JPH08274154A - 半導体ウェハの挾持装置 - Google Patents

半導体ウェハの挾持装置

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JPH08274154A
JPH08274154A JP7310495A JP7310495A JPH08274154A JP H08274154 A JPH08274154 A JP H08274154A JP 7310495 A JP7310495 A JP 7310495A JP 7310495 A JP7310495 A JP 7310495A JP H08274154 A JPH08274154 A JP H08274154A
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suction
semiconductor wafer
wafer
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Kiyoko Izumi
希代子 和泉
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Abstract

(57)【要約】 【目的】真空ピンセットに、両面吸着を採用することに
より、ウェハエッヂを安定して挾持する。 【構成】ウェハ裏面を吸着する第1の吸着部1と、これ
と向かいあい、ウェハ表面を吸着する第2の吸着部2と
を有し、ウェハを両面から直空吸着してウェハを挾持す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェハの挾持装
置に関し、特に半導体ウェハを1枚ずつ吸着して移送す
るための真空ピンセットに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェハの量産の製造工程において
は、キャリア内に多数配列された半導体ウェハを、一度
に他のキャリアに移し替えるような立替え機が多用され
ている。
【0003】しかしながら、任意の1枚を取り出して調
べてみる場合や、試作実験のライン等では、半導体ウェ
ハを1枚ずつ吸着することのできる真空ピンセットが便
利な挾持装置となっている。
【0004】半導体ウェハを挾持するこの種の真空ピン
セットを示す特開昭61−102468号公報を参照す
ると、図5の(A)の断面図、(B)の平面図に見られ
るように、半導体ウェハ37を挾持するための断面コの
字状の挾持板35,36と、この挾持板35,36の両
側面をシールするためのシール部材38,39と、前記
挾持板35,36とシール部材38,39とで形成され
る空間を排気手段に連結するためのパイプ42とを備
え、前記挾持板35,36でウェハ37を挟んだ状態で
前記空間を排気することにより生ずる力によってコの字
状挾持板35,36の隙間が狭まるようにいずれか一方
の挾持板35,36に可撓性を持たせたことを特徴とす
るピンセットが示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなピンセットでは、挾持板35,36とウェハ37と
で囲まれた空間40の空気を、パイプ42を通して、引
き込む構成となっているため、ウェハ37の両主表面を
押圧するストレス60,61と、パイプ42の方向に引
き込もうとするストレス53とが作用する。この両スト
レスによって、ウェハ37の両主表面には、擦過傷の生
じる心配があるばかりでなく、シール部材38,39に
ウェア37の表面が押し付けられるため、このウェハ3
7の側面が損傷する心配があり、さらにシール部材3
8,39と挾持板35,36との間のシール隙間50及
びシール部材38,39とウェハ37の側面とのウェハ
隙間51から空気が流入する心配があり、このため挾持
中のウェハ37が落下して、破損事故の生じる恐れもあ
った。ウェハ37の側面が損傷すると、分離して発塵す
ることがあり、後工程の信頼性を低下させる原因となる
心配があり、またシール部材38,39と挾持板35,
36とが、ウェハ37の脱着時に互いに擦れ合うことに
なり、これにより発塵も懸念される。
【0006】この他、同例には、多数の吸着口を備えた
吸着面を半導体ウェハの一主表面に当接して、これを吸
着する真空ピンセットが従来例として示されているが、
半導体ウェハの直径が6インチから8インチあるいはそ
れ以上に大きくなると、強い吸着力が必要となり、上記
吸着面の面積も大きくする必要がある。このため、半導
体ウェハの一主表面に形成された回路機能領域に、直接
吸着面が触れることになり、回路機能がダメージを受け
る心配がある。半導体ウェハの反対側の主表面を吸着す
れば問題はないが、特に真空ピンセットを手で把持して
使用する場合にはうっかりウェハの主表面を吸着するこ
とがあり、本質的には問題が解決されていない。
【0007】特に狭いピッチで配列された溝を備えたキ
ャリア内に、半導体ウェハを収納したり、取出したりす
る場合には、近傍の半導体ウェハとの離間距離を超える
寸法のピンセットは使用できないので、例えば排気パイ
プ等の上記寸法を超える構造があってはならないという
制約もある。
【0008】半導体ウェハをピンセットで吸着する場
合、このウェハの略中心部分に当接することが、落下の
心配が少ないという点では優れているが、中心部分まで
深くピンセットを挿入すると、近傍の半導体ウェハに触
れて、損傷の心配がある。
【0009】以上のような諸問題点を解決するため、本
発明では、次の各課題を掲げる。
【0010】(1)半導体ウェハの回路機能領域を損傷
する恐れがなく、強い吸着力を持たせること。
【0011】(2)半導体ウェハの主表面に擦過傷の生
じないようにする。
【0012】(3)気密性が低下して、挾持した半導体
ウェハが落下することのないようにすること。
【0013】(4)大きな寸法の半導体ウェハでも、安
定して挾持できるようにすること。
【0014】(5)ピンセットの操作上のケアレス・ミ
スによって、半導体ウェハの損傷が生じないようにする
こと。
【0015】(6)半導体ウェハの表・裏を見きわめた
上で、挾持しなければならないような構成としないこ
と。
【0016】(7)多数の半導体ウェハが狭いピッチで
配列されている場合にも、近傍のウェハに損傷を与え
ず、任意の位置のウェハが容易に取り出せるようにする
こと。逆に、狭いピッチでも、損傷を与えることなく、
容易に収納できるようにすること。
【0017】(8)操作時に発塵することがないように
すること。
【0018】(9)互いに擦れ合う部分を極力少なくす
ること。
【0019】(10)半導体ウェハの製造歩留りを低下
させることなく、高い信頼性のある半導体装置を供給で
きるようにすること。
【0020】(11)後の製造工程における信頼性を低
下させないようにすること。
【0021】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体ウェハの
挾持装置の構成は、半導体ウエハの一主表面を吸着する
第1の吸着部と、前記ウェハの他主表面を吸着する第2
の吸着部と、内部に吸着するための吸気の通過する経路
を有しかつ前記第1,第2の吸着部を所定距離離間させ
て弾力的に連結した支持部とを備えたことを特徴とす
る。
【0022】特に前記第1,第2の吸着部は、それぞれ
吸気口と吸気路とを内部に備えていることを特徴とす
る。
【0023】特に前記支持部は、吸着された前記半導体
ウェハの側面から離れる方向に、吸気圧により移動する
可動部を有することを特徴とし、さらに特に前記可動部
は、前記吸気圧により、前記第1,第2の吸着部を互い
に近づける方向の弾力的可動性を有することを特徴とす
る。
【0024】特に前記支持部は、前記半導体ウェハの配
列ピッチよりも大なる寸法の付け根部を有することを特
徴とする。
【0025】
【実施例】本発明の一実施例の真空ピンセットの中央断
面図を示す図1、この真空ピンセットの平面図のうち右
半分を示す図2を参照すると、この実施例の真空ピンセ
ットは、第1の吸着部吸着部1と、第2の吸着部2と、
吸引部8と、支柱部21と、付け根部4と、把持部7と
を備える。
【0026】ここで、第1の吸着部1は、半導体ウェハ
の一主表面に接する第1の吸着面14を内側に備え、こ
の吸着面14には9個の吸気口12が開口して、内部に
はこれらの吸気口12をすべて連絡した吸気路11があ
り、さらにこの吸気路11は側端部において吸気路1
1′および吸気路13に連絡している。第1の吸着部1
の上端部は、テーパ上のガイド10が形成され、半導体
ウェハの収納を容易にしている。第1の吸着部1の上端
部は、半導体ウェハの円形端に沿って、屈曲している
(図2)。
【0027】ここで、第1の吸着部1と、第2の吸着部
2とは、対照的構造を有するため、第2の吸着部2につ
いては説明を省略する。
【0028】第1,第2の吸着部1,2は、半導体ウェ
ハの厚さを上回る距離だけ互いに離間した状態で、吸引
部8で一体となって連結されている。この吸引部8は、
半導体ウェハの側面に対向した側面17を有する側面可
動部9を備え、内部には吸気路116いそれぞれ連絡し
た一対の吸気路11′と、これら一対の吸気路11′を
連絡すると共に比較的大きな内空を有する吸引路13と
を備える。この吸引部8は、第1,第2の吸着部1,2
が吸着方向20,20′に沿って移動することのできる
弾力性と、側面可動部9が下方への吸引方向16に沿っ
て移動することのできる弾力性とを備える。
【0029】支柱部21は、第1,第2の吸着部1,
2、吸引部8を支えると共に吸引路13と連絡した排気
経路3を備え、パイプ状を呈する。付け根部4は、支柱
部21を前後左右に若干移動できるように弾力的に固定
すると共に、ストッパの役目を備えており、誤ってこの
ピンセットを落とした場合でも近傍の半導体ウェハの側
面に当接することになるから、損傷するような事故は発
生しない。把持部7は、付け根部4を固定すると共に、
片手で握り易いような直径を備え、排気経路3内の空気
を吸収して真空状態に近い状態にするか、あるいは外気
とほぼ同一気圧にするかを選択するスイッチ5を有す
る。把持部7の下端は、図示されていないが、弾力性の
あるパイプを介して、真空ポンプに接続されている。
【0030】第1,第2の吸着部1,2,吸引部8,支
柱部21は、電気絶縁性の高くない合成ゴムからなり、
付け根部4,把持部7等も電気絶縁性の低い合成樹脂を
素材とすることが、静電気の発生による半導体ウェハの
回路機能の破壊を招くことがないという点で、好まし
い。
【0031】尚図2において、中心線19の右側のみを
示し、左側を省略しているが、この中心線19を対称軸
として、対称性をなしているので、左側は図示していな
い。また図1は、図2の中心線に沿って切断し、その切
断面を左側から見た断面図である。
【0032】以上のように構成された真空ピンセットを
用いて、半導体ウェハを吸着した状態を示す図3を参照
すると、第1,第2の吸着部1,2の間に、半導体ウェ
ハ6が静かに挿入されるように、把持部7を手に持っ
て、操作する。
【0033】次に、半導体ウェハ6がほぼ挿入された時
点で、スイッチ5を押すと、吸気口12から吸引を開始
する。半導体ウェハ6の一主表面は第1の吸着面14
に、反対の主表面は第2の吸着面15に、それぞれ密着
する。この密着する部分の面は、図2に斜線で示したウ
ェハ接触面18となる。ここで、半導体ウェハ6の挿入
角度が著しくずれている場合には、一方の吸着部が吸着
作動をしないことが考えられるが、この場合でも支柱部
21の弾力性及び把持部7を軽く握ること等により、双
方の吸着部1,2が相前後して、吸着作動することにな
る。
【0034】密着した吸気口12からの吸気がなくなる
と、側面可動部9が直ちに下方に吸引されて、側面17
は半導体ウェハの側面から離れる。この間の空間は、図
2の側面17が側端に開放されているので、空気の流出
入は自由となっている。
【0035】こうして、半導体ウェハは、両主表面と垂
直な方向から押圧するストレスが作用するのみで、半導
体ウェハの側面を排気経路3の方向へ引込もうとするス
トレスがないため、半導体ウェハの両主表面に擦過傷の
生じる心配がなく、このため発塵の心配もない。さら
に、第1,第2の吸着部1,2が、たとえ半導体ウェハ
の主表面上の回路構成領域に触れていても、回路損傷の
心配もない。
【0036】所望の位置に半導体ウェハ6を載置する
と、これを開放する必要がある。このときは、スイッチ
5を押している指を離すことにより、吸着力は消失し、
次に静かにこのピンセットを退避させる。
【0037】第1,第2の吸着面14,15の距離は、
半導体ウェハ6の厚さよりも大となる必要があり、0.
2mm以上0.6mm以下の余裕が好ましい。第1,第
2の吸着部1,2の厚さは、半導体ウェハ6の配列され
るピッチより小となる必要があり、2.0mm以上の余
裕ができるような寸法が好ましい。
【0038】この実施例によれば、両面吸着構造である
ため、吸着面が小さくても、強い吸着力が得られる。即
ち、回路形成領域に触れないで、落下させる心配もな
く、安心して移送することができる。また半導体ウェハ
の表裏面に注意して吸着する必要もない。大きな寸法の
ウェハを、安心して取扱うことができる。
【0039】またウェハの主表面が擦れ合うようなスト
レスが印加されないため、発塵の心配がなく、後工程の
信頼性を低下させるような原因もなくすことができる。
【0040】この実施例によれば、吸気口12を9個一
列に配列しているが、これに限定されるものではなく、
10個を二列に配列する等適宜変更することも可能であ
る。また、この実施例は手で握るピンセットの場合につ
いて説明したが、これに限定されるものではなく、ハン
ドリング手段の先端に固定することにより、移動制御,
吸着制御を自動化したライン上に用いられてもよい。こ
の場合には、把持部7の構造が適宜変更される。
【0041】本発明の他の実施例の真空ピンセットを示
す図4の断面図を参照すると、この実施例は、第1,第
2の吸着部1′,2′の内部に吸気口及び吸気路がない
点と、吸引部8′の構造以外は、上記一実施例と共通し
ているため、共通した部分の説明は省略する。
【0042】この実施例の第1,第2の吸着部1′,
2′は、半導体ウェハの主表面を直接吸着するものでは
なく、吸引方向22,22′の作用により挾持する形を
とる。この吸引作用は、吸引部8′の作用によって、間
接的に伝達される。吸引部8′には、内部に吸気路1
1,吸引路13′を備える。吸引路13′と外部との肉
厚は、吸気路11と外部との肉厚よりも大きく設定して
ある。側面17を有する側面可動部9′は、肉厚の比較
的大きなブロックを構成し、吸気圧により排気経路3の
方向に弾力的に移動する。
【0043】今、スイッチ5の操作により排気が開始さ
れると、可動部9′は排気経路3の方向に、陰圧により
移動し、吸引路13′が狭くなり、場合によっては下端
に達するまで移動する。このため、第1の吸着部1′と
第2の吸着部2′とに、互いに接近する方向のストレス
が加わることになり、図3の場合と同様に半導体ウェハ
6を挾持することになる。
【0044】この実施例の半導体ウェハ6の挾持力は、
上記一実施例の場合に比較すると弱くなっているため、
比較的小さい寸法の半導体ウェハ用とするか、あるい
は、排気力のより強い排気モータを使用すればよい。
【0045】この実施例の説明していない部分の構造,
効果及び応用例は、上述した一実施例の場合と共通する
か、これに準じたものとなっているので、図示及び説明
を省略する。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
半導体ウェハの両主表面上から吸着もしくは押圧するス
トレスにより、このウェハを挾持するもので、ウェハの
主表面と平行なストレスが発生しないため、ウェハの主
表面に損傷を与える心配がなく、高い挾持力が得られ、
上述した(1)乃至(11)の各課題がことごとく達成
された。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の挾持装置として真空ピンセ
ットを示す断面図である。
【図2】一実施例の挾持装置の右半分を示す平面図であ
る。
【図3】一実施例の挾持装置で半導体ウェハを吸着した
状態を示す断面図である。
【図4】本発明の他の実施例の挾持装置を示す断面図で
ある。
【図5】(A),(B)は従来の真空ピンセットを示す
断面図,平面図である。
【符号の説明】 1,1′ 第1の吸着部 2,2′ 第2の吸着部 3 排気経路 4 付け根部 5 スイッチ 6,37 半導体ウェハ 7 把持部 8 吸引部 9,9′ 側面可動部 10 ガイド 11,11′ 吸気路 12 吸気口 13,13′ 吸引路 14 第1の吸着面 15 第2の吸着面 16 吸引方向 17 側面 18 ウェハ接触面 19 中心線 20,20′ 吸着方向 21 支柱部 22,22′ 吸引方向 35,36 挾持板 38,39 シール部材 40 空間 42 パイプ 50 シール隙間 51 ウェハ隙間 53,60,61 ストレス
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B65G 49/07 B65G 49/07 F

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウェハの一主表面を吸着する第1
    の吸着部と、前記ウェハの他主表面を吸着する第2の吸
    着部と、内部に吸着するための吸気の通過する経路を有
    しかつ前記第1,第2の吸着部を所定距離離間させて弾
    力的に連結した支持部とを備えたことを特徴とする半導
    体ウェハ挾持装置。
  2. 【請求項2】 前記第1,第2の吸着部は、それぞれ吸
    気口と吸気路とを内部に備えている請求項1記載の半導
    体ウェハの挾持装置。
  3. 【請求項3】 前記支持部は、吸着された前記半導体ウ
    ェハの側面から離れる方向に、吸気圧により移動する可
    動部を有する請求項1記載の半導体ウェハの挾持装置。
  4. 【請求項4】 前記可動部は、前記吸気圧により、前記
    第1,第2の吸着部を互いに近づける方向の弾力的可動
    性を有する請求項3記載の半導体ウェハの挾持装置。
  5. 【請求項5】 前記支持部は、前記半導体ウェハの配列
    ピッチよりも大なる寸法の付け根部を有する請求項1記
    載の半導体ウェハの挾持装置。
JP7310495A 1995-03-30 1995-03-30 半導体ウェハの挾持装置 Expired - Lifetime JP2648123B2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001233451A (ja) * 2000-02-23 2001-08-28 Dainippon Printing Co Ltd 基板搬送装置
JP2007251137A (ja) * 2006-02-14 2007-09-27 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
JP2008004601A (ja) * 2006-06-20 2008-01-10 Nec Electronics Corp 基板搬送装置およびそれを用いた基板搬送方法
JP2011073875A (ja) * 2009-10-02 2011-04-14 Sharp Corp 搬送方法

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