JPH08273415A - 反射鏡付光源 - Google Patents

反射鏡付光源

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JPH08273415A
JPH08273415A JP8112693A JP11269396A JPH08273415A JP H08273415 A JPH08273415 A JP H08273415A JP 8112693 A JP8112693 A JP 8112693A JP 11269396 A JP11269396 A JP 11269396A JP H08273415 A JPH08273415 A JP H08273415A
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JP
Japan
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light source
light
refractive index
substrate
incident angle
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Application number
JP8112693A
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English (en)
Inventor
Akira Kawakatsu
晃 川勝
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Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、被照射面の光軸を中心として色のつ
いた光の輪が形成されにくい反射鏡付光源を提供すると
を目的とする。 【解決手段】本発明は、背部に形成されたランプ配設孔
を有する曲面状基体3と;曲面状基体に光学的に対向す
るとともに、この基体のほぼ軸上に配設された光源1
と;曲面状基体の表面に高屈折率層および低屈折率層を
交互にかつ光源からの光の入射角が大きくなるにしたが
って膜厚が厚くなるように構成された光干渉膜4と;光
源に直接または間接的に設けられた口金2と;を具備し
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、反射鏡および光源
が一体に構成された反射鏡付光源に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば店舗照明用等には反射鏡付
ハロゲン電球が用いられている。この種のものは、小形
ハロゲン電球および表面に可視光反射赤外線透過膜が形
成された回転放物面をなすガラス反射鏡で構成されてい
る。この可視光反射赤外線透過膜は、酸化チタン(Ti
O2)等からなる高屈折率層とシリカ(SiO2)等か
らなる低屈折率層とを9〜15層交互重層したもので、
光の干渉によってハロゲン電球から放射された光のうち
可視光の波長域を前方に反射、赤外線の波長域を後方に
透過して被照射体を熱損させない利点がある。
【0003】また、これらの波長域の制御は、高屈折率
層および低屈折率層の厚さ等に関係し、特公昭44−8
272号公報に開示されているように、反射鏡全面に一
様な厚さまたは制御された変化を有する厚さで行うこと
ができるものである。なお、このような可視光反射赤外
線透過膜のように、光の干渉を利用して特定波長の光を
反射または透過させる多重層光学膜を光干渉膜と総称し
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
の反射鏡のほぼ軸上に配設された電球では、白色被照射
面を照射した場合、被照射面が近すぎると、この被照射
面の光軸を中心として色のついた光の輪が形成され、こ
の光の輪が当っている被照射体は異なった色に見えると
いう現象の発生がある。
【0005】本発明は、被照射面の光軸を中心として色
のついた光の輪が形成されにくい反射鏡付光源を提供す
るとを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、背部
に形成されたランプ配設孔を有する曲面状基体と;曲面
状基体に光学的に対向するとともに、この基体のほぼ軸
上に配設された光源と;曲面状基体の表面に高屈折率層
および低屈折率層を交互にかつ光源からの光の入射角が
大きくなるにしたがって膜厚が厚くなるように構成され
た光干渉膜と;光源に直接または間接的に設けられた口
金と;を具備している。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の一実施の形態について、
店舗照明等に使用される反射器付ハロゲン電球を図1お
よび図2を参照して説明する。
【0008】図1は、本発明の一実施の形態を示す反射
鏡付光源の一部切り欠き断面図、図2は、同じく要部の
拡大断面図である。
【0009】図中1は、光源である例えばハロゲン電
球、2はこの光源1の基部に装着された口金、3はこの
口金2に装置されて光源1を包囲する内面が回転放物面
をなすガラス等からなる耐熱性透光性の曲面状基体、4
はこの基体3の内面に形成された光干渉膜例えば可視光
反射赤外線透過膜である。なお、口金は直接または間接
的に、すなわち光源または基体3に設けられている。
【0010】ここで、曲面状基体3は、曲面状に形成さ
れた内面および背部に形成されたランプ配設孔を有す
る。光源1は、曲面状基体に光学的に対向するととも
に、この基体のほぼ軸上に配設されている。また、光干
渉膜4は、曲面状基体3の表面に高屈折率層および低屈
折率層を交互にかつ光源1からの光の入射角が大きくな
るにしたがって膜厚が厚くなるように構成されている。
【0011】この光干渉膜4は第2図に模式的に拡大し
て示すように、基体3表面に酸化チタン等からなる高屈
折率層41…とシリカ等からなる低屈折率層42…とを
20〜26層交互重層したもので、各層41,42の厚
さを適当にしたことにより光の干渉によって光源1から
入射した光のうち可視光を前方に反射し、赤外線を基体
3の背後に透過するものである。
【0012】そして、本実施の形態では、光干渉膜4を
構成する高屈折率層41および低屈折率層42の厚さを
光源1からの入射角の分布に対応して基体3の開口縁に
近ずくほど厚くした。すなわち、基体3に形成された高
屈折率層41および低屈折率層42からなる光干渉膜4
は、光源1からの光の入射角θが大きくなるにしたが
い、その膜厚を厚くした。
【0013】この結果、可視光の反射波長域および赤外
線の透過波長域が光干渉膜4の全面においてほぼ一様に
なり、かつその反射率および透過率も低入射角部位とほ
ぼ同じになった。この結果、反射鏡付光源の可視光透過
効率が著しく向上し、かつ透過光中の赤外線が著く減少
した。
【0014】ここで、本発明の理論的説明を図4および
図5を参照して詳述する。図4は、本発明の理論的な説
明のための模式図、図5は、同じく入射角の変化を示す
説明図である。
【0015】本発明者は種々研究の結果、上述のように
反射鏡付光源からの照射光に色のついた光の輪が現れる
のは光源からの光の入射角が異なっているためであると
の結論に達した。図において、Aを光源、Bをこの光源
Aに対設した基体に形成された屈折層とし、この屈折層
Bの厚さをdmm、屈折率をnとする。そして、光源A
から3本の光束R1,R2およびR3がそれぞれ入射角
θ1(0度),θ2(小さい),θ3(大きい)で入射
し、この屈折層B内を透過して下方に向うとする。この
とき、同じ厚さの屈折層でも入射角θが大きいと層の厚
さが大きくなったと同じ結果になり、放射点における光
の位相がずれる。そこで、入射角θに起因する干渉の位
相のずれδを求めると次の式で表わされる。
【0016】δ=4πnd(cosθ)/λ ここでλ
は光の波長を示す。すなわち、入射角θが大きくなると
干渉の位相は短波長側にずれる。
【0017】したがって、入射角θによる位相のずれを
なくするためには層の厚さdを変えてdcosθが一定
になるようにすればよい。換言すれば、光干渉膜におい
て入射角による位相のずれをなくするには高屈折率層お
よび低屈折率層の両方ともdcosθが一定になるよう
入射角θに対応して層の厚さdを変化させればよい。
【0018】そして、図5に示すように光干渉膜Iが形
成された反射鏡(図示しない)が放物面をなし、その焦
点に光源Aが位置している場合には、光干渉膜I各部に
おける入射角θは、光干渉膜Iの縁に近ずくほど大きく
なるので、dcosθができるだけ一定になるよう、縁
に近ずくほど各層の厚さを大きくすればよい。
【0019】さらに、反射鏡(図示しない。)の曲面に
沿って形成された光干渉膜Iがだ円面や双曲面の場合に
もほぼ同様である。
【0020】ただし、上述の理論は近似的なもので、実
際には入射角θが変わると屈折層の見掛け上の屈折率が
変わるので、完全に補正することはできないが、実用上
支障ない程度に補正することは容易である。
【0021】このような光干渉膜を形成する方法は種々
考えられるが、その若干の例を図6および図7を参照し
て説明する。図6は、光干渉膜の形成方法を示す説明
図、図7は、同じく他の形成方法を示す説明図である。
【0022】図6に示すように、透明基体P1上に蒸発
器Eを対設し、基体P1の背面からヒータHの熱を反射
鏡Mで照射して中心部ほど高温になるようにして真空蒸
着すれば周辺に近ずくほど厚い屈折層Bが得られる。こ
のようにして、例えば酸化チタンからなる高屈折率層と
シリカからなる低屈折率層とを15〜20層交互重層す
ればよい。なお、図では平板状の透明基体P1が示され
ているが、もちろん曲面状であっても周辺に近ずくほど
厚い屈折層Bが形成される。
【0023】また、図7に示すように、内面が回転放物
面をなし背部にランプ配設孔例えばランプ取付け孔Qを
有するわん形基体P2の開口縁を有機金属化合物溶液L
に浸し、ランプ取付け孔Qに吸い口Tを付して排気して
液Lを取付け孔Q近傍まで上昇させ、ついで、吸い口T
から管理された速度で気体を導入して所望の速度で液L
の面を低下させる。この気体の導入速度を制御すること
によって基体P2内面の塗膜の厚さを所望のとおり開口
縁に近ずくほど厚くなるように制御できる。そして、こ
のようにして得られた塗膜を焼成すれば金属酸化物から
なり所望の厚さ分布を有する屈折層が得られる。このよ
うにして、たとえば酸化チタンからなる高屈折率層とシ
リカからなる低屈折率層とを所望により9〜15層交互
重層すればよい。
【0024】つぎに、本実施の形態において光干渉膜4
の入射角による分光反射率の変化を譲査した。この結果
を図3に示す。図3は、同じく光学特性を示すグラフで
あり、図は横軸に波長をnmの単位でとり、縦軸に反射
率を相対値でとったもので、実線は入射角0度、鎖線は
入射角46度および破線は入射角57.4度の部位にお
ける分光反射率をそれぞれ示す。
【0025】また、図8は、従来例の光学特性を示すグ
ラフである。これは、本実施の形態と同様の光干渉膜お
いて、各屈折率層がいずれも面一様な厚さに構成されて
いるものであり、上述したと同様に入射角0度、46度
および57.4度の部位における分光反射率をとった。
これらグラフから明らかなとおり、本実施の形態の光干
渉膜4は可視光の透過波長域および赤外線の透過波長域
が入射角の異なる部位においても極めて近似している。
【0026】つぎに、本実施の形態の反射鏡付光源およ
び従来例のランプ特性を比較した。この結果を次に示
す。本実施の形態では、光束比、中心光度比および熱線
カット率がそれぞれ135%、138%および79%で
あるのに対し、従来例では100%、100%および8
2%となった。
【0027】これらも明らかなとおり、本実施の形態の
反射鏡付光源は従来例に比較して格段に明るくなり、か
つ熱線カット率がほとんど低下していないものである。
【0028】なお、本発明において、反射基体の形状は
回転だ円面体や双曲線面体等曲面状であればよく、ま
た、反射基体は拡散透光性のものでもよい。
【0029】また、光干渉膜は可視光透過赤外線反射
膜、干渉色フイルタ膜等、光の干渉を利用して特定波長
域の光を選択的に透過または反射するものであればよ
く、基体の表裏両面のうち少なくとも一方の面に形成し
てあればよい。そして、高屈折率層は酸化チタンのほか
酸化ジルコン(ZnO2)、酸化錫(SnO2)、酸化
アンチモン(SbO2)等既知のどのようなものでもよ
く、また、低屈折率層はシリカのほか、酸化マグネシウ
ム(MgO)、ふっ化カルシウム(CaF2)等既知の
どのようなものでもよい。さらに、光源は普通電球、メ
タルハライドランプあるいは蛍光ランプ等の放電ランプ
等でもよい。
【0030】
【発明の効果】本発明では、光源が曲面状基体に光学的
に対向するとともに、この基体のほぼ軸上に配設され、
光干渉膜が曲面状基体の表面に高屈折率層および低屈折
率層を交互にかつ光源からの光の入射角が大きくなるに
したがって膜厚が厚くなるように構成されているので、
光干渉膜の全面において透過または反射する波長域が一
様になり、かつその反射率または透過率も一様になり、
色筋、色縞、明暗縞等の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の一実施の形態を示す反射鏡付
光源の一部切り欠き断面図。
【図2】図2は、同じく要部の拡大断面図。
【図3】図3は、同じく光学特性を示すグラフ。
【図4】図4は、本発明の理論的な説明のための模式
図。
【図5】図5は、同じく入射角の変化を示す説明図。
【図6】図6は、光干渉膜の形成方法を示す説明図。
【図7】図7は、同じく他の形成方法を示す説明図。
【図8】図8は、従来例の光学特性を示すグラフ。
【符号の説明】
1…光源 2…口金 3…曲面状基体 4…光干渉膜

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】背部に形成されたランプ配設孔を有する曲
    面状基体と;曲面状基体に光学的に対向するとともに、
    この基体のほぼ軸上に配設された光源と;曲面状基体の
    表面に高屈折率層および低屈折率層を交互にかつ光源か
    らの光の入射角が大きくなるにしたがって膜厚が厚くな
    るように構成された光干渉膜と;光源に直接または間接
    的に設けられた口金と;を具備していることを特徴とす
    る反射鏡付光源。
JP8112693A 1996-05-07 1996-05-07 反射鏡付光源 Pending JPH08273415A (ja)

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Cited By (3)

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