JPH08271701A - ＺｎＳを基板とする耐環境性赤外線透過構造体 - Google Patents
ＺｎＳを基板とする耐環境性赤外線透過構造体Info
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- JPH08271701A JPH08271701A JP7077006A JP7700695A JPH08271701A JP H08271701 A JPH08271701 A JP H08271701A JP 7077006 A JP7077006 A JP 7077006A JP 7700695 A JP7700695 A JP 7700695A JP H08271701 A JPH08271701 A JP H08271701A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた赤外線透過率を有し、過酷な環境下で
使用しても反射防止膜の剥離や傷の発生がない耐環境性
に優れた赤外線透過構造体を提供する。 【構成】 ＺｎＳ基板上に直接形成したＹ2Ｏ3の最内層
と、その上のＹＦ3の中間層と、その上のＭｇＦ2の最外
層とを備えるか、又はＺｎＳ基板上に弾性率が１００Ｇ
Ｐａ以上の材料からなる衝撃緩和層と、その上のダイヤ
モンド又はダイヤモンド状炭素の最外層とを備えた赤外
線透過構造体。
使用しても反射防止膜の剥離や傷の発生がない耐環境性
に優れた赤外線透過構造体を提供する。 【構成】 ＺｎＳ基板上に直接形成したＹ2Ｏ3の最内層
と、その上のＹＦ3の中間層と、その上のＭｇＦ2の最外
層とを備えるか、又はＺｎＳ基板上に弾性率が１００Ｇ
Ｐａ以上の材料からなる衝撃緩和層と、その上のダイヤ
モンド又はダイヤモンド状炭素の最外層とを備えた赤外
線透過構造体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外線センサー等の赤
外線検出器に光学窓等として用いられる赤外線の透過性
に優れた構造体、特に過酷な環境下で用いられる赤外線
透過構造体に関するものである。
外線検出器に光学窓等として用いられる赤外線の透過性
に優れた構造体、特に過酷な環境下で用いられる赤外線
透過構造体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、物体から放射又は放散される熱に
よる赤外線を検知する各種の赤外線検出機器の開発が進
められている。これらの赤外線検出機器の光学窓等を構
成する赤外線透過構造体は、必要な波長帯の赤外線を透
過する材料で作成することが要求される。
よる赤外線を検知する各種の赤外線検出機器の開発が進
められている。これらの赤外線検出機器の光学窓等を構
成する赤外線透過構造体は、必要な波長帯の赤外線を透
過する材料で作成することが要求される。
【０００３】かかる赤外線透過材料のひとつとして、硫
化亜鉛（ＺｎＳ）がある。硫化亜鉛は、屈折率が２.２
と高く、表面反射損失が大きいために直線透過率はそれ
ほど大きくなく、例えば厚み５ｍｍの硫化亜鉛基板では
７０％程度の直線透過率が最大である。従って、ＺｎＳ
を光学窓等として使用する場合には、表面にＭｇＦ2等
の弗化物やＴｉＯ2等の酸化物をコーティングした反射
防止膜を設け、直線透過率を向上させる処理が一般的に
行われている。
化亜鉛（ＺｎＳ）がある。硫化亜鉛は、屈折率が２.２
と高く、表面反射損失が大きいために直線透過率はそれ
ほど大きくなく、例えば厚み５ｍｍの硫化亜鉛基板では
７０％程度の直線透過率が最大である。従って、ＺｎＳ
を光学窓等として使用する場合には、表面にＭｇＦ2等
の弗化物やＴｉＯ2等の酸化物をコーティングした反射
防止膜を設け、直線透過率を向上させる処理が一般的に
行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来の一般的な赤外線
検出機器は、赤外線放射温度測定器、入侵入検知センサ
ー等のように、屋内使用を前提にしているため、反射防
止膜も直線透過率の改善のみを目的として施されてお
り、耐環境性を考慮したものは少なかった。
検出機器は、赤外線放射温度測定器、入侵入検知センサ
ー等のように、屋内使用を前提にしているため、反射防
止膜も直線透過率の改善のみを目的として施されてお
り、耐環境性を考慮したものは少なかった。
【０００５】しかし最近では、赤外線検出機器の屋外使
用が多くなり、航空機のような高速飛翔体にも装備され
ている。その結果、このような長時間の高温多湿環境下
及び急激な温度変化を受ける環境下での使用、更には高
速飛行時の雨滴衝突条件への暴露に対しては、短時間で
硫化亜鉛基板から反射防止膜が剥離したり、反射防止膜
に傷が発生するという問題があった。
用が多くなり、航空機のような高速飛翔体にも装備され
ている。その結果、このような長時間の高温多湿環境下
及び急激な温度変化を受ける環境下での使用、更には高
速飛行時の雨滴衝突条件への暴露に対しては、短時間で
硫化亜鉛基板から反射防止膜が剥離したり、反射防止膜
に傷が発生するという問題があった。
【０００６】本発明は、かかる従来の事情に鑑み、優れ
た赤外線透過率を有すると同時に、過酷な環境下での使
用に対しても反射防止膜の剥離や傷の発生のない、耐環
境性に優れた赤外線透過構造体を提供することを目的と
する。
た赤外線透過率を有すると同時に、過酷な環境下での使
用に対しても反射防止膜の剥離や傷の発生のない、耐環
境性に優れた赤外線透過構造体を提供することを目的と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明が提供する第１の赤外線透過構造体は、Ｚｎ
Ｓ基板と、該ＺｎＳ基板に直接接して形成したＹ2Ｏ3の
最内層と、最内層の上に形成したＹＦ3の中間層と、中
間層の上に形成したＭｇＦ2の最外層とを備えたことを
特徴とする。
め、本発明が提供する第１の赤外線透過構造体は、Ｚｎ
Ｓ基板と、該ＺｎＳ基板に直接接して形成したＹ2Ｏ3の
最内層と、最内層の上に形成したＹＦ3の中間層と、中
間層の上に形成したＭｇＦ2の最外層とを備えたことを
特徴とする。
【０００８】本発明が提供する第２の赤外線透過構造体
は、ＺｎＳ基板と、該ＺｎＳ基板上に形成した弾性率が
１００ＧＰａ以上の材料からなる衝撃緩和層と、衝撃緩
和層上に形成したダイヤモンド又はダイヤモンド状炭素
からなる最外層とを備えたことを特徴とするものであ
る。
は、ＺｎＳ基板と、該ＺｎＳ基板上に形成した弾性率が
１００ＧＰａ以上の材料からなる衝撃緩和層と、衝撃緩
和層上に形成したダイヤモンド又はダイヤモンド状炭素
からなる最外層とを備えたことを特徴とするものであ
る。
【０００９】この赤外線透過構造体の衝撃緩和層を構成
する弾性率１００ＧＰａ以上の材料としては、Ｇｅ、Ｓ
ｉ、ＧａＰ、ＢＰ、Ｙ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｙ
Ｆ3、ＬａＦ3、又はＣｅＦ3等を使用することができ
る。
する弾性率１００ＧＰａ以上の材料としては、Ｇｅ、Ｓ
ｉ、ＧａＰ、ＢＰ、Ｙ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｙ
Ｆ3、ＬａＦ3、又はＣｅＦ3等を使用することができ
る。
【００１０】又、これら第１又は第２の赤外線透過構造
体は、ＺｎＳ基板が透明化処理を施したＺｎＳ基板であ
ってよく、その場合には赤外線と共に可視光線の透過性
にも優れた赤外線透過構造体となる。
体は、ＺｎＳ基板が透明化処理を施したＺｎＳ基板であ
ってよく、その場合には赤外線と共に可視光線の透過性
にも優れた赤外線透過構造体となる。
【００１１】
【作用】ＺｎＳ基板のみでは、赤外線透過率が７０％前
後に過ぎない。そこで、ＺｎＳ基板の表面に反射防止膜
として、屈折率の低い材料をコーティングすると透過率
が向上することは良く知られている。しかしながら、耐
環境性を考慮した場合には、反射防止膜とＺｎＳ基板の
接着性や反射防止膜自体の耐摩耗性等が必要となる。Ｚ
ｎＳと付着性の良い材料としてＰｂＦ2があるが、水を
吸収して白く変質するため多湿な環境化では役に立たな
い。
後に過ぎない。そこで、ＺｎＳ基板の表面に反射防止膜
として、屈折率の低い材料をコーティングすると透過率
が向上することは良く知られている。しかしながら、耐
環境性を考慮した場合には、反射防止膜とＺｎＳ基板の
接着性や反射防止膜自体の耐摩耗性等が必要となる。Ｚ
ｎＳと付着性の良い材料としてＰｂＦ2があるが、水を
吸収して白く変質するため多湿な環境化では役に立たな
い。
【００１２】そこで、本発明の第１の赤外線透過構造体
では、水に強く高温でも安定なＭｇＦ2を最外層に用
い、中間層には赤外域でも透過性がありＭｇＦ2との接
着性に優れたＹＦ3を用いる。この２層が対象波長での
反射防止膜として作用し、そのためにはＭｇＦ2の最外
層の膜厚は０.０２〜０.８０μｍ、及びＹＦ3の中間層
の膜厚は０.１〜２.２μｍの範囲が好ましく、この範囲
で対象とする赤外線波長に対し透過率が向上する膜厚を
適宜選択する。
では、水に強く高温でも安定なＭｇＦ2を最外層に用
い、中間層には赤外域でも透過性がありＭｇＦ2との接
着性に優れたＹＦ3を用いる。この２層が対象波長での
反射防止膜として作用し、そのためにはＭｇＦ2の最外
層の膜厚は０.０２〜０.８０μｍ、及びＹＦ3の中間層
の膜厚は０.１〜２.２μｍの範囲が好ましく、この範囲
で対象とする赤外線波長に対し透過率が向上する膜厚を
適宜選択する。
【００１３】しかし、中間層を構成するＹＦ3はＺｎＳ
基板との接着力が余り優れておらず、高温多湿や急激な
温度変化等の過酷な環境下では、ＹＦ3膜がＺｎＳ基板
の界面で剥離しやすい。そこで、第１の赤外線透過構造
体では、ＹＦ3及びＺｎＳとの接着力が非常に高く、水
及び温度変化に対して安定なＹ2Ｏ3を、ＺｎＳ基板と直
接接する最内層として用いる。
基板との接着力が余り優れておらず、高温多湿や急激な
温度変化等の過酷な環境下では、ＹＦ3膜がＺｎＳ基板
の界面で剥離しやすい。そこで、第１の赤外線透過構造
体では、ＹＦ3及びＺｎＳとの接着力が非常に高く、水
及び温度変化に対して安定なＹ2Ｏ3を、ＺｎＳ基板と直
接接する最内層として用いる。
【００１４】最内層としてＹ2Ｏ3層を介在させることに
より、過酷な環境下に長時間さらしても、ＺｎＳ基板と
の界面での剥離を防止できることが確認された。但し、
最内層のＹ2Ｏ3層は、接着力を向上させる為に用いるの
で、膜厚は対象赤外線波長での透過率にあまり影響ので
ない０.０２〜０.２０μｍ程度の薄さとする。
より、過酷な環境下に長時間さらしても、ＺｎＳ基板と
の界面での剥離を防止できることが確認された。但し、
最内層のＹ2Ｏ3層は、接着力を向上させる為に用いるの
で、膜厚は対象赤外線波長での透過率にあまり影響ので
ない０.０２〜０.２０μｍ程度の薄さとする。
【００１５】更に、上記第１の赤外線透過構造体におい
て、ＺｎＳ基板として透明化処理（ＨＩＰ処理）が施さ
れたＺｎＳ基板を使用すれば、このＺｎＳ基板は可視か
ら赤外域まで６０〜７５％程度の透過率を有するので、
可視光線の透過性にも優れた赤外線透過構造体を得るこ
とができる。又、中間層の屈折率を１.４以上及び最外
層の屈折率を１.４以下とすることで、可視と赤外域の
２波長帯で透過率が向上する。
て、ＺｎＳ基板として透明化処理（ＨＩＰ処理）が施さ
れたＺｎＳ基板を使用すれば、このＺｎＳ基板は可視か
ら赤外域まで６０〜７５％程度の透過率を有するので、
可視光線の透過性にも優れた赤外線透過構造体を得るこ
とができる。又、中間層の屈折率を１.４以上及び最外
層の屈折率を１.４以下とすることで、可視と赤外域の
２波長帯で透過率が向上する。
【００１６】この場合、ＭｇＦ2の最外層の膜厚は０.０
３〜１.５０μｍ、及びＹＦ3の中間層の膜厚は０.０３
〜１.５０μｍが好ましく、これらの膜厚を最適値にす
ることにより、可視と赤外域の２波長帯で透過率が向上
する。又、最内層のＹ2Ｏ3層は、接着力を向上させる為
に用いるので、膜厚は対象赤外線波長での透過率にあま
り影響のでない０.０２〜０.２０μｍが好ましい。
３〜１.５０μｍ、及びＹＦ3の中間層の膜厚は０.０３
〜１.５０μｍが好ましく、これらの膜厚を最適値にす
ることにより、可視と赤外域の２波長帯で透過率が向上
する。又、最内層のＹ2Ｏ3層は、接着力を向上させる為
に用いるので、膜厚は対象赤外線波長での透過率にあま
り影響のでない０.０２〜０.２０μｍが好ましい。
【００１７】従来から可視光線と赤外線の両波長にわた
って透過率を向上させるには３層以上の多層構造の反射
防止膜が必要とされてきたが、透明化処理したＺｎＳ基
板を用いた上記第１の赤外線透過構造体により、３層の
みの反射防止膜で両波長で優れた透過率が得られ、同時
に高温多湿及び急激な温度変化でも膜剥離が発生しない
構造体が得られたものである。
って透過率を向上させるには３層以上の多層構造の反射
防止膜が必要とされてきたが、透明化処理したＺｎＳ基
板を用いた上記第１の赤外線透過構造体により、３層の
みの反射防止膜で両波長で優れた透過率が得られ、同時
に高温多湿及び急激な温度変化でも膜剥離が発生しない
構造体が得られたものである。
【００１８】上記の第１の赤外線透過構造体の製造にお
いて、全ての層の形成は、公知のスパッタリング法、真
空蒸着法、又はイオンプレーティング法等によって行う
ことができる。
いて、全ての層の形成は、公知のスパッタリング法、真
空蒸着法、又はイオンプレーティング法等によって行う
ことができる。
【００１９】次に、本発明の第２の赤外線透過構造体
は、優れた赤外線透過率を持つと同時に、特に雨滴等の
衝突に対して優れた耐久性を有するものである。即ち、
ＺｎＳ基板及び透明化処理を施されたＺｎＳ基板は、表
面硬度がヌープ硬度で１５０〜３５０と低く、弾性率も
７０〜９０ＧＰａと低いため、雨滴の衝突を受けた場
合、ＺｎＳ基板表面に小さな傷が多数発生し、透過率が
急激に低下する。
は、優れた赤外線透過率を持つと同時に、特に雨滴等の
衝突に対して優れた耐久性を有するものである。即ち、
ＺｎＳ基板及び透明化処理を施されたＺｎＳ基板は、表
面硬度がヌープ硬度で１５０〜３５０と低く、弾性率も
７０〜９０ＧＰａと低いため、雨滴の衝突を受けた場
合、ＺｎＳ基板表面に小さな傷が多数発生し、透過率が
急激に低下する。
【００２０】その改善のため、第２の赤外線透過構造体
では、ＺｎＳ基板上に雨滴衝突時の衝撃を緩和する目的
で、弾性率が１００ＧＰａ以上の材料、例えばＧｅ、Ｓ
ｉ、ＧａＰ、ＢＰ、Ｙ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の酸
化物、ＹＦ3、ＬａＦ3、ＣｅＦ3等の弗化物からなる、
衝撃緩和層を設けている。ここで、弾性率を１００ＧＰ
ａ以上とする理由は、雨滴衝突時の衝撃をはね返して緩
和する固さが必要なためである。
では、ＺｎＳ基板上に雨滴衝突時の衝撃を緩和する目的
で、弾性率が１００ＧＰａ以上の材料、例えばＧｅ、Ｓ
ｉ、ＧａＰ、ＢＰ、Ｙ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2等の酸
化物、ＹＦ3、ＬａＦ3、ＣｅＦ3等の弗化物からなる、
衝撃緩和層を設けている。ここで、弾性率を１００ＧＰ
ａ以上とする理由は、雨滴衝突時の衝撃をはね返して緩
和する固さが必要なためである。
【００２１】加えて、耐雨滴摩耗性を持たせるため、こ
の衝撃緩和層の上の最外層にダイヤモンド状炭素（Ｄｉ
ａｍｏｎｄｏ−ｌｉｋｅ−ｃａｒｂｏｎ）又はダイヤモ
ンドの層を設ける。ダイヤモンド状炭素及びダイヤモン
ドは、表面硬度がヌープ硬度で２０００以上であり、化
学的に安定で、可視から赤外域まで優れた透過性を有し
ており、上記衝撃緩和層を構成する材料との密着性にも
すぐれている。
の衝撃緩和層の上の最外層にダイヤモンド状炭素（Ｄｉ
ａｍｏｎｄｏ−ｌｉｋｅ−ｃａｒｂｏｎ）又はダイヤモ
ンドの層を設ける。ダイヤモンド状炭素及びダイヤモン
ドは、表面硬度がヌープ硬度で２０００以上であり、化
学的に安定で、可視から赤外域まで優れた透過性を有し
ており、上記衝撃緩和層を構成する材料との密着性にも
すぐれている。
【００２２】上記衝撃緩和層の膜厚は０.０２〜２５.０
μｍ、及びダイヤモンド状炭素又はダイヤモンド層の膜
厚は０.２０〜２０.０μｍの範囲が好ましい。これらの
層の膜厚を上記の範囲内にすることにより、可視から赤
外の使用波長帯に合わせて、最適の膜厚を選択すること
ができる。
μｍ、及びダイヤモンド状炭素又はダイヤモンド層の膜
厚は０.２０〜２０.０μｍの範囲が好ましい。これらの
層の膜厚を上記の範囲内にすることにより、可視から赤
外の使用波長帯に合わせて、最適の膜厚を選択すること
ができる。
【００２３】又、ＺｎＳ基板と衝撃緩和層との間に、Ｙ
2Ｏ3やＭｇＦ2等からなる中間層を設けることもでき
る。雨滴の衝突による基板への衝撃を抑えるためには、
この中間層の膜厚を出来るだけ厚くすることが好ましい
が、０.２μｍ以上になると赤外透過率に影響するので
避けるべきである。
2Ｏ3やＭｇＦ2等からなる中間層を設けることもでき
る。雨滴の衝突による基板への衝撃を抑えるためには、
この中間層の膜厚を出来るだけ厚くすることが好ましい
が、０.２μｍ以上になると赤外透過率に影響するので
避けるべきである。
【００２４】上記第２の赤外線透過構造体においても、
ＺｎＳ基板として透明化処理が施されたＺｎＳ基板を使
用すれば、可視光線の透過性にも優れた赤外線透過構造
体を得ることができることは、第１の赤外線透過構造体
の場合と同様である。
ＺｎＳ基板として透明化処理が施されたＺｎＳ基板を使
用すれば、可視光線の透過性にも優れた赤外線透過構造
体を得ることができることは、第１の赤外線透過構造体
の場合と同様である。
【００２５】尚、かかる第２の赤外線透過構造体におけ
る全ての層の形成は、公知のスパッタリング法、真空蒸
着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法及びプラズマ
ＣＶＤ法等によって形成する。
る全ての層の形成は、公知のスパッタリング法、真空蒸
着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法及びプラズマ
ＣＶＤ法等によって形成する。
【００２６】
【実施例】実施例１ 厚み５ｍｍのＺｎＳ基板の片面に、基板と直接接せしめ
て膜厚０.０５μｍのＹ2Ｏ3からなる最内層、その上に
膜厚１.３０μｍのＹＦ3からなる中間層、及びその上に
膜厚０.５０μｍのＭｇＦ2からなる最外層をそれぞれ形
成した。これら各層は、いずれも電子ビームを用いる真
空蒸着法により、基板温度４００℃で形成した。
て膜厚０.０５μｍのＹ2Ｏ3からなる最内層、その上に
膜厚１.３０μｍのＹＦ3からなる中間層、及びその上に
膜厚０.５０μｍのＭｇＦ2からなる最外層をそれぞれ形
成した。これら各層は、いずれも電子ビームを用いる真
空蒸着法により、基板温度４００℃で形成した。
【００２７】得られた赤外線透過構造体は、対象とする
赤外波長での反射率が７％以下となった。耐環境性につ
いては、Ｙ2Ｏ3の最内層を用いない場合は、温度６０℃
及び湿度９５％の環境下にさらすと１００時間で膜が剥
離したが、Ｙ2Ｏ3の最内層を用いた本発明の構造体で
は、同環境下に１０００時間さらしてもテープ試験では
剥離しなかった。又、−６０℃〜４５０℃の温度サイク
ルを繰り返した後も、剥離は発生しなかった。
赤外波長での反射率が７％以下となった。耐環境性につ
いては、Ｙ2Ｏ3の最内層を用いない場合は、温度６０℃
及び湿度９５％の環境下にさらすと１００時間で膜が剥
離したが、Ｙ2Ｏ3の最内層を用いた本発明の構造体で
は、同環境下に１０００時間さらしてもテープ試験では
剥離しなかった。又、−６０℃〜４５０℃の温度サイク
ルを繰り返した後も、剥離は発生しなかった。
【００２８】実施例２ 厚み５ｍｍの透明ＺｎＳ基板の片面に、基板と直接接せ
しめて膜厚０.０７５μｍのＹ2Ｏ3からなる最内層、そ
の上に膜厚０.０３０μｍのＹＦ3からなる中間層、その
上に膜厚０.４９〜０.６１０μｍのＭｇＦ2からなる最
外層をそれぞれ形成した。これらの各層、いずれも電子
ビームを用いる真空蒸着法により、基板温度４００℃で
形成した。
しめて膜厚０.０７５μｍのＹ2Ｏ3からなる最内層、そ
の上に膜厚０.０３０μｍのＹＦ3からなる中間層、その
上に膜厚０.４９〜０.６１０μｍのＭｇＦ2からなる最
外層をそれぞれ形成した。これらの各層、いずれも電子
ビームを用いる真空蒸着法により、基板温度４００℃で
形成した。
【００２９】その結果、得られた構造体は、対象とする
可視域及び赤外域で反射率が８％以下となった。耐環境
性については、温度６０℃及び湿度９５％の環境下にさ
らすと、最内層にＹ2Ｏ3を用いなかった場合は８０時間
で膜剥離が発生したが、最内層にＹ2Ｏ3を用いると１０
００時間さらしてもテープ試験では剥離しなかった。
又、−６０℃〜４５０℃の温度サイクルに繰り返しさら
しても、膜の剥離は発生しなかった。
可視域及び赤外域で反射率が８％以下となった。耐環境
性については、温度６０℃及び湿度９５％の環境下にさ
らすと、最内層にＹ2Ｏ3を用いなかった場合は８０時間
で膜剥離が発生したが、最内層にＹ2Ｏ3を用いると１０
００時間さらしてもテープ試験では剥離しなかった。
又、−６０℃〜４５０℃の温度サイクルに繰り返しさら
しても、膜の剥離は発生しなかった。
【００３０】実施例３ 厚み５ｍｍのＺｎＳ基板の片面に、基板と直接接せしめ
て膜厚１０.０μｍのＧｅからなる衝撃緩和層を形成
し、その上に膜厚は０.８５μｍのダイヤモンド状炭素
からなる最外層を形成した。Ｇｅの衝撃緩和層は電子ビ
ームを用いる真空蒸着法により基板温度１５０℃で形成
し、ダイヤモンド状炭素の最外層はプラズマＣＶＤ法に
より基板温度１８０℃で形成した。
て膜厚１０.０μｍのＧｅからなる衝撃緩和層を形成
し、その上に膜厚は０.８５μｍのダイヤモンド状炭素
からなる最外層を形成した。Ｇｅの衝撃緩和層は電子ビ
ームを用いる真空蒸着法により基板温度１５０℃で形成
し、ダイヤモンド状炭素の最外層はプラズマＣＶＤ法に
より基板温度１８０℃で形成した。
【００３１】得られた赤外線透過構造体は、対象波長の
赤外線での反射率が１５％以下であった。又、この構造
体を高速飛翔体に取り付け、雨滴衝突に関して試験した
ところ、２５ｍｍ／ｈの雨量において、飛翔体の速度２
８３ｍ／ｓまで膜剥離が生じず、膜に傷が付くこともな
かった。
赤外線での反射率が１５％以下であった。又、この構造
体を高速飛翔体に取り付け、雨滴衝突に関して試験した
ところ、２５ｍｍ／ｈの雨量において、飛翔体の速度２
８３ｍ／ｓまで膜剥離が生じず、膜に傷が付くこともな
かった。
【００３２】
【発明の効果】本発明によれば、優れた赤外線透過性を
有すると同時に、高温多湿や急激な温度変化、更には雨
滴の衝突等の過酷な環境下での使用に対しても、反射防
止膜の剥離や反射防止膜に傷の発生することがない、耐
環境性に優れた赤外線透過構造体を提供することができ
る。
有すると同時に、高温多湿や急激な温度変化、更には雨
滴の衝突等の過酷な環境下での使用に対しても、反射防
止膜の剥離や反射防止膜に傷の発生することがない、耐
環境性に優れた赤外線透過構造体を提供することができ
る。
【００３３】従って、本発明の赤外線透過構造体は、屋
内用はもちろん屋外用の赤外線検出機器の光学窓とし
て、あるいは高速飛翔体に用いる赤外線検出機器の光学
窓として特に有効である。
内用はもちろん屋外用の赤外線検出機器の光学窓とし
て、あるいは高速飛翔体に用いる赤外線検出機器の光学
窓として特に有効である。
Claims (5)
- 【請求項１】 ＺｎＳ基板と、該ＺｎＳ基板に直接接し
て形成したＹ2Ｏ3の最内層と、最内層の上に形成したＹ
Ｆ3の中間層と、中間層の上に形成したＭｇＦ2の最外層
とを備えたことを特徴とする赤外線透過構造体。 - 【請求項２】 ＺｎＳ基板が透明化処理を施したＺｎＳ
基板であり、赤外線と共に可視光線の透過性に優れてい
ることを特徴とする、請求項１に記載の赤外線透過構造
体。 - 【請求項３】 ＺｎＳ基板と、該ＺｎＳ基板上に形成し
た弾性率が１００ＧＰａ以上の材料からなる衝撃緩和層
と、衝撃緩和層上に形成したダイヤモンド又はダイヤモ
ンド状炭素からなる最外層とを備えたことを特徴とする
赤外線透過構造体。 - 【請求項４】 前記衝撃緩和層を構成する弾性率１００
ＧＰａ以上の材料が、Ｇｅ、Ｓｉ、ＧａＰ、ＢＰ、Ｙ2
Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＹＦ3、ＬａＦ3、又はＣｅＦ
3であることを特徴とする、請求項３に記載の赤外線透
過構造体。 - 【請求項５】 ＺｎＳ基板が透明化処理を施したＺｎＳ
基板であり、赤外線と共に可視光線の透過性に優れてい
ることを特徴とする、請求項３又は４に記載の赤外線透
過構造体。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07700695A JP3704739B2 (ja) | 1995-04-03 | 1995-04-03 | ＺｎＳを基板とする耐環境性赤外線透過構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07700695A JP3704739B2 (ja) | 1995-04-03 | 1995-04-03 | ＺｎＳを基板とする耐環境性赤外線透過構造体 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005170524A Division JP2005275434A (ja) | 2005-06-10 | 2005-06-10 | ＺｎＳを基板とする耐環境性赤外線透過構造体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08271701A true JPH08271701A (ja) | 1996-10-18 |
| JP3704739B2 JP3704739B2 (ja) | 2005-10-12 |
Family
ID=13621685
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07700695A Expired - Fee Related JP3704739B2 (ja) | 1995-04-03 | 1995-04-03 | ＺｎＳを基板とする耐環境性赤外線透過構造体 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3704739B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009042278A (ja) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | Hoya Corp | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 |
| JP2010112787A (ja) * | 2008-11-05 | 2010-05-20 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 炎検知装置 |
| JP2010181514A (ja) * | 2009-02-04 | 2010-08-19 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 光学部品、及びレーザ加工機の保護部材 |
| CN102368097A (zh) * | 2011-09-29 | 2012-03-07 | 中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所 | 一种微光、激光透射且中红外光反射膜及棱镜、制备方法 |
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| JP2015520719A (ja) * | 2012-04-16 | 2015-07-23 | ショット コーポレーションＳｃｈｏｔｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 多結晶カルコゲナイドセラミック材料 |
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-
1995
- 1995-04-03 JP JP07700695A patent/JP3704739B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO2016203863A1 (ja) * | 2015-06-19 | 2016-12-22 | 三菱電機株式会社 | 光学部品及びレーザ加工機 |
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