JPH08269331A - シリコーンゲル組成物及びポッティング材 - Google Patents
シリコーンゲル組成物及びポッティング材Info
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- JPH08269331A JPH08269331A JP10172195A JP10172195A JPH08269331A JP H08269331 A JPH08269331 A JP H08269331A JP 10172195 A JP10172195 A JP 10172195A JP 10172195 A JP10172195 A JP 10172195A JP H08269331 A JPH08269331 A JP H08269331A
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Abstract
炭素数1〜10の一価炭化水素基を示し、aは1.90
〜2.05、bは0.00002〜0.02の正数であ
り、a+bは1.90002〜2.07である。) (B)(A)成分との間にシロキサン結合を縮合によって形成する加水分解性を 有する有機珪素化合物もしくはその部分加水分解物 0.001〜10重量部 (C)錫、チタン及びアルミニウムの有機錯体から選ばれる加水分解触媒 0.001〜10重量部 を含有してなり、シロキサン結合を形成することによっ
て架橋した初期針入度20〜150のシリコーンゲル硬
化物を与えることを特徴とするシリコーンゲル組成物。 【効果】 本発明のシリコーンゲル組成物及びポッティ
ング材は、耐高温酸化性に優れ、オゾンやNOx等の酸
化性気体に曝されても、酸化され難く、長期に亘り安定
した柔軟性、腐食防止性を有するシリコーンゲル硬化物
を与えるものである。
Description
ポッティング材として好適に用いられるシリコーンゲル
組成物に関する。
電気・電子部品の腐食を防止する等の目的で電気・電子
部品のポッティング材にシリコーンエラストマーやシリ
コーンゲルが広く使用されている。
ィング材では、使用する条件や作業性の面から、その硬
化機構としては付加反応硬化型又は縮合反応硬化型の組
成物が用いられている。一方、シリコーンゲルポッティ
ング材では、主に作業性の面から付加反応硬化型又は光
(紫外線)硬化型の組成物が使用されているに過ぎな
い。
は紫外線硬化によるシリコーンゲル硬化物は、通常の大
気中の使用条件下では十分な耐熱性を有し、腐食防止等
の性能を発揮するものであるが、酸化性気体、例えばオ
ゾンやNOx等が存在する雰囲気中、特に100℃以上
の高温条件下においては、シリコーンゲル硬化物が軟化
もしくは溶解してしまい、本来の性能が発揮されないと
いう問題がある。このため、シリコーンゲルポッティン
グ材で封止された電気・電子部品が上記のような高温酸
化性気体雰囲気、例えば自動車のエンジン回りなどに置
かれた場合、封止効果が低下し、電気・電子部品が腐食
することがしばしば生じた。
耐高温酸化性に優れたシリコーンゲル硬化物を与えるシ
リコーンゲル組成物及びシリコーンゲルポッティング材
を提供することを目的とする。
記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、上記付加
反応硬化及び紫外線硬化によるシリコーンゲル硬化物が
高温酸化性雰囲気で容易に酸化される原因がその硬化機
構にあることを知見した。即ち、架橋サイトの官能性基
としてSi−CH=CH2基とSi−H基とを含有する
付加反応硬化型ではシルエチレン基、紫外線硬化型では
アクリル官能性基等の架橋部分や重合部分がオゾンやN
Ox等の存在する酸化性雰囲気、特に高温下で酸化さ
れ、結合が開裂し、このためシリコーンゲル硬化物の軟
化、溶解が生じるものであることを知見した。このよう
な知見に基づき、本発明者は更に検討を進めた結果、硬
化後に炭素原子を介する結合基(例えばC−C結合やC
−O結合を含むもの)を生成しない硬化機構、即ち脱ア
ルコール又は脱ケトン(例えばアセトン)縮合架橋や脱
水素縮合機構といったシロキサン結合(≡Si−O−S
i≡)を形成することによって新たな結合として機能す
る硬化機構のシリコーンゲル組成物が耐高温酸化性に優
れた硬化物を与え、これを例えば自動車のエンジン回り
に使用する電気・電子部品のポッティング材として用い
た場合において、燃料の燃焼時に発生するオゾン,NO
x,SOx等の酸化性気体に曝されても、ゲルの性状を維
持し、電気・電子部品を腐食から保護することができる
ことを見い出し、本発明をなすに至ったものである。
炭素数1〜10の一価炭化水素基を示し、aは1.90
〜2.05、bは0.00002〜0.02の正数であ
り、a+bは1.90002〜2.07である。) (B)(A)成分との間にシロキサン結合を縮合によって形成する加水分解性を 有する有機珪素化合物もしくはその部分加水分解物 0.001〜10重量部 (C)錫、チタン及びアルミニウムの有機錯体から選ばれる加水分解触媒 0.001〜10重量部 を含有してなり、シロキサン結合を形成することによっ
て架橋した初期針入度20〜150のシリコーンゲル硬
化物を与えることを特徴とするシリコーンゲル組成物を
提供する。また、本発明は、このシリコーンゲル組成物
からなる電気・電子部品用ポッティング材を提供する。
三次元網状構造を有する架橋構造物であり、JIS K
6301における25℃での硬度が0以下、即ち、有効
なゴム硬度値を有さない点において一般のシリコーンゴ
ム或いはエラストマー硬化物(通常、JIS K630
1のゴム硬度で約5以上の値を示す)とは明確に区別さ
れるものであり、また、シリコーンゲル一般としてはA
STM D−1403(1/4コーン)における針入度
が25℃において200以下の有限値を有するものを意
味するが、本発明においては特に初期針入度が20〜1
50の値を有するゲル硬化物を与える組成物を開示する
ものである。
と、本発明のシリコーンゲル組成物に用いる第一成分
は、下記平均組成式(1)で示されるシラノール基含有
オルガノシロキサン〔(A)成分〕であり、これは分子
鎖末端に少なくとも1個、特に分子鎖の両末端にそれぞ
れ1個、また分岐構造がある場合には分子鎖の各末端に
それぞれ1個ずつのシラノール基(即ち、ケイ素原子に
結合した水酸基)を有するものであることが好適であ
る。 R1 a(HO)bSiO(4-a-b)/2 …(1)
又は非置換の炭素数1〜10、特に1〜8の一価炭化水
素基で、これは脂肪族不飽和結合を有さないものが好ま
しい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、
イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−
ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル
基、デシル基等のアルキル基や、ビニル基、アリル基、
プロペニル基、ブテニル基等のアルケニル基、フェニル
基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール
基、ベンジル基、フェニルエチル基等のアラルキル基、
あるいはこれらの基の水素原子の一部又は全部をハロゲ
ン原子やシアノ基等で置換したクロロメチル基、ブロモ
エチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、シア
ノエチル基等を挙げることができる。
95〜2.00の正数であり、bは0.00002〜
0.02、特に0.0001〜0.01の正数であり、
a+bは1.90002〜2.07、特に1.9501
〜2.06である。
サンは、直鎖状、分岐状のどちらでも用いることがで
き、粘度は25℃で10〜100000cpが好適であ
り、更に好適には100〜10000cpである。粘度
がこの範囲以外であると、電気・電子部品ケースに注型
する際の作業性が悪くなる場合がある。
サンとして具体的には、下記の化合物が好適な化合物と
して例示される。なお、下記例においてMeはメチル
基、Phはフェニル基を示す。
ノシクロポリシロキサン又はオルガノポリシロキサンオ
リゴマーを原料としてアルカリ又は酸触媒による平衡反
応を行うことによって製造することができる。
加水分解性を有する有機珪素化合物もしくはその部分加
水分解物は、上記(A)成分の硬化剤として作用するも
のである。ここで、本発明の組成物は、上述したよう
に、炭素原子を介する架橋を含有しないことによって、
酸化性気体による結合の開裂が発生せず、安定した柔ら
かさを有するシリコーンゲルとすることができるもの
で、このためシリコーンゲル組成物の硬化に係る架橋構
造は、脱アルコール縮合、脱ケトン(例えばアセトン)
縮合又は脱水素縮合架橋であることが有効である。つま
りシロキサン結合(≡Si−O−Si≡)を形成するこ
とによって新たな結合として機能する架橋機構であるこ
とが必要である。この場合、脱アミン縮合では脱離基で
あるヒドロキシアミンによって電気・電子部品などの腐
食が発生するため、ポッティング材としては好ましくな
い。
コール縮合反応或いは脱ケトン縮合反応を用いる場合、
(B)成分としては、≡Si−O−R3基を分子中に少
なくとも1個、好ましくは2個以上有する有機珪素化合
物、特に下記一般式(2)〜(4) R2 mSi(OR3)4-m …(2) R2 nSi(OR3)3-n−R4−Si(OR3)3-n−R n …(3) R3 O−〔Si(OR3)2−O〕p−Si(OR3)3 …(4) で示されるオルガノシラン、オルガノシロキサン、オル
ガノシルアルキレン、オルガノシルアリーレンなどの有
機珪素化合物又はその部分加水分解物の1種又は2種以
上であることが好ましい。ここで部分加水分解物とは、
加水分解後の分子中に≡Si−O−R3基を少なくとも
1個、好ましくは2個以上有する生成物を意味する。
又は非置換の炭素数1〜8、好ましくは1〜6の一価炭
化水素基であり、これは脂肪族不飽和結合を有さないも
のが好ましく、上記したR1と同様の基が挙げられる。
また、R3は炭素数1〜4のアルキル基又はアルケニル
基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブ
チル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロ
ペニル基、ブテニル基、イソブテニル基等が挙げられ
る。R4は炭素数1〜8、好ましくは2〜4の二価炭化
水素基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン
基、メチルエチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチ
レン基等のアルキレン基、フェニレン基、メチルフェニ
レン基等のアリーレン基や、これらのアルキレン基、ア
リーレン基の組み合わせなどであり、特にアルキレン基
であることが好ましい。
は2が好ましい。また、nはそれぞれ独立に0〜2の整
数であるが、特に0又は1が好ましい。更に、pは0〜
50、特に1〜10の整数である。
記化合物を挙げることができる。なお下記式中、Meは
メチル基、Etはエチル基、Prはプロピル基、Phは
フェニル基、Viはビニル基を示す。 R’Si(OMe)3 R’Si(OEt)3 R’Si(OC(CH3)=CH2)3 (R’=Me,Et,Pr,Ph又はVi) (MeO)3Si−CH2−CH2−Si(OMe)3 MeO−(Si(OMe)2−O)5−Si(OMe)3
いる場合には、(B)成分の加水分解性を有する有機珪
素化合物としては一分子中に2個以上のSi−H基を有
するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを使用する
ことができる。このオルガノハイドロジェンポリシロキ
サンとしては、下記平均組成式(5) R7 c(H)dSiO(4-c-d)/2 …(5) で示されるものを用いることができる。
数1〜10、特に1〜8の一価炭化水素基で、脂肪族不
飽和結合を有さないものが好ましく、上記したR1と同
様の基を挙げることができる。また、cは1.0≦c≦
2.55、好適には1.0≦c≦2.4、dは0.00
5≦d≦1.3、好適には0.05≦d≦1.0、c+
dは1<c+d<2.7、好適には2≦c+d≦2.4
を満足する正数である。
ンは鎖状、分岐状、環状、三次元網状構造の樹脂状物等
のいずれのものでもよく、またその粘度は25℃におい
て0.1〜1000cp、特に0.5〜500cpであ
ることが好ましい。
ンの具体例としては下記化合物を挙げることができる。
なお、下記例においてMeはメチル基を示す。
分のオルガノポリシロキサン100重量部に対して0.
001〜10重量部、特に0.1〜1重量部が好適であ
り、配合量が0.001重量部に満たないと硬化しない
場合があり、10重量部を超えると硬くなりすぎる場合
がある。
〔(C)成分〕は、上記(B)成分の加水分解触媒とし
て機能し得るもので、錫、チタン及びアルミニウムの有
機錯体、例えばエステル化合物、アルコラート化合物、
アセチルアセトネート化合物などから選ばれる。具体例
としては下記の化合物が挙げられるが、特に反応性や可
使時間等の作業性の点から錫の錯体が好ましく使用され
る。 Sn(O−CO−R5)2 R5 2Sn(O−CO−R5)2 Ti(OR6)4 Al(acac)3 Al(CH3COCOOCOOR5)3
1〜15の互いに同一又は異種の置換又は非置換の一価
炭化水素基であり、上記したR1と同様のものを例示す
ることができるが、特にアルキル基であることが好まし
い。また、R6は炭素数1〜10のアルキル基であり、
好ましくはエチル基、プロピル基又はブチル基である。
acacはアセチルアセトナート基を示す。
分のオルガノポリシロキサン100重量部に対して0.
001〜10重量部、特に0.1〜2重量部が望まし
く、0.001重量部に満たないと触媒効果が十分に得
られない場合があり、10重量部を超えると十分な可使
時間が得られなくなり、また経済的に不利となる場合が
ある。
その他の成分を併用してもよく、必要に応じて充填剤、
顔料、接着補助剤等を添加することができる。更に本発
明の効果を妨げない範囲で上記(A)成分以外のオルガ
ノポリシロキサンを添加することもできる。
記の(A)〜(C)成分を均一に混合し、室温(例えば
10〜30℃)或いは加熱下に硬化することができる。
例えば脱アルコール或いは脱ケトン縮合型の場合、通常
10〜40℃で5分〜200時間程度、また、脱水素縮
合型の場合60〜180℃、特に80〜150℃で30
分〜2時間程度の条件で硬化し、シリコーンゲル硬化物
を形成する。このシリコーンゲル硬化物の初期針入度は
25℃において20〜150、好適には50〜130で
あることが必要であり、20より小さいと、ゲルが硬く
なり、封止した電気・電子部品を破損するおそれが大き
く、150より大きいとゲルが流れ出すおそれが大き
い。
電子部品、特にオゾン,NOx,SOx等の酸化性気体が
存在する雰囲気、しかもとりわけ100℃以上の高温下
に置かれる電気・電子部品用のポッティング材として有
効に用いられる。
ティング材は、耐高温酸化性に優れ、オゾンやNOx等
の酸化性気体に曝されても、酸化され難く、長期に亘り
安定した柔軟性、腐食防止性を有するシリコーンゲル硬
化物を与えるものである。
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。なお、下記の例でMeはメチル基、Phは
フェニル基、Viはビニル基を示す。また、部は重量部
を意味し、粘度、針入度及びゴム硬度はいずれも25℃
の値である。
す各例の各成分を混合し、ガラスシャーレ中で表1に示
す各硬化条件にて組成物を硬化させ、シリコーンゲルを
得た。次に、各シリコーンゲルについて初期針入度を測
定すると共に、下記方法で耐酸化性試験を行った後のゲ
ルの針入度を測定した。なお、針入度はASTM D−
1403に準拠して、1/4スケールコーンを使用して
測定を行った。結果を表2に示す。なお、これら各シリ
コーンゲル硬化物のJIS K6301のゴム硬度はい
ずれも0(有限値を示さない、柔軟なもの)であった。耐酸化性試験 〔25℃試験〕 (1)試験容器内に初期針入度を測定した試料を入れ、
25℃の恒温室に設置する。 (2)電極に通電し、電極間の火花によってO3,NOx
を発生させる(O3≒200ppm,NOx≒300pp
m)。 (3)300時間放電し、その後耐久試験後の試料の2
5℃での針入度を測定する。 〔130℃試験〕 (1)試験容器内に初期針入度を測定した試料を入れ、
試験容器ごと130℃の乾燥器で加熱する。 (2)電極に通電し、電極間の火花によってO3,NOx
を発生させる(O3≒200ppm,NOx≒300pp
m)。 (3)300時間放電し、その後耐久試験後の試料の2
5℃での針入度を測定する。 なお、試験容器は3リットルのデシケーターに2000
0Vの印加電圧をかけることが可能な電極を設置したも
のを使用した。
ゲル硬化物は、室温及び高温の酸化性雰囲気の条件にお
いても、ゲル本来の柔軟性を維持することができること
が認められる。
Claims (5)
- 【請求項1】 (A)下記平均組成式(1)で示される
シラノール基含有オ ルガノポリシロキサン
100重量部 R1 a(HO)bSiO(4-a-b)/2
…(1) (式中、R1は互いに同一又は異種の置換又は非置換の
炭素数1〜10の一価炭化水素基を示し、aは1.90
〜2.05、bは0.00002〜0.02の正数であ
り、a+bは1.90002〜2.07である。) (B)(A)成分との間にシロキサン結合を縮合によって形成する加水分解性を 有する有機珪素化合物もしくはその部分加水分解物 0.001〜10重量部 (C)錫、チタン及びアルミニウムの有機錯体から選ばれる加水分解触媒 0.001〜10重量部 を含有してなり、シロキサン結合を形成することによっ
て架橋した初期針入度20〜150のシリコーンゲル硬
化物を与えることを特徴とするシリコーンゲル組成物。 - 【請求項2】 (B)成分が、下記一般式(2)〜
(4) R2 mSi(OR3)4-m …(2) R2 nSi(OR3)3-n−R4−Si(OR3)3-n−R n …(3) R3 O−〔Si(OR3)2−O〕p−Si(OR3)3 …(4) (式中、R2は互いに同一又は異種の置換又は非置換の
炭素数1〜8の一価炭化水素基、R3は炭素数1〜4の
アルキル基又はアルケニル基、R4は炭素数1〜8の二
価炭化水素基を示し、mは0〜3の整数、nはそれぞれ
独立に0〜2の整数、pは0〜50の整数である。)か
ら選ばれる有機珪素化合物もしくはその部分加水分解物
である請求項1記載のシリコーンゲル組成物。 - 【請求項3】 (B)成分が、1分子中に2個以上のS
i−H基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサ
ンである請求項1記載のシリコーンゲル組成物。 - 【請求項4】 (C)成分が、下記化合物 Sn(O−CO−R5)2 R5 2Sn(O−CO−R5)2 Ti(OR6)4 Al(acac)3 Al(CH3COCOOCOOR5)3 (式中、R5は互いに同一又は異種の置換又は非置換の
炭素数1〜20の一価炭化水素基、R6は炭素数1〜1
0のアルキル基、acacはアセチルアセトナート基を
示す。)から選ばれるものである請求項1,2又は3記
載のシリコーンゲル組成物。 - 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれか1項記載のシ
リコーンゲル組成物からなる電気・電子部品用ポッティ
ング材。
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