の磁性塗膜を形成するようにし
てもよい。また、この磁性塗膜上にさらに塗布，噴霧，
浸漬などにて再度付着形成してもよく、付着後、余分な
潤滑剤などを溶剤により洗浄してもよい。さらに、磁性
塗膜の反対側に潤滑剤を含有させておき、これを磁性塗
膜側に転写させるようにしてもよい。磁性塗膜中の潤滑
性物質の含有量は、１０〜１００mg／m2であるのがよ
い。
浸漬などによる付着形成以外に、汎用の有機溶剤を用い
た磁性塗料中に潤滑剤を混合し、これを非磁性支持体上
に塗着して、潤滑剤含有の磁性塗膜を形成するようにし
てもよい。また、この磁性塗膜上にさらに塗布，噴霧，
浸漬などにて再度付着形成してもよく、付着後、余分な
潤滑剤などを溶剤により洗浄してもよい。さらに、磁性
塗膜の反対側に潤滑剤を含有させておき、これを磁性塗
膜側に転写させるようにしてもよい。磁性塗膜中の潤滑
性物質の含有量は、１０〜１００mg／m2であるのがよ
い。
【００２１】本発明の磁気記録媒体において、非磁性支
持体としては、ポリエチレンテレフタレ―ト、ポリエチ
レンナフタレ―ト、ポリカ―ボネ―ト、ポリイミド、ポ
リ塩化ビニルなどのプラスチツクや、アルミニウム合
金、チタン合金などが好適に使用される。また、この非
磁性支持体は、テ―プ、シ―ト、デイスク、カ―ドなど
のいずれの形態でもよく、表面に突起を設けたものでも
よい。
持体としては、ポリエチレンテレフタレ―ト、ポリエチ
レンナフタレ―ト、ポリカ―ボネ―ト、ポリイミド、ポ
リ塩化ビニルなどのプラスチツクや、アルミニウム合
金、チタン合金などが好適に使用される。また、この非
磁性支持体は、テ―プ、シ―ト、デイスク、カ―ドなど
のいずれの形態でもよく、表面に突起を設けたものでも
よい。
【００２２】強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体では、上
記の非磁性支持体の片面または両面に、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｆｅ−Ｂ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｐｔまたはこれらに酸素を加えたものなどから
なる種々の強磁性材が、真空蒸着、イオンプレ―テイン
グ、スパツタリング、メツキなどの方法で、薄膜形成さ
れる。このように形成される強磁性金属薄膜の膜厚は、
通常０．０３〜１μｍの範囲にあるのがよい。
記の非磁性支持体の片面または両面に、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｐ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｂ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−
Ｆｅ−Ｂ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｐｔまたはこれらに酸素を加えたものなどから
なる種々の強磁性材が、真空蒸着、イオンプレ―テイン
グ、スパツタリング、メツキなどの方法で、薄膜形成さ
れる。このように形成される強磁性金属薄膜の膜厚は、
通常０．０３〜１μｍの範囲にあるのがよい。
【００２３】塗布型の磁気記録媒体では、上記の非磁性
支持体の片面または両面に、磁性粉および結合剤樹脂を
含む磁性塗料が塗着されて、厚さが通常０．１〜１０μ
ｍ程度の磁性塗膜が形成される。磁性塗料には、充てん
剤、帯電防止剤、分散剤、着色剤など従来公知の各種の
配合剤を、任意に含ませることができる。
支持体の片面または両面に、磁性粉および結合剤樹脂を
含む磁性塗料が塗着されて、厚さが通常０．１〜１０μ
ｍ程度の磁性塗膜が形成される。磁性塗料には、充てん
剤、帯電防止剤、分散剤、着色剤など従来公知の各種の
配合剤を、任意に含ませることができる。
【００２４】磁性粉としては、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3
Ｏ4 、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 とＦｅ3 Ｏ4との中間酸化状態の
酸化鉄、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3
Ｏ4、ＣｒＯ2 、バリウムフエライトなどの酸化物系磁
性粉や、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金などの金属
磁性粉、窒化鉄の如き窒化物系磁性粉など、従来公知の
各種の磁性粉が広く使用される。針状の磁性粉では、平
均粒子径（長軸）が通常０．２〜１μｍ程度、平均軸比
（平均長軸径／平均短軸径）が通常５〜１０程度である
のがよい。板状の磁性粉では、平均長軸径が通常０．０
７〜０．３μｍ程度であるのが好ましい。
Ｏ4 、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 とＦｅ3 Ｏ4との中間酸化状態の
酸化鉄、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ含有γ−Ｆｅ3
Ｏ4、ＣｒＯ2 、バリウムフエライトなどの酸化物系磁
性粉や、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｒ合金などの金属
磁性粉、窒化鉄の如き窒化物系磁性粉など、従来公知の
各種の磁性粉が広く使用される。針状の磁性粉では、平
均粒子径（長軸）が通常０．２〜１μｍ程度、平均軸比
（平均長軸径／平均短軸径）が通常５〜１０程度である
のがよい。板状の磁性粉では、平均長軸径が通常０．０
７〜０．３μｍ程度であるのが好ましい。
【００２５】結合剤樹脂としては、たとえば、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル系共重合体、繊維素系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルブチラ―ル
系樹脂、ポリアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フエノ
―ル系樹脂、ポリイソシアネ―ト化合物など、磁気記録
媒体の結合剤樹脂として通常用いられるものが、いずれ
も好適に使用される。
ル−酢酸ビニル系共重合体、繊維素系樹脂、ポリウレタ
ン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルブチラ―ル
系樹脂、ポリアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、フエノ
―ル系樹脂、ポリイソシアネ―ト化合物など、磁気記録
媒体の結合剤樹脂として通常用いられるものが、いずれ
も好適に使用される。
【００２６】本発明の磁気記録媒体において、非磁性支
持体の一面側にのみ磁性層を形成したものでは、その反
対面側にバツクコ―ト層を設けてもよい。このバツクコ
―ト層は、カ―ボンブラツク、炭酸カルシウムなどの非
磁性粉を、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリウ
レタン系樹脂、繊維素系樹脂などの結合剤樹脂および有
機溶剤などとともに混合分散して、バツクコ―ト層用塗
料を調製し、これを非磁性支持体の反対面側に塗布，乾
燥して、形成される。
持体の一面側にのみ磁性層を形成したものでは、その反
対面側にバツクコ―ト層を設けてもよい。このバツクコ
―ト層は、カ―ボンブラツク、炭酸カルシウムなどの非
磁性粉を、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリウ
レタン系樹脂、繊維素系樹脂などの結合剤樹脂および有
機溶剤などとともに混合分散して、バツクコ―ト層用塗
料を調製し、これを非磁性支持体の反対面側に塗布，乾
燥して、形成される。
【００２７】本発明の潤滑性物質は、上記の磁気記録媒
体用の潤滑剤のほか、各種分野の潤滑剤として使用で
き、また、塗料用樹脂（防食ライニング、非接着コ―テ
イング、耐候性塗料）、繊維処理剤（撥水、撥油加
工）、離型剤、耐油紙、リベリング剤、接着剤、消火
剤、消泡剤、光フアイバ―（鞘成分として）、光学レン
ズ、医用高分子材料などにも使用することができる。
体用の潤滑剤のほか、各種分野の潤滑剤として使用で
き、また、塗料用樹脂（防食ライニング、非接着コ―テ
イング、耐候性塗料）、繊維処理剤（撥水、撥油加
工）、離型剤、耐油紙、リベリング剤、接着剤、消火
剤、消泡剤、光フアイバ―（鞘成分として）、光学レン
ズ、医用高分子材料などにも使用することができる。
【００２８】
【発明の効果】以上のように、本発明では、特定のトリ
ブロツク体からなるフツ素系の潤滑性物質を用いたこと
により、汎用の有機溶剤にて塗布、浸漬、噴霧などの操
作が可能で、フツ素系有機溶剤の使用による環境破壊な
どの弊害を招くおそれがなく、接触する２固体間を低摩
擦、低摩耗で摺動できる環境にやさしい潤滑性物質を提
供できる。また、これをとくに磁気記録媒体用の潤滑剤
として用いることにより、耐久性や走行性が改善された
磁気記録媒体を提供できる。
ブロツク体からなるフツ素系の潤滑性物質を用いたこと
により、汎用の有機溶剤にて塗布、浸漬、噴霧などの操
作が可能で、フツ素系有機溶剤の使用による環境破壊な
どの弊害を招くおそれがなく、接触する２固体間を低摩
擦、低摩耗で摺動できる環境にやさしい潤滑性物質を提
供できる。また、これをとくに磁気記録媒体用の潤滑剤
として用いることにより、耐久性や走行性が改善された
磁気記録媒体を提供できる。
【００２９】
【実施例】つぎに、本発明の実施例を記載して、より具
体的に説明する。なお、以下、部とあるのは重量部を意
味するものとする。
体的に説明する。なお、以下、部とあるのは重量部を意
味するものとする。
【００３０】実施例１ 分子両末端にカルボキシル基を有する２，２，５，５−
テトラメチルヘキサンジカルボン酸０．５モルと１Ｈ，
１Ｈ−パ―フロロ−１−オクタナ―ル１モルとの混合物
に、硫酸５ミリモルを加え、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ水分
離器で生成した水を分離しながら、２００℃で６時間反
応させた。その後、再結晶または蒸留により精製し、下
記の構造式： F(CF2)7CH2OCOC(CH3)2(CH2)2C(CH3)2COOCH2(CF2)7F で表されるトリブロツク体１を得、これを潤滑性物質と
した。
テトラメチルヘキサンジカルボン酸０．５モルと１Ｈ，
１Ｈ−パ―フロロ−１−オクタナ―ル１モルとの混合物
に、硫酸５ミリモルを加え、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ水分
離器で生成した水を分離しながら、２００℃で６時間反
応させた。その後、再結晶または蒸留により精製し、下
記の構造式： F(CF2)7CH2OCOC(CH3)2(CH2)2C(CH3)2COOCH2(CF2)7F で表されるトリブロツク体１を得、これを潤滑性物質と
した。
【００３１】実施例２ ２，２，５，５−テトラメチルヘキサンジカルボン酸に
代えて、テレフタル酸０．５モルを用いた以外は、実施
例１と同様に反応させて、下記の構造式： F(CF2)7CH2OCOC6H4COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体２を得、これを潤滑性物質
とした。
代えて、テレフタル酸０．５モルを用いた以外は、実施
例１と同様に反応させて、下記の構造式： F(CF2)7CH2OCOC6H4COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体２を得、これを潤滑性物質
とした。
【００３２】実施例３ ２，２，５，５−テトラメチルヘキサンジカルボン酸に
代えて、１，４−フエニレンジアセテイツクアシツド
０．５モルを用いた以外は、実施例１と同様に反応させ
て、下記の構造式； F(CF2)7CH2OCOCH2C6H4CH2COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体３を得、これを潤滑性物質
とした。
代えて、１，４−フエニレンジアセテイツクアシツド
０．５モルを用いた以外は、実施例１と同様に反応させ
て、下記の構造式； F(CF2)7CH2OCOCH2C6H4CH2COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体３を得、これを潤滑性物質
とした。
【００３３】実施例４ ２，２，５，５−テトラメチルヘキサンジカルボン酸に
代えて、４，４´−ビフエニルジカルボン酸０．５モル
を用いた以外は、実施例１と同様に反応させて、下記の
構造式； F(CF2)7CH2OCOC6H4C6H4COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体４を得、これを潤滑性物質
とした。
代えて、４，４´−ビフエニルジカルボン酸０．５モル
を用いた以外は、実施例１と同様に反応させて、下記の
構造式； F(CF2)7CH2OCOC6H4C6H4COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体４を得、これを潤滑性物質
とした。
【００３４】実施例５ ２，２，５，５−テトラメチルヘキサンジカルボン酸に
代えて、４，４´−オキシビスベンゾイツクアシツド
０．５モルを用いた以外は、実施例１と同様に反応させ
て、下記の構造式； F(CF2)7CH2OCOC6H4OC6H4COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体５を得、これを潤滑性物質
とした。
代えて、４，４´−オキシビスベンゾイツクアシツド
０．５モルを用いた以外は、実施例１と同様に反応させ
て、下記の構造式； F(CF2)7CH2OCOC6H4OC6H4COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体５を得、これを潤滑性物質
とした。
【００３５】実施例６ ２，２，５，５−テトラメチルヘキサンジカルボン酸に
代えて、２，２−ビス（４−カルボキシフエニル）プロ
パン０．５モルを用いた以外は、実施例１と同様に反応
させて、下記の構造式； F(CF2)7CH2OCOC6H4C(CH3)2C6H4COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体６を得、これを潤滑性物質
とした。
代えて、２，２−ビス（４−カルボキシフエニル）プロ
パン０．５モルを用いた以外は、実施例１と同様に反応
させて、下記の構造式； F(CF2)7CH2OCOC6H4C(CH3)2C6H4COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体６を得、これを潤滑性物質
とした。
【００３６】実施例７ ２，２，５，５−テトラメチルヘキサンジカルボン酸に
代えて、ベンジルマロン酸０．５モルを用いた以外は、
実施例１と同様に反応させて、下記の構造式； C6H5CH2CH[COOCH2(CF2)7F]2 で表わされるトリブロツク体７を得、これを潤滑性物質
とした。
代えて、ベンジルマロン酸０．５モルを用いた以外は、
実施例１と同様に反応させて、下記の構造式； C6H5CH2CH[COOCH2(CF2)7F]2 で表わされるトリブロツク体７を得、これを潤滑性物質
とした。
【００３７】実施例８ ２，２，５，５−テトラメチルヘキサンジカルボン酸に
代えて、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸０．５モ
ルを用いた以外は、実施例１と同様に反応させて、下記
の構造式； F(CF2)7CH2OCOC6H10COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体８を得、これを潤滑性物質
とした。
代えて、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸０．５モ
ルを用いた以外は、実施例１と同様に反応させて、下記
の構造式； F(CF2)7CH2OCOC6H10COOCH2(CF2)7F で表わされるトリブロツク体８を得、これを潤滑性物質
とした。
【００３８】実施例９ １，２，４，５−ベンゼンテトラカルボキシリツクジア
ンハイドライド０．５モルと、１Ｈ，１Ｈ−パ―フロロ
−１−オクタナ―ル１モルとを、６０℃で６時間反応さ
せた。その後、再結晶または蒸留により精製し、下記の
構造式： F(CF2)7CH2OCO(HOOC)C6H2(COOH)COOCH2(CF2)7F で表されるトリブロツク体９を得、これを潤滑性物質と
した。
ンハイドライド０．５モルと、１Ｈ，１Ｈ−パ―フロロ
−１−オクタナ―ル１モルとを、６０℃で６時間反応さ
せた。その後、再結晶または蒸留により精製し、下記の
構造式： F(CF2)7CH2OCO(HOOC)C6H2(COOH)COOCH2(CF2)7F で表されるトリブロツク体９を得、これを潤滑性物質と
した。
【００３９】実施例１０ １，４−ベンゼンジブロマイド０．５モルと、１Ｈ，１
Ｈ−パ―フロロ−１−オクタナ―ル１モルとに、水酸化
ナトリウム５ミリモルとジメチルスルフオキサイド８０
０ｇとを加えて、２００℃で６時間反応させた。放冷
後、水で希釈して有機層を分離し、これを炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥してか
ら溶媒を留去した。残分を再結晶または蒸留により精製
し、下記の構造式： F(CF2)7CH2OC6H4OCH2(CF2)7F で表されるトリブロツク体１０を得、これを潤滑性物質
とした。
Ｈ−パ―フロロ−１−オクタナ―ル１モルとに、水酸化
ナトリウム５ミリモルとジメチルスルフオキサイド８０
０ｇとを加えて、２００℃で６時間反応させた。放冷
後、水で希釈して有機層を分離し、これを炭酸水素ナト
リウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥してか
ら溶媒を留去した。残分を再結晶または蒸留により精製
し、下記の構造式： F(CF2)7CH2OC6H4OCH2(CF2)7F で表されるトリブロツク体１０を得、これを潤滑性物質
とした。
【００４０】実施例１１ １，４−ベンゼンジイソシアナ―ト０．５モルと、１
Ｈ，１Ｈ−パ―フロロ−１−オクタナ―ル１モルとを、
８０℃で６時間反応させた。その後、再結晶または蒸留
により精製し、下記の構造式： F(CF2)7CH2OC0NHC6H4NHCOOCH2(CF2)7F で表されるトリブロツク体１１を得、これを潤滑性物質
とした。
Ｈ，１Ｈ−パ―フロロ−１−オクタナ―ル１モルとを、
８０℃で６時間反応させた。その後、再結晶または蒸留
により精製し、下記の構造式： F(CF2)7CH2OC0NHC6H4NHCOOCH2(CF2)7F で表されるトリブロツク体１１を得、これを潤滑性物質
とした。
【００４１】実施例１２ １，４−ベンゼンジアミン０．５モルと、２Ｈ，２Ｈ−
パ―フロロオクタン酸の酸クロライド物１．２モルと、
ピリジン１．２モルとに、ジエチルエ―テル８００ｇを
加えて、５０℃で１２時間反応させた。炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、水の順で洗浄し、ジエチルエ―テルを留去
したのち、再結晶または蒸留により精製し、下記の構造
式： F(CF2)6CH2C0NHC6H4NHCOCH2(CF2)6F で表されるトリブロツク体１２を得、これを潤滑性物質
とした。
パ―フロロオクタン酸の酸クロライド物１．２モルと、
ピリジン１．２モルとに、ジエチルエ―テル８００ｇを
加えて、５０℃で１２時間反応させた。炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、水の順で洗浄し、ジエチルエ―テルを留去
したのち、再結晶または蒸留により精製し、下記の構造
式： F(CF2)6CH2C0NHC6H4NHCOCH2(CF2)6F で表されるトリブロツク体１２を得、これを潤滑性物質
とした。
【００４２】実施例１３ ヒドロキノン０．５モルと、１Ｈ，１Ｈ−パ―フロロヘ
プタンカルボン酸１モルとに、硫酸５ミリモルを加え
て、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ水分離器で生成した水を分離
しながら、２００℃で６時間反応させた。その後、再結
晶または蒸留により精製し、下記の構造式： F(CF2)6CH2C0OC6H4OCOCH2(CF2)6F で表されるトリブロツク体１３を得、これを潤滑性物質
とした。
プタンカルボン酸１モルとに、硫酸５ミリモルを加え
て、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ水分離器で生成した水を分離
しながら、２００℃で６時間反応させた。その後、再結
晶または蒸留により精製し、下記の構造式： F(CF2)6CH2C0OC6H4OCOCH2(CF2)6F で表されるトリブロツク体１３を得、これを潤滑性物質
とした。
【００４３】比較例１ 従来公知のフツ素系潤滑剤Ａとして、分子片末端にカル
ボキシル基を有するフツ化エ―テル化合物（カルボキシ
ル変性ガルデン；平均分子量６５０）を使用し、これを
潤滑性物質とした。
ボキシル基を有するフツ化エ―テル化合物（カルボキシ
ル変性ガルデン；平均分子量６５０）を使用し、これを
潤滑性物質とした。
【００４４】比較例２ 従来公知のフツ素系潤滑剤Ｂとして、分子片末端にカル
ボキシル基を有するフツ素化合物である、パ―フルオロ
−ｎ−オクタン酸を使用し、これを潤滑性物質とした。
ボキシル基を有するフツ素化合物である、パ―フルオロ
−ｎ−オクタン酸を使用し、これを潤滑性物質とした。
【００４５】比較例３ 従来公知のフツ素系潤滑剤Ｃとして、分子両末端にエス
テル基を有するフツ化エ―テル化合物（イタリア国のモ
ンテカチ―ニ社製のＤＥＡＬ）を使用し、これを潤滑性
物質とした。
テル基を有するフツ化エ―テル化合物（イタリア国のモ
ンテカチ―ニ社製のＤＥＡＬ）を使用し、これを潤滑性
物質とした。
【００４６】以上の実施例１〜１３のトリブロツク体１
〜１３および比較例１〜３のフツ素系潤滑剤Ａ〜Ｃから
なる各潤滑性物質について、汎用溶剤に対する溶解性を
調べた。汎用溶剤としてはｎ−ヘキサンを用い、潤滑性
物質をこの溶剤に少量ずつ加えてよく撹拌し、０．０５
重量％以上溶解するものを○、それ以下のものを×、と
評価した。結果は、下記の表１に示されるとおりであつ
た。
〜１３および比較例１〜３のフツ素系潤滑剤Ａ〜Ｃから
なる各潤滑性物質について、汎用溶剤に対する溶解性を
調べた。汎用溶剤としてはｎ−ヘキサンを用い、潤滑性
物質をこの溶剤に少量ずつ加えてよく撹拌し、０．０５
重量％以上溶解するものを○、それ以下のものを×、と
評価した。結果は、下記の表１に示されるとおりであつ
た。
【００４７】
【表１】
【００４８】実施例１４ 厚さが１０μｍのポリエチレンテレフタレ―トフイルム
上に、Ｃｏ−Ｎｉ合金を、酸素ガス雰囲気下で斜め蒸着
して、上記フイルム上に厚さが０．１５μｍのＣｏ−Ｎ
ｉ−Ｏ〔Ｃｏ：Ｎｉ（重量比）＝８０：２０〕からなる
強磁性金属薄膜を形成し、その後８mm幅に裁断した。
上に、Ｃｏ−Ｎｉ合金を、酸素ガス雰囲気下で斜め蒸着
して、上記フイルム上に厚さが０．１５μｍのＣｏ−Ｎ
ｉ−Ｏ〔Ｃｏ：Ｎｉ（重量比）＝８０：２０〕からなる
強磁性金属薄膜を形成し、その後８mm幅に裁断した。
【００４９】つぎに、潤滑剤として、実施例１で得たト
リブロツク体１からなる潤滑性物質を使用し、これをｎ
−ヘキサンに０．１重量％濃度となるように溶解させ
て、潤滑剤溶液を調製した。この潤滑剤溶液中に、上記
の強磁性金属薄膜を浸漬し、乾燥して、強磁性金属薄膜
上にトリブロツク体１からなる潤滑剤被膜を有するビデ
オテ―プを作製した。
リブロツク体１からなる潤滑性物質を使用し、これをｎ
−ヘキサンに０．１重量％濃度となるように溶解させ
て、潤滑剤溶液を調製した。この潤滑剤溶液中に、上記
の強磁性金属薄膜を浸漬し、乾燥して、強磁性金属薄膜
上にトリブロツク体１からなる潤滑剤被膜を有するビデ
オテ―プを作製した。
【００５０】実施例１５〜２６ 潤滑剤として、実施例２〜１３で得たトリブロツク体２
〜１３からなる潤滑性物質を用いた以外は、実施例１４
と同様にして、強磁性金属薄膜上にトリブロツク体２〜
１３からなる潤滑剤被膜を有するビデオテ―プを作製し
た。
〜１３からなる潤滑性物質を用いた以外は、実施例１４
と同様にして、強磁性金属薄膜上にトリブロツク体２〜
１３からなる潤滑剤被膜を有するビデオテ―プを作製し
た。
【００５１】比較例４〜６ 潤滑剤として、比較例１〜３のフツ素系潤滑剤Ａ〜Ｃを
用い、これらを１，１，２−トリフルオロ−１，２，２
−トリクロロエタンに０．１重量％濃度に溶解させて、
３種の潤滑剤溶液を調製した。この溶液中に強磁性金属
薄膜を浸漬し、乾燥するようにした以外は、実施例１４
と同様にして、強磁性金属薄膜上にフツ素系潤滑剤Ａ〜
Ｃからなる潤滑剤被膜を有するビデオテ―プを作製し
た。
用い、これらを１，１，２−トリフルオロ−１，２，２
−トリクロロエタンに０．１重量％濃度に溶解させて、
３種の潤滑剤溶液を調製した。この溶液中に強磁性金属
薄膜を浸漬し、乾燥するようにした以外は、実施例１４
と同様にして、強磁性金属薄膜上にフツ素系潤滑剤Ａ〜
Ｃからなる潤滑剤被膜を有するビデオテ―プを作製し
た。
【００５２】以上の実施例１４〜２６および比較例４〜
６の各ビデオテ―プについて、スチル耐久性として、２
０℃，５０％ＲＨの条件下で、８mmＶＴＲ（ソニ―社製
のＥＶ−Ｓ９００）を用い、再生出力が初期に比べて６
dB低下するまでのスチル時間を測定した。結果は、下記
の表２に示されるとおりであつた。
６の各ビデオテ―プについて、スチル耐久性として、２
０℃，５０％ＲＨの条件下で、８mmＶＴＲ（ソニ―社製
のＥＶ−Ｓ９００）を用い、再生出力が初期に比べて６
dB低下するまでのスチル時間を測定した。結果は、下記
の表２に示されるとおりであつた。
【００５３】
【表２】
【００５４】実施例２７ 厚さが６μｍのポリエチレンテレフタレ―トフイルム上
に、Ｃｏを酸素ガス雰囲気下で斜め蒸着して、上記フイ
ルム上に厚さが０．１５μｍのＣｏ−Ｏからなる強磁性
金属薄膜を形成した。つぎに、１３．５６ＭＨｚのＲＦ
（ＲａｄｉｏＦｒｅｑｕｅｎｃｙ）を用い、モノマ―ガ
スとしてエチレン、キヤリア―ガスとして水素を用い
て、プラズマ重合法により、上記強磁性金属薄膜上に厚
さが２０ｎｍのＤＬＣ（ダイアモンドライクカ―ボン）
保護膜を形成し、その後８mm幅に裁断した。
に、Ｃｏを酸素ガス雰囲気下で斜め蒸着して、上記フイ
ルム上に厚さが０．１５μｍのＣｏ−Ｏからなる強磁性
金属薄膜を形成した。つぎに、１３．５６ＭＨｚのＲＦ
（ＲａｄｉｏＦｒｅｑｕｅｎｃｙ）を用い、モノマ―ガ
スとしてエチレン、キヤリア―ガスとして水素を用い
て、プラズマ重合法により、上記強磁性金属薄膜上に厚
さが２０ｎｍのＤＬＣ（ダイアモンドライクカ―ボン）
保護膜を形成し、その後８mm幅に裁断した。
【００５５】つぎに、潤滑剤として、実施例１で得たト
リブロツク体１からなる潤滑性物質を使用し、これをｎ
−ヘキサンに０．１重量％濃度となるように溶解させ
て、潤滑剤溶液を調製した。この潤滑剤溶液中に、上記
のＤＬＣ保護膜を有する強磁性金属薄膜を浸漬し、乾燥
して、強磁性金属薄膜（のＤＬＣ保護膜）上にトリブロ
ツク体１からなる潤滑剤被膜を有するビデオテ―プを作
製した。
リブロツク体１からなる潤滑性物質を使用し、これをｎ
−ヘキサンに０．１重量％濃度となるように溶解させ
て、潤滑剤溶液を調製した。この潤滑剤溶液中に、上記
のＤＬＣ保護膜を有する強磁性金属薄膜を浸漬し、乾燥
して、強磁性金属薄膜（のＤＬＣ保護膜）上にトリブロ
ツク体１からなる潤滑剤被膜を有するビデオテ―プを作
製した。
【００５６】実施例２８〜３９ 潤滑剤として、実施例２〜１３で得たトリブロツク体２
〜１３からなる潤滑性物質を用いるようにした以外は、
実施例２７と同様にして、強磁性金属薄膜（のＤＬＣ保
護膜）上にトリブロツク体２〜１３からなる潤滑剤被膜
を有するビデオテ―プを作製した。
〜１３からなる潤滑性物質を用いるようにした以外は、
実施例２７と同様にして、強磁性金属薄膜（のＤＬＣ保
護膜）上にトリブロツク体２〜１３からなる潤滑剤被膜
を有するビデオテ―プを作製した。
【００５７】比較例７〜９ 潤滑剤として、比較例１〜３のフツ素系潤滑剤Ａ〜Ｃを
使用し、これらを１，１，２−トリフルオロ−１，２，
２−トリクロロエタンに０．１重量％濃度に溶解させ
て、３種の潤滑剤溶液を調製した。この溶液中にＤＬＣ
保護膜を有する強磁性金属薄膜を浸漬し、乾燥するよう
にした以外は、実施例２７と同様にして、強磁性金属薄
膜（のＤＬＣ保護膜）上にフツ素系潤滑剤Ａ〜Ｃからな
る潤滑剤被膜を有するビデオテ―プを作製した。
使用し、これらを１，１，２−トリフルオロ−１，２，
２−トリクロロエタンに０．１重量％濃度に溶解させ
て、３種の潤滑剤溶液を調製した。この溶液中にＤＬＣ
保護膜を有する強磁性金属薄膜を浸漬し、乾燥するよう
にした以外は、実施例２７と同様にして、強磁性金属薄
膜（のＤＬＣ保護膜）上にフツ素系潤滑剤Ａ〜Ｃからな
る潤滑剤被膜を有するビデオテ―プを作製した。
【００５８】以上の実施例２７〜３９および比較例７〜
９の各ビデオテ―プについて、前記の場合と同様にし
て、スチル耐久性（スチル時間）を調べた。結果は、下
記の表３に示されるとおりであつた。
９の各ビデオテ―プについて、前記の場合と同様にし
て、スチル耐久性（スチル時間）を調べた。結果は、下
記の表３に示されるとおりであつた。
【００５９】
【表３】
【００６０】実施例４０ α−Ｆｅ磁性粉（保磁力１，５００エルステツド、飽和
磁化１２０emu ／ｇ）１００部、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコ―ル共重合体（ＵＣＣ社製のＶＡＧ
Ｈ）２０部、多官能イソシアネ―ト化合物５部、カ―ボ
ンブラツク３部、α−Ａｌ2 Ｏ3 粉３部、ミリスチン酸
２部、潤滑剤として実施例１で得たトリブロツク体１か
らなる潤滑性物質２．５部、シクロヘキサノン１５０部
およびトルエン１３０部からなる配合組成物を、ボ―ル
ミル中で７２時間混合分散して、磁性塗料を調製した。
磁化１２０emu ／ｇ）１００部、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル−ビニルアルコ―ル共重合体（ＵＣＣ社製のＶＡＧ
Ｈ）２０部、多官能イソシアネ―ト化合物５部、カ―ボ
ンブラツク３部、α−Ａｌ2 Ｏ3 粉３部、ミリスチン酸
２部、潤滑剤として実施例１で得たトリブロツク体１か
らなる潤滑性物質２．５部、シクロヘキサノン１５０部
およびトルエン１３０部からなる配合組成物を、ボ―ル
ミル中で７２時間混合分散して、磁性塗料を調製した。
【００６１】この磁性塗料を、厚さが１５μｍのポリエ
チレンテレフタレ―トフイルム上に乾燥後の厚さが５μ
ｍとなるように塗布し、乾燥して、磁性塗膜を形成し、
カレンダ―処理後、８mm幅に裁断した。つぎに、潤滑剤
として実施例１で得たトリブロツク体１からなる潤滑性
物質を用い、これをｎ−ヘキサンに０．１重量％濃度と
なるように溶解させて潤滑剤溶液を調製し、この潤滑剤
溶液中に、上記の磁性塗膜を浸漬し、乾燥して、ビデオ
テ―プを作製した。
チレンテレフタレ―トフイルム上に乾燥後の厚さが５μ
ｍとなるように塗布し、乾燥して、磁性塗膜を形成し、
カレンダ―処理後、８mm幅に裁断した。つぎに、潤滑剤
として実施例１で得たトリブロツク体１からなる潤滑性
物質を用い、これをｎ−ヘキサンに０．１重量％濃度と
なるように溶解させて潤滑剤溶液を調製し、この潤滑剤
溶液中に、上記の磁性塗膜を浸漬し、乾燥して、ビデオ
テ―プを作製した。
【００６２】実施例４１〜５２ 磁性塗料中に配合する、また潤滑剤溶液の調製に用いる
潤滑剤として、実施例２〜１３で得たトリブロツク体２
〜１３からなる潤滑性物質を用いた以外は、実施例４０
と同様にして、１２種のビデオテ―プを作製した。
潤滑剤として、実施例２〜１３で得たトリブロツク体２
〜１３からなる潤滑性物質を用いた以外は、実施例４０
と同様にして、１２種のビデオテ―プを作製した。
【００６３】比較例１０〜１２ 磁性塗料中に配合する、また潤滑剤溶液の調製に用いる
潤滑剤として、比較例１〜３のフツ素系潤滑剤Ａ〜Ｃを
使用し、かつ潤滑剤溶液の調製に際し、これらの潤滑剤
を１，１，２−トリフルオロ−１，２，２−トリクロロ
エタンに０．１重量％濃度に溶解させるようにした以外
は、実施例４０と同様にして、３種のビデオテ―プを作
製した。
潤滑剤として、比較例１〜３のフツ素系潤滑剤Ａ〜Ｃを
使用し、かつ潤滑剤溶液の調製に際し、これらの潤滑剤
を１，１，２−トリフルオロ−１，２，２−トリクロロ
エタンに０．１重量％濃度に溶解させるようにした以外
は、実施例４０と同様にして、３種のビデオテ―プを作
製した。
【００６４】以上の実施例４０〜５２および比較例１０
〜１２の各ビデオテ―プについて、前記の場合と同様に
して、スチル耐久性（スチル時間）を調べた。結果は、
下記の表４に示されるとおりであつた。
〜１２の各ビデオテ―プについて、前記の場合と同様に
して、スチル耐久性（スチル時間）を調べた。結果は、
下記の表４に示されるとおりであつた。
【００６５】
【表４】
【００６６】上記の表１から明らかなように、トリブロ
ツク体１〜１３を用いた実施例１〜１３の潤滑性物質
は、比較例１〜３の従来のフツ系潤滑剤Ａ〜Ｃに比べ
て、汎用溶剤に対する溶解性にすぐれていることがわか
る。また、上記の表２〜表４から明らかなように、潤滑
剤としてトリブロツク体１〜１３を用いた実施例１４〜
５２のビデオテ―プは、従来のフツ系潤滑剤Ａ〜Ｃを用
いた比較例４〜１２のビデオテ―プに比べ、いずれもス
チル時間が長くなつており、とくに強磁性金属薄膜型の
ビデオテ―プ、とりわけ上記薄膜上にＤＬＣ保護膜を設
けたビデオテ―プにおいて、スチル耐久性が大幅に改善
されていることがわかる。
ツク体１〜１３を用いた実施例１〜１３の潤滑性物質
は、比較例１〜３の従来のフツ系潤滑剤Ａ〜Ｃに比べ
て、汎用溶剤に対する溶解性にすぐれていることがわか
る。また、上記の表２〜表４から明らかなように、潤滑
剤としてトリブロツク体１〜１３を用いた実施例１４〜
５２のビデオテ―プは、従来のフツ系潤滑剤Ａ〜Ｃを用
いた比較例４〜１２のビデオテ―プに比べ、いずれもス
チル時間が長くなつており、とくに強磁性金属薄膜型の
ビデオテ―プ、とりわけ上記薄膜上にＤＬＣ保護膜を設
けたビデオテ―プにおいて、スチル耐久性が大幅に改善
されていることがわかる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１０Ｎ 50:08 (72)発明者 宮田 一司 大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号 日立マ クセル株式会社内
Claims (8)
- 【請求項１】 フツ化ブロツク−非フツ化ブロツク−フ
ツ化ブロツクのトリブロツク体からなり、かつ非フツ化
ブロツクが分岐または環状構造を有することを特徴とす
る潤滑性物質。 - 【請求項２】 非フツ化ブロツクにおける炭素の数が３
〜１，０００である請求項１に記載の潤滑性物質。 - 【請求項３】 フツ化ブロツクにおけるフツ素の結合し
た炭素の数が４以上、フツ素の結合していない炭素の数
が１〜４、合計の炭素の数が１，０００までである請求
項１に記載の潤滑性物質。 - 【請求項４】 フツ化ブロツクと非フツ化ブロツクとが
エステル結合、エ―テル結合、アミド結合、ウレタン結
合またはウレア結合のいずれかの結合により連結されて
いる請求項１に記載の潤滑性物質。 - 【請求項５】 非磁性支持体の片面または両面に磁性層
を有する磁気記録媒体において、磁性層の内部または表
面に、潤滑剤として、請求項１〜４のいずれかに記載の
潤滑性物質を有することを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項６】 磁性層が強磁性金属薄膜からなり、この
薄膜表面への潤滑性物質の塗布量が０．５〜２０mg／m2
である請求項５に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項７】 強磁性金属薄膜の表面に炭素膜、酸化珪
素膜または酸化クロム膜を有する請求項６に記載の磁気
記録媒体。 - 【請求項８】 磁性層が磁性塗膜からなり、この塗膜中
の潤滑性物質の含有量が１０〜１００mg／m2である請求
項５に記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7086109A JPH08259976A (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 潤滑性物質とこれを用いた磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7086109A JPH08259976A (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 潤滑性物質とこれを用いた磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08259976A true JPH08259976A (ja) | 1996-10-08 |
Family
ID=13877545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7086109A Withdrawn JPH08259976A (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | 潤滑性物質とこれを用いた磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08259976A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021054632A1 (ko) * | 2019-09-18 | 2021-03-25 | 주식회사 쎄코 | 이형제용 화합물 및 그 제조방법 |
| US11491545B2 (en) | 2018-08-24 | 2022-11-08 | Lg Chem, Ltd. | Method of preparing magnetic powder, and magnetic powder |
-
1995
- 1995-03-17 JP JP7086109A patent/JPH08259976A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11491545B2 (en) | 2018-08-24 | 2022-11-08 | Lg Chem, Ltd. | Method of preparing magnetic powder, and magnetic powder |
| WO2021054632A1 (ko) * | 2019-09-18 | 2021-03-25 | 주식회사 쎄코 | 이형제용 화합물 및 그 제조방법 |
| KR20210033201A (ko) * | 2019-09-18 | 2021-03-26 | 주식회사 쎄코 | 이형제용 화합물 및 그 제조방법 |
| JP2022549389A (ja) * | 2019-09-18 | 2022-11-25 | セコ カンパニー リミテッド | 離型剤用化合物及びその製造方法 |
| US11702554B2 (en) | 2019-09-18 | 2023-07-18 | Ceko Co., Ltd. | Compound for release agent and method for preparing the same |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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