JPH08285448A - 回転乾燥装置 - Google Patents
回転乾燥装置Info
- Publication number
- JPH08285448A JPH08285448A JP11364695A JP11364695A JPH08285448A JP H08285448 A JPH08285448 A JP H08285448A JP 11364695 A JP11364695 A JP 11364695A JP 11364695 A JP11364695 A JP 11364695A JP H08285448 A JPH08285448 A JP H08285448A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotor
- center
- work
- rotation
- rotary
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 枚葉式の回転乾燥装置において、遠心力が作
用しないワーク中心部の乾燥を促進する。 【構成】 ロータ１の上面中心部にインペラ４，４をロ
ータ１の回転中心に対して非対称に設ける。ロータ１の
回転に伴うインペラ４，４の回転により、ロータ１の回
転中心近傍に乱流が生じ、ワーク下面の回転中心近傍に
付着する液体が周囲に移動して遠心力を受けるようにな
る。ワークの上面中心部に対してはＮ2 パージを行う。
用しないワーク中心部の乾燥を促進する。 【構成】 ロータ１の上面中心部にインペラ４，４をロ
ータ１の回転中心に対して非対称に設ける。ロータ１の
回転に伴うインペラ４，４の回転により、ロータ１の回
転中心近傍に乱流が生じ、ワーク下面の回転中心近傍に
付着する液体が周囲に移動して遠心力を受けるようにな
る。ワークの上面中心部に対してはＮ2 パージを行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウエハ、ガラス基
板といった平板状ワークの乾燥処理に使用される乾燥装
置に関し、特にロータ上に１枚のワークを支持して、ロ
ータの回転に伴う遠心力によりワークの上下面を乾燥さ
せる枚葉式の回転乾燥装置に関する。
板といった平板状ワークの乾燥処理に使用される乾燥装
置に関し、特にロータ上に１枚のワークを支持して、ロ
ータの回転に伴う遠心力によりワークの上下面を乾燥さ
せる枚葉式の回転乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ、ガラス基板といった平板
状ワークの乾燥処理に使用される乾燥装置として、枚葉
式の回転乾燥装置がある。この回転乾燥装置は、図５に
示すように、円形の中心部から外側へ複数本の腕部が放
射状に延出したロータ１を具備する。ロータ１は各腕部
の先端部上面に支持ピン３を有し、該支持ピン３により
ロータ１上に隙間をあけて１枚のワークＷを支持する。
そしてロータ１上に支持されたワークＷがロータ１の回
転に伴い高速で回転することにより、ワークＷの上下面
に付着する液体が遠心力により周囲へ排除されて、その
上下面が乾燥される。
状ワークの乾燥処理に使用される乾燥装置として、枚葉
式の回転乾燥装置がある。この回転乾燥装置は、図５に
示すように、円形の中心部から外側へ複数本の腕部が放
射状に延出したロータ１を具備する。ロータ１は各腕部
の先端部上面に支持ピン３を有し、該支持ピン３により
ロータ１上に隙間をあけて１枚のワークＷを支持する。
そしてロータ１上に支持されたワークＷがロータ１の回
転に伴い高速で回転することにより、ワークＷの上下面
に付着する液体が遠心力により周囲へ排除されて、その
上下面が乾燥される。
【０００３】このような枚葉式の回転乾燥装置は、液晶
に使用されるガラス基板のような大型ワークの乾燥に多
用されているが、その乾燥原理からして遠心力の働かな
いワークの中心部に液体が残留し乾燥不良を起こすとい
う本質的な問題がある。これを補うために従来は、ワー
クの上下面中心部に対してＮ2 ブローを行うとか、ワー
クの上面中心部に対してＮ2 ブローを行い、ワークの下
面中心部に対してはロータの中心部上に設けたインペラ
４により風を起こして乾燥を促進するといった対策が採
られていた。
に使用されるガラス基板のような大型ワークの乾燥に多
用されているが、その乾燥原理からして遠心力の働かな
いワークの中心部に液体が残留し乾燥不良を起こすとい
う本質的な問題がある。これを補うために従来は、ワー
クの上下面中心部に対してＮ2 ブローを行うとか、ワー
クの上面中心部に対してＮ2 ブローを行い、ワークの下
面中心部に対してはロータの中心部上に設けたインペラ
４により風を起こして乾燥を促進するといった対策が採
られていた。
【０００４】ここでインペラ４は、従来はロータ１の回
転中心を通る位置にその回転中心に対して対称的に配置
されていた。
転中心を通る位置にその回転中心に対して対称的に配置
されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ワーク
の上下面に対してＮ2 ブローを行う対策では、ガスコス
トが嵩む上に、ブロー制御および配管に要求するイニシ
ャルコストも嵩み、経済性が悪い。しかも、下面に対す
るブローは、ロータに付着したゴミや洗浄液等を巻き上
げ、ワークを汚染する原因になる。
の上下面に対してＮ2 ブローを行う対策では、ガスコス
トが嵩む上に、ブロー制御および配管に要求するイニシ
ャルコストも嵩み、経済性が悪い。しかも、下面に対す
るブローは、ロータに付着したゴミや洗浄液等を巻き上
げ、ワークを汚染する原因になる。
【０００６】その点、上面に対してＮ2 ブローを行い、
下面に対してはインペラにより送風を行う対策は、経済
性に優れ、ワークを汚染する危険も少ない。しかし、従
来の回転乾燥装置使用されているインペラは、その回転
中心近傍に形成される渦のために、その回転中心近傍に
死角ができ、その結果、ワーク下面の回転中心近傍の乾
燥を不足させるという問題がある。
下面に対してはインペラにより送風を行う対策は、経済
性に優れ、ワークを汚染する危険も少ない。しかし、従
来の回転乾燥装置使用されているインペラは、その回転
中心近傍に形成される渦のために、その回転中心近傍に
死角ができ、その結果、ワーク下面の回転中心近傍の乾
燥を不足させるという問題がある。
【０００７】本発明の目的は、ロータ上に設けたインペ
ラによりワークの下面中心部を効果的に乾燥させる回転
乾燥装置を提供することにある。
ラによりワークの下面中心部を効果的に乾燥させる回転
乾燥装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の回転乾燥装置
は、ロータ上に隙間をあけて１枚の平板状ワークを支持
して、ロータの回転に伴う遠心力によりワークの上下面
を乾燥させる枚葉式の回転乾燥装置において、ロータ上
のワークの下面中心部の乾燥を補うためにロータの上面
中心部に設けられるインペラを、ロータの回転中心に対
して非対称に配置したものである。
は、ロータ上に隙間をあけて１枚の平板状ワークを支持
して、ロータの回転に伴う遠心力によりワークの上下面
を乾燥させる枚葉式の回転乾燥装置において、ロータ上
のワークの下面中心部の乾燥を補うためにロータの上面
中心部に設けられるインペラを、ロータの回転中心に対
して非対称に配置したものである。
【０００９】
【作用】従来の回転乾燥装置では、インペラがロータの
回転中心に対して対称に配置され、その結果、回転中心
近傍に死角ができるのに対し、本発明の回転乾燥装置で
は、インペラが回転中心に対して非対称に配置されてい
るため、回転中心近傍に乱流が生じ、その乱流により、
ワーク下面の回転中心近傍に付着する液体が周囲に移動
する。そうすると、その液体は遠心力を受けて周囲に排
除される。かくしてワーク下面の回転中心近傍における
乾燥不良が防止される。
回転中心に対して対称に配置され、その結果、回転中心
近傍に死角ができるのに対し、本発明の回転乾燥装置で
は、インペラが回転中心に対して非対称に配置されてい
るため、回転中心近傍に乱流が生じ、その乱流により、
ワーク下面の回転中心近傍に付着する液体が周囲に移動
する。そうすると、その液体は遠心力を受けて周囲に排
除される。かくしてワーク下面の回転中心近傍における
乾燥不良が防止される。
【００１０】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は本発明の１実施例を示す回転乾燥装置の平
面図。図２は図１のＡ−Ａ線断面矢視図、図３は図１の
Ｂ−Ｂ線断面矢視図である。
する。図１は本発明の１実施例を示す回転乾燥装置の平
面図。図２は図１のＡ−Ａ線断面矢視図、図３は図１の
Ｂ−Ｂ線断面矢視図である。
【００１１】本回転乾燥装置は、図１に示すように、円
形の中心部から周囲へ４本の腕部が放射状に延出したロ
ータ１を具備する。ロータ１は図示されない駆動装置に
より高速で回転駆動される。
形の中心部から周囲へ４本の腕部が放射状に延出したロ
ータ１を具備する。ロータ１は図示されない駆動装置に
より高速で回転駆動される。
【００１２】ロータ１は又、図２に示すように、スピン
カップと呼ばれるチャンバー２内に収容されている。チ
ャンバー２は、ロータ１上にワークＷを載せるため従来
は上下に駆動されていたが、本回転乾燥装置では上下に
駆動されない固定式である。
カップと呼ばれるチャンバー２内に収容されている。チ
ャンバー２は、ロータ１上にワークＷを載せるため従来
は上下に駆動されていたが、本回転乾燥装置では上下に
駆動されない固定式である。
【００１３】ロータ１の各腕先端部には、各２個の支持
ピン３が設けられている。支持ピン３は、ロータ１上に
隙間をあけてワークＷを支持するためにロータ１の上面
から上方に突出すると共に、下部がロータ１を貫通して
下方に突出し、その突出部にダブルナット８，８を装着
することによりロータ１に固定されている。
ピン３が設けられている。支持ピン３は、ロータ１上に
隙間をあけてワークＷを支持するためにロータ１の上面
から上方に突出すると共に、下部がロータ１を貫通して
下方に突出し、その突出部にダブルナット８，８を装着
することによりロータ１に固定されている。
【００１４】ロータ１の円形中心部の上面には、２つの
インペラ４，４が取り付けられている。インペラ４，４
はロータ１の回転中心に対して非対称となるように、上
方から見てハの字に配置されている。インペラ４，４を
ロータ１の回転中心に対して非対称配置すると、一方の
側面はロータ１の回転に伴う移動方向の前方に位置し、
他方の側面はその移動方向後方に位置する。そしてイン
ペラ４，４の移動方向後方側の側面は、図３に示すよう
に、その後方側に液体７が溜まるのを防ぐために傾斜面
５とされている。
インペラ４，４が取り付けられている。インペラ４，４
はロータ１の回転中心に対して非対称となるように、上
方から見てハの字に配置されている。インペラ４，４を
ロータ１の回転中心に対して非対称配置すると、一方の
側面はロータ１の回転に伴う移動方向の前方に位置し、
他方の側面はその移動方向後方に位置する。そしてイン
ペラ４，４の移動方向後方側の側面は、図３に示すよう
に、その後方側に液体７が溜まるのを防ぐために傾斜面
５とされている。
【００１５】また、インペラ４，４によって起きる風を
ワークＷの下面に効率よく作用させるために、インペラ
４，４の上端からワークＷまでの距離は１ｍｍ以下に設
定されている。
ワークＷの下面に効率よく作用させるために、インペラ
４，４の上端からワークＷまでの距離は１ｍｍ以下に設
定されている。
【００１６】このように構成された回転乾燥装置を用い
てワークＷの乾燥を行うには、ロボットアーム６を用い
てワークＷをロータ１の上に載せる。このときチャンバ
ー２は昇降しないので、ロボットアーム６は水平方向お
よび垂直方向に移動する。ロータ１の上にワークＷが載
置されると、支持ピン３によりそのワークＷを固定し、
その後ロータ１を回転駆動する。
てワークＷの乾燥を行うには、ロボットアーム６を用い
てワークＷをロータ１の上に載せる。このときチャンバ
ー２は昇降しないので、ロボットアーム６は水平方向お
よび垂直方向に移動する。ロータ１の上にワークＷが載
置されると、支持ピン３によりそのワークＷを固定し、
その後ロータ１を回転駆動する。
【００１７】ロータ１の回転に伴いその上のワークＷが
高速で回転し、ワークＷの上下面に付着する液体が遠心
力により周囲に排除される。ただし、ワークＷの回転中
心部には遠心力が作用しない。そこでワークＷの上面中
心部に対しては図示されないノズルからＮ2 パージを行
う。ワークＷの下面中心部に対しては、ロータ１と共に
インペラ４，４が回転することにより風が起こり、その
風を下面中心部に衝突させる。
高速で回転し、ワークＷの上下面に付着する液体が遠心
力により周囲に排除される。ただし、ワークＷの回転中
心部には遠心力が作用しない。そこでワークＷの上面中
心部に対しては図示されないノズルからＮ2 パージを行
う。ワークＷの下面中心部に対しては、ロータ１と共に
インペラ４，４が回転することにより風が起こり、その
風を下面中心部に衝突させる。
【００１８】ここでインペラ４，４はロータ１の回転中
心に対して非対称に配置されている。そのためインペラ
４，４の回転中心近傍には死角はできず、代わりに乱流
が生じる。この乱流により、ワーク下面の回転中心近傍
に付着する液体はその中心から外れた位置に移動し、そ
の移動により遠心力を受けるようになって、周囲に排除
される。かくして、ワーク下面の回転中心近傍に液体が
残る現象が回避される。
心に対して非対称に配置されている。そのためインペラ
４，４の回転中心近傍には死角はできず、代わりに乱流
が生じる。この乱流により、ワーク下面の回転中心近傍
に付着する液体はその中心から外れた位置に移動し、そ
の移動により遠心力を受けるようになって、周囲に排除
される。かくして、ワーク下面の回転中心近傍に液体が
残る現象が回避される。
【００１９】これに加えて本回転乾燥装置は次のような
効果を奏する。
効果を奏する。
【００２０】インペラ４，４をロータ１の回転中心に対
して非対称に配置すると、インペラ４，４が側方へ非対
称移動し、インペラ４，４の両側面が従来どおりの垂直
面の場合は、インペラ４，４の移動方向後方側に液体７
が溜まるが、本回転乾燥装置ではその後方側の側面を傾
斜面５としたので、傾斜面５に沿った気流により、その
液体７が後方へ排除される。そのため、インペラ４，４
の移動方向後方側に液体が溜まるおそれがない。インペ
ラ４，４の頭頂部は液体の滞留を防ぐため、移動方向の
長さ（ｘ）を極力短くすることが望ましい。
して非対称に配置すると、インペラ４，４が側方へ非対
称移動し、インペラ４，４の両側面が従来どおりの垂直
面の場合は、インペラ４，４の移動方向後方側に液体７
が溜まるが、本回転乾燥装置ではその後方側の側面を傾
斜面５としたので、傾斜面５に沿った気流により、その
液体７が後方へ排除される。そのため、インペラ４，４
の移動方向後方側に液体が溜まるおそれがない。インペ
ラ４，４の頭頂部は液体の滞留を防ぐため、移動方向の
長さ（ｘ）を極力短くすることが望ましい。
【００２１】従来の回転乾燥装置では、ロータの上面側
に支持ピン等の重量物が集中しているため、遠心力によ
りロータに大きな曲げ力（図５にＦで示す）が作用し、
ロータの剛性を上げる必要があった。ロータの剛性を上
げる方法としては、ロータの材質を高強度のステンレス
鋼にする、ロータの肉厚を大きくする、ロータにリブを
設けるなどがある。しかし、いずれの方法もロータの重
量増加を招き、モータの容量増大を必要とする。しかる
に本回転乾燥装置では、支持ピン３をロータ１の下面か
ら下方に突出させ、下方からダブルナット８，８で固定
する構成としたので、下面側のマスが増大する。その結
果、ロータ３に作用する曲げ力Ｆが小さくなり、ロータ
３の剛性を上げる必要がなくなることから、モータの容
量低下が可能となる。望ましくはロータ１の上面側と下
面側とでマスが吊り合うように、支持ピン３の長さやダ
ブルナット８，８の重量等の調整により下面側のマスを
大きくする。
に支持ピン等の重量物が集中しているため、遠心力によ
りロータに大きな曲げ力（図５にＦで示す）が作用し、
ロータの剛性を上げる必要があった。ロータの剛性を上
げる方法としては、ロータの材質を高強度のステンレス
鋼にする、ロータの肉厚を大きくする、ロータにリブを
設けるなどがある。しかし、いずれの方法もロータの重
量増加を招き、モータの容量増大を必要とする。しかる
に本回転乾燥装置では、支持ピン３をロータ１の下面か
ら下方に突出させ、下方からダブルナット８，８で固定
する構成としたので、下面側のマスが増大する。その結
果、ロータ３に作用する曲げ力Ｆが小さくなり、ロータ
３の剛性を上げる必要がなくなることから、モータの容
量低下が可能となる。望ましくはロータ１の上面側と下
面側とでマスが吊り合うように、支持ピン３の長さやダ
ブルナット８，８の重量等の調整により下面側のマスを
大きくする。
【００２２】従来の回転乾燥装置では又、ワーク搬出の
際に水平方向にのみ移動するロボットハンドが用いら
れ、ロータへのワークの搬入・搬出の際に障害となるチ
ャンバーは、それ自体を上下に移動させる構造になって
いた。しかし、このようなチャンバー構造では、チャン
バー内に摺動部分が必要となることからパーティクル発
生等の問題がある。またチャンバーを駆動する装置が必
要となることから、スペース増大、コスト増大が問題に
なる。しかるに本回転乾燥装置では、ワーク搬送に使用
するロボットハンドを水平方向だけでなく上下方向に動
作させ、チャンバーを上下に移動しない固定式としたの
で、チャンバーから摺動部分が排除され、パーティク発
生の問題が解決される。またチャンバーを駆動する装置
が不要となることから、乾燥装置本体部の小型化、製造
コスト低減が図られる。
際に水平方向にのみ移動するロボットハンドが用いら
れ、ロータへのワークの搬入・搬出の際に障害となるチ
ャンバーは、それ自体を上下に移動させる構造になって
いた。しかし、このようなチャンバー構造では、チャン
バー内に摺動部分が必要となることからパーティクル発
生等の問題がある。またチャンバーを駆動する装置が必
要となることから、スペース増大、コスト増大が問題に
なる。しかるに本回転乾燥装置では、ワーク搬送に使用
するロボットハンドを水平方向だけでなく上下方向に動
作させ、チャンバーを上下に移動しない固定式としたの
で、チャンバーから摺動部分が排除され、パーティク発
生の問題が解決される。またチャンバーを駆動する装置
が不要となることから、乾燥装置本体部の小型化、製造
コスト低減が図られる。
【００２３】インペラの配置形態は上記実施例に限るも
のではなく、例えば図４に示すように、ロータ１の回転
中心から外れた位置に１枚の直線状のインペラ４を取り
付けるものであってもよい。要はロータ１の回転中心近
傍に乱流が生じるように、その回転中心に対して１また
は複数のインペラが非対称に配置されていればよい。
のではなく、例えば図４に示すように、ロータ１の回転
中心から外れた位置に１枚の直線状のインペラ４を取り
付けるものであってもよい。要はロータ１の回転中心近
傍に乱流が生じるように、その回転中心に対して１また
は複数のインペラが非対称に配置されていればよい。
【００２４】
【発明の効果】以上に説明した通り、本発明の回転乾燥
装置はロータ上に設けたインペラによりワーク下面中心
部の乾燥を補うので、Ｎ2 パージに要するガスコストが
安く、パージ制御や配管に要するイニシャルコストも安
価となるので、経済性が良い。また、ロータに付着する
ゴミや洗浄液等の巻き上げが殆どなく、ワークを汚染す
る危険が少ない。そしてインペラをロータの回転中心に
対して非対称に配置したので、インペラによりワーク下
面中心部の乾燥を補う構成であるにもかかわらず、回転
中心近傍における乾燥不良を効果的に防止することがで
きる。
装置はロータ上に設けたインペラによりワーク下面中心
部の乾燥を補うので、Ｎ2 パージに要するガスコストが
安く、パージ制御や配管に要するイニシャルコストも安
価となるので、経済性が良い。また、ロータに付着する
ゴミや洗浄液等の巻き上げが殆どなく、ワークを汚染す
る危険が少ない。そしてインペラをロータの回転中心に
対して非対称に配置したので、インペラによりワーク下
面中心部の乾燥を補う構成であるにもかかわらず、回転
中心近傍における乾燥不良を効果的に防止することがで
きる。
【図１】本発明の１実施例を示す回転乾燥装置の平面図
である。
である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面矢視図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ線断面矢視図である。
【図４】本発明の他の実施例を示す回転乾燥装置の平面
図である。
図である。
【図５】従来の回転乾燥装置の構成を示す模式図であ
る。
る。
１ ロータ ２ チャンバー ３ 支持ピン ４ インペラ ５ 傾斜面 ６ ロボットアーム Ｗ ワーク
Claims (4)
- 【請求項１】 ロータ上に隙間をあけて１枚の平板状ワ
ークを支持して、ロータの回転に伴う遠心力によりワー
クの上下面を乾燥させる枚葉式の回転乾燥装置におい
て、 ロータ上のワークの下面中心部の乾燥を補うためにロー
タの上面中心部に設けられるインペラを、ロータの回転
中心に対して非対称に配置したことを特徴とする回転乾
燥装置。 - 【請求項２】 ロータの回転に伴うインペラの移動方向
後方側の側面を傾斜面としたことを特徴とする請求項１
に記載の回転乾燥装置。 - 【請求項３】 ロータの上面側のマスと下面側のマスが
吊り合うように下面側に突出物を設けたことを特徴とす
る請求項１または２に記載の回転乾燥装置。 - 【請求項４】 ロータを収容するチャンバーを固定式と
し、ワークの搬送を行うロボットハンドを水平方向およ
び鉛直方向に動作させることを特徴とする請求項１，２
または３に記載の回転搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11364695A JP3602192B2 (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 回転乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11364695A JP3602192B2 (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 回転乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08285448A true JPH08285448A (ja) | 1996-11-01 |
| JP3602192B2 JP3602192B2 (ja) | 2004-12-15 |
Family
ID=14617534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11364695A Expired - Fee Related JP3602192B2 (ja) | 1995-04-14 | 1995-04-14 | 回転乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3602192B2 (ja) |
-
1995
- 1995-04-14 JP JP11364695A patent/JP3602192B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3602192B2 (ja) | 2004-12-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6730176B2 (en) | Single wafer megasonic cleaner method, system, and apparatus | |
| KR100490508B1 (ko) | 스핀드라이어및기판건조방법 | |
| US6012470A (en) | Method of drying a wafer | |
| US8261758B2 (en) | Apparatus and method for cleaning and removing liquids from front and back sides of a rotating workpiece | |
| US12472532B2 (en) | Substrate treating apparatus and cleaning nozzle used therein | |
| JP4920643B2 (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
| US7314054B2 (en) | Liquid processing apparatus with nozzle having planar ejecting orifices | |
| JPH11238714A (ja) | 洗浄方法 | |
| JP3171965B2 (ja) | スピン洗浄乾燥装置 | |
| JPH08285448A (ja) | 回転乾燥装置 | |
| JPH10199852A (ja) | 回転式基板処理装置 | |
| JPH0864568A (ja) | ウェーハ洗浄装置 | |
| JPH09162159A (ja) | 回転式基板乾燥装置 | |
| JP2006140492A (ja) | 半導体素子製造に使用される乾式クリーニング装置 | |
| JP6911950B2 (ja) | 半導体ウェーハの洗浄装置および半導体ウェーハの洗浄方法 | |
| KR20240039347A (ko) | 웨이퍼의 세정 장비 및 방법 | |
| JP2005252137A (ja) | 基板の洗浄方法及び基板洗浄装置 | |
| JPH11160666A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2002217159A (ja) | 半導体基板の洗浄装置 | |
| CN112820670A (zh) | 一种适应于光刻机晶圆的寻边机构 | |
| JP2002313772A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3338544B2 (ja) | 乾燥方法及び乾燥装置 | |
| JPH09321118A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JP4268239B2 (ja) | ブラシ洗浄装置およびブラシ洗浄方法 | |
| JP3448630B2 (ja) | ウエハキャリア洗浄装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040226 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040325 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20040831 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040922 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 4 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081001 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091001 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091001 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101001 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101001 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 7 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111001 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |