JPH08262196A - Ｘ線装置用可変スリット装置 - Google Patents
Ｘ線装置用可変スリット装置Info
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- JPH08262196A JPH08262196A JP7084499A JP8449995A JPH08262196A JP H08262196 A JPH08262196 A JP H08262196A JP 7084499 A JP7084499 A JP 7084499A JP 8449995 A JP8449995 A JP 8449995A JP H08262196 A JPH08262196 A JP H08262196A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線回折測定において高精度のスリット幅制
御が可能であり、しかも小型で安価な可変スリット装置
を提供する。 【構成】 Ｘ線ビームを所定幅に規制すると共にその規
制幅を調節可能なＸ線装置用可変スリット装置である。
この装置は、Ｘ線ビームを通過させるためのスリット幅
を形成する一対のスリット部材１と、各スリット部材１
と一体なカムフォロワ部材９と、それらのカムフォロワ
部材９の間に配置されていてスリット部材１の開閉方向
Ｈに対して直角方向に延びる回転軸線Ｑを中心として回
転するカム１１と、カムフォロワ部材９をカム１１に弾
性的に押し付けるバネ１６とを有する。カム１１は、例
えば、２つの円柱ピン１０ａ，１０ｂを回転軸線Ｑを境
として隣接して並べることによって形成する。カム１１
の回転によりスリット部材１が開閉する。
御が可能であり、しかも小型で安価な可変スリット装置
を提供する。 【構成】 Ｘ線ビームを所定幅に規制すると共にその規
制幅を調節可能なＸ線装置用可変スリット装置である。
この装置は、Ｘ線ビームを通過させるためのスリット幅
を形成する一対のスリット部材１と、各スリット部材１
と一体なカムフォロワ部材９と、それらのカムフォロワ
部材９の間に配置されていてスリット部材１の開閉方向
Ｈに対して直角方向に延びる回転軸線Ｑを中心として回
転するカム１１と、カムフォロワ部材９をカム１１に弾
性的に押し付けるバネ１６とを有する。カム１１は、例
えば、２つの円柱ピン１０ａ，１０ｂを回転軸線Ｑを境
として隣接して並べることによって形成する。カム１１
の回転によりスリット部材１が開閉する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線装置に用いられる
可変スリット装置に関する。
可変スリット装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線回折装置、Ｘ線反射率測定装置、Ｘ
線応力測定装置、Ｘ線小角散乱装置、その他種々のＸ線
装置においては、測定対象である試料にＸ線を照射し、
その試料で回折、反射、散乱等するＸ線をＸ線カウンタ
等によって検出することによって測定が行われる。この
ようなＸ線装置では、試料に入射又は試料で回折等する
Ｘ線のビーム幅を規制するために、Ｘ線ビームの光路上
の適所、通常は複数箇所にスリットが配置される。ま
た、Ｘ線ビームの幅を希望の値に変化させるために、ス
リット幅を変更可能にしたスリット装置、すなわち可変
スリット装置も知られている。
線応力測定装置、Ｘ線小角散乱装置、その他種々のＸ線
装置においては、測定対象である試料にＸ線を照射し、
その試料で回折、反射、散乱等するＸ線をＸ線カウンタ
等によって検出することによって測定が行われる。この
ようなＸ線装置では、試料に入射又は試料で回折等する
Ｘ線のビーム幅を規制するために、Ｘ線ビームの光路上
の適所、通常は複数箇所にスリットが配置される。ま
た、Ｘ線ビームの幅を希望の値に変化させるために、ス
リット幅を変更可能にしたスリット装置、すなわち可変
スリット装置も知られている。
【０００３】例えば、一般に広く用いられているＸ線回
折装置を見ると、図５に示すように、Ｘ線源Ｆから放射
されて発散するＸ線Ｒの発散角を一対のスリット部材５
１によって規制し、その規制後のＸ線ビームを試料Ｓに
照射する。ここに用いられるスリット部材５１は、Ｘ線
の発散を制限することを主目的とすることから、発散規
制スリット等と呼ばれることが多い。ところで、一般的
なＸ線回折装置では、試料Ｓを所定の角速度θで回転さ
せながら測定を行うことが多い。そしてその場合には、
角度θが変化するときにも試料に対するＸ線の照射面積
Ａを一定に維持するため、スリット部材５１のスリット
幅ＷS を回転角度θに対応して変化させることが望まし
い。
折装置を見ると、図５に示すように、Ｘ線源Ｆから放射
されて発散するＸ線Ｒの発散角を一対のスリット部材５
１によって規制し、その規制後のＸ線ビームを試料Ｓに
照射する。ここに用いられるスリット部材５１は、Ｘ線
の発散を制限することを主目的とすることから、発散規
制スリット等と呼ばれることが多い。ところで、一般的
なＸ線回折装置では、試料Ｓを所定の角速度θで回転さ
せながら測定を行うことが多い。そしてその場合には、
角度θが変化するときにも試料に対するＸ線の照射面積
Ａを一定に維持するため、スリット部材５１のスリット
幅ＷS を回転角度θに対応して変化させることが望まし
い。
【０００４】このようにスリット幅を変化させるための
機構として、従来、図６に示すように、４つのリンク５
２ａ〜５２ｄから成る、いわゆるパンタグラフ機構を採
用したものがある。この機構では、一対のリンク５２ｂ
及び５２ｄを回転軸５３によって回転可能且つ位置不動
に支持し、もう一対のリンク５２ａ及び５２ｃの先端に
一対のスリット部材５１を固定する。いずれかのリン
ク、例えばリンク５２ｃをステッピングモータ５３等に
よって直進駆動させることにより、リンク５２ａ及び５
２ｃを互いに反対方向へ平行移動させ、これにより、ス
リット部材５１のスリット幅ＷS を開閉する。
機構として、従来、図６に示すように、４つのリンク５
２ａ〜５２ｄから成る、いわゆるパンタグラフ機構を採
用したものがある。この機構では、一対のリンク５２ｂ
及び５２ｄを回転軸５３によって回転可能且つ位置不動
に支持し、もう一対のリンク５２ａ及び５２ｃの先端に
一対のスリット部材５１を固定する。いずれかのリン
ク、例えばリンク５２ｃをステッピングモータ５３等に
よって直進駆動させることにより、リンク５２ａ及び５
２ｃを互いに反対方向へ平行移動させ、これにより、ス
リット部材５１のスリット幅ＷS を開閉する。
【０００５】また、スリット幅を変化させるための別の
機構として、従来、図７に示すように、ガイドロッド５
４にガイドされた一対のスリット部材５１を、ネジのら
せん方向が逆である、いわゆる逆ネジが切られたネジ軸
５５に噛み合わせ、ネジ軸５５をハンドル５６等によっ
て回すことによりスリット幅ＷS を開閉するようにした
機構が知られている。
機構として、従来、図７に示すように、ガイドロッド５
４にガイドされた一対のスリット部材５１を、ネジのら
せん方向が逆である、いわゆる逆ネジが切られたネジ軸
５５に噛み合わせ、ネジ軸５５をハンドル５６等によっ
て回すことによりスリット幅ＷS を開閉するようにした
機構が知られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の各可変スリット装置では、機構全体が大型になって
しまい、それを用いるＸ線装置を小型にすることに関し
て妨げとなったり、バックラッシュその他の誤差の影響
でスリット幅の制御の精度が悪くなったり、その精度を
向上させるためにはコストが高くなる等といった問題が
あった。
来の各可変スリット装置では、機構全体が大型になって
しまい、それを用いるＸ線装置を小型にすることに関し
て妨げとなったり、バックラッシュその他の誤差の影響
でスリット幅の制御の精度が悪くなったり、その精度を
向上させるためにはコストが高くなる等といった問題が
あった。
【０００７】本発明は、それらの問題点を解消するため
になされたものであって、高精度のスリット幅制御が可
能であり、しかも小型で安価な可変スリット装置を提供
することを目的とする。
になされたものであって、高精度のスリット幅制御が可
能であり、しかも小型で安価な可変スリット装置を提供
することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線装置用可変スリット装置は、Ｘ線
ビームを通過させるためのスリット幅を形成する一対の
スリット部材と、各スリット部材と一体なカムフォロワ
部材と、それらのカムフォロワ部材の間に配置されてい
てスリット部材の開閉方向に対して直角方向に延びる回
転軸線を中心として回転するカムと、そして、カムフォ
ロワ部材をカムに弾性的に押し付ける弾性押圧部材とを
有することを特徴とする。
め、本発明に係るＸ線装置用可変スリット装置は、Ｘ線
ビームを通過させるためのスリット幅を形成する一対の
スリット部材と、各スリット部材と一体なカムフォロワ
部材と、それらのカムフォロワ部材の間に配置されてい
てスリット部材の開閉方向に対して直角方向に延びる回
転軸線を中心として回転するカムと、そして、カムフォ
ロワ部材をカムに弾性的に押し付ける弾性押圧部材とを
有することを特徴とする。
【０００９】上記のカムは、カムフォロワ部材の間に配
置される限り、その形状は任意である。但しそのカム
は、回転軸線方向にガイド面として作用できるある程度
の長さを有することが望ましい。こうすれば、一対のカ
ムフォロワ部材はそのガイド面に線接触することにな
り、よって、スリット部材が傾くことをそのガイド面に
よって確実に防止できる。その結果、スリット部材の傾
きを防止するために、カム以外の特別なガイド手段を設
ける必要がなくなる。
置される限り、その形状は任意である。但しそのカム
は、回転軸線方向にガイド面として作用できるある程度
の長さを有することが望ましい。こうすれば、一対のカ
ムフォロワ部材はそのガイド面に線接触することにな
り、よって、スリット部材が傾くことをそのガイド面に
よって確実に防止できる。その結果、スリット部材の傾
きを防止するために、カム以外の特別なガイド手段を設
ける必要がなくなる。
【００１０】また、カムの具体的な形状としては、カム
の回転軸線を中心とする楕円カムとしたり、あるいは、
カムの回転軸線を境として隣接する２つの円柱ピンによ
ってそのカムを構成することもできる。２つの円柱ピン
を用いた場合は、既製の円柱ピンを２個用意してそれら
を単に並べるだけでカムが形成されることになるので、
可変スリット装置の構造がきわめて簡単になり、製造コ
ストもきわめて安くなる。また、円柱ピンの外周側面の
直線度はきわめて高精度に仕上げることができるので、
その外周側面をカムフォロワ部材のためのガイド面とし
て用いれば、カムフォロワ部材、従ってスリット部材が
開閉移動するとき、そのスリット部材が傾斜移動するこ
とをより一層確実に防止できる。また、２つの円柱ピン
を用いる場合は、カムフォロワ部材に接触するカム面が
円弧面になるので、カムが角速度θで回転するときに、
カムフォロワ部材、従ってスリット部材をｓｉｎθの開
閉速度で開閉移動させることができる。このことは、Ｘ
線源に対して角速度θで回転移動する試料に入射するＸ
線の照射面積を一定に維持することに関して特に有利で
ある。
の回転軸線を中心とする楕円カムとしたり、あるいは、
カムの回転軸線を境として隣接する２つの円柱ピンによ
ってそのカムを構成することもできる。２つの円柱ピン
を用いた場合は、既製の円柱ピンを２個用意してそれら
を単に並べるだけでカムが形成されることになるので、
可変スリット装置の構造がきわめて簡単になり、製造コ
ストもきわめて安くなる。また、円柱ピンの外周側面の
直線度はきわめて高精度に仕上げることができるので、
その外周側面をカムフォロワ部材のためのガイド面とし
て用いれば、カムフォロワ部材、従ってスリット部材が
開閉移動するとき、そのスリット部材が傾斜移動するこ
とをより一層確実に防止できる。また、２つの円柱ピン
を用いる場合は、カムフォロワ部材に接触するカム面が
円弧面になるので、カムが角速度θで回転するときに、
カムフォロワ部材、従ってスリット部材をｓｉｎθの開
閉速度で開閉移動させることができる。このことは、Ｘ
線源に対して角速度θで回転移動する試料に入射するＸ
線の照射面積を一定に維持することに関して特に有利で
ある。
【００１１】本発明に係る可変スリット装置は、種々の
Ｘ線装置の任意の箇所に設置できる。但し、最も有効に
機能するのは、Ｘ線源から放射されて試料へ入射する入
射Ｘ線の発散を制限するためのスリット、いわゆる発散
規制スリットとして用いる場合であると考えられる。ま
た、Ｘ線装置として、測定対象である試料をθ回転させ
るθ回転駆動系を有する形式のものを採用する場合に
は、可変スリット装置内のカムとそのθ回転駆動系とを
動力伝達手段によって連結し、θ回転駆動系の駆動力を
利用して可変スリット装置内のスリット部材を開閉移動
させることが望ましい。そのような動力伝達手段として
は、ギヤ列、ベルト伝動系、チェーン伝動系、その他任
意の動力伝達装置を適用できるが、Ｘ線装置側のθ回転
駆動系として、ウオームとウオームホイールを含む駆動
系を採用する場合には、ギヤ列を用いて動力伝達装置を
構成するのが好都合である。また、構造上の理由でθ回
転駆動系と連結できない場合は、可変スリット装置内で
モータ駆動系を用意し、角速度θと同期回転させること
もできる。
Ｘ線装置の任意の箇所に設置できる。但し、最も有効に
機能するのは、Ｘ線源から放射されて試料へ入射する入
射Ｘ線の発散を制限するためのスリット、いわゆる発散
規制スリットとして用いる場合であると考えられる。ま
た、Ｘ線装置として、測定対象である試料をθ回転させ
るθ回転駆動系を有する形式のものを採用する場合に
は、可変スリット装置内のカムとそのθ回転駆動系とを
動力伝達手段によって連結し、θ回転駆動系の駆動力を
利用して可変スリット装置内のスリット部材を開閉移動
させることが望ましい。そのような動力伝達手段として
は、ギヤ列、ベルト伝動系、チェーン伝動系、その他任
意の動力伝達装置を適用できるが、Ｘ線装置側のθ回転
駆動系として、ウオームとウオームホイールを含む駆動
系を採用する場合には、ギヤ列を用いて動力伝達装置を
構成するのが好都合である。また、構造上の理由でθ回
転駆動系と連結できない場合は、可変スリット装置内で
モータ駆動系を用意し、角速度θと同期回転させること
もできる。
【００１２】
【作用】本発明の可変スリット装置では、カムの回転に
より一対のカムフォロワ部材が開閉移動し、その結果、
カムフォロワ部材と一体な一対のスリット部材が開閉移
動する。そして、このスリット部材の開閉移動により、
Ｘ線ビームを通過させるためのスリット幅が調節され
る。カムは、一対のカムフォロワ部材の間に配置される
ので、パンタグラフ機構やネジ軸機構を用いる場合に比
べて、スリット部材のまわりの機構が著しく小型且つ簡
単になる。また、製造コストも安くなる。
より一対のカムフォロワ部材が開閉移動し、その結果、
カムフォロワ部材と一体な一対のスリット部材が開閉移
動する。そして、このスリット部材の開閉移動により、
Ｘ線ビームを通過させるためのスリット幅が調節され
る。カムは、一対のカムフォロワ部材の間に配置される
ので、パンタグラフ機構やネジ軸機構を用いる場合に比
べて、スリット部材のまわりの機構が著しく小型且つ簡
単になる。また、製造コストも安くなる。
【００１３】
【実施例】図３は、本発明の可変スリット装置を適用で
きるＸ線装置の一例、特にθ−２θ走査系のゴニオメー
タを備えたＸ線回折装置を模式的に示している。このＸ
線回折装置は、例えばラインフォーカスのＸ線を放射す
るＸ線源Ｆと、発散規制スリットとして働く一対のスリ
ット部材１と、測定対象である試料Ｓと、受光スリット
２と、そしてＸ線カウンタ３とを有している。Ｘ線源
Ｆ、試料Ｓの回転軸線Ｐ、そして受光スリット２の３点
は、集中円Ｅの上に位置する。
きるＸ線装置の一例、特にθ−２θ走査系のゴニオメー
タを備えたＸ線回折装置を模式的に示している。このＸ
線回折装置は、例えばラインフォーカスのＸ線を放射す
るＸ線源Ｆと、発散規制スリットとして働く一対のスリ
ット部材１と、測定対象である試料Ｓと、受光スリット
２と、そしてＸ線カウンタ３とを有している。Ｘ線源
Ｆ、試料Ｓの回転軸線Ｐ、そして受光スリット２の３点
は、集中円Ｅの上に位置する。
【００１４】試料Ｓは、図１に示すように、試料台４の
上に装着され、その試料台４にはウオームホイール５が
固着されている。このウオームホイール５はウオーム６
に噛み合っており、そのウオーム６は回転駆動源、例え
ばステッピングモータ７によて駆動されて回転する。こ
のウオーム回転駆動系の働きにより、試料Ｓは回転軸線
Ｐを中心として所定角速度で連続的又は間欠的に回転、
いわゆるθ回転する。図３において、受光スリット２及
びＸ線カウンタ３は１つのユニットとして試料の回転軸
線Ｐを中心として２θ回転移動できるようになってい
る。この２θ回転は、試料Ｓのθ回転駆動系とは別の回
転駆動系の働きによってもたらされるものであり、試料
Ｓの角速度θの２倍の角速度２θで、θ回転と同じ方向
へ移動する回転である。
上に装着され、その試料台４にはウオームホイール５が
固着されている。このウオームホイール５はウオーム６
に噛み合っており、そのウオーム６は回転駆動源、例え
ばステッピングモータ７によて駆動されて回転する。こ
のウオーム回転駆動系の働きにより、試料Ｓは回転軸線
Ｐを中心として所定角速度で連続的又は間欠的に回転、
いわゆるθ回転する。図３において、受光スリット２及
びＸ線カウンタ３は１つのユニットとして試料の回転軸
線Ｐを中心として２θ回転移動できるようになってい
る。この２θ回転は、試料Ｓのθ回転駆動系とは別の回
転駆動系の働きによってもたらされるものであり、試料
Ｓの角速度θの２倍の角速度２θで、θ回転と同じ方向
へ移動する回転である。
【００１５】図３において、試料Ｓがθ回転し、同時に
Ｘ線カウンタ３が２θ回転する間、Ｘ線源Ｆから放射さ
れて発散するＸ線ビームが発散規制スリット１によって
発散角を制限された状態で試料Ｓに入射する。入射する
Ｘ線と試料Ｓの結晶格子面との間でＸ線の回折条件が満
足されるとＸ線の回折が生じ、その回折したＸ線は受光
スリット２に集光して該スリット２を通過した後、Ｘ線
カウンタ３によって検出される。こうして、回折角度２
θとその回折角度における回折Ｘ線強度との関係が、い
わゆるＸ線回折図形として求められ、そのＸ線回折図形
に基づいて試料Ｓの特性、例えばその試料Ｓ内に含まれ
る材料成分等が判定される。
Ｘ線カウンタ３が２θ回転する間、Ｘ線源Ｆから放射さ
れて発散するＸ線ビームが発散規制スリット１によって
発散角を制限された状態で試料Ｓに入射する。入射する
Ｘ線と試料Ｓの結晶格子面との間でＸ線の回折条件が満
足されるとＸ線の回折が生じ、その回折したＸ線は受光
スリット２に集光して該スリット２を通過した後、Ｘ線
カウンタ３によって検出される。こうして、回折角度２
θとその回折角度における回折Ｘ線強度との関係が、い
わゆるＸ線回折図形として求められ、そのＸ線回折図形
に基づいて試料Ｓの特性、例えばその試料Ｓ内に含まれ
る材料成分等が判定される。
【００１６】図３におけるＸ線入射側の部分Ｂの内部構
造を示すと図１の通りであり、この部分に可変スリット
装置８が含まれる。この可変スリット装置８は、一対の
スリット部材１と、それらのスリット部材１をそれぞれ
一体に支持する立方体形状の一対のカムフォロワ部材９
と、それらのカムフォロワ部材９の間に配置された２つ
の円柱ピン１０ａ及び１０ｂとを有している。これらの
円柱ピン１０ａ，１０ｂは、図２にも示すように、ギヤ
１２と一体な回転軸１３の上端に接着、ネジ止め等によ
って固着されている。また、これらの円柱ピンは、回転
軸１３の回転中心軸線Ｑを境として隣接すると共に、そ
れらの外周側面Ｇは精密に直線状に仕上げられ、さらに
少なくともカムフォロワ部材９の高さよりも長く形成さ
れていて、カムフォロワ部材９のためのガイド面として
働くようになっている。なお、ギヤ１２は試料Ｓをθ回
転させるためのθ回転駆動系を構成するウオームホイー
ル５に噛み合っている。
造を示すと図１の通りであり、この部分に可変スリット
装置８が含まれる。この可変スリット装置８は、一対の
スリット部材１と、それらのスリット部材１をそれぞれ
一体に支持する立方体形状の一対のカムフォロワ部材９
と、それらのカムフォロワ部材９の間に配置された２つ
の円柱ピン１０ａ及び１０ｂとを有している。これらの
円柱ピン１０ａ，１０ｂは、図２にも示すように、ギヤ
１２と一体な回転軸１３の上端に接着、ネジ止め等によ
って固着されている。また、これらの円柱ピンは、回転
軸１３の回転中心軸線Ｑを境として隣接すると共に、そ
れらの外周側面Ｇは精密に直線状に仕上げられ、さらに
少なくともカムフォロワ部材９の高さよりも長く形成さ
れていて、カムフォロワ部材９のためのガイド面として
働くようになっている。なお、ギヤ１２は試料Ｓをθ回
転させるためのθ回転駆動系を構成するウオームホイー
ル５に噛み合っている。
【００１７】図１において、カムフォロワ部材９の左右
両面はガイド部材１４及び１５によってガイドされ、よ
って、カムフォロワ部材９は矢印Ｈに示すようにＸ線光
路Ｌに対して近づき又は遠ざかる方向へ平行移動する。
また、カムフォロワ部材９のＸ線光路Ｌに対する背面に
は弾性押圧部材としての圧縮バネ１６が設けられ、これ
らのバネのバネ力により、カムフォロワ部材９は円柱ピ
ン１０ａ，１０ｂの外周側面Ｇに圧力下で接触してい
る。
両面はガイド部材１４及び１５によってガイドされ、よ
って、カムフォロワ部材９は矢印Ｈに示すようにＸ線光
路Ｌに対して近づき又は遠ざかる方向へ平行移動する。
また、カムフォロワ部材９のＸ線光路Ｌに対する背面に
は弾性押圧部材としての圧縮バネ１６が設けられ、これ
らのバネのバネ力により、カムフォロワ部材９は円柱ピ
ン１０ａ，１０ｂの外周側面Ｇに圧力下で接触してい
る。
【００１８】本発明に係る可変スリット装置８は以上の
ように構成されているので、Ｘ線回折測定の際に試料Ｓ
がウオームホイール５の回転によってθ回転するとき、
ギヤ１２によってそのθ回転が回転軸１３に伝達されて
その回転軸１３が角速度θで回転する。回転軸１３が回
転すると、円柱ピン１０ａ及び１０ｂが回転中心軸線Ｑ
を中心として一体状態で回転し、それらの外周側面Ｇに
接触するカムフォロワ部材９がそれらの円柱ピンの回転
に応じて矢印Ｈ方向へ開閉移動する。そしてそれに応じ
て、スリット部材１がＸ線光路Ｌに対して開閉移動し
て、スリット幅ＷS が変化する。
ように構成されているので、Ｘ線回折測定の際に試料Ｓ
がウオームホイール５の回転によってθ回転するとき、
ギヤ１２によってそのθ回転が回転軸１３に伝達されて
その回転軸１３が角速度θで回転する。回転軸１３が回
転すると、円柱ピン１０ａ及び１０ｂが回転中心軸線Ｑ
を中心として一体状態で回転し、それらの外周側面Ｇに
接触するカムフォロワ部材９がそれらの円柱ピンの回転
に応じて矢印Ｈ方向へ開閉移動する。そしてそれに応じ
て、スリット部材１がＸ線光路Ｌに対して開閉移動し
て、スリット幅ＷS が変化する。
【００１９】このときのスリット幅ＷS は、各円柱ピン
１０ａ，１０ｂの直径をＤ／２、すなわちそれらの円柱
ピンを１つのカムとして考えたときのカム直径をＤとす
るとき、 ＷS ＝Ｄ・ｓｉｎθ によって表される。つまり、試料Ｓがθ回転するとき、
スリット部材１のスリット幅はそのθ回転に応じてｓｉ
ｎθの割合で変化する。このように、発散規制スリット
として働くスリット部材１のスリット幅を試料Ｓのθ回
転に応じてｓｉｎθの割合で変化させることにより、そ
のスリット幅を通過して試料Ｓを照射するＸ線の照射面
積Ａを、試料Ｓの回転角度θに関わらずほぼ一定の大き
さに維持できる。その結果、試料Ｓから信頼性の高い回
折Ｘ線情報を得ることができる。
１０ａ，１０ｂの直径をＤ／２、すなわちそれらの円柱
ピンを１つのカムとして考えたときのカム直径をＤとす
るとき、 ＷS ＝Ｄ・ｓｉｎθ によって表される。つまり、試料Ｓがθ回転するとき、
スリット部材１のスリット幅はそのθ回転に応じてｓｉ
ｎθの割合で変化する。このように、発散規制スリット
として働くスリット部材１のスリット幅を試料Ｓのθ回
転に応じてｓｉｎθの割合で変化させることにより、そ
のスリット幅を通過して試料Ｓを照射するＸ線の照射面
積Ａを、試料Ｓの回転角度θに関わらずほぼ一定の大き
さに維持できる。その結果、試料Ｓから信頼性の高い回
折Ｘ線情報を得ることができる。
【００２０】また、円柱ピン１０ａ，１０ｂの外周側面
Ｇを精密に直線状に形成してその面をカムフォロワ部材
９のためのガイド面として兼用するようにしたので、ス
リット部材１は開閉移動の際、図２の矢印Ｋのように傾
斜移動することがない。通常の開閉機構では、そのよう
な傾斜移動を防止するために専用のガイド機構を設置す
る必要があるが、本実施例ではそのような特別なガイド
機構は不要である。
Ｇを精密に直線状に形成してその面をカムフォロワ部材
９のためのガイド面として兼用するようにしたので、ス
リット部材１は開閉移動の際、図２の矢印Ｋのように傾
斜移動することがない。通常の開閉機構では、そのよう
な傾斜移動を防止するために専用のガイド機構を設置す
る必要があるが、本実施例ではそのような特別なガイド
機構は不要である。
【００２１】以上、好ましい実施例を挙げて本発明を説
明したが、本発明はその実施例に限定されるものでな
く、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々改変する
ことができる。
明したが、本発明はその実施例に限定されるものでな
く、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々改変する
ことができる。
【００２２】例えば、図１に示す実施例では、２つの円
柱ピン１０ａ及び１０ｂによってカム１１を構成した
が、それとは別に、図４に示すように、半円形状のカム
面２０ａ及び２０ｂを備えた楕円カム２１を用いること
ができる。また、図２に示す実施例では、カムとして働
く円柱ピン１０ａ，１０ｂの外周側面Ｇを回転軸線Ｑの
方向に長く設定してその側面Ｇをカムフォロワ部材９の
傾斜移動、従ってスリット部材１の傾斜移動を防ぐため
のガイド面として兼用したが、必ずしもカムはそのよう
なガイド面の働きを兼用しなくても良い。また、本発明
の可変スリット装置は、Ｘ線源と試料との間に配設され
る発散規制スリットに限られるず、その他の箇所に配設
される適宜のスリットとして用いることができる。ま
た、本発明の可変スリット装置は、図３に示したＸ線回
折装置、すなわちθ−２θ走査形のゴニオメータを含む
Ｘ線回折装置以外の任意のＸ線装置に対して適用するこ
ともできる。
柱ピン１０ａ及び１０ｂによってカム１１を構成した
が、それとは別に、図４に示すように、半円形状のカム
面２０ａ及び２０ｂを備えた楕円カム２１を用いること
ができる。また、図２に示す実施例では、カムとして働
く円柱ピン１０ａ，１０ｂの外周側面Ｇを回転軸線Ｑの
方向に長く設定してその側面Ｇをカムフォロワ部材９の
傾斜移動、従ってスリット部材１の傾斜移動を防ぐため
のガイド面として兼用したが、必ずしもカムはそのよう
なガイド面の働きを兼用しなくても良い。また、本発明
の可変スリット装置は、Ｘ線源と試料との間に配設され
る発散規制スリットに限られるず、その他の箇所に配設
される適宜のスリットとして用いることができる。ま
た、本発明の可変スリット装置は、図３に示したＸ線回
折装置、すなわちθ−２θ走査形のゴニオメータを含む
Ｘ線回折装置以外の任意のＸ線装置に対して適用するこ
ともできる。
【００２３】
【発明の効果】請求項１記載のＸ線装置用可変スリット
装置によれば、スリット部材と一体なカムフォロワ部材
をカムの回転によって直接に開閉駆動するようにしたの
で、バックラッシュ等の誤差に左右されることなく、高
精度のスリット幅制御が可能である。しかも、パンタグ
ラフ機構やネジ軸機構等を用いた従来の開閉駆動機構に
比べて、小型で安価な可変スリット装置が得られる。
装置によれば、スリット部材と一体なカムフォロワ部材
をカムの回転によって直接に開閉駆動するようにしたの
で、バックラッシュ等の誤差に左右されることなく、高
精度のスリット幅制御が可能である。しかも、パンタグ
ラフ機構やネジ軸機構等を用いた従来の開閉駆動機構に
比べて、小型で安価な可変スリット装置が得られる。
【００２４】請求項２記載のＸ線装置用可変スリット装
置によれば、スリット部材を傾斜移動させることなく開
閉移動でき、しかも専用のガイド機構を設ける必要がな
い。
置によれば、スリット部材を傾斜移動させることなく開
閉移動でき、しかも専用のガイド機構を設ける必要がな
い。
【００２５】請求項４記載のＸ線装置用可変スリット装
置によれば、既製の円柱ピンを使ってカムを形成できる
ので、製造コストをより一層低減できる。また、円柱ピ
ンの外周側面は高精度に直線状に仕上げることができる
ので、その側面をカムフォロワ部材のためのガイド面と
して兼用したときに、カムフォロワ部材、従ってスリッ
ト部材を高精度に平行移動させることができる。
置によれば、既製の円柱ピンを使ってカムを形成できる
ので、製造コストをより一層低減できる。また、円柱ピ
ンの外周側面は高精度に直線状に仕上げることができる
ので、その側面をカムフォロワ部材のためのガイド面と
して兼用したときに、カムフォロワ部材、従ってスリッ
ト部材を高精度に平行移動させることができる。
【００２６】請求項５及び請求項６記載のＸ線装置用可
変スリット装置によれば、Ｘ線装置においてＸ線源と試
料との間に配置される発散規制スリットを、簡単な構成
によって可変スリットとして構成できる。また、試料へ
入射するＸ線の試料面上の照射面積を試料のθ回転角度
の変化に関わらず、常に正確に一定に維持できる。
変スリット装置によれば、Ｘ線装置においてＸ線源と試
料との間に配置される発散規制スリットを、簡単な構成
によって可変スリットとして構成できる。また、試料へ
入射するＸ線の試料面上の照射面積を試料のθ回転角度
の変化に関わらず、常に正確に一定に維持できる。
【００２７】
【図１】本発明に係るＸ線装置用可変スリット装置の一
実施例を示す平面図である。
実施例を示す平面図である。
【図２】図１における矢印ＩＩに従った側面断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の可変スリットを適用可能なＸ線装置の
一例、特にθ−２θ走査形のゴニオメータを含むＸ線回
折装置を模式的に示す平面図である。
一例、特にθ−２θ走査形のゴニオメータを含むＸ線回
折装置を模式的に示す平面図である。
【図４】本発明に係るＸ線装置用可変スリット装置の他
の一実施例を示す平面図である。
の一実施例を示す平面図である。
【図５】一般的なＸ線回折装置における発散規制スリッ
トと試料との関係を模式的に示す平面図である。
トと試料との関係を模式的に示す平面図である。
【図６】スリット開閉機構の従来の一例を示す正面図で
ある。
ある。
【図７】スリット開閉機構の従来の他の一例を示す正面
図である。
図である。
１ スリット部材 ２ 受光スリット ３ Ｘ線カウンタ ４ 試料台 ５ ウオームホイール（スリット側ギヤ） ６ ウオーム ８ 可変スリット装置 ９ カムフォロワ部材 １０ａ，１０ｂ 円柱ピン １１ カム １２ ギヤ（動力伝達手段） １３ 回転軸 １６ 圧縮バネ（弾性押圧部材） ２０ａ，２０ｂ 円弧面 ２１ 楕円カム Ａ 試料に対するＸ線の照射面積 Ｄ カム直径 Ｅ ゴニオメータの集中円 Ｆ Ｘ線源 Ｇ カムの外周側面（ガイド面） Ｌ Ｘ線光軸 Ｐ 試料の回転中心 Ｑ カムの回転中心 Ｒ Ｘ線 Ｓ 試料
Claims (6)
- 【請求項１】 Ｘ線ビームを所定幅に規制すると共にそ
の規制幅を調節可能なＸ線装置用可変スリット装置にお
いて、 Ｘ線ビームを通過させるためのスリット幅を形成する一
対のスリット部材と、 各スリット部材と一体なカムフォロワ部材と、 それらのカムフォロワ部材の間に配置されていてスリッ
ト部材の開閉方向に対して直角方向に延びる回転軸線を
中心として回転するカムと、 カムフォロワ部材をカムに弾性的に押し付ける弾性押圧
部材と、を有することを特徴とするＸ線装置用可変スリ
ット装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のＸ線装置用可変スリット
装置において、カムは上記回転軸線と平行の方向に延び
るガイド面を有しており、一対のカムフォロワ部材はそ
のガイド面に線接触することを特徴とするＸ線装置用可
変スリット装置。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載のＸ線装置用
可変スリット装置において、上記カムは上記回転軸線を
中心とする楕円カムであることを特徴とするＸ線装置用
可変スリット装置。 - 【請求項４】 請求項１又は請求項２記載のＸ線装置用
可変スリット装置において、上記カムは上記回転軸線を
境として隣接する２つの円柱ピンによって構成されるこ
とを特徴とするＸ線装置用可変スリット装置。 - 【請求項５】 請求項１から請求項４のうちのいずれか
１つに記載のＸ線装置用可変スリット装置において、Ｘ
線装置は測定対象である試料をθ回転させるθ回転系を
有しており、上記カムとそのθ回転系との間に動力伝達
手段を配設したことを特徴とするＸ線装置用可変スリッ
ト装置。 - 【請求項６】 請求項５記載のＸ線装置用可変スリット
装置において、動力伝達手段は、試料と一体になって回
転する試料側ギヤと、その試料側ギヤに噛み合うと共に
上記カムと一体になって回転するスリット側ギヤとを有
することを特徴とするＸ線装置用可変スリット装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08449995A JP3471477B2 (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | Ｘ線装置用可変スリット装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08449995A JP3471477B2 (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | Ｘ線装置用可変スリット装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08262196A true JPH08262196A (ja) | 1996-10-11 |
| JP3471477B2 JP3471477B2 (ja) | 2003-12-02 |
Family
ID=13832346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08449995A Expired - Fee Related JP3471477B2 (ja) | 1995-03-17 | 1995-03-17 | Ｘ線装置用可変スリット装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3471477B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012177688A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-09-13 | Rigaku Corp | Ｘ線回折装置 |
| KR101603305B1 (ko) * | 2015-07-28 | 2016-03-15 | 테크밸리 주식회사 | 엑스선빔의 슬릿제어시스템 |
| JP2017026371A (ja) * | 2015-07-17 | 2017-02-02 | 株式会社島津製作所 | 可変アテネータ |
| CN111735828A (zh) * | 2019-03-19 | 2020-10-02 | 株式会社理学 | X射线分析装置 |
| CN114813802A (zh) * | 2021-01-29 | 2022-07-29 | 株式会社理学 | X射线分析装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5440481B2 (ja) * | 2010-12-03 | 2014-03-12 | 株式会社島津製作所 | スリット装置 |
-
1995
- 1995-03-17 JP JP08449995A patent/JP3471477B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JP2012177688A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-09-13 | Rigaku Corp | Ｘ線回折装置 |
| US8903044B2 (en) | 2011-01-31 | 2014-12-02 | Rigaku Corporation | X-ray diffraction apparatus |
| JP2017026371A (ja) * | 2015-07-17 | 2017-02-02 | 株式会社島津製作所 | 可変アテネータ |
| KR101603305B1 (ko) * | 2015-07-28 | 2016-03-15 | 테크밸리 주식회사 | 엑스선빔의 슬릿제어시스템 |
| CN111735828A (zh) * | 2019-03-19 | 2020-10-02 | 株式会社理学 | X射线分析装置 |
| CN114813802A (zh) * | 2021-01-29 | 2022-07-29 | 株式会社理学 | X射线分析装置 |
| EP4036562A1 (en) | 2021-01-29 | 2022-08-03 | Rigaku Corporation | X-ray analysis apparatus |
| JP2022116700A (ja) * | 2021-01-29 | 2022-08-10 | 株式会社リガク | Ｘ線分析装置 |
| US11808721B2 (en) | 2021-01-29 | 2023-11-07 | Rigaku Corporation | X-ray analysis apparatus |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3471477B2 (ja) | 2003-12-02 |
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