JPH08279112A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH08279112A JPH08279112A JP7922395A JP7922395A JPH08279112A JP H08279112 A JPH08279112 A JP H08279112A JP 7922395 A JP7922395 A JP 7922395A JP 7922395 A JP7922395 A JP 7922395A JP H08279112 A JPH08279112 A JP H08279112A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 微小な領域の検知磁場を検知することのでき
る磁気ヘッドを提供することである。 【構成】 検知磁束が導入される第一の磁路2と、この
第一の磁路2と交差する第二の磁路5と、前記第一の磁
路2と前記第二の磁路5とが交差する部分に設けられた
磁界変調部6と、前記第二の磁路5に高周波磁界を印加
して高周波磁束を生じさせる高周波磁界印加部12と、
前記検知磁束に起因する前記第二の磁路5内の高周波磁
束の変化を検知する高周波磁束検知部9と、前記磁界変
調部6と並列に前記第二の磁路5に設けられたバイパス
磁路13とを備えた。
る磁気ヘッドを提供することである。 【構成】 検知磁束が導入される第一の磁路2と、この
第一の磁路2と交差する第二の磁路5と、前記第一の磁
路2と前記第二の磁路5とが交差する部分に設けられた
磁界変調部6と、前記第二の磁路5に高周波磁界を印加
して高周波磁束を生じさせる高周波磁界印加部12と、
前記検知磁束に起因する前記第二の磁路5内の高周波磁
束の変化を検知する高周波磁束検知部9と、前記磁界変
調部6と並列に前記第二の磁路5に設けられたバイパス
磁路13とを備えた。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、超高密度磁気記録媒体
やメカ系の位置センサ等の微小領域の磁場を検知する磁
気センサに用いられる磁気ヘッドに関するものである。
やメカ系の位置センサ等の微小領域の磁場を検知する磁
気センサに用いられる磁気ヘッドに関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気ヘッドは、磁気記録媒体に記録され
た情報を読み取るものであり、磁性体の高周波透磁率の
外部磁界依存性を利用したものである。このような磁気
ヘッドとして、特開昭58−68205号公報に示され
ているものがある。この磁気ヘッドは、磁気記録媒体に
近接させて磁性体を設け、この磁性体に第一のコイルを
巻き付けて第一のインダクタンス素子を形成して、この
第一のインダクタンス素子に高周波電源を接続し、さら
に、前述の磁性体に第二のコイルを巻き付けて第二のイ
ンダクタンス素子を形成して、この第二のインダクタン
ス素子に検波回路を接続したものである。
た情報を読み取るものであり、磁性体の高周波透磁率の
外部磁界依存性を利用したものである。このような磁気
ヘッドとして、特開昭58−68205号公報に示され
ているものがある。この磁気ヘッドは、磁気記録媒体に
近接させて磁性体を設け、この磁性体に第一のコイルを
巻き付けて第一のインダクタンス素子を形成して、この
第一のインダクタンス素子に高周波電源を接続し、さら
に、前述の磁性体に第二のコイルを巻き付けて第二のイ
ンダクタンス素子を形成して、この第二のインダクタン
ス素子に検波回路を接続したものである。
【0003】このような構成によれば、高周波電源によ
り第一のインダクタンス素子に高周波磁界が印加されて
高周波磁束が生じ、第二のインダクタンス素子に高周波
電圧が誘起される。そして、磁気記録媒体に起因する検
知磁界が磁性体に印加される。このとき、検知磁界によ
り磁性体の高周波透磁率が変化して、第二のインダクタ
ンス素子に誘起される高周波電圧が変化する。この高周
波電圧の変化を検波回路で検知することにより、磁気記
録媒体の検知磁場が検知されて、磁気記録媒体に記録さ
れた情報が読み取られるとともに、高出力が得られる。
り第一のインダクタンス素子に高周波磁界が印加されて
高周波磁束が生じ、第二のインダクタンス素子に高周波
電圧が誘起される。そして、磁気記録媒体に起因する検
知磁界が磁性体に印加される。このとき、検知磁界によ
り磁性体の高周波透磁率が変化して、第二のインダクタ
ンス素子に誘起される高周波電圧が変化する。この高周
波電圧の変化を検波回路で検知することにより、磁気記
録媒体の検知磁場が検知されて、磁気記録媒体に記録さ
れた情報が読み取られるとともに、高出力が得られる。
【0004】しかし、このような磁気ヘッドは、磁性体
全体に対する検知磁界の強度を十分に強くして、磁性体
の高周波透磁率の変化を大きくしなければならない。そ
のため、微小な領域の検知磁場を検知して、超高密度磁
気記録媒体に記録された情報を読み取る場合には、磁性
体を微小にして、磁性体全体に対する検知磁界の強度を
十分に強くする必要がある。ところが、第一のインダク
タンス素子及び第二のインダクタンス素子の微小化には
限界があるため、磁性体の高度な微小化が困難である。
従って、微小な領域の検知磁場を検知して、超高密度磁
気記録媒体に記録された情報を読み取ることが極めて困
難である。
全体に対する検知磁界の強度を十分に強くして、磁性体
の高周波透磁率の変化を大きくしなければならない。そ
のため、微小な領域の検知磁場を検知して、超高密度磁
気記録媒体に記録された情報を読み取る場合には、磁性
体を微小にして、磁性体全体に対する検知磁界の強度を
十分に強くする必要がある。ところが、第一のインダク
タンス素子及び第二のインダクタンス素子の微小化には
限界があるため、磁性体の高度な微小化が困難である。
従って、微小な領域の検知磁場を検知して、超高密度磁
気記録媒体に記録された情報を読み取ることが極めて困
難である。
【0005】それに対して特公平3−44361号公報
に示されている磁気ヘッドがある。この磁気ヘッドは、
磁気記録媒体に近接させて第二の磁性体を設け、この第
二の磁性体と別体に第一の磁性体を設けたものであり、
前述の第一の磁性体に第一のコイルを巻き付けて第一の
インダクタンス素子を形成して、この第一のインダクタ
ンス素子に高周波電源を接続し、さらに、前述の第二の
磁性体に第二のコイルを巻き付けて第二のインダクタン
ス素子を形成して、この第二のインダクタンス素子に検
波回路を接続したものである。ただし、第一のインダク
タンス素子と第二のインダクタンス素子とは、磁気的に
接続されている。
に示されている磁気ヘッドがある。この磁気ヘッドは、
磁気記録媒体に近接させて第二の磁性体を設け、この第
二の磁性体と別体に第一の磁性体を設けたものであり、
前述の第一の磁性体に第一のコイルを巻き付けて第一の
インダクタンス素子を形成して、この第一のインダクタ
ンス素子に高周波電源を接続し、さらに、前述の第二の
磁性体に第二のコイルを巻き付けて第二のインダクタン
ス素子を形成して、この第二のインダクタンス素子に検
波回路を接続したものである。ただし、第一のインダク
タンス素子と第二のインダクタンス素子とは、磁気的に
接続されている。
【0006】このような構成において、高周波電源によ
り第一のインダクタンス素子に高周波磁界が印加されて
高周波磁束が生じ、第二のインダクタンス素子に高周波
電圧が誘起される。そして、磁気記録媒体に起因する検
知磁界が磁気記録媒体から離れるにしたがって急速に減
速するため、その検知磁界は主として第二の磁性体に印
加される。このとき、検知磁界により第二の磁性体の高
周波透磁率が変化して、第二のインダクタンス素子に誘
起される高周波電圧が変化する。この高周波電圧の変化
を検波回路で検知することにより、磁気記録媒体の検知
磁場が検知されて、磁気記録媒体に記録された情報が読
み取られる。
り第一のインダクタンス素子に高周波磁界が印加されて
高周波磁束が生じ、第二のインダクタンス素子に高周波
電圧が誘起される。そして、磁気記録媒体に起因する検
知磁界が磁気記録媒体から離れるにしたがって急速に減
速するため、その検知磁界は主として第二の磁性体に印
加される。このとき、検知磁界により第二の磁性体の高
周波透磁率が変化して、第二のインダクタンス素子に誘
起される高周波電圧が変化する。この高周波電圧の変化
を検波回路で検知することにより、磁気記録媒体の検知
磁場が検知されて、磁気記録媒体に記録された情報が読
み取られる。
【0007】このように、第一の磁性体と第二の磁性体
とを別体に設け、第二の磁性体に第二のコイルのみを巻
き付けて第二のインダクタンス素子を形成することによ
り、第二の磁性体を小型化することができる。そのた
め、特開昭58−68205号公報に示されている磁気
ヘッドに比べてより小さな検知磁場を検知することがで
きる。
とを別体に設け、第二の磁性体に第二のコイルのみを巻
き付けて第二のインダクタンス素子を形成することによ
り、第二の磁性体を小型化することができる。そのた
め、特開昭58−68205号公報に示されている磁気
ヘッドに比べてより小さな検知磁場を検知することがで
きる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、数μm以下
の小さなサイズのコイルを実用に耐えうる性能を持つよ
うに形成することが困難であるため、前述の特開平3−
44361号公報に示されている磁気ヘッドは、数μm
以下の微小な領域の検知磁場を検知することが極めて困
難である。
の小さなサイズのコイルを実用に耐えうる性能を持つよ
うに形成することが困難であるため、前述の特開平3−
44361号公報に示されている磁気ヘッドは、数μm
以下の微小な領域の検知磁場を検知することが極めて困
難である。
【0009】また、第二の磁性体を微小にした場合に
は、磁区構造が乱れやすいため、高周波電圧が低下しや
すいとともに、バルクハウゼンノイズ等が増加しやす
い。従って、S/N比が低下しやすいという問題点があ
る。
は、磁区構造が乱れやすいため、高周波電圧が低下しや
すいとともに、バルクハウゼンノイズ等が増加しやす
い。従って、S/N比が低下しやすいという問題点があ
る。
【0010】さらに、第一の磁性体と第二の磁性体との
間の磁気ギャップによる磁気抵抗の増加、及び、反磁界
の作用により、感度が下がるという問題点がある。それ
は、第一のインダクタンス素子と第二のインダクタンス
素子とが接続された高周波磁気回路において、第二の磁
性体以外の部分の磁気抵抗が無視できない大きさである
場合に、第二の磁性体の高周波透磁率が低下すると、第
二の磁性体に印加される高周波磁界が増加し、また、第
二の磁性体の高周波透磁率が増加すると、第二の磁性体
に印加される高周波磁界が低下することにより、高周波
透磁率と高周波磁界との積に比例する高周波磁束の変化
が小さくなるために生じるものである。
間の磁気ギャップによる磁気抵抗の増加、及び、反磁界
の作用により、感度が下がるという問題点がある。それ
は、第一のインダクタンス素子と第二のインダクタンス
素子とが接続された高周波磁気回路において、第二の磁
性体以外の部分の磁気抵抗が無視できない大きさである
場合に、第二の磁性体の高周波透磁率が低下すると、第
二の磁性体に印加される高周波磁界が増加し、また、第
二の磁性体の高周波透磁率が増加すると、第二の磁性体
に印加される高周波磁界が低下することにより、高周波
透磁率と高周波磁界との積に比例する高周波磁束の変化
が小さくなるために生じるものである。
【0011】また、磁気記録媒体に記録された情報を読
み取る場合には、高周波磁界が磁極から漏洩することが
ある。この高周波磁界の漏洩は、ノイズの原因や磁気記
録媒体の交流消去の原因となる恐れがある。そのため、
高周波磁界の強度を上げることによる検出信号強度の上
昇には一定の限界がある。
み取る場合には、高周波磁界が磁極から漏洩することが
ある。この高周波磁界の漏洩は、ノイズの原因や磁気記
録媒体の交流消去の原因となる恐れがある。そのため、
高周波磁界の強度を上げることによる検出信号強度の上
昇には一定の限界がある。
【0012】本発明は、このような問題点に鑑みなされ
たものであり、微小な領域の検知磁場を検知することの
できる磁気ヘッドを提供することが目的である。
たものであり、微小な領域の検知磁場を検知することの
できる磁気ヘッドを提供することが目的である。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
検知磁束が導入される第一の磁路と、この第一の磁路と
交差する第二の磁路と、前記第一の磁路と前記第二の磁
路とが交差する部分に設けられた磁界変調部と、前記第
二の磁路に高周波磁界を印加して高周波磁束を生じさせ
る高周波磁界印加部と、前記検知磁束に起因する前記第
二の磁路内の高周波磁束の変化を検知する高周波磁束検
知部と、前記磁界変調部と並列に前記第二の磁路に設け
られたバイパス磁路とを備えた。
検知磁束が導入される第一の磁路と、この第一の磁路と
交差する第二の磁路と、前記第一の磁路と前記第二の磁
路とが交差する部分に設けられた磁界変調部と、前記第
二の磁路に高周波磁界を印加して高周波磁束を生じさせ
る高周波磁界印加部と、前記検知磁束に起因する前記第
二の磁路内の高周波磁束の変化を検知する高周波磁束検
知部と、前記磁界変調部と並列に前記第二の磁路に設け
られたバイパス磁路とを備えた。
【0014】ここで、第一の磁路及び第二の磁路は、強
磁性金属、合金、これらの元素を含む窒化物、又はフェ
ライトやイットリウム鉄ガーネット(YIG)等の化合
物の磁性体、又は、それらの組合せであり、公知の磁性
体で形成したものである。そして、第二の磁路は、閉磁
路又は開磁路である。さらに、第一の磁路と第二の磁路
とは、基本的に直交させて形成したものであるが、斜交
させて形成したものでも良い。
磁性金属、合金、これらの元素を含む窒化物、又はフェ
ライトやイットリウム鉄ガーネット(YIG)等の化合
物の磁性体、又は、それらの組合せであり、公知の磁性
体で形成したものである。そして、第二の磁路は、閉磁
路又は開磁路である。さらに、第一の磁路と第二の磁路
とは、基本的に直交させて形成したものであるが、斜交
させて形成したものでも良い。
【0015】さらに、磁界変調部も、強磁性金属、合
金、これらの元素を含む窒化物、又はフェライトやYI
G等の化合物の磁性体、又は、それらの組合せであり、
公知の磁性体で形成したものである。この磁性体の磁性
は、強磁性、フェリ磁性、寄生強磁性、超常磁性、螺旋
磁性、ミクト磁性等の何れかである。しかし、異なる磁
性を示す磁性体を組み合わせて磁界変調部を形成しても
良い。また、磁区の制御を行なうため、反強磁性体を下
地層、上部磁性層又は中間層として磁界変調部に付随さ
せても良い。さらに、磁界変調部の磁気特性は、必要に
応じて第二の磁路の磁気特性と異なるものとする。とこ
ろで、磁界変調部は、第一の磁路及び第二の磁路とそれ
ぞれの境界において磁気的に接続されたものである。従
って、磁界変調部と第一の磁路とを形成する磁性体が同
種の場合には必ずしもその境界が明白でない場合もあ
る。しかし、第一の磁路と磁界変調部との境界に単数又
は複数の微小ギャップを形成しても良い。また、第二の
磁路と磁界変調部との境界にも単数又は複数の微小ギャ
ップを形成しても良い。
金、これらの元素を含む窒化物、又はフェライトやYI
G等の化合物の磁性体、又は、それらの組合せであり、
公知の磁性体で形成したものである。この磁性体の磁性
は、強磁性、フェリ磁性、寄生強磁性、超常磁性、螺旋
磁性、ミクト磁性等の何れかである。しかし、異なる磁
性を示す磁性体を組み合わせて磁界変調部を形成しても
良い。また、磁区の制御を行なうため、反強磁性体を下
地層、上部磁性層又は中間層として磁界変調部に付随さ
せても良い。さらに、磁界変調部の磁気特性は、必要に
応じて第二の磁路の磁気特性と異なるものとする。とこ
ろで、磁界変調部は、第一の磁路及び第二の磁路とそれ
ぞれの境界において磁気的に接続されたものである。従
って、磁界変調部と第一の磁路とを形成する磁性体が同
種の場合には必ずしもその境界が明白でない場合もあ
る。しかし、第一の磁路と磁界変調部との境界に単数又
は複数の微小ギャップを形成しても良い。また、第二の
磁路と磁界変調部との境界にも単数又は複数の微小ギャ
ップを形成しても良い。
【0016】また、バイパス磁路は、第二の磁路と同様
に高周波領域での透磁率が高い磁性体で形成したもので
ある。
に高周波領域での透磁率が高い磁性体で形成したもので
ある。
【0017】さらに、高周波磁界印加部は、第二の磁路
と電磁的に接続されたものである。この高周波磁界印加
部は、導電部材に高周波電源を接続したもの、又は、導
波路をとおして高周波電磁場を導入するもの等である。
ただし、第二の磁路が導電性を有する場合には、必要に
応じて電気的絶縁部材を付加する。さらに、この高周波
磁界印加部で印加される高周波磁界の周波数は、第二の
磁路の強磁性共鳴周波数の近く又は強磁性共鳴周波数未
満の周波数領域内の数kHzから数10GHzの範囲で
ある。
と電磁的に接続されたものである。この高周波磁界印加
部は、導電部材に高周波電源を接続したもの、又は、導
波路をとおして高周波電磁場を導入するもの等である。
ただし、第二の磁路が導電性を有する場合には、必要に
応じて電気的絶縁部材を付加する。さらに、この高周波
磁界印加部で印加される高周波磁界の周波数は、第二の
磁路の強磁性共鳴周波数の近く又は強磁性共鳴周波数未
満の周波数領域内の数kHzから数10GHzの範囲で
ある。
【0018】また、高周波磁束検知部は、第二の磁路と
電磁的に接続されたものである。この高周波磁束検知部
は、コイルなどの導電部材に誘起される誘導起電力を利
用するもの、又は、導電性を有する磁性体の低効率の磁
界依存性を利用する磁気抵抗効果を利用するもの等であ
る。さらに、必要に応じて検波回路、共振回路、フィル
タ等の電子部品・回路を付加する。
電磁的に接続されたものである。この高周波磁束検知部
は、コイルなどの導電部材に誘起される誘導起電力を利
用するもの、又は、導電性を有する磁性体の低効率の磁
界依存性を利用する磁気抵抗効果を利用するもの等であ
る。さらに、必要に応じて検波回路、共振回路、フィル
タ等の電子部品・回路を付加する。
【0019】さらに、この磁気ヘッドにおいては、第二
の磁路の高周波透磁率の実部を高くし、磁界変調部の高
周波透磁率の外部磁界による変化率を高くして、磁界変
調部の高周波透磁率の実部を第二の磁路の高周波透磁率
の実部より低くするか、又は、高周波透磁率の虚部の外
部磁場による変化率を高くすることが好ましい。また、
磁気変調部の高周波透磁率は、実部が増加する場合に、
虚部が低下するか又は変化しないようにすることが好ま
しい。さらに、バイパス磁路の高周波透磁率の実部は高
くすることが好ましい。
の磁路の高周波透磁率の実部を高くし、磁界変調部の高
周波透磁率の外部磁界による変化率を高くして、磁界変
調部の高周波透磁率の実部を第二の磁路の高周波透磁率
の実部より低くするか、又は、高周波透磁率の虚部の外
部磁場による変化率を高くすることが好ましい。また、
磁気変調部の高周波透磁率は、実部が増加する場合に、
虚部が低下するか又は変化しないようにすることが好ま
しい。さらに、バイパス磁路の高周波透磁率の実部は高
くすることが好ましい。
【0020】請求項2記載の発明は、請求項1記載の磁
気ヘッドにおいて、バイパス磁路にギャップを設けた。
気ヘッドにおいて、バイパス磁路にギャップを設けた。
【0021】ここで、バイパス磁路のリアクタンスを低
く維持するため、ギャップの断面積を十分に大きくし
た。
く維持するため、ギャップの断面積を十分に大きくし
た。
【0022】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の磁気ヘッドにおける磁界変調部の飽和磁束密度が第
二の磁路の飽和磁束密度よりも低い。
載の磁気ヘッドにおける磁界変調部の飽和磁束密度が第
二の磁路の飽和磁束密度よりも低い。
【0023】請求項4記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の磁気ヘッドにおいて、磁界変調部にバイアス磁
界を印加するバイアス磁界印加部を設けた。
3記載の磁気ヘッドにおいて、磁界変調部にバイアス磁
界を印加するバイアス磁界印加部を設けた。
【0024】ここで、バイアス磁界印加部は、永久磁石
又は電磁石の何れか一方又は両方により形成したもので
ある。ただし、バイアス磁界印加部を電磁石により形成
した場合は、第一の磁路又は第二の磁路の何れか一方又
は両方に巻き付けたコイルに直流電流を印加するように
しても良い。また、この場合は、導電部材に高周波電源
を接続した高周波磁界印加部を用いて、その導電部材に
直流電流を印加するようにしても良い。
又は電磁石の何れか一方又は両方により形成したもので
ある。ただし、バイアス磁界印加部を電磁石により形成
した場合は、第一の磁路又は第二の磁路の何れか一方又
は両方に巻き付けたコイルに直流電流を印加するように
しても良い。また、この場合は、導電部材に高周波電源
を接続した高周波磁界印加部を用いて、その導電部材に
直流電流を印加するようにしても良い。
【0025】請求項5記載の発明は、請求項4記載の磁
気ヘッドにおけるバイアス磁界が磁界変調部の高周波磁
界に対して平行である。
気ヘッドにおけるバイアス磁界が磁界変調部の高周波磁
界に対して平行である。
【0026】請求項6記載の発明は、請求項4記載の磁
気ヘッドにおけるバイアス磁界が磁界変調部の高周波磁
界に対して垂直である。
気ヘッドにおけるバイアス磁界が磁界変調部の高周波磁
界に対して垂直である。
【0027】
【作用】請求項1記載の発明においては、高周波磁界印
加部で高周波磁界を印加して、第二の磁路及びバイパス
磁路内に高周波磁束を生じさせるとともに、第一の磁路
に検知磁束が導入され、この検知磁束で磁界変調部の高
周波透磁率を変化させて高周波磁束を変化させ、この高
周波磁束の変化を高周波磁束検知部で検知することによ
り、高周波磁束検知部に検知磁束がほとんど侵入せず、
かつ、バイパス磁路に磁界変調部を通過しない高周波磁
束を生じさせることができ、さらに、磁界変調部を微小
なものとすることができるため、高周波磁束検知部にお
ける高周波磁束の変化が大きくなり、かつ、バルクハウ
ゼンノイズ等の外部磁場に起因するノイズの影響が小さ
くなり、さらに、感度が向上して、微小な領域の検知磁
束が容易に検知される。
加部で高周波磁界を印加して、第二の磁路及びバイパス
磁路内に高周波磁束を生じさせるとともに、第一の磁路
に検知磁束が導入され、この検知磁束で磁界変調部の高
周波透磁率を変化させて高周波磁束を変化させ、この高
周波磁束の変化を高周波磁束検知部で検知することによ
り、高周波磁束検知部に検知磁束がほとんど侵入せず、
かつ、バイパス磁路に磁界変調部を通過しない高周波磁
束を生じさせることができ、さらに、磁界変調部を微小
なものとすることができるため、高周波磁束検知部にお
ける高周波磁束の変化が大きくなり、かつ、バルクハウ
ゼンノイズ等の外部磁場に起因するノイズの影響が小さ
くなり、さらに、感度が向上して、微小な領域の検知磁
束が容易に検知される。
【0028】請求項2記載の発明においては、バイパス
磁路にギャップを設けることにより、高周波磁束を生じ
させた場合のバイパス磁路の磁気モーメントの角度変化
を小さくすることができるため、バイパス磁路における
バルクハウゼンノイズが低減して、S/N比が向上す
る。
磁路にギャップを設けることにより、高周波磁束を生じ
させた場合のバイパス磁路の磁気モーメントの角度変化
を小さくすることができるため、バイパス磁路における
バルクハウゼンノイズが低減して、S/N比が向上す
る。
【0029】請求項3記載の発明においては、磁界変調
部の飽和磁束密度を第二の磁路の飽和磁束密度よりも低
くすることにより、検知磁束の磁束密度が低くても、磁
界変調部の磁気モーメントの角度変化を大きくすること
ができ、高周波磁束と磁界変調部の磁気モーメントとの
間の角度が大きくなるにつれて磁界変調部の高周波透磁
率の変化を大きくすることができるため、感度が向上す
る。
部の飽和磁束密度を第二の磁路の飽和磁束密度よりも低
くすることにより、検知磁束の磁束密度が低くても、磁
界変調部の磁気モーメントの角度変化を大きくすること
ができ、高周波磁束と磁界変調部の磁気モーメントとの
間の角度が大きくなるにつれて磁界変調部の高周波透磁
率の変化を大きくすることができるため、感度が向上す
る。
【0030】請求項4記載の発明においては、バイアス
磁界印加部で第二の磁路の高周波磁界にバイアス磁界を
印加することにより、磁界変調部を単磁区構造とするこ
とができ、かつ、磁界変調部の磁区構造を安定させるこ
とができるため、バルクハウゼンノイズが低減して、S
/N比が向上する。
磁界印加部で第二の磁路の高周波磁界にバイアス磁界を
印加することにより、磁界変調部を単磁区構造とするこ
とができ、かつ、磁界変調部の磁区構造を安定させるこ
とができるため、バルクハウゼンノイズが低減して、S
/N比が向上する。
【0031】請求項5記載の発明においては、バイアス
磁界印加部で磁界変調部の高周波磁界と平行にバイアス
磁界を印加することにより、磁界変調部の高周波透磁率
を低くすることができるため、低周波領域の検知磁束に
対する感度が向上する。
磁界印加部で磁界変調部の高周波磁界と平行にバイアス
磁界を印加することにより、磁界変調部の高周波透磁率
を低くすることができるため、低周波領域の検知磁束に
対する感度が向上する。
【0032】請求項6記載の発明においては、バイアス
印加部材で磁界変調部の高周波磁界に垂直にバイアス磁
界を印加することにより、強磁性共鳴周波数を高くする
ことができるため、検知可能な検知磁束の周波数の上限
が高くなる。
印加部材で磁界変調部の高周波磁界に垂直にバイアス磁
界を印加することにより、強磁性共鳴周波数を高くする
ことができるため、検知可能な検知磁束の周波数の上限
が高くなる。
【0033】
【実施例】請求項1記載の発明の一実施例を図1に基づ
いて説明する。磁気記録媒体(図示せず)に近接する直
方体の基板1が設けられている。この基板1上の前記磁
気記録媒体に対向する位置には、上下に重なった磁路を
有する略コの字状の第一の磁路2が形成されている。こ
の第一の磁路2の先端には、それぞれに前記磁気記録媒
体に対向する電極3が形成されている。これらの電極3
の間及び前記第一の磁路2の上下に重なった磁路の間に
は、ギャップ層4が形成されている。また、前記基板1
上には、基板1の各辺に沿って前記第一の磁路2と交差
する第二の磁路5が形成されている。そして、前記第一
の磁路2と前記第二の磁路5との交差する部分には、磁
界変調部6が設けられている。この磁界変調部6の近く
の前記第二の磁路5には、絶縁層7が形成されている。
この絶縁層7の周りには、コイル8が形成されている。
このコイル8には、検波回路(図示せず)が接続されて
いる。この検波回路、前記絶縁層7及び前記コイル8に
より高周波磁束検知部9が形成されている。また、前記
第二の磁路5には、一部に絶縁層10が形成されてい
る。この絶縁層10の周りには、コイル11が形成され
ている。このコイル11には、高周波電源(図示せず)
が接続されている。この高周波電源、前記絶縁層10及
び前記コイル11により高周波磁界印加部12が形成さ
れている。さらに、前記第二の磁路5には、前記磁界変
調部6及び前記高周波磁束検知部9と磁気回路的に並列
にバイパス磁路13が形成されている。
いて説明する。磁気記録媒体(図示せず)に近接する直
方体の基板1が設けられている。この基板1上の前記磁
気記録媒体に対向する位置には、上下に重なった磁路を
有する略コの字状の第一の磁路2が形成されている。こ
の第一の磁路2の先端には、それぞれに前記磁気記録媒
体に対向する電極3が形成されている。これらの電極3
の間及び前記第一の磁路2の上下に重なった磁路の間に
は、ギャップ層4が形成されている。また、前記基板1
上には、基板1の各辺に沿って前記第一の磁路2と交差
する第二の磁路5が形成されている。そして、前記第一
の磁路2と前記第二の磁路5との交差する部分には、磁
界変調部6が設けられている。この磁界変調部6の近く
の前記第二の磁路5には、絶縁層7が形成されている。
この絶縁層7の周りには、コイル8が形成されている。
このコイル8には、検波回路(図示せず)が接続されて
いる。この検波回路、前記絶縁層7及び前記コイル8に
より高周波磁束検知部9が形成されている。また、前記
第二の磁路5には、一部に絶縁層10が形成されてい
る。この絶縁層10の周りには、コイル11が形成され
ている。このコイル11には、高周波電源(図示せず)
が接続されている。この高周波電源、前記絶縁層10及
び前記コイル11により高周波磁界印加部12が形成さ
れている。さらに、前記第二の磁路5には、前記磁界変
調部6及び前記高周波磁束検知部9と磁気回路的に並列
にバイパス磁路13が形成されている。
【0034】ここで、前記第一の磁路2,前記第二の磁
路5及び前記磁界変調部6は、パーマロイにより形成さ
れたものである。さらに、前記第一の磁路2及び前記第
二の磁路5には、1軸磁気異方性が付与されている。そ
れらの磁化容易軸は、前記第一の磁路2及び前記第二の
磁路5のそれぞれに対して垂直である。また、前記第一
の磁路2の断面積は、磁気記録媒体に起因する検知磁束
の漏洩を防止するように適切に設定されている。さら
に、前記第二の磁路5は、異方性磁界が第一の磁路2よ
りも大きく設定され、かつ、その磁路長が可能な範囲で
短く設定され、磁界変調部6の近く以外の断面積が適宜
大きく設定されている。また、前記磁界変調部6は、前
記第一の磁路2に垂直な面での断面積が検知磁束の量に
応じて適切に設定され、前記第一の磁路2に沿う方向の
長さが検知磁束による起磁力に適合するように設定され
ている。さらに、前記高周波磁界印加部12において印
加される高周波磁界の周波数は、検知磁束の周波数を上
回り、前記第二の磁路5の強磁性共鳴周波数未満の領域
内に設定されている。また、前記バイパス磁路13の磁
気抵抗は、前記磁界変調部6や前記第二の磁路5の磁気
抵抗と比べて同程度か又はそれ以下に設定されている。
さらに、高周波磁界印加部12と磁界変調部6との間の
距離は小さく設定され、かつ、高周波磁束検知部9と磁
界変調部6との間の距離も小さく設定されている。
路5及び前記磁界変調部6は、パーマロイにより形成さ
れたものである。さらに、前記第一の磁路2及び前記第
二の磁路5には、1軸磁気異方性が付与されている。そ
れらの磁化容易軸は、前記第一の磁路2及び前記第二の
磁路5のそれぞれに対して垂直である。また、前記第一
の磁路2の断面積は、磁気記録媒体に起因する検知磁束
の漏洩を防止するように適切に設定されている。さら
に、前記第二の磁路5は、異方性磁界が第一の磁路2よ
りも大きく設定され、かつ、その磁路長が可能な範囲で
短く設定され、磁界変調部6の近く以外の断面積が適宜
大きく設定されている。また、前記磁界変調部6は、前
記第一の磁路2に垂直な面での断面積が検知磁束の量に
応じて適切に設定され、前記第一の磁路2に沿う方向の
長さが検知磁束による起磁力に適合するように設定され
ている。さらに、前記高周波磁界印加部12において印
加される高周波磁界の周波数は、検知磁束の周波数を上
回り、前記第二の磁路5の強磁性共鳴周波数未満の領域
内に設定されている。また、前記バイパス磁路13の磁
気抵抗は、前記磁界変調部6や前記第二の磁路5の磁気
抵抗と比べて同程度か又はそれ以下に設定されている。
さらに、高周波磁界印加部12と磁界変調部6との間の
距離は小さく設定され、かつ、高周波磁束検知部9と磁
界変調部6との間の距離も小さく設定されている。
【0035】このような構成において、高周波電源から
コイル11に高周波電流を流すことにより、高周波磁界
印加部12で第二の磁路5に高周波磁界を印加して、第
二の磁路5及びバイパス磁路13に高周波磁束を生じさ
せる。また、電極3から第一の磁路2に磁気記録媒体に
起因する検知磁束が導入される。この検知磁束で磁界変
調部6の高周波透磁率を変化させ、磁界変調部6におい
て高周波磁束を変化させる。この高周波磁束でコイル8
に誘起される高周波電圧を検波回路で検波することによ
り、高周波磁束検知部9で検知磁束に起因する高周波磁
束の変化を検知する。
コイル11に高周波電流を流すことにより、高周波磁界
印加部12で第二の磁路5に高周波磁界を印加して、第
二の磁路5及びバイパス磁路13に高周波磁束を生じさ
せる。また、電極3から第一の磁路2に磁気記録媒体に
起因する検知磁束が導入される。この検知磁束で磁界変
調部6の高周波透磁率を変化させ、磁界変調部6におい
て高周波磁束を変化させる。この高周波磁束でコイル8
に誘起される高周波電圧を検波回路で検波することによ
り、高周波磁束検知部9で検知磁束に起因する高周波磁
束の変化を検知する。
【0036】このように、検知磁束に起因する高周波磁
束の変化を高周波磁束検知部9で検知することにより、
高周波磁束検知部9に検知磁束がほとんど侵入せず、か
つ、バイパス磁路13に磁界変調部6を通過しない高周
波磁束を生じさせることができ、さらに、磁界変調部6
を微小なものとすることができる。そのため、高周波磁
束検知部9における高周波磁束の変化が大きくなり、か
つ、バルクハウゼンノイズ等の外部磁場に起因するノイ
ズの影響が小さくなり、さらに、感度が向上して、微小
な領域の検知磁束が容易に検知される。
束の変化を高周波磁束検知部9で検知することにより、
高周波磁束検知部9に検知磁束がほとんど侵入せず、か
つ、バイパス磁路13に磁界変調部6を通過しない高周
波磁束を生じさせることができ、さらに、磁界変調部6
を微小なものとすることができる。そのため、高周波磁
束検知部9における高周波磁束の変化が大きくなり、か
つ、バルクハウゼンノイズ等の外部磁場に起因するノイ
ズの影響が小さくなり、さらに、感度が向上して、微小
な領域の検知磁束が容易に検知される。
【0037】なお、高周波磁界印加部12で第二の磁路
5に印加される高周波磁界の周波数は、第二の磁路5の
強磁性共鳴周波数未満の範囲に存在するが、特に、第一
の磁路2の強磁性共鳴周波数を第二の磁路5の強磁性共
鳴周波数未満とし、かつ、高周波磁界印加部12で第二
の磁路5に印加される高周波磁界の周波数を第一の磁路
2の強磁性共鳴周波数を上回る周波数とすれば、電極3
から漏洩する高周波磁界の強度は微弱なものとなる。こ
れにより、高周波磁界の強度を上げることができる。そ
のため、高周波磁束検知部9から出力される高周波電圧
の上昇の限界が高まる。
5に印加される高周波磁界の周波数は、第二の磁路5の
強磁性共鳴周波数未満の範囲に存在するが、特に、第一
の磁路2の強磁性共鳴周波数を第二の磁路5の強磁性共
鳴周波数未満とし、かつ、高周波磁界印加部12で第二
の磁路5に印加される高周波磁界の周波数を第一の磁路
2の強磁性共鳴周波数を上回る周波数とすれば、電極3
から漏洩する高周波磁界の強度は微弱なものとなる。こ
れにより、高周波磁界の強度を上げることができる。そ
のため、高周波磁束検知部9から出力される高周波電圧
の上昇の限界が高まる。
【0038】ところで、前述の磁気ヘッドにおいて、バ
イパス磁路13にギャップを設けることにより、バイパ
ス磁路13の磁気モーメントの角度変化を小さくするこ
とができる。そのため、バルクハウゼンノイズが低減し
て、S/N比が向上する。ただし、このときのギャップ
は、バイパス磁路13のリアクタンスを低く維持するた
め、ギャップ長がバイパス磁路13の横幅の最大値より
も短く、断面積が十分に大きいものである。
イパス磁路13にギャップを設けることにより、バイパ
ス磁路13の磁気モーメントの角度変化を小さくするこ
とができる。そのため、バルクハウゼンノイズが低減し
て、S/N比が向上する。ただし、このときのギャップ
は、バイパス磁路13のリアクタンスを低く維持するた
め、ギャップ長がバイパス磁路13の横幅の最大値より
も短く、断面積が十分に大きいものである。
【0039】また、前述の磁気ヘッドにおいて、磁界変
調部6をパーマロイにより形成し、第二の磁路5をFe
−Nにより形成して、第一の磁路2をセンダストにより
形成する。そのFe−Nは、パーマロイの約3倍の飽和
磁束密度がある。従って、磁界変調部6の飽和磁束密度
は、第二の磁路5の飽和磁束密度よりも低い。これによ
り、同一の検知磁束に対する磁界変調部6の磁気モーメ
ントの角度変化を大きくすることができ、高周波磁束と
磁界変調部6の磁気モーメントとの間の角度が大きくな
るにつれて磁界変調部6の高周波透磁率の変化を大きく
することができる。そのため、感度が向上する。ただ
し、この高い周波数特性を維持するためには、第二の磁
路の飽和磁束密度を大きくする必要がある。そのための
第二の磁路の材質としては、飽和磁束密度の高いFe−
N,Fe−Co−Nが特に適している。
調部6をパーマロイにより形成し、第二の磁路5をFe
−Nにより形成して、第一の磁路2をセンダストにより
形成する。そのFe−Nは、パーマロイの約3倍の飽和
磁束密度がある。従って、磁界変調部6の飽和磁束密度
は、第二の磁路5の飽和磁束密度よりも低い。これによ
り、同一の検知磁束に対する磁界変調部6の磁気モーメ
ントの角度変化を大きくすることができ、高周波磁束と
磁界変調部6の磁気モーメントとの間の角度が大きくな
るにつれて磁界変調部6の高周波透磁率の変化を大きく
することができる。そのため、感度が向上する。ただ
し、この高い周波数特性を維持するためには、第二の磁
路の飽和磁束密度を大きくする必要がある。そのための
第二の磁路の材質としては、飽和磁束密度の高いFe−
N,Fe−Co−Nが特に適している。
【0040】請求項4記載の発明の一実施例を図2に基
づいて説明する。前述の実施例において説明した部分と
同一部分については、同一符号を用いて表し、その説明
を省略する(以下、同様とする)。バイパス磁路13に
は、磁気回路的に並列にバイアス磁界印加部14が形成
されている。このバイアス磁界印加部14は、永久磁石
である。その材質は、Co−Ni/Cr薄膜である。こ
のバイアス磁界印加部14でバイアス磁界を磁界変調部
6に印加することにより、磁界変調部6を単磁区構造と
することができ、かつ、この磁界変調部6の単磁区構造
を安定させることができる。そのため、バルクハウゼン
ノイズが低減して、S/N比が向上する。
づいて説明する。前述の実施例において説明した部分と
同一部分については、同一符号を用いて表し、その説明
を省略する(以下、同様とする)。バイパス磁路13に
は、磁気回路的に並列にバイアス磁界印加部14が形成
されている。このバイアス磁界印加部14は、永久磁石
である。その材質は、Co−Ni/Cr薄膜である。こ
のバイアス磁界印加部14でバイアス磁界を磁界変調部
6に印加することにより、磁界変調部6を単磁区構造と
することができ、かつ、この磁界変調部6の単磁区構造
を安定させることができる。そのため、バルクハウゼン
ノイズが低減して、S/N比が向上する。
【0041】請求項5記載の発明の一実施例を図3に基
づいて説明する。第二の磁路5には、一部に絶縁層15
が形成されている。この絶縁層15の周りには、コイル
16が形成されている。このコイル16、前記絶縁層1
5及び第二の磁路5によりバイアス磁界印加部17が形
成されている。このバイアス磁界印加部17には、電源
(図示せず)が接続されている。このようなバイアス磁
界印加部17により第二の磁路5に平行にバイアス磁界
を印加する。これにより、磁界変調部6に高周波磁束と
平行にバイアス磁界を印加することができる。さらに、
バイアス磁界を静磁界から高周波磁界までの幅広い周波
数領域において、磁界変調部6の初透磁率を大幅に低下
させることができる。そのため、感度が向上する。
づいて説明する。第二の磁路5には、一部に絶縁層15
が形成されている。この絶縁層15の周りには、コイル
16が形成されている。このコイル16、前記絶縁層1
5及び第二の磁路5によりバイアス磁界印加部17が形
成されている。このバイアス磁界印加部17には、電源
(図示せず)が接続されている。このようなバイアス磁
界印加部17により第二の磁路5に平行にバイアス磁界
を印加する。これにより、磁界変調部6に高周波磁束と
平行にバイアス磁界を印加することができる。さらに、
バイアス磁界を静磁界から高周波磁界までの幅広い周波
数領域において、磁界変調部6の初透磁率を大幅に低下
させることができる。そのため、感度が向上する。
【0042】なお、磁界変調部6の飽和磁束密度が第二
の磁路5の飽和磁束密度より低い場合には、磁界変調部
6の近くの第二の磁路5がバイアス磁界により飽和する
ことがないため、良好な磁気特性が維持されて、バイア
ス磁界印加部17により感度が向上するという効果がよ
り顕著に現れる。
の磁路5の飽和磁束密度より低い場合には、磁界変調部
6の近くの第二の磁路5がバイアス磁界により飽和する
ことがないため、良好な磁気特性が維持されて、バイア
ス磁界印加部17により感度が向上するという効果がよ
り顕著に現れる。
【0043】請求項6記載の発明の一実施例を図4に基
づいて説明する。基板1には、第一の磁路22とバイパ
ス磁路13との間にバイアス磁界印加部18が形成され
ている。このバイアス磁界印加部18は、永久磁石であ
る。このバイアス磁界印加部18の磁気モーメントは、
磁界変調部6の高周波磁束に垂直であり、第一の磁路2
2の検知磁束と平行である。このようなバイアス磁界印
加部18により磁界変調部の高周波磁束に垂直で、検知
磁束に平行なバイアス磁界が印加される。ただし、高周
波磁界印加部12で印加される高周波磁界の周波数は、
強磁性共鳴周波数に近い値であり、磁界変調部の透磁率
の実部が極小となる周波数に近い値である。これによ
り、強磁性共鳴周波数を高くすることができる。そのた
め、検知可能な検知磁束の周波数の上限がより高くな
る。
づいて説明する。基板1には、第一の磁路22とバイパ
ス磁路13との間にバイアス磁界印加部18が形成され
ている。このバイアス磁界印加部18は、永久磁石であ
る。このバイアス磁界印加部18の磁気モーメントは、
磁界変調部6の高周波磁束に垂直であり、第一の磁路2
2の検知磁束と平行である。このようなバイアス磁界印
加部18により磁界変調部の高周波磁束に垂直で、検知
磁束に平行なバイアス磁界が印加される。ただし、高周
波磁界印加部12で印加される高周波磁界の周波数は、
強磁性共鳴周波数に近い値であり、磁界変調部の透磁率
の実部が極小となる周波数に近い値である。これによ
り、強磁性共鳴周波数を高くすることができる。そのた
め、検知可能な検知磁束の周波数の上限がより高くな
る。
【0044】なお、前述の実施例において、基板1上の
各部材は、スパッタリング法、蒸着法、CVD(化学的
気相成長)法など、公知の薄膜形成方法により形成し、
フォトリソグラフィ等、公知の微細加工技術により加工
したものである。また、それぞれの磁路を構成する薄膜
磁性体の磁気特性の改質のための磁界中薄膜形成や、熱
処理、微量元素の添加、薄膜形成時のイオン照射、多層
膜化、イオン照射による周期的組成変調、微細化のため
の磁界中熱処理、又は、薄膜磁性体を絶縁体との多層膜
とする等、公知の手法を用いた。
各部材は、スパッタリング法、蒸着法、CVD(化学的
気相成長)法など、公知の薄膜形成方法により形成し、
フォトリソグラフィ等、公知の微細加工技術により加工
したものである。また、それぞれの磁路を構成する薄膜
磁性体の磁気特性の改質のための磁界中薄膜形成や、熱
処理、微量元素の添加、薄膜形成時のイオン照射、多層
膜化、イオン照射による周期的組成変調、微細化のため
の磁界中熱処理、又は、薄膜磁性体を絶縁体との多層膜
とする等、公知の手法を用いた。
【0045】
【発明の効果】請求項1記載の発明は、高周波磁界印加
部で高周波磁界を印加して、第二の磁路及びバイパス磁
路内に高周波磁束を生じさせるとともに、第一の磁路に
検知磁束が導入され、この検知磁束で磁界変調部の高周
波透磁率を変化させて高周波磁束を変化させ、この高周
波磁束の変化を高周波磁束検知部で検知することによ
り、高周波磁束検知部に検知磁束がほとんど侵入せず、
かつ、バイパス磁路に磁界変調部を通過しない高周波磁
束を生じさせることができ、さらに、磁界変調部を微小
なものとすることができるため、高周波磁束検知部にお
ける高周波磁束の変化を大きくすることができ、かつ、
バルクハウゼンノイズ等の外部磁場に起因するノイズの
影響を小さくすることができ、さらに、感度を向上させ
ることができて、微小な領域の検知磁束を容易に検知す
ることができる。
部で高周波磁界を印加して、第二の磁路及びバイパス磁
路内に高周波磁束を生じさせるとともに、第一の磁路に
検知磁束が導入され、この検知磁束で磁界変調部の高周
波透磁率を変化させて高周波磁束を変化させ、この高周
波磁束の変化を高周波磁束検知部で検知することによ
り、高周波磁束検知部に検知磁束がほとんど侵入せず、
かつ、バイパス磁路に磁界変調部を通過しない高周波磁
束を生じさせることができ、さらに、磁界変調部を微小
なものとすることができるため、高周波磁束検知部にお
ける高周波磁束の変化を大きくすることができ、かつ、
バルクハウゼンノイズ等の外部磁場に起因するノイズの
影響を小さくすることができ、さらに、感度を向上させ
ることができて、微小な領域の検知磁束を容易に検知す
ることができる。
【0046】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明の効果に加えて、バイパス磁路にギャップを設けるこ
とにより、高周波磁束を生じさせた場合のバイパス磁路
の磁気モーメントの角度変化を小さくすることができる
ため、バイパス磁路におけるバルクハウゼンノイズを低
減することができて、S/N比を向上させることができ
る。
明の効果に加えて、バイパス磁路にギャップを設けるこ
とにより、高周波磁束を生じさせた場合のバイパス磁路
の磁気モーメントの角度変化を小さくすることができる
ため、バイパス磁路におけるバルクハウゼンノイズを低
減することができて、S/N比を向上させることができ
る。
【0047】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の発明の効果に加えて、磁界変調部の飽和磁束密度を
第二の磁路の飽和磁束密度よりも低くすることにより、
検知磁束の磁束密度が低くても、磁界変調部の磁気モー
メントの角度変化を大きくすることができ、高周波磁束
と磁界変調部の磁気モーメントとの間の角度が大きくな
るにつれて磁界変調部の高周波透磁率の変化を大きくす
ることができるため、感度を向上させることができる。
載の発明の効果に加えて、磁界変調部の飽和磁束密度を
第二の磁路の飽和磁束密度よりも低くすることにより、
検知磁束の磁束密度が低くても、磁界変調部の磁気モー
メントの角度変化を大きくすることができ、高周波磁束
と磁界変調部の磁気モーメントとの間の角度が大きくな
るにつれて磁界変調部の高周波透磁率の変化を大きくす
ることができるため、感度を向上させることができる。
【0048】請求項4記載の発明は、請求項1,2又は
3記載の発明の効果に加えて、バイアス磁界印加部で第
二の磁路の高周波磁界にバイアス磁界を印加することに
より、磁界変調部を単磁区構造とすることができ、か
つ、磁界変調部の磁区構造を安定させることができるた
め、バルクハウゼンノイズを低減することができて、S
/N比を向上させることができる。
3記載の発明の効果に加えて、バイアス磁界印加部で第
二の磁路の高周波磁界にバイアス磁界を印加することに
より、磁界変調部を単磁区構造とすることができ、か
つ、磁界変調部の磁区構造を安定させることができるた
め、バルクハウゼンノイズを低減することができて、S
/N比を向上させることができる。
【0049】請求項5記載の発明は、請求項4記載の発
明の効果に加えて、バイアス磁界印加部で磁界変調部の
高周波磁界と平行にバイアス磁界を印加することによ
り、磁界変調部の高周波透磁率を低くすることができる
ため、低周波領域の検知磁束に対する感度を向上させる
ことができる。
明の効果に加えて、バイアス磁界印加部で磁界変調部の
高周波磁界と平行にバイアス磁界を印加することによ
り、磁界変調部の高周波透磁率を低くすることができる
ため、低周波領域の検知磁束に対する感度を向上させる
ことができる。
【0050】請求項6記載の発明は、請求項4記載の発
明の効果に加えて、バイアス印加部材で磁界変調部の高
周波磁界に垂直にバイアス磁界を印加することにより、
強磁性共鳴周波数を高くすることができるため、検知可
能な検知磁束の周波数の上限を高くすることができる。
明の効果に加えて、バイアス印加部材で磁界変調部の高
周波磁界に垂直にバイアス磁界を印加することにより、
強磁性共鳴周波数を高くすることができるため、検知可
能な検知磁束の周波数の上限を高くすることができる。
【図1】請求項1記載の一実施例の磁気ヘッドを示し、
(a)は平面図、(b)はA−Aにおける端面図であ
る。
(a)は平面図、(b)はA−Aにおける端面図であ
る。
【図2】請求項4記載の一実施例の磁気ヘッドを示し、
(a)は平面図、(b)はB−Bにおける端面図であ
る。
(a)は平面図、(b)はB−Bにおける端面図であ
る。
【図3】請求項5記載の一実施例の磁気ヘッドを示し、
(a)は平面図、(b)はC−Cにおける端面図であ
る。
(a)は平面図、(b)はC−Cにおける端面図であ
る。
【図4】請求項6記載の一実施例の磁気ヘッドを示し、
(a)は平面図、(b)はD−Dにおける端面図であ
る。
(a)は平面図、(b)はD−Dにおける端面図であ
る。
2 第一の磁路 5 第二の磁路 6 磁界変調部 9 高周波磁束検知部 12 高周波磁界印加部 13 バイパス磁路 14 バイアス磁界印加部 17 バイアス磁界印加部 18 バイアス磁界印加部
Claims (6)
- 【請求項1】 検知磁束が導入される第一の磁路と、こ
の第一の磁路と交差する第二の磁路と、前記第一の磁路
と前記第二の磁路とが交差する部分に設けられた磁界変
調部と、前記第二の磁路に高周波磁界を印加して高周波
磁束を生じさせる高周波磁界印加部と、前記検知磁束に
起因する前記第二の磁路内の前記高周波磁束の変化を検
知する高周波磁束検知部と、前記磁界変調部と並列に前
記第二の磁路に設けられたバイパス磁路とを備えたこと
を特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項2】 バイパス磁路にギャップを設けたことを
特徴とする請求項1記載の磁気ヘッド。 - 【請求項3】 磁界変調部の飽和磁束密度が第二の磁路
の飽和磁束密度よりも低いことを特徴とする請求項1又
は2記載の磁気ヘッド。 - 【請求項4】 磁界変調部にバイアス磁界を印加するバ
イアス磁界印加部を設けたことを特徴とする請求項1,
2又は3記載の磁気ヘッド。 - 【請求項5】 バイアス磁界が磁界変調部の高周波磁界
に対して平行であることを特徴とする請求項4記載の磁
気ヘッド。 - 【請求項6】 バイアス磁界が磁界変調部の高周波磁界
に対して垂直であることを特徴とする請求項4記載の磁
気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7922395A JPH08279112A (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7922395A JPH08279112A (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08279112A true JPH08279112A (ja) | 1996-10-22 |
Family
ID=13683924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7922395A Pending JPH08279112A (ja) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08279112A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010035873A1 (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | オムロン株式会社 | 磁界検出素子および信号伝達素子 |
-
1995
- 1995-04-05 JP JP7922395A patent/JPH08279112A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010035873A1 (ja) | 2008-09-29 | 2010-04-01 | オムロン株式会社 | 磁界検出素子および信号伝達素子 |
| CN102132168A (zh) * | 2008-09-29 | 2011-07-20 | 欧姆龙株式会社 | 磁场检测元件及信号传递元件 |
| EP2343566A4 (en) * | 2008-09-29 | 2014-04-16 | Omron Tateisi Electronics Co | MAGNETIC FIELD DETECTION ELEMENT AND SIGNAL TRANSMISSION ELEMENT |
| US8963544B2 (en) | 2008-09-29 | 2015-02-24 | The Research Institute For Electric And Magnetic Materials | Signal transmission device |
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