JPH08262367A - 照明光学装置及び該装置に使用されるフライアイレンズ - Google Patents
照明光学装置及び該装置に使用されるフライアイレンズInfo
- Publication number
- JPH08262367A JPH08262367A JP7062429A JP6242995A JPH08262367A JP H08262367 A JPH08262367 A JP H08262367A JP 7062429 A JP7062429 A JP 7062429A JP 6242995 A JP6242995 A JP 6242995A JP H08262367 A JPH08262367 A JP H08262367A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- fly
- eye lens
- illumination
- max
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0062—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B13/00—Optical objectives specially designed for the purposes specified below
- G02B13/14—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation
- G02B13/143—Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use with infrared or ultraviolet radiation for use with ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
- G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
- G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0062—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between
- G02B3/0068—Stacked lens arrays, i.e. refractive surfaces arranged in at least two planes, without structurally separate optical elements in-between arranged in a single integral body or plate, e.g. laminates or hybrid structures with other optical elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 装置を大型化することなくフライアイレンズ
の正弦条件不満足量を小さくして、照度及び照明開口数
の両方の均一性を高める。 【構成】 光源１からの光束が、集光鏡２、コリメータ
レンズ３、及びバンドパスフィルタ４を介してフライア
イレンズ９の入射側の面９１に入射し、フライアイレン
ズ９の射出側の面９２に多数の光源像が形成される。そ
の面９２には開口絞り６が設置され、開口絞り６の開口
内の多数の光源像から発散する光束は、コンデンサーレ
ンズ７により集光されて、レチクルのパターン形成面上
の照明領域８を重畳的に均一な照度分布で照明する。フ
ライアイレンズ９の各レンズ要素を２群２枚のレンズよ
り構成し、各レンズ要素の屈折力を２つの屈折面で担う
ことにより、フライアイレンズの正弦条件の補正を行
う。
の正弦条件不満足量を小さくして、照度及び照明開口数
の両方の均一性を高める。 【構成】 光源１からの光束が、集光鏡２、コリメータ
レンズ３、及びバンドパスフィルタ４を介してフライア
イレンズ９の入射側の面９１に入射し、フライアイレン
ズ９の射出側の面９２に多数の光源像が形成される。そ
の面９２には開口絞り６が設置され、開口絞り６の開口
内の多数の光源像から発散する光束は、コンデンサーレ
ンズ７により集光されて、レチクルのパターン形成面上
の照明領域８を重畳的に均一な照度分布で照明する。フ
ライアイレンズ９の各レンズ要素を２群２枚のレンズよ
り構成し、各レンズ要素の屈折力を２つの屈折面で担う
ことにより、フライアイレンズの正弦条件の補正を行
う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被照明体を照明するた
めの照明光学装置、及びこの装置に使用されるフライア
イレンズに関し、特に例えば半導体素子又は液晶表示素
子等を製造するための露光装置において、転写用のパタ
ーンが形成されたレチクルを照明する照明光学系に適用
して好適なものである。
めの照明光学装置、及びこの装置に使用されるフライア
イレンズに関し、特に例えば半導体素子又は液晶表示素
子等を製造するための露光装置において、転写用のパタ
ーンが形成されたレチクルを照明する照明光学系に適用
して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば半導体素子又は液晶表示素子等を
フォトリソグラフィ工程で製造する際に、マスクとして
のレチクルに形成された転写用のパターンを所定の照明
光のもとで、投影光学系を介して感光基板に転写する投
影露光装置、又はレチクルのパターンをレチクルに近接
して配置された感光基板に直接転写するプロキシミティ
方式の露光装置等が使用されている。斯かる投影露光装
置、又は露光装置等では、感光基板上での露光量のむら
を少なくする必要があるため、オプティカル・インテグ
レータを用いてレチクル上の所定の照明領域をできるだ
け均一な照度分布で照明する照明光学系が使用されてい
る。
フォトリソグラフィ工程で製造する際に、マスクとして
のレチクルに形成された転写用のパターンを所定の照明
光のもとで、投影光学系を介して感光基板に転写する投
影露光装置、又はレチクルのパターンをレチクルに近接
して配置された感光基板に直接転写するプロキシミティ
方式の露光装置等が使用されている。斯かる投影露光装
置、又は露光装置等では、感光基板上での露光量のむら
を少なくする必要があるため、オプティカル・インテグ
レータを用いてレチクル上の所定の照明領域をできるだ
け均一な照度分布で照明する照明光学系が使用されてい
る。
【０００３】図４は、従来の半導体露光装置に使用され
ている照明光学系を示し、この図４において、水銀ラン
プよりなる光源１が、回転楕円面からなる反射面を有す
る集光鏡２の第１焦点２１に配置され、集光鏡２の第２
焦点２２に光源像（二次光源）が形成されている。この
二次光源から発散する光束は、コリメータレンズ３によ
りほぼ平行な光束に変換された後、バンドパスフィルタ
４に入射する。そして、バンドパスフィルタ４で選択さ
れた露光波長（水銀のｇ線（波長：４３６ｎｍ、ｉ線
（波長：３６５ｎｍ）等）の照明光が、多数のレンズ要
素からなるフライアイレンズ５に入射し、フライアイレ
ンズ５の射出側の面５２に多数の光源像（三次光源）が
形成される。その面５２には開口絞り６が設置され、開
口絞り６の開口内の多数の三次光源から発散する光束
は、コンデンサーレンズ７により集光されて、投影露光
用のパターンが描画されたレチクルのパターン形成面上
の照明領域８を重畳的に均一な照度分布で照明する。図
４において、照明光学系の光軸ＡＸに平行にＺ軸を取
り、Ｚ軸に垂直で図４の紙面に平行な方向にＸ軸を取
り、図４の紙面に垂直な方向にＹ軸を取る。
ている照明光学系を示し、この図４において、水銀ラン
プよりなる光源１が、回転楕円面からなる反射面を有す
る集光鏡２の第１焦点２１に配置され、集光鏡２の第２
焦点２２に光源像（二次光源）が形成されている。この
二次光源から発散する光束は、コリメータレンズ３によ
りほぼ平行な光束に変換された後、バンドパスフィルタ
４に入射する。そして、バンドパスフィルタ４で選択さ
れた露光波長（水銀のｇ線（波長：４３６ｎｍ、ｉ線
（波長：３６５ｎｍ）等）の照明光が、多数のレンズ要
素からなるフライアイレンズ５に入射し、フライアイレ
ンズ５の射出側の面５２に多数の光源像（三次光源）が
形成される。その面５２には開口絞り６が設置され、開
口絞り６の開口内の多数の三次光源から発散する光束
は、コンデンサーレンズ７により集光されて、投影露光
用のパターンが描画されたレチクルのパターン形成面上
の照明領域８を重畳的に均一な照度分布で照明する。図
４において、照明光学系の光軸ＡＸに平行にＺ軸を取
り、Ｚ軸に垂直で図４の紙面に平行な方向にＸ軸を取
り、図４の紙面に垂直な方向にＹ軸を取る。
【０００４】この場合、光源１と光学的に共役関係にあ
るのは、上述の如く、集光鏡２の第２焦点２２とフライ
アイレンズ５の射出側の面５２とであり、被照射面であ
る照明領域８における照明光学系の開口数（ＮＡ）は、
その射出側の面５２に配置された開口絞り６の開口径に
より決定される。照明光学系の開口数（以下、「照明開
口数」という）は、投影像の解像力、焦点深度、及び像
質等に大きな影響を与えるため、投影光学系の開口数、
パターン寸法等により最適な値に設定されなければなら
ない。また、照明領域８が位置する被照射面（レチクル
のパターン形成面）は、フライアイレンズ５の入射側の
面５１と共役であって、フライアイレンズ５を構成する
各レンズ要素の入射面が各々視野絞りとなり、この視野
絞りにより制限された光束がコンデンサーレンズ７を介
して被照射面上で重畳される。
るのは、上述の如く、集光鏡２の第２焦点２２とフライ
アイレンズ５の射出側の面５２とであり、被照射面であ
る照明領域８における照明光学系の開口数（ＮＡ）は、
その射出側の面５２に配置された開口絞り６の開口径に
より決定される。照明光学系の開口数（以下、「照明開
口数」という）は、投影像の解像力、焦点深度、及び像
質等に大きな影響を与えるため、投影光学系の開口数、
パターン寸法等により最適な値に設定されなければなら
ない。また、照明領域８が位置する被照射面（レチクル
のパターン形成面）は、フライアイレンズ５の入射側の
面５１と共役であって、フライアイレンズ５を構成する
各レンズ要素の入射面が各々視野絞りとなり、この視野
絞りにより制限された光束がコンデンサーレンズ７を介
して被照射面上で重畳される。
【０００５】従って、フライアイレンズ５を構成するレ
ンズ要素の断面形状は照明領域８と相似な形状となる様
に決定される。一般に半導体素子製造用の露光装置（半
導体露光装置）では、レチクル上の矩形領域に転写用の
パターンが形成されるため、照明領域８も矩形領域とな
る。そこで、フライアイレンズ５は、断面が矩形形状の
レンズ要素を、稠密に、且つ開口絞り６の最大の開口径
を含む広がりを有するように組み上げられている。
ンズ要素の断面形状は照明領域８と相似な形状となる様
に決定される。一般に半導体素子製造用の露光装置（半
導体露光装置）では、レチクル上の矩形領域に転写用の
パターンが形成されるため、照明領域８も矩形領域とな
る。そこで、フライアイレンズ５は、断面が矩形形状の
レンズ要素を、稠密に、且つ開口絞り６の最大の開口径
を含む広がりを有するように組み上げられている。
【０００６】図５（ａ）はそのように組み上げられたフ
ライアイレンズ５をＺ方向に見た図、図５（ｂ）はフラ
イアイレンズ５の側面図であり、図５（ａ）に示すよう
に、フライアイレンズ５は、それぞれＸ方向の幅がｍｘ
でＹ方向の幅がｍｙの矩形の断面形状の多数のレンズ要
素５ａを、Ｘ方向及びＹ方向に密着して配列して構成さ
れている。そして、開口絞り６の実線の円で示されてい
る最大の開口が、フライアイレンズ５の断面の輪郭の内
部に収まっている。
ライアイレンズ５をＺ方向に見た図、図５（ｂ）はフラ
イアイレンズ５の側面図であり、図５（ａ）に示すよう
に、フライアイレンズ５は、それぞれＸ方向の幅がｍｘ
でＹ方向の幅がｍｙの矩形の断面形状の多数のレンズ要
素５ａを、Ｘ方向及びＹ方向に密着して配列して構成さ
れている。そして、開口絞り６の実線の円で示されてい
る最大の開口が、フライアイレンズ５の断面の輪郭の内
部に収まっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】最近の半導体素子等の
集積度の向上に対応すべく、半導体露光装置では、投影
光学系の露光フィールドの全面で極めて高い像均質性が
要求されるようになっている。そのため、照明光学系で
は照度、及び開口数の照明領域内の位置による均一
性が極めて高いレベルで要求されている。
集積度の向上に対応すべく、半導体露光装置では、投影
光学系の露光フィールドの全面で極めて高い像均質性が
要求されるようになっている。そのため、照明光学系で
は照度、及び開口数の照明領域内の位置による均一
性が極めて高いレベルで要求されている。
【０００８】その照度の均一性と、開口数の均一性とが
同時に満足されるための必要十分条件は、次の２つの条
件である。 （ａ）照明系の開口絞り内に完全拡散面光源（所謂Lamb
ert 面）が形成されること。 （ｂ）コンデンサーレンズの焦点距離をＦ、コンデンサ
ーレンズに対する照明光の入射角をθとしたとき、照明
領域での像高ｙが次の射影関係を有すること。
同時に満足されるための必要十分条件は、次の２つの条
件である。 （ａ）照明系の開口絞り内に完全拡散面光源（所謂Lamb
ert 面）が形成されること。 （ｂ）コンデンサーレンズの焦点距離をＦ、コンデンサ
ーレンズに対する照明光の入射角をθとしたとき、照明
領域での像高ｙが次の射影関係を有すること。
【０００９】ｙ＝Ｆ・sinθ （１） これに関して、本発明者によって、フライアイレンズが
正弦条件を満足するとき、そのフライアイレンズの射出
側の面に形成される上記の３次光源が、近似的に条件
（ａ）の完全拡散面光源と見なし得ることが明らかにさ
れている（森 孝司：”ステッパーの照明光学系”，光
アライアンス，vol.5,No.3,32,（日本工業出版，199
4））。
正弦条件を満足するとき、そのフライアイレンズの射出
側の面に形成される上記の３次光源が、近似的に条件
（ａ）の完全拡散面光源と見なし得ることが明らかにさ
れている（森 孝司：”ステッパーの照明光学系”，光
アライアンス，vol.5,No.3,32,（日本工業出版，199
4））。
【００１０】ここで図６において、フライアイレンズ５
を構成する各レンズ要素５ａへの光線の入射高をｈ、レ
ンズ要素５ａの焦点距離ｆ、光線の射出角をθとして、
射出角θの所定の関数ｇ（θ）を用いて、次の関係が成
立するものとする。 ｈ＝ｆ・ｇ（θ） （２） このとき、前掲の参考文献によれば、フライアイレンズ
５の射出側の面での放射輝度分布Ｌ（θ）は、次のよう
になる。
を構成する各レンズ要素５ａへの光線の入射高をｈ、レ
ンズ要素５ａの焦点距離ｆ、光線の射出角をθとして、
射出角θの所定の関数ｇ（θ）を用いて、次の関係が成
立するものとする。 ｈ＝ｆ・ｇ（θ） （２） このとき、前掲の参考文献によれば、フライアイレンズ
５の射出側の面での放射輝度分布Ｌ（θ）は、次のよう
になる。
【００１１】 Ｌ（θ）＝Ｌ（０）ｇ（θ）ｇ'(θ）／(sinθ cosθ） （３） 但し、関数ｇ'(θ）は関数ｇ（θ）のθに関する微分で
ある。また、コンデンサーレンズの焦点距離をＦとし
て、コンデンサーレンズに対する光線の入射角θとその
光線の像高ｙとが、所定の関数Ｇ（θ）を用いて次の射
影関係を有するものとする。
ある。また、コンデンサーレンズの焦点距離をＦとし
て、コンデンサーレンズに対する光線の入射角θとその
光線の像高ｙとが、所定の関数Ｇ（θ）を用いて次の射
影関係を有するものとする。
【００１２】ｙ＝Ｆ・Ｇ（θ） （４） このとき、被照射面での放射照度Ｅ（ｙ）は、次のよう
になる。 Ｅ（ｙ）＝Ｅ（０){Ｌ（θ)/Ｌ（０）}cosθ sinθ/{Ｇ（θ）Ｇ'(θ)} （５） 但し、関数Ｇ'(θ）は関数Ｇ（θ）のθに関する微分で
ある。従って（５）式に（３）式を代入することによ
り、次のようになる。
になる。 Ｅ（ｙ）＝Ｅ（０){Ｌ（θ)/Ｌ（０）}cosθ sinθ/{Ｇ（θ）Ｇ'(θ)} （５） 但し、関数Ｇ'(θ）は関数Ｇ（θ）のθに関する微分で
ある。従って（５）式に（３）式を代入することによ
り、次のようになる。
【００１３】 Ｅ（ｙ）＝Ｅ（０）ｇ（θ）ｇ'(θ）／｛Ｇ（θ）Ｇ'(θ)} （６） ここで次の関係が成立するものとする。 ｇ（θ）＝Ｇ（θ） （７） 即ち、フライアイレンズの入射側の面が歪曲収差なく被
照射面に投影されるものとすると、（６）式よりＥ
（ｙ）＝Ｅ（０）となって、均一放射照度が実現され
る。また、（７）式の条件は、（２）式及び（４）式よ
り、ｙ／ｈ＝Ｆ／ｆが成立するのと同じ条件である。
照射面に投影されるものとすると、（６）式よりＥ
（ｙ）＝Ｅ（０）となって、均一放射照度が実現され
る。また、（７）式の条件は、（２）式及び（４）式よ
り、ｙ／ｈ＝Ｆ／ｆが成立するのと同じ条件である。
【００１４】次に、同様に前記参考文献によれば、照明
光学系の像高ｙにおける開口数ＮＡ（ｙ）は、次のよう
に表される。 ＮＡ（ｙ＝Ｆ・Ｇ（θ））＝ＮＡ（０)cosθ／Ｇ'(θ） （８） この式に前記の均一照度を得るための（７）式の条件を
代入すると、次のようになる。
光学系の像高ｙにおける開口数ＮＡ（ｙ）は、次のよう
に表される。 ＮＡ（ｙ＝Ｆ・Ｇ（θ））＝ＮＡ（０)cosθ／Ｇ'(θ） （８） この式に前記の均一照度を得るための（７）式の条件を
代入すると、次のようになる。
【００１５】 ＮＡ（ｙ）＝ＮＡ（０)cosθ／ｇ'(θ） （９） この（９）式で、次式が成立すると、ＮＡ（ｙ）＝ＮＡ
（０）となる。 ｇ（θ）＝sin θ （１０） これより、フライアイレンズが正弦条件を満足するとき
のみ、被照射面で放射照度と開口数とが位置に関して均
一となることが分かる。
（０）となる。 ｇ（θ）＝sin θ （１０） これより、フライアイレンズが正弦条件を満足するとき
のみ、被照射面で放射照度と開口数とが位置に関して均
一となることが分かる。
【００１６】従来この種の露光装置に用いられているフ
ライアイレンズは、図６に示すフライアイレンズ５のよ
うに、各レンズ要素５ａの対向する屈折面が互いに他方
の屈折面の焦点に一致するような厚さを有し、対向する
屈折面が互いに他方のフィールドレンズの役割を果たし
ている。即ち、フライアイレンズの屈折力（逆数がフラ
イアイレンズ５の焦点距離）は各レンズ要素の１つの屈
折面によって担われており、比較的明るいフライアイレ
ンズでは正弦条件の不満足量が無視し得ず、前述した照
度、及び開口数の均一性は同時には満足されないため、
最終的に得られる像の露光フィールド内での均一性に影
響を与えていた。
ライアイレンズは、図６に示すフライアイレンズ５のよ
うに、各レンズ要素５ａの対向する屈折面が互いに他方
の屈折面の焦点に一致するような厚さを有し、対向する
屈折面が互いに他方のフィールドレンズの役割を果たし
ている。即ち、フライアイレンズの屈折力（逆数がフラ
イアイレンズ５の焦点距離）は各レンズ要素の１つの屈
折面によって担われており、比較的明るいフライアイレ
ンズでは正弦条件の不満足量が無視し得ず、前述した照
度、及び開口数の均一性は同時には満足されないため、
最終的に得られる像の露光フィールド内での均一性に影
響を与えていた。
【００１７】ここで、図６において、フライアイレンズ
５の正弦条件不満足量ＯＳＣを、次のように定義する。 ＯＳＣ＝ｈ/sinθ−ｈ （１１） この式（１１）より、像高ｈは次のようになる。 ｈ＝ｆ（１＋ＯＳＣ／ｆ）・sinθ （１２） 従って、（２）式より関数ｇ（θ）は次のようになる。
５の正弦条件不満足量ＯＳＣを、次のように定義する。 ＯＳＣ＝ｈ/sinθ−ｈ （１１） この式（１１）より、像高ｈは次のようになる。 ｈ＝ｆ（１＋ＯＳＣ／ｆ）・sinθ （１２） 従って、（２）式より関数ｇ（θ）は次のようになる。
【００１８】 ｇ（θ）＝（１＋ＯＳＣ／ｆ）・sinθ （１３） そして、改めて、次式より正弦条件不満足量ＯＳＣを関
数ＤＳ（θ）に換算する。 ＤＳ（θ）＝ＯＳＣ／ｆ （１４） 更に、照度を均一とするため、Ｇ（θ）＝ｇ（θ）の関
係を有するコンデンサーレンズを使用するものとする
と、（１３）式、及び（１４）式より次の関係が成立す
る。
数ＤＳ（θ）に換算する。 ＤＳ（θ）＝ＯＳＣ／ｆ （１４） 更に、照度を均一とするため、Ｇ（θ）＝ｇ（θ）の関
係を有するコンデンサーレンズを使用するものとする
と、（１３）式、及び（１４）式より次の関係が成立す
る。
【００１９】 Ｇ（θ）＝（１＋ＤＳ（θ））・sinθ （１５） この式をθに関して微分することにより、次式が得られ
る。 Ｇ'(θ）＝sin θ・{ｄ（ＤＳ)/ｄθ｝＋（１＋ＤＳ）・cosθ （１６） また、３次収差の範囲内で、次のように表せる場合を考
える（Ｋは定数）。 ＤＳ（θ）＝Ｋ・sin2θ （１７） このとき、関数ＤＳ（θ）の微分は次のようになる。
る。 Ｇ'(θ）＝sin θ・{ｄ（ＤＳ)/ｄθ｝＋（１＋ＤＳ）・cosθ （１６） また、３次収差の範囲内で、次のように表せる場合を考
える（Ｋは定数）。 ＤＳ（θ）＝Ｋ・sin2θ （１７） このとき、関数ＤＳ（θ）の微分は次のようになる。
【００２０】 ｄ（ＤＳ）／ｄθ＝２Ｋsin θcos θ （１８） 従って、（１６）式は次のようになる。 Ｇ'(θ）＝２Ｋ・sin2θcos θ＋（１＋ＤＳ（θ))cos θ ＝cos θ（１＋３・ＤＳ（θ）） （１９） この（１９）式を（８）式に代入することにより次式が
得られる。
得られる。
【００２１】 ＮＡ（ｙ）＝ＮＡ（０）／（１＋３・ＤＳ（θ）） （２０） この式は照明光学系の像高ｙでの開口数が、コンデンサ
ーレンズへの入射角θに関する正弦条件不満足量ＯＳＣ
の（１４）式で定義される関数ＤＳ（θ）に応じて定ま
ることを意味する。従って、フライアイレンズの正弦条
件不満足量ＯＳＣに応じて照度が均一となるコンデンサ
ーレンズを使用するとき、例えばフライアイレンズの正
弦条件不満足量ＯＳＣが焦点距離の１％の場合、照明開
口数ＮＡ（ｙ）は対応する像高で３％変化することにな
ってしまう。結像の立場から照明開口数の照明領域内で
の均一性は３％以内に抑えることが望ましい。
ーレンズへの入射角θに関する正弦条件不満足量ＯＳＣ
の（１４）式で定義される関数ＤＳ（θ）に応じて定ま
ることを意味する。従って、フライアイレンズの正弦条
件不満足量ＯＳＣに応じて照度が均一となるコンデンサ
ーレンズを使用するとき、例えばフライアイレンズの正
弦条件不満足量ＯＳＣが焦点距離の１％の場合、照明開
口数ＮＡ（ｙ）は対応する像高で３％変化することにな
ってしまう。結像の立場から照明開口数の照明領域内で
の均一性は３％以内に抑えることが望ましい。
【００２２】図７は、図６のように対向する屈折面が互
いに他方の屈折面の焦点位置となる従来の構成によるフ
ライアイレンズを使用した場合の、正弦条件不満足量Ｏ
ＳＣの関数ＤＳ（θ）（＝ＯＳＣ／ｆ）の変化を示し、
この図７において、関数ＤＳ（θ）は、２ｈ／ｆ（即
ち、Ｆナンバーの逆数）の関数として、フライアイレン
ズのレンズ要素の屈折率ｎが１．４〜１．７の場合につ
いて表されている。この図７より分かるように、フライ
アイレンズのレンズ要素の屈折率を極力大きくし、ま
た、像高ｈが小さい領域で使用すれば関数ＤＳ（θ）は
小さくなり、結果として照明開口数の均一性は或る程度
確保される。
いに他方の屈折面の焦点位置となる従来の構成によるフ
ライアイレンズを使用した場合の、正弦条件不満足量Ｏ
ＳＣの関数ＤＳ（θ）（＝ＯＳＣ／ｆ）の変化を示し、
この図７において、関数ＤＳ（θ）は、２ｈ／ｆ（即
ち、Ｆナンバーの逆数）の関数として、フライアイレン
ズのレンズ要素の屈折率ｎが１．４〜１．７の場合につ
いて表されている。この図７より分かるように、フライ
アイレンズのレンズ要素の屈折率を極力大きくし、ま
た、像高ｈが小さい領域で使用すれば関数ＤＳ（θ）は
小さくなり、結果として照明開口数の均一性は或る程度
確保される。
【００２３】しかしながら、半導体露光装置で使用され
る露光波長は紫外線領域であり、斯かる紫外線領域で
は、透過率及び紫外線耐性に優れた高屈折率の硝材を得
るのは容易ではなく、実際上レンズ要素の硝材として
は、屈折率ｎが１．５近傍の材料に限られてしまう。更
に、２ｈ／ｆを小さくするために、像高ｈの最大値ｈ
maxに比べてフライアイレンズの焦点距離ｆを大きくと
ることも考えられるが、所定の大きさの照明領域を確保
するためには、同時にコンデンサーレンズの焦点距離を
も大きくとる必要があり、照明光学系の大型化を招くと
いう不都合がある。
る露光波長は紫外線領域であり、斯かる紫外線領域で
は、透過率及び紫外線耐性に優れた高屈折率の硝材を得
るのは容易ではなく、実際上レンズ要素の硝材として
は、屈折率ｎが１．５近傍の材料に限られてしまう。更
に、２ｈ／ｆを小さくするために、像高ｈの最大値ｈ
maxに比べてフライアイレンズの焦点距離ｆを大きくと
ることも考えられるが、所定の大きさの照明領域を確保
するためには、同時にコンデンサーレンズの焦点距離を
も大きくとる必要があり、照明光学系の大型化を招くと
いう不都合がある。
【００２４】本発明は斯かる点に鑑み、装置を大型化す
ることなくフライアイレンズの正弦条件不満足量を小さ
くして、照度及び照明開口数の両方の均一性を高めるこ
とができる照明光学装置を提供することを目的とする。
更に本発明は、そのような照明光学装置に使用できるフ
ライアイレンズを提供することをも目的とする。
ることなくフライアイレンズの正弦条件不満足量を小さ
くして、照度及び照明開口数の両方の均一性を高めるこ
とができる照明光学装置を提供することを目的とする。
更に本発明は、そのような照明光学装置に使用できるフ
ライアイレンズを提供することをも目的とする。
【００２５】
【課題を解決するための手段】本発明による照明光学装
置は、例えば図１及び図２に示す如く、照明光を発生す
る光源（１）と、この光源からの照明光を所定の面（９
１）に導く光束整形光学系（２，３）と、所定の面（９
１）に入射面が配置されその照明光より複数個の光源像
を形成するフライアイレンズと、それら複数個の光源像
からの照明光を重畳して被照射面（８）を照明するコン
デンサーレンズ系（７）と、を有する照明光学装置にお
いて、そのフライアイレンズ（９）を構成する複数個の
レンズ要素（９ａ）はそれぞれ、その照明光の入射面
（９１）から射出面（９２）までの間に少なくとも３つ
の所定（０以外）の屈折力を有する屈折面（ｒ1,ｒ2,ｒ
4)を有するものである。但し、フライアイレンズの各レ
ンズ要素（９ａ）の射出側の屈折面（ｒ4)はフィールド
レンズとして作用するため、その構成は各レンズ要素
（９ａ）の屈折力を複数（２面以上）の屈折面で分担す
ることを意味する。
置は、例えば図１及び図２に示す如く、照明光を発生す
る光源（１）と、この光源からの照明光を所定の面（９
１）に導く光束整形光学系（２，３）と、所定の面（９
１）に入射面が配置されその照明光より複数個の光源像
を形成するフライアイレンズと、それら複数個の光源像
からの照明光を重畳して被照射面（８）を照明するコン
デンサーレンズ系（７）と、を有する照明光学装置にお
いて、そのフライアイレンズ（９）を構成する複数個の
レンズ要素（９ａ）はそれぞれ、その照明光の入射面
（９１）から射出面（９２）までの間に少なくとも３つ
の所定（０以外）の屈折力を有する屈折面（ｒ1,ｒ2,ｒ
4)を有するものである。但し、フライアイレンズの各レ
ンズ要素（９ａ）の射出側の屈折面（ｒ4)はフィールド
レンズとして作用するため、その構成は各レンズ要素
（９ａ）の屈折力を複数（２面以上）の屈折面で分担す
ることを意味する。
【００２６】この場合、そのフライアイレンズ（９）を
構成する複数個のレンズ要素（９ａ）は、それぞれその
フライアイレンズの焦点距離をｆ、各レンズ要素（９
ａ）の光軸（ＡＸａ）に平行な照明光の最大入射高をｈ
max 、この最大入射高ｈmax で入射して射出される照明
光が光軸（ＡＸａ）となす角度をθmax とするとき、次
の条件を満足することが望ましい。
構成する複数個のレンズ要素（９ａ）は、それぞれその
フライアイレンズの焦点距離をｆ、各レンズ要素（９
ａ）の光軸（ＡＸａ）に平行な照明光の最大入射高をｈ
max 、この最大入射高ｈmax で入射して射出される照明
光が光軸（ＡＸａ）となす角度をθmax とするとき、次
の条件を満足することが望ましい。
【００２７】 ｜ｈmax/（ｆ・sin θmax)｜＜０．０１ （２１） また、そのフライアイレンズ（９）を構成する複数個の
レンズ要素（９ａ）の一例は、それぞれ光軸（ＡＸａ）
を共有する複数枚のレンズ（１０ａ，１１ａ）より構成
されるものである。また、そのフライアイレンズ（９）
を構成する複数個のレンズ要素（９ａ）の他の例は、そ
れぞれ光軸（ＡＸａ）を共有する２群２枚のレンズ（１
０ａ，１１ａ）より構成され、光源側のレンズ（１０
ａ）は両凸レンズであり、この両凸レンズの光源側の面
の曲率半径をｒ1 、他方の面の曲率半径をｒ2 とすると
き、次の条件を満足するものである。
レンズ要素（９ａ）の一例は、それぞれ光軸（ＡＸａ）
を共有する複数枚のレンズ（１０ａ，１１ａ）より構成
されるものである。また、そのフライアイレンズ（９）
を構成する複数個のレンズ要素（９ａ）の他の例は、そ
れぞれ光軸（ＡＸａ）を共有する２群２枚のレンズ（１
０ａ，１１ａ）より構成され、光源側のレンズ（１０
ａ）は両凸レンズであり、この両凸レンズの光源側の面
の曲率半径をｒ1 、他方の面の曲率半径をｒ2 とすると
き、次の条件を満足するものである。
【００２８】｜ｒ1 ｜＜｜ｒ2 ｜ （２２） また、本発明によるフライアイレンズは、例えば図１及
び図２に示すように、複数個のレンズ要素よりなるフラ
イアイレンズにおいて、それら複数個のレンズ要素（９
ａ）はそれぞれ、照明光の入射面（９１）から射出面
（９２）までの間に少なくとも３つの所定の屈折力を有
する屈折面（ｒ1,ｒ2,ｒ4)を有し、そのフライアイレン
ズの焦点距離をｆ、各レンズ要素（９ａ）の光軸（ＡＸ
ａ）に平行な照明光の最大入射高をｈmax 、この最大入
射高ｈmax で入射して射出される照明光が光軸（ＡＸ
ａ）となす角度をθmax とするとき、（２１）式の条件
を満足するものである。
び図２に示すように、複数個のレンズ要素よりなるフラ
イアイレンズにおいて、それら複数個のレンズ要素（９
ａ）はそれぞれ、照明光の入射面（９１）から射出面
（９２）までの間に少なくとも３つの所定の屈折力を有
する屈折面（ｒ1,ｒ2,ｒ4)を有し、そのフライアイレン
ズの焦点距離をｆ、各レンズ要素（９ａ）の光軸（ＡＸ
ａ）に平行な照明光の最大入射高をｈmax 、この最大入
射高ｈmax で入射して射出される照明光が光軸（ＡＸ
ａ）となす角度をθmax とするとき、（２１）式の条件
を満足するものである。
【００２９】
【作用】斯かる本発明の照明光学装置の原理につき説明
する。既に述べたように、被照射面（８）における照度
及び照明開口数の両方の均一性を高めるための必要十分
条件は、上記の条件（ａ）及び条件（ｂ）が満たされる
ことである。また、その条件（ａ）（フライアイレンズ
の射出面に形成される光源像が完全拡散面光源であるこ
と）が満たされるのは、そのフライアイレンズが正弦条
件を満足するときである。
する。既に述べたように、被照射面（８）における照度
及び照明開口数の両方の均一性を高めるための必要十分
条件は、上記の条件（ａ）及び条件（ｂ）が満たされる
ことである。また、その条件（ａ）（フライアイレンズ
の射出面に形成される光源像が完全拡散面光源であるこ
と）が満たされるのは、そのフライアイレンズが正弦条
件を満足するときである。
【００３０】しかしながら、既に述べたように、図６に
示すような２つの屈折面を有するレンズ要素５ａからな
る従来のフライアイレンズ５を使用する場合、射出側の
屈折面はフィールドレンズとして作用するため、各レン
ズ要素５ａの屈折力（焦点距離の逆数）は１つの屈折面
でのみ担われる。従って、図７に示したように、従来の
フライアイレンズを使用した場合には、装置全体を大型
化することなく、正弦条件不満足量ＯＳＣの関数ＤＳ
（θ）（＝ＯＳＣ／ｆ）の値を１％より小さくすること
は困難である。そのため、（２０）式より照明開口数Ｎ
Ａ（ｙ）の均一性を３％以内に抑えるのが困難となる。
示すような２つの屈折面を有するレンズ要素５ａからな
る従来のフライアイレンズ５を使用する場合、射出側の
屈折面はフィールドレンズとして作用するため、各レン
ズ要素５ａの屈折力（焦点距離の逆数）は１つの屈折面
でのみ担われる。従って、図７に示したように、従来の
フライアイレンズを使用した場合には、装置全体を大型
化することなく、正弦条件不満足量ＯＳＣの関数ＤＳ
（θ）（＝ＯＳＣ／ｆ）の値を１％より小さくすること
は困難である。そのため、（２０）式より照明開口数Ｎ
Ａ（ｙ）の均一性を３％以内に抑えるのが困難となる。
【００３１】そこで、本発明では、図２に示すように、
フライアイレンズ（９）のレンズ要素（９ａ）の屈折力
（焦点距離の逆数）を１面の屈折面のみによるのではな
く、複数の屈折面（ｒ1,ｒ2)により分担することで正弦
条件の改善を計ることとした。正弦条件違反量は、残存
コマ収差（３次）の大きさを示すことはよく知られてい
る。単レンズのベンディングと残存コマ収差との関係
は、例えば、F.A.JENKINS,H.E.WHITE:"Fundamental of
Optics",4th ed.,P165(McGRAW-Hill,1981)等に開示され
ており、単レンズ２面のベンディングでも大きく正弦条
件を変化させることが可能である。従って、本発明によ
れば、装置の大型化を招くことなくフライアイレンズ
（９）における正弦条件の不満足量を減少できるため、
条件（ａ）がほぼ満たされて、照度及び照明開口数の両
方の均一性が高められる。
フライアイレンズ（９）のレンズ要素（９ａ）の屈折力
（焦点距離の逆数）を１面の屈折面のみによるのではな
く、複数の屈折面（ｒ1,ｒ2)により分担することで正弦
条件の改善を計ることとした。正弦条件違反量は、残存
コマ収差（３次）の大きさを示すことはよく知られてい
る。単レンズのベンディングと残存コマ収差との関係
は、例えば、F.A.JENKINS,H.E.WHITE:"Fundamental of
Optics",4th ed.,P165(McGRAW-Hill,1981)等に開示され
ており、単レンズ２面のベンディングでも大きく正弦条
件を変化させることが可能である。従って、本発明によ
れば、装置の大型化を招くことなくフライアイレンズ
（９）における正弦条件の不満足量を減少できるため、
条件（ａ）がほぼ満たされて、照度及び照明開口数の両
方の均一性が高められる。
【００３２】また、（２１）式の条件が満たされるとき
には、（１１）式よりフライアイレンズ（９）における
正弦条件不満足量ＯＳＣが１％より小さくなる。従っ
て、（２０）式より照明開口数の被照射面での均一性を
３％以内に抑えることができる。また、そのフライアイ
レンズ（９）を構成する複数個のレンズ要素（９ａ）
が、図２に示すようにそれぞれ光軸（ＡＸａ）を共有す
る２群２枚のレンズ（１０ａ，１１ａ）より構成され、
光源側のレンズ（１０ａ）が両凸レンズであり、且つ
（２２）式が成立するときには、そのレンズ（１０ａ）
の入射面の屈折力が射出面の屈折力より大きくなる。こ
れにより、照明光が水銀ランプのｉ線のような紫外域の
場合でも、屈折率が実用的な２以下の硝材を用いて正弦
条件を満たすことができる。
には、（１１）式よりフライアイレンズ（９）における
正弦条件不満足量ＯＳＣが１％より小さくなる。従っ
て、（２０）式より照明開口数の被照射面での均一性を
３％以内に抑えることができる。また、そのフライアイ
レンズ（９）を構成する複数個のレンズ要素（９ａ）
が、図２に示すようにそれぞれ光軸（ＡＸａ）を共有す
る２群２枚のレンズ（１０ａ，１１ａ）より構成され、
光源側のレンズ（１０ａ）が両凸レンズであり、且つ
（２２）式が成立するときには、そのレンズ（１０ａ）
の入射面の屈折力が射出面の屈折力より大きくなる。こ
れにより、照明光が水銀ランプのｉ線のような紫外域の
場合でも、屈折率が実用的な２以下の硝材を用いて正弦
条件を満たすことができる。
【００３３】なお、図２において、被照射面側のレンズ
（１１ｂ）の光源側の面が平面（１／ｒ3 ＝０）である
ときには、光源側のレンズ（１０ａ）の被照射面側の曲
率半径ｒ2 の絶対値が光源側の曲率半径ｒ1 の絶対値の
６倍であることが望ましい。即ち、１／ｒ3 ＝０である
ときには、次の条件が満たされることが望ましい。 ｜ｒ2 ｜＝６・｜ｒ1 ｜ （２３） この条件が成立すると、正弦条件が最も正確に満たされ
る。
（１１ｂ）の光源側の面が平面（１／ｒ3 ＝０）である
ときには、光源側のレンズ（１０ａ）の被照射面側の曲
率半径ｒ2 の絶対値が光源側の曲率半径ｒ1 の絶対値の
６倍であることが望ましい。即ち、１／ｒ3 ＝０である
ときには、次の条件が満たされることが望ましい。 ｜ｒ2 ｜＝６・｜ｒ1 ｜ （２３） この条件が成立すると、正弦条件が最も正確に満たされ
る。
【００３４】
【実施例】以下、本発明の一実施例につき図１〜図３を
参照して説明する。本実施例は半導体露光装置の照明光
学系に本発明を適用したものであり、図１において図４
に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省
略する。図１は、本例の照明光学系を示し、この図１に
おいて、水銀ランプよりなる光源１からの光束は、集光
鏡２、及びコリメータレンズ３によりほぼ平行な光束に
変換された後、バンドパスフィルタ４に入射する。そし
て、バンドパスフィルタ４で選択されたｉ線（波長：３
６５ｎｍ）の照明光が、本例のフライアイレンズ９の入
射側の面９１に入射し、フライアイレンズ９の射出側の
面９２に多数の光源像（三次光源）が形成される。その
面９２には開口絞り６が設置され、開口絞り６の開口内
の多数の三次光源から発散する光束は、コンデンサーレ
ンズ７により集光されて、レチクルのパターン形成面上
の照明領域８を重畳的に均一な照度分布で照明する。
参照して説明する。本実施例は半導体露光装置の照明光
学系に本発明を適用したものであり、図１において図４
に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省
略する。図１は、本例の照明光学系を示し、この図１に
おいて、水銀ランプよりなる光源１からの光束は、集光
鏡２、及びコリメータレンズ３によりほぼ平行な光束に
変換された後、バンドパスフィルタ４に入射する。そし
て、バンドパスフィルタ４で選択されたｉ線（波長：３
６５ｎｍ）の照明光が、本例のフライアイレンズ９の入
射側の面９１に入射し、フライアイレンズ９の射出側の
面９２に多数の光源像（三次光源）が形成される。その
面９２には開口絞り６が設置され、開口絞り６の開口内
の多数の三次光源から発散する光束は、コンデンサーレ
ンズ７により集光されて、レチクルのパターン形成面上
の照明領域８を重畳的に均一な照度分布で照明する。
【００３５】この場合、光源１と光学的に共役関係にあ
るのは、集光鏡２の第２焦点２２とフライアイレンズ９
の射出側の面９２とであり、被照射面である照明領域８
における照明光学系の開口数（ＮＡ）は、その射出側の
面９２に配置された開口絞り６の開口径により決定され
る。また、照明領域８が位置する被照射面（レチクルの
パターン形成面）は、フライアイレンズ９の入射側の面
９１と共役であって、フライアイレンズ９を構成する各
レンズ要素の入射面が各々視野絞りとなり、この視野絞
りにより制限された光束がコンデンサーレンズ７を介し
て被照射面上で重畳される。
るのは、集光鏡２の第２焦点２２とフライアイレンズ９
の射出側の面９２とであり、被照射面である照明領域８
における照明光学系の開口数（ＮＡ）は、その射出側の
面９２に配置された開口絞り６の開口径により決定され
る。また、照明領域８が位置する被照射面（レチクルの
パターン形成面）は、フライアイレンズ９の入射側の面
９１と共役であって、フライアイレンズ９を構成する各
レンズ要素の入射面が各々視野絞りとなり、この視野絞
りにより制限された光束がコンデンサーレンズ７を介し
て被照射面上で重畳される。
【００３６】本例のフライアイレンズ９は、照明光学系
の光軸ＡＸに沿って所定間隔で配置された２つのレンズ
束１０、及びレンズ束１１より構成されている。図２
は、本例のフライアイレンズ９の拡大図であり、この図
２において、光源側の第１のレンズ束１０はそれぞれ断
面形状が矩形の多数のレンズ１０ａを縦横に密着して束
ねたものであり、被照射面側の第２のレンズ束１１も同
様にそれぞれ断面形状がレンズ１０ａと同じ矩形の多数
のレンズ１１ａを縦横に密着して束ねたものである。ま
た、レンズ束１０を構成するレンズ１０ａとレンズ束１
１を構成するレンズ１１ａとはそれぞれ同軸に配置さ
れ、レンズ１０ａとレンズ１１ａとから、それぞれフラ
イアイレンズ９のレンズ要素９ａが構成されている。即
ち、本例のフライアイレンズ９のレンズ要素９ａは、そ
れぞれ光軸ＡＸａを共有する２群２枚のレンズ１０ａ，
１１ａより構成されている。このような２群２枚の構成
により、本例のフライアイレンズ９の各レンズ要素９ａ
はそれぞれ正弦条件の補正が行われている。
の光軸ＡＸに沿って所定間隔で配置された２つのレンズ
束１０、及びレンズ束１１より構成されている。図２
は、本例のフライアイレンズ９の拡大図であり、この図
２において、光源側の第１のレンズ束１０はそれぞれ断
面形状が矩形の多数のレンズ１０ａを縦横に密着して束
ねたものであり、被照射面側の第２のレンズ束１１も同
様にそれぞれ断面形状がレンズ１０ａと同じ矩形の多数
のレンズ１１ａを縦横に密着して束ねたものである。ま
た、レンズ束１０を構成するレンズ１０ａとレンズ束１
１を構成するレンズ１１ａとはそれぞれ同軸に配置さ
れ、レンズ１０ａとレンズ１１ａとから、それぞれフラ
イアイレンズ９のレンズ要素９ａが構成されている。即
ち、本例のフライアイレンズ９のレンズ要素９ａは、そ
れぞれ光軸ＡＸａを共有する２群２枚のレンズ１０ａ，
１１ａより構成されている。このような２群２枚の構成
により、本例のフライアイレンズ９の各レンズ要素９ａ
はそれぞれ正弦条件の補正が行われている。
【００３７】また、本例のフライアイレンズ９を構成す
るレンズ要素９ａにおいて、光源側のレンズ１０ａの入
射面（即ち、フライアイレンズ９の入射側の面９１）が
レンズ要素９ａの前側の焦点面となり、被照射面側のレ
ンズ１１ａの射出面（即ち、フライアイレンズ９の射出
側の面９２）がレンズ要素９ａの後側の焦点面となって
いる。従って、レンズ要素９ａに光源側から入射した平
行光束は、レンズ１１ａの射出面で集光され、逆にレン
ズ要素９ａに被照射面側から入射した平行光束は、レン
ズ１０ａの入射面で集光されるようになっている。
るレンズ要素９ａにおいて、光源側のレンズ１０ａの入
射面（即ち、フライアイレンズ９の入射側の面９１）が
レンズ要素９ａの前側の焦点面となり、被照射面側のレ
ンズ１１ａの射出面（即ち、フライアイレンズ９の射出
側の面９２）がレンズ要素９ａの後側の焦点面となって
いる。従って、レンズ要素９ａに光源側から入射した平
行光束は、レンズ１１ａの射出面で集光され、逆にレン
ズ要素９ａに被照射面側から入射した平行光束は、レン
ズ１０ａの入射面で集光されるようになっている。
【００３８】フライアイレンズ９を製造する場合には、
一例として、レンズ束１０は各レンズ１０ａの側面同士
を接着することにより一体の光学部品として組み上げ、
同様にレンズ束１１についても各レンズ１１ａの側面同
士を接着することにより一体の光学部品として組み上げ
る方法がある。この例では、レンズ束１０及びレンズ束
１１の光軸の調整は機械的に行われる。
一例として、レンズ束１０は各レンズ１０ａの側面同士
を接着することにより一体の光学部品として組み上げ、
同様にレンズ束１１についても各レンズ１１ａの側面同
士を接着することにより一体の光学部品として組み上げ
る方法がある。この例では、レンズ束１０及びレンズ束
１１の光軸の調整は機械的に行われる。
【００３９】また、フライアイレンズ９の製造方法の他
の例として、図３に示すように、レンズ束１０は各レン
ズ１０ａを接着によらずに２枚の光透過性の平行平面板
１２Ａ，１２Ｂで挟んで保持し、同様にレンズ束１１も
各レンズ１１ａを２枚の光透過性の平行平面板１３Ａ，
１３Ｂで挟んで保持する方法もある。この例でも、レン
ズ束１０及びレンズ束１１の光軸の調整は機械的に行わ
れる。
の例として、図３に示すように、レンズ束１０は各レン
ズ１０ａを接着によらずに２枚の光透過性の平行平面板
１２Ａ，１２Ｂで挟んで保持し、同様にレンズ束１１も
各レンズ１１ａを２枚の光透過性の平行平面板１３Ａ，
１３Ｂで挟んで保持する方法もある。この例でも、レン
ズ束１０及びレンズ束１１の光軸の調整は機械的に行わ
れる。
【００４０】更に、レンズ束１０及びレンズ束１１を、
それぞれガラス基板上にプレス加工によって所定の屈折
面を有する多数のレンズを形成することによって製造し
てもよい。次に、本例のフライアイレンズ９の具体的な
実施例につき説明する。以下の実施例では、図２に示す
ように、光源側からの照明光がフライアイレンズ９中で
通過する面を順次第ｉ面（ｉ＝１〜４）として、第ｉ面
の曲率半径ｒi の符号は、光源側からの光束に対して凸
の場合を正にとり、フライアイレンズ９の焦点距離ｆを
１に規格化してある。そして、第ｉ面と第（ｉ＋１）面
との面間隔をｄi として、第ｉ面と第（ｉ＋１）面との
間の屈折率をｎi とする。また、照明光の波長（使用波
長）、使用する硝材、及びこの硝材の使用波長に対する
屈折率は次の通りである。
それぞれガラス基板上にプレス加工によって所定の屈折
面を有する多数のレンズを形成することによって製造し
てもよい。次に、本例のフライアイレンズ９の具体的な
実施例につき説明する。以下の実施例では、図２に示す
ように、光源側からの照明光がフライアイレンズ９中で
通過する面を順次第ｉ面（ｉ＝１〜４）として、第ｉ面
の曲率半径ｒi の符号は、光源側からの光束に対して凸
の場合を正にとり、フライアイレンズ９の焦点距離ｆを
１に規格化してある。そして、第ｉ面と第（ｉ＋１）面
との面間隔をｄi として、第ｉ面と第（ｉ＋１）面との
間の屈折率をｎi とする。また、照明光の波長（使用波
長）、使用する硝材、及びこの硝材の使用波長に対する
屈折率は次の通りである。
【００４１】使用波長：３６５ｎｍ（水銀ランプのｉ
線）、 硝材：石英、 石英の屈折率：１．４７４５５２
線）、 硝材：石英、 石英の屈折率：１．４７４５５２
【００４２】［第１実施例］この第１実施例は、図２の
フライアイレンズ９を構成する各レンズ要素９ａの光源
側のレンズ１０ａを両凸レンズ、被照射面側のレンズ１
１ａを光源側が平面となった平凸レンズとして、正弦条
件を満たすように補正を行ったものである。具体的なレ
ンズデータは以下の通りである。
フライアイレンズ９を構成する各レンズ要素９ａの光源
側のレンズ１０ａを両凸レンズ、被照射面側のレンズ１
１ａを光源側が平面となった平凸レンズとして、正弦条
件を満たすように補正を行ったものである。具体的なレ
ンズデータは以下の通りである。
【００４３】
【表１】 曲率半径 面間隔 屈折率 ｒ1 ＝ 0.59 ｄ1 ＝0.3 ｎ1 ＝1.474552 ｒ2 ＝-2.0283 ｄ2 ＝0.6329 ｎ2 ＝1.0 ｒ3 ＝∞ ｄ3 ＝0.3 ｎ3 ＝1.474552 ｒ4 ＝-0.4983
【００４４】このレンズデータに基づいて、（１１）式
で定義される正弦条件不満足量ＯＳＣを焦点距離で規格
化した値ＯＳＣ／ｆを、種々の２ｈ／ｆ（即ち、Ｆナン
バーの逆数）について計算すると、次のようになる。
で定義される正弦条件不満足量ＯＳＣを焦点距離で規格
化した値ＯＳＣ／ｆを、種々の２ｈ／ｆ（即ち、Ｆナン
バーの逆数）について計算すると、次のようになる。
【００４５】
【表２】 ２ｈ／ｆ＝0.1 ：ＯＳＣ／ｆ＝-0.0002 ％ ２ｈ／ｆ＝0.2 ：ＯＳＣ／ｆ＝-0.0400 ％ ２ｈ／ｆ＝0.3 ：ＯＳＣ／ｆ＝-0.0600 ％ ２ｈ／ｆ＝0.4 ：ＯＳＣ／ｆ＝-0.0250 ％ ２ｈ／ｆ＝0.5 ：ＯＳＣ／ｆ＝-0.1322 ％
【００４６】この表２より、本例では２ｈ／ｆの値が
０．５（Ｆナンバー＝２）の場合でも正弦条件不満足量
は約０．１％程度であることが分かる。これに対して、
図７に示すように、従来の単一レンズよりなるレンズ要
素を束ねたフライアイレンズを使用した場合の正弦条件
不満足量は、１％より大きい値であり、本例では正弦条
件が極めて良好に補正されている。従って、本例のフラ
イアイレンズ９を使用した照明光学系では、被照射面で
の照度及び開口数の均一性を共に極めて高いレベルに設
定できる。
０．５（Ｆナンバー＝２）の場合でも正弦条件不満足量
は約０．１％程度であることが分かる。これに対して、
図７に示すように、従来の単一レンズよりなるレンズ要
素を束ねたフライアイレンズを使用した場合の正弦条件
不満足量は、１％より大きい値であり、本例では正弦条
件が極めて良好に補正されている。従って、本例のフラ
イアイレンズ９を使用した照明光学系では、被照射面で
の照度及び開口数の均一性を共に極めて高いレベルに設
定できる。
【００４７】［第２実施例］この第２実施例は、図２の
フライアイレンズ９を構成する各レンズ要素９ａの光源
側のレンズ１０ａと、被照射面側のレンズ１１ａとを対
称な両凸レンズとして、正弦条件を満たすように補正を
行ったものである。具体的なレンズデータは以下の通り
である。
フライアイレンズ９を構成する各レンズ要素９ａの光源
側のレンズ１０ａと、被照射面側のレンズ１１ａとを対
称な両凸レンズとして、正弦条件を満たすように補正を
行ったものである。具体的なレンズデータは以下の通り
である。
【００４８】
【表３】 曲率半径 面間隔 屈折率 ｒ1 ＝ 0.63129 ｄ1 ＝0.3 ｎ1 ＝1.474552 ｒ2 ＝-2.00792 ｄ2 ＝0.67612 ｎ2 ＝1.0 ｒ3 ＝ 2.00792 ｄ3 ＝0.3 ｎ3 ＝1.474552 ｒ4 ＝-0.63129
【００４９】このレンズデータに基づいて、（１１）式
で定義される正弦条件不満足量ＯＳＣを焦点距離で規格
化した値ＯＳＣ／ｆを、種々の２ｈ／ｆ（即ち、Ｆナン
バーの逆数）について計算すると、次のようになる。
で定義される正弦条件不満足量ＯＳＣを焦点距離で規格
化した値ＯＳＣ／ｆを、種々の２ｈ／ｆ（即ち、Ｆナン
バーの逆数）について計算すると、次のようになる。
【００５０】
【表４】 ２ｈ／ｆ＝0.1 ：ＯＳＣ／ｆ＝ 0.0000 ％ ２ｈ／ｆ＝0.2 ：ＯＳＣ／ｆ＝-0.0020 ％ ２ｈ／ｆ＝0.3 ：ＯＳＣ／ｆ＝-0.0333 ％ ２ｈ／ｆ＝0.4 ：ＯＳＣ／ｆ＝ 0.0050 ％ ２ｈ／ｆ＝0.5 ：ＯＳＣ／ｆ＝ 0.1522 ％
【００５１】この表より、第１実施例と同様に正弦条件
は極めて良好に補正されていることが分かる。更に、レ
ンズ１０，１１の厚さ、屈折率等を変化させて各種構成
例の検討を行ったが、フライアイレンズ９のレンズ要素
９ａを２群で構成する場合には、現実的な屈折率の範囲
内で第１群の入射面の曲率半径ｒ1 、及び射出面の曲率
半径ｒ 2 について、以下の条件が成立するときに、正弦
条件を最適化できることが分かった。
は極めて良好に補正されていることが分かる。更に、レ
ンズ１０，１１の厚さ、屈折率等を変化させて各種構成
例の検討を行ったが、フライアイレンズ９のレンズ要素
９ａを２群で構成する場合には、現実的な屈折率の範囲
内で第１群の入射面の曲率半径ｒ1 、及び射出面の曲率
半径ｒ 2 について、以下の条件が成立するときに、正弦
条件を最適化できることが分かった。
【００５２】ｒ1 ＞０ （２４） ｒ2 ＜０ （２５） ｜ｒ1|＜｜ｒ2| （２６） これらの内で（２４）式及び（２５）式の条件はその第
１群が両凸レンズであることを意味している。
１群が両凸レンズであることを意味している。
【００５３】なお、上述実施例では、フライアイレンズ
９のレンズ要素９ａが２群２枚で構成されているが、２
群で３枚以上からレンズ要素９ａを構成してもよい。更
に、各レンズ要素９ａを３群以上で構成して、更に高度
な補正を行うことも可能である。そのように３群以上の
場合は、凹レンズ群を交えた構成も採用できる。しかし
ながら、各レンズ要素の光軸精度の維持を考えると現実
的には困難である。
９のレンズ要素９ａが２群２枚で構成されているが、２
群で３枚以上からレンズ要素９ａを構成してもよい。更
に、各レンズ要素９ａを３群以上で構成して、更に高度
な補正を行うことも可能である。そのように３群以上の
場合は、凹レンズ群を交えた構成も採用できる。しかし
ながら、各レンズ要素の光軸精度の維持を考えると現実
的には困難である。
【００５４】このように、本発明は上述実施例に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得る。
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得る。
【００５５】
【発明の効果】本発明の照明光学装置によれば、フライ
アイレンズを構成する複数のレンズ要素がそれぞれ少な
くとも３つの所定の屈折力を持つ屈折面（その内の１面
がフィールドレンズとして作用する）を有するため、即
ちそれら各レンズ要素の屈折力が少なくとも２つの屈折
面によって担われているため、正弦条件の補正が容易と
なっている。従って、装置を大型化することなくフライ
アイレンズの正弦条件不満足量を小さくして、照度及び
照明開口数の両方の均一性を高めることができる利点が
ある。その結果として、本発明を投影露光装置の照明光
学系として適用した場合に、得られる投影像の露光フィ
ールド内での均一性が大幅に向上する。
アイレンズを構成する複数のレンズ要素がそれぞれ少な
くとも３つの所定の屈折力を持つ屈折面（その内の１面
がフィールドレンズとして作用する）を有するため、即
ちそれら各レンズ要素の屈折力が少なくとも２つの屈折
面によって担われているため、正弦条件の補正が容易と
なっている。従って、装置を大型化することなくフライ
アイレンズの正弦条件不満足量を小さくして、照度及び
照明開口数の両方の均一性を高めることができる利点が
ある。その結果として、本発明を投影露光装置の照明光
学系として適用した場合に、得られる投影像の露光フィ
ールド内での均一性が大幅に向上する。
【００５６】また、（２１）式の条件を満たす場合に
は、フライアイレンズの正弦条件不満足量を１％より小
さくできる。そのため、照明開口数の被照射面での均一
性を３％より小さくでき、例えば投影露光装置に適用し
た場合に良好な結像特性が得られる。また、フライアイ
レンズの構成するレンズ要素を、それぞれ光軸を共有す
る複数枚のレンズより構成した場合には、屈折面の曲率
半径及び屈折率を組み合わせることにより、フライアイ
レンズの正弦条件を容易に補正できる利点がある。
は、フライアイレンズの正弦条件不満足量を１％より小
さくできる。そのため、照明開口数の被照射面での均一
性を３％より小さくでき、例えば投影露光装置に適用し
た場合に良好な結像特性が得られる。また、フライアイ
レンズの構成するレンズ要素を、それぞれ光軸を共有す
る複数枚のレンズより構成した場合には、屈折面の曲率
半径及び屈折率を組み合わせることにより、フライアイ
レンズの正弦条件を容易に補正できる利点がある。
【００５７】更に、フライアイレンズを構成する複数個
のレンズ要素を、それぞれ光軸を共有する２群２枚のレ
ンズより構成し、その光源側のレンズを両凸レンズとし
て、（２２）式の条件を満たす場合には、２群２枚の簡
単な構成にも拘らず、また、実用的な屈折率の範囲内で
容易にフライアイレンズの正弦条件の補正を行うことが
できる。
のレンズ要素を、それぞれ光軸を共有する２群２枚のレ
ンズより構成し、その光源側のレンズを両凸レンズとし
て、（２２）式の条件を満たす場合には、２群２枚の簡
単な構成にも拘らず、また、実用的な屈折率の範囲内で
容易にフライアイレンズの正弦条件の補正を行うことが
できる。
【００５８】また、本発明のフライアイレンズによれ
ば、簡単な構成で正弦条件不満足量を１％より小さくで
きる利点がある。従って、本発明のフライアイレンズは
本発明の照明光学装置に使用することができる。
ば、簡単な構成で正弦条件不満足量を１％より小さくで
きる利点がある。従って、本発明のフライアイレンズは
本発明の照明光学装置に使用することができる。
【図１】本発明による照明光学装置の一実施例を示す構
成図である。
成図である。
【図２】実施例で使用されるフライアイレンズ９を示す
概念図である。
概念図である。
【図３】実施例で使用されるフライアイレンズ９の製造
方法の他の例を示す概念図である。
方法の他の例を示す概念図である。
【図４】従来の照明光学装置を示す構成図である。
【図５】（ａ）は図４中のフライアイレンズ５を光軸方
向に見た状態を示す図、（ｂ）はフライアイレンズ５の
側面図である。
向に見た状態を示す図、（ｂ）はフライアイレンズ５の
側面図である。
【図６】従来のフライアイレンズ５を示す光路図であ
る。
る。
【図７】従来のフライアイレンズの正弦条件不満足量の
一例を示す図である。
一例を示す図である。
１ 光源 ２ 集光鏡 ３ コリメータレンズ ４ バンドパスフィルタ ６ 開口絞り ７ コンデンサーレンズ ８ 照明領域 ９ フライアイレンズ ９ａ レンズ要素 １０ 第１のレンズ束 １０ａ レンズ １１ 第２のレンズ束 １１ａ レンズ
Claims (5)
- 【請求項１】 照明光を発生する光源と、該光源からの
照明光を所定の面に導く光束整形光学系と、前記所定の
面に入射面が配置され前記照明光より複数個の光源像を
形成するフライアイレンズと、前記複数個の光源像から
の照明光を重畳して被照射面を照明するコンデンサーレ
ンズ系と、を有する照明光学装置において、 前記フライアイレンズを構成する複数個のレンズ要素は
それぞれ、前記照明光の入射面から射出面までの間に少
なくとも３つの所定の屈折力を有する屈折面を有するこ
とを特徴とする照明光学装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の照明光学装置であって、 前記フライアイレンズを構成する複数個のレンズ要素は
それぞれ、前記フライアイレンズの焦点距離をｆ、前記
各レンズ要素の光軸に平行な照明光の最大入射高をｈ
max 、該最大入射高ｈmax で入射して射出される照明光
が前記光軸となす角度をθmax とするとき、 ｜ｈmax/（ｆ・sin θmax)｜＜０．０１ の条件を満足することを特徴とする照明光学装置。 - 【請求項３】 請求項１又は２記載の照明光学装置であ
って、 前記フライアイレンズを構成する複数個のレンズ要素は
それぞれ、光軸を共有する複数枚のレンズより構成され
ることを特徴とする照明光学装置。 - 【請求項４】 請求項１、２又は３記載の照明光学装置
であって、 前記フライアイレンズを構成する複数個のレンズ要素は
それぞれ、光軸を共有する２群２枚のレンズより構成さ
れ、前記光源側のレンズは両凸レンズであり、該両凸レ
ンズの前記光源側の面の曲率半径をｒ1 、他方の面の曲
率半径をｒ2 とするとき、 ｜ｒ1 ｜＜｜ｒ2 ｜ の条件を満足することを特徴とする照明光学装置。 - 【請求項５】 複数個のレンズ要素よりなるフライアイ
レンズにおいて、 前記複数個のレンズ要素はそれぞれ、照明光の入射面か
ら射出面までの間に少なくとも３つの所定の屈折力を有
する屈折面を有し、 前記フライアイレンズの焦点距離をｆ、前記各レンズ要
素の光軸に平行な照明光の最大入射高をｈmax 、該最大
入射高ｈmax で入射して射出される照明光が前記光軸と
なす角度をθmax とするとき、 ｜ｈmax/（ｆ・sin θmax)｜＜０．０１ の条件を満足することを特徴とするフライアイレンズ。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06242995A JP3608580B2 (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | 照明光学装置、露光装置、露光方法、及びフライアイレンズ |
| US08/619,252 US5760963A (en) | 1995-03-22 | 1996-03-21 | Fly-eye lens, illumination optical apparatus, and exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06242995A JP3608580B2 (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | 照明光学装置、露光装置、露光方法、及びフライアイレンズ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08262367A true JPH08262367A (ja) | 1996-10-11 |
| JP3608580B2 JP3608580B2 (ja) | 2005-01-12 |
Family
ID=13199927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06242995A Expired - Fee Related JP3608580B2 (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | 照明光学装置、露光装置、露光方法、及びフライアイレンズ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5760963A (ja) |
| JP (1) | JP3608580B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6285442B1 (en) | 1998-04-30 | 2001-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method using the exposure apparatus |
| US6665052B2 (en) | 1998-01-30 | 2003-12-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination optical system and projection exposure apparatus |
| US6850367B2 (en) | 2002-03-25 | 2005-02-01 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Light exposure apparatus and light emitting device therefor |
| EP0913720B1 (en) * | 1997-10-29 | 2007-06-20 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Irradiation device for an alignment layer of a liquid crystal cell element |
| US8497977B2 (en) | 2009-03-12 | 2013-07-30 | Nikon Corporation | Optical integrator, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4238390B2 (ja) * | 1998-02-27 | 2009-03-18 | 株式会社ニコン | 照明装置、該照明装置を備えた露光装置および該露光装置を用いて半導体デバイスを製造する方法 |
| US6741394B1 (en) | 1998-03-12 | 2004-05-25 | Nikon Corporation | Optical integrator, illumination optical apparatus, exposure apparatus and observation apparatus |
| JP3264368B2 (ja) * | 1998-10-16 | 2002-03-11 | 日本電気株式会社 | 縮小投影型露光装置の調整方法 |
| DE10062579A1 (de) * | 1999-12-15 | 2001-06-21 | Nikon Corp | Optischer Integrierer,optische Beleuchtungseinrichtung, Photolithographie-Belichtungseinrichtung,und Beobachtungseinrichtung |
| US6366308B1 (en) * | 2000-02-16 | 2002-04-02 | Ultratech Stepper, Inc. | Laser thermal processing apparatus and method |
| JP2002006225A (ja) * | 2000-06-23 | 2002-01-09 | Nikon Corp | 顕微鏡照明装置 |
| EP1202100A3 (de) * | 2000-10-27 | 2005-04-06 | Carl Zeiss SMT AG | Beleuchtungssystem mit reduzierter Wärmebelastung |
| JP2004004169A (ja) * | 2002-05-30 | 2004-01-08 | Nikon Corp | 顕微鏡照明装置及び顕微鏡装置 |
| DE602004031844D1 (de) * | 2003-07-30 | 2011-04-28 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Beleuchtungssystem für die mikrolithographie |
| WO2005083512A2 (de) * | 2004-02-26 | 2005-09-09 | Carl Zeiss Smt Ag | Beleuchtungssystem für eine mikrolithographie-projektionsbelichtungsanlage |
| US20080225257A1 (en) * | 2007-03-13 | 2008-09-18 | Nikon Corporation | Optical integrator system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US8587764B2 (en) * | 2007-03-13 | 2013-11-19 | Nikon Corporation | Optical integrator system, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US20090026388A1 (en) * | 2007-07-25 | 2009-01-29 | Drozdowicz Zbigniew M | Illumination Homogenizer |
| NL2002432C2 (en) * | 2009-01-20 | 2010-07-21 | Omt Solutions Beheer B V | Diffusing device for diffusing light, and safety-glass panel, light source and greenhouse comprising diffusing device. |
| KR101643607B1 (ko) * | 2009-12-30 | 2016-08-10 | 삼성전자주식회사 | 영상 데이터 생성 방법 및 장치 |
| CN103412466B (zh) * | 2013-07-17 | 2015-07-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 曝光装置和曝光方法 |
| CN110806681A (zh) * | 2019-11-01 | 2020-02-18 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种表面等离子体光刻机的高光功率密度照明系统 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1762932A (en) * | 1927-05-11 | 1930-06-10 | Eastman Kodak Co | Projection system for color pictures |
| US2186123A (en) * | 1937-01-27 | 1940-01-09 | Zeiss Ikon Ag | Illuminating system |
| US2326970A (en) * | 1939-05-25 | 1943-08-17 | Rantsch Kurt | Illuminating system, particularly for projection purposes |
| GB741246A (en) * | 1953-04-23 | 1955-11-30 | Zeiss Ikon Ag | Improvements in or relating to illuminating devices for optical projection apparatus |
| US3267802A (en) * | 1965-01-04 | 1966-08-23 | Gen Electric | Lenticulated collimating condensing system for oblique object planes |
| US3296923A (en) * | 1965-01-04 | 1967-01-10 | Gen Electric | Lenticulated collimating condensing system |
| US3941475A (en) * | 1974-07-01 | 1976-03-02 | Tamarack Scientific Co., Inc. | Optical microcircuit printing system |
| JPS5681813A (en) * | 1979-12-08 | 1981-07-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Mask lighting optical system |
| JPS58147708A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 照明用光学装置 |
| US4851882A (en) * | 1985-12-06 | 1989-07-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination optical system |
| JPS6461716A (en) * | 1987-08-31 | 1989-03-08 | Canon Kk | Illuminator |
| NL8901077A (nl) * | 1989-04-28 | 1990-11-16 | Koninkl Philips Electronics Nv | Optische belichtingsstelsel en projectie-apparaat voorzien van een dergelijk stelsel. |
| JP3360686B2 (ja) * | 1990-12-27 | 2002-12-24 | 株式会社ニコン | 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法 |
| JPH04369209A (ja) * | 1991-06-17 | 1992-12-22 | Nikon Corp | 露光用照明装置 |
-
1995
- 1995-03-22 JP JP06242995A patent/JP3608580B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-03-21 US US08/619,252 patent/US5760963A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0913720B1 (en) * | 1997-10-29 | 2007-06-20 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Irradiation device for an alignment layer of a liquid crystal cell element |
| US6665052B2 (en) | 1998-01-30 | 2003-12-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Illumination optical system and projection exposure apparatus |
| US6285442B1 (en) | 1998-04-30 | 2001-09-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method using the exposure apparatus |
| US6850367B2 (en) | 2002-03-25 | 2005-02-01 | Ushio Denki Kabushiki Kaisha | Light exposure apparatus and light emitting device therefor |
| US8497977B2 (en) | 2009-03-12 | 2013-07-30 | Nikon Corporation | Optical integrator, illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3608580B2 (ja) | 2005-01-12 |
| US5760963A (en) | 1998-06-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3608580B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置、露光方法、及びフライアイレンズ | |
| KR100387003B1 (ko) | 투영광학시스템,투영노광장치,노광방법,및노광장치제조방법 | |
| JP4717974B2 (ja) | 反射屈折光学系及び該光学系を備える投影露光装置 | |
| US5861997A (en) | Catadioptric reduction projection optical system and exposure apparatus having the same | |
| USRE38421E1 (en) | Exposure apparatus having catadioptric projection optical system | |
| JPH103039A (ja) | 反射屈折光学系 | |
| JP4207478B2 (ja) | オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置および露光方法 | |
| JP3925576B2 (ja) | 投影光学系、該光学系を備えた露光装置、及び該装置を用いたデバイスの製造方法 | |
| JPH07140384A (ja) | 投影光学系及び投影露光装置 | |
| US5891806A (en) | Proximity-type microlithography apparatus and method | |
| JPH0756090A (ja) | 走査型投影光学系 | |
| JP2002323658A (ja) | 照明システムの分割形対物レンズ | |
| TW536735B (en) | Optical condenser system, optical illumination system provided with the same, and exposure system | |
| JP3368653B2 (ja) | 照明方法及び装置、並びに露光方法及び装置 | |
| JP2004198748A (ja) | オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置および露光方法 | |
| JP7029564B2 (ja) | カタディオプトリック光学系、照明光学系、露光装置および物品製造方法 | |
| TW202334759A (zh) | 投影透鏡、投影曝光裝置及投影曝光方法 | |
| JPH0684759A (ja) | 照明装置 | |
| JP2000098228A (ja) | 投影露光装置及び露光方法、並びに反射縮小投影光学系 | |
| JPH0922869A (ja) | 露光装置 | |
| JP3339592B2 (ja) | 反射屈折投影光学系、並びに露光方法及び装置 | |
| JP2002082285A (ja) | 反射屈折光学系および該光学系を備えた露光装置 | |
| JP3455992B2 (ja) | 投影光学系、それを備えた走査型投影露光装置、及び素子製造方法 | |
| JP2869849B2 (ja) | 集積回路製造方法 | |
| TW530335B (en) | Image-forming optical system and exposure device equipped therewith |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040729 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040827 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040922 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20041005 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071022 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101022 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |