JPH082864B2 - Method for producing 4-halogenothiophenol - Google Patents

Method for producing 4-halogenothiophenol

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JPH082864B2
JPH082864B2 JP32114389A JP32114389A JPH082864B2 JP H082864 B2 JPH082864 B2 JP H082864B2 JP 32114389 A JP32114389 A JP 32114389A JP 32114389 A JP32114389 A JP 32114389A JP H082864 B2 JPH082864 B2 JP H082864B2
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克哉 金田
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C323/00Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
    • C07C323/01Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C323/09Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and halogen atoms, or nitro or nitroso groups bound to the same carbon skeleton having sulfur atoms of thio groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of the carbon skeleton

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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、医薬、農薬などの原料や、染料の中間体と
して有用な4−ハロゲノチオフェノールの製造方法に関
する。さらに詳しくは、異性体である2−ハロゲノチオ
フェノールをほとんど含まない高純度の4−ハロゲノチ
オフェノールの製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing 4-halogenothiophenol, which is useful as a raw material for medicines, agricultural chemicals and the like, and as an intermediate for dyes. More specifically, it relates to a method for producing high-purity 4-halogenothiophenol containing almost no isomer 2-halogenothiophenol.

(従来の技術および解決すべき課題) 4−ハロゲノチオフェノールを医薬品用原料として用
いるためには、不純物をほとんど含まない高純度のもの
が要求される。
(Prior art and problems to be solved) In order to use 4-halogenothiophenol as a raw material for pharmaceuticals, a high-purity product containing almost no impurities is required.

しかしながらモノクロロベンゼンやモノブロムベンゼ
ン等のハロゲノベンゼンをクロルスルホン酸等のスルホ
ン化剤でスルホン化し、次いで塩化チオニル等の塩素化
剤を用いて塩素化して得られた4−ハロゲノベンゼンス
ルホニルクロリドには、不純物として異性体である2−
ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドが通常1〜3%含
まれている。
However, 4-halogenobenzenesulfonyl chloride obtained by sulfonation of a halogenobenzene such as monochlorobenzene or monobromobenzene with a sulfonating agent such as chlorosulfonic acid and then chlorination with a chlorinating agent such as thionyl chloride is 2- as an isomer as an impurity
It usually contains 1 to 3% of halogenobenzenesulfonyl chloride.

この異性体を含む4−ハロゲノベンゼンスルホニルク
ロリドを亜鉛および/または錫と鉱酸で還元する場合に
は、異性体も同様に還元されてしまい、還元して得られ
る4−ハロゲノチオフェノールと2−ハロゲノチオフェ
ノールとを分離することは、極めて困難である。例え
ば、4−クロロチオフェノールと2−クロロチオフェノ
ールとでは、両者は、沸点が205〜207℃、205〜206℃と
近似しておりこれを蒸留し、分離することは極めて困難
である。
When 4-halogenobenzenesulfonyl chloride containing this isomer is reduced with zinc and / or tin and a mineral acid, the isomer is also similarly reduced, and 4-halogenothiophenol and 2- Separation from halogenothiophenol is extremely difficult. For example, the boiling points of 4-chlorothiophenol and 2-chlorothiophenol are close to 205 to 207 ° C. and 205 to 206 ° C., and it is extremely difficult to distill and separate them.

再結晶による4−クロロチオフェノールと2−クロロ
チオフェノールの分離精製は、一般によく用いられる方
法であるが、溶媒へのロスがあり有利な方法とは言えな
い。また製品の酸化による純度低下を防ぐため濾過、乾
燥などは、不活性ガス雰囲気下で行わなければならな
い。4−クロロチオフェノールの場合には、融点が52〜
53℃であり乾燥時に高い温度にすることができないため
溶媒を除去するのに長時間を要するなど工業的に有利で
はない。
Separation and purification of 4-chlorothiophenol and 2-chlorothiophenol by recrystallization is a commonly used method, but it cannot be said to be an advantageous method because of loss to the solvent. Further, in order to prevent deterioration of purity due to oxidation of the product, filtration, drying and the like must be carried out in an inert gas atmosphere. In the case of 4-chlorothiophenol, the melting point is 52-
Since it is 53 ° C. and the temperature cannot be set high during drying, it takes a long time to remove the solvent, which is not industrially advantageous.

これらのことから不純物として異性体をほとんど含ま
ない4−ハロゲノチオフェノールを得るためには、その
前段階である還元反応に際し、原料である4−ハロゲノ
ベンゼンスルホニルクロリドとして異性体を含まないも
のを用いるのが得策である。
From these facts, in order to obtain 4-halogenothiophenol containing almost no isomer as an impurity, a non-isomer-containing 4-halogenobenzenesulfonyl chloride as a raw material is used in the reduction reaction which is the preceding step. Is a good idea.

4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドの精製方法
としては従来より、4−ハロゲノベンゼンスルホニルク
ロリドを含む反応液を水中に添加し、4−ハロゲノベン
ゼンスルホニルクロリドを晶析させる方法が知られてい
る。しかし、この方法では、未反応のスルホン酸および
過剰の塩素化剤、スルホン化剤等は、除去できるが、異
性体の除去はほとんど不可能である。また、これらを蒸
留によって分離精製することは、両者の沸点が近似して
いるために非常に困難である。
As a method for purifying 4-halogenobenzenesulfonyl chloride, conventionally known is a method in which a reaction solution containing 4-halogenobenzenesulfonyl chloride is added to water to crystallize 4-halogenobenzenesulfonyl chloride. However, this method can remove unreacted sulfonic acid and excess chlorinating agent, sulfonating agent, etc., but it is almost impossible to remove isomers. Further, it is very difficult to separate and purify these by distillation because the boiling points of both are similar.

このような状況に鑑み、本発明者らは従来法の欠点を
改良し、異性体である2−ハロゲノチオフェノールをほ
とんど含まない4−ハロゲノチオフェノールを高収率で
製造する方法について鋭意検討した。その結果、4−ハ
ロゲノベンゼンスルホニルクロリドを含む反応溶液を水
だけでなく有機溶剤を加えた混合溶液中に添加し、晶析
させ、これを、濾取すれば、異性体である2−ハロゲノ
ベンゼンスルホニルクロリドの含量を著しく減少させる
ことができ、これを還元すれば、2−ハロゲノチオフェ
ノールをほとんど含まない4−ハロゲノチオフェノール
を高収率で製造することができることを見出し本発明に
至った。
In view of such a situation, the present inventors have diligently studied a method for improving the drawbacks of the conventional method and producing a 4-halogenothiophenol containing almost no isomer 2-halogenothiophenol in a high yield. . As a result, the reaction solution containing 4-halogenobenzenesulfonyl chloride was added not only to water but also to a mixed solution containing an organic solvent to cause crystallization, and this was filtered to obtain the isomer 2-halogenobenzene. The inventors have found that the content of sulfonyl chloride can be remarkably reduced, and by reducing it, 4-halogenothiophenol containing almost no 2-halogenothiophenol can be produced in high yield, and the present invention has been completed.

(課題を解決するための手段) 本発明は、ハロゲノベンゼンをスルホン化して4−ハロ
ゲノベンゼンスルホン酸とし、続いて塩素化して4−ハ
ロゲノベンゼンスルホニルクロリドとなし、亜鉛および
/または錫と鉱酸で還元して4−ハロゲノチオフェノー
ルを得るに際し、4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロ
リドを含む反応液を水および有機溶剤の混合液中に添加
し、晶析させ、濾取した後、亜鉛および/または錫と鉱
酸で還元することを特徴とする高純度4−ハロゲノチオ
フェノールの製造方法を提供するものである。
MEANS FOR SOLVING THE PROBLEMS The present invention relates to sulfonation of halogenobenzene to 4-halogenobenzenesulfonic acid, followed by chlorination to form 4-halogenobenzenesulfonyl chloride, and zinc and / or tin and a mineral acid. Upon reduction to obtain 4-halogenothiophenol, a reaction solution containing 4-halogenobenzenesulfonyl chloride was added to a mixed solution of water and an organic solvent, crystallized, and collected by filtration, followed by addition of zinc and / or tin. The present invention provides a method for producing high-purity 4-halogenothiophenol, which is characterized by reduction with a mineral acid.

4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドを含む反応
液を水中に添加しても、結晶は析出するが、この場合に
は、粘性を有する凝集しやすい物となり、濾過性が悪
く、洗浄しても異性体の含量を減少させる効果は少な
い。
Even if the reaction liquid containing 4-halogenobenzenesulfonyl chloride is added to water, crystals are precipitated, but in this case, the product becomes viscous and easily aggregated, and the filterability is poor, and even if washed, the isomers The effect of reducing the content is small.

本発明では4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリド
を含む反応液を水および有機溶剤の混合液中に添加する
ことにより濾過性のよい結晶が得られるため、異性体の
含量の少ない4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリド
の結晶が得られる。このようにして得られた4−ハロゲ
ノベンゼンスルホニルクロリドを還元することにより異
性体の2−ハロゲノチオフェノールの含量が極めて少な
い4−ハロゲノチオフェノールを得ることが可能とな
る。
In the present invention, crystals having good filterability can be obtained by adding a reaction liquid containing 4-halogenobenzenesulfonyl chloride to a mixed liquid of water and an organic solvent. Therefore, 4-halogenobenzenesulfonyl chloride containing less isomers can be obtained. Crystals are obtained. By reducing the 4-halogenobenzenesulfonyl chloride thus obtained, it is possible to obtain 4-halogenothiophenol having a very low content of the isomeric 2-halogenothiophenol.

有機溶剤としては、4−ハロゲノベンゼンスルホニル
クロリドと反応しない有機溶剤は何でも使用することが
できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノー
ル等のアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水
素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素等が用いられる。
とりわけ、メタノール、エタノール、プロパノール等の
アルコール類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素
を用いた場合に、異性体の除去効果が大きく、回収率が
高く好結果が得られる。
As the organic solvent, any organic solvent that does not react with 4-halogenobenzenesulfonyl chloride can be used. For example, alcohols such as methanol, ethanol and propanol, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran, aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and halogenated aromatic hydrocarbons such as chlorobenzene. Is used.
In particular, when alcohols such as methanol, ethanol and propanol, and aliphatic hydrocarbons such as hexane and heptane are used, the effect of removing isomers is large and the recovery rate is high and good results are obtained.

水と有機溶剤との混合溶液に4−ハロゲノベンゼンス
ルホニルクロリドを含む反応溶液を添加するときの温度
は、0〜30℃が好ましく、特に5〜15℃が好ましい。温
度が30℃より高くなると4−ハロゲノベンゼンスルホニ
ルクロリドが分解したり、濾液への溶解ロスが増加する
ため回収率が低下する。
The temperature at which the reaction solution containing 4-halogenobenzenesulfonyl chloride is added to the mixed solution of water and the organic solvent is preferably 0 to 30 ° C, particularly preferably 5 to 15 ° C. When the temperature is higher than 30 ° C, 4-halogenobenzenesulfonyl chloride is decomposed and the loss of dissolution in the filtrate is increased, so that the recovery rate is lowered.

水と有機溶剤との混合割合は、水1重量部に対して有
機溶剤が0.1〜3.0重量部、好ましくは0.5〜2.0重量部の
割合で用いられる。0.1重量部より少ない場合には有機
溶剤を混合する効果が得られず、3.0重量部より多い場
合には、不純物である2−ハロゲノベンゼンスルホニル
クロリドの含量は減少するが、目的物である4−ハロゲ
ノベンゼンスルホニルクロリドの溶液への溶解が多くな
り、収量が低下するので好ましくない。
The mixing ratio of water and the organic solvent is 0.1 to 3.0 parts by weight, preferably 0.5 to 2.0 parts by weight, of the organic solvent to 1 part by weight of water. If it is less than 0.1 part by weight, the effect of mixing an organic solvent cannot be obtained, and if it is more than 3.0 parts by weight, the content of the impurity 2-halogenobenzenesulfonyl chloride is reduced, but it is the desired product. This is not preferable because the amount of halogenobenzenesulfonyl chloride dissolved in the solution increases and the yield decreases.

4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドの純度およ
び収量について好ましい結果を得るためには、水と有機
溶剤との混合割合は、上記した範囲のものを用いること
が必要である。
In order to obtain preferable results regarding the purity and yield of 4-halogenobenzenesulfonyl chloride, it is necessary to use the mixing ratio of water and the organic solvent within the above range.

析出した4−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリド
は、濾過性が良好であり、洗浄後乾燥せずに次工程の還
元反応に供することができる。
The precipitated 4-halogenobenzenesulfonyl chloride has good filterability and can be used for the reduction reaction in the next step without drying after washing.

還元反応は、塩酸または酸等鉱酸の存在下、亜鉛およ
び/または錫を用いて行われる。好ましくは塩酸の存在
下、亜鉛を用いて行われる。
The reduction reaction is carried out using zinc and / or tin in the presence of mineral acid such as hydrochloric acid or acid. Preference is given to using zinc in the presence of hydrochloric acid.

亜鉛を使用する場合、その使用量は、理論量の1.05倍
で十分である。
When zinc is used, 1.05 times the theoretical amount is sufficient.

還元反応は、通常、有機溶剤を添加して行われ、該有
機溶媒としては、トルエン、キシレン等芳香族炭化水素
が好適に用いられる。
The reduction reaction is usually carried out by adding an organic solvent, and as the organic solvent, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene are preferably used.

還元反応終了後、有機層と水層とに分離し、有機層を
希酸で洗浄して未反応金属を除去する。
After completion of the reduction reaction, the organic layer and the aqueous layer are separated, and the organic layer is washed with a dilute acid to remove unreacted metal.

有機層を水洗した後、蒸留することにより、不純物と
して存在する2−ハロゲノチオフェノール以外の4,4′
−ジハロゲノジフェニルスルホン、4,4′−ジハロゲノ
ジフェニルジスルフィド等はそれらが高沸点であるため
容易に分離することができ、純度が99.5%以上の4−ハ
ロゲノチオフェノールが得られる。
The organic layer was washed with water and then distilled to obtain 4,4 ′ other than 2-halogenothiophenol existing as impurities.
-Dihalogenodiphenyl sulfone, 4,4'-dihalogenodiphenyl disulfide and the like can be easily separated because they have a high boiling point, and 4-halogenothiophenol having a purity of 99.5% or more can be obtained.

この様に、酸化されやすい4−ハロゲノチオフェノー
ルの精製のためには、晶析、濾過、洗浄等繁雑な操作を
必要とする再結晶によるよりも前記した蒸留による精製
の方が得策である。このとき、蒸留液中に異性体の2−
ハロゲノチオフェノールが混入している場合には両者の
沸点が近似しているため、これらを分離することは極め
て困難であるが、本発明の方法では混入する2−ハロゲ
ノチオフェノールが極めて少ないため、容易に高純度の
4−ハロゲノチオフェノールを得ることが可能となる。
Thus, for purification of 4-halogenothiophenol, which is easily oxidized, purification by distillation as described above is better than purification by recrystallization which requires complicated operations such as crystallization, filtration and washing. At this time, the isomer 2-
When halogenothiophenol is mixed, since the boiling points of both are similar, it is extremely difficult to separate them, but in the method of the present invention, 2-halogenothiophenol mixed in is extremely small, It is possible to easily obtain highly pure 4-halogenothiophenol.

(実施例) 以下に実施例および比較例をあげて本発明を具体的に
説明するが、本発明は、これらにより限定されるもので
はない。
(Example) Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

製造例1 クロルスルホン酸652.4g(5.6モル)に硫酸ナトリウ
ム32.8gを添加し、50℃に昇温した。これにモノクロロ
ベンゼン450.4g(4.0モル)を3時間で滴下した。70℃
まで1時間で昇温した後、塩化チオニル499.4g(4.2モ
ル)を3時間で滴下し、同温度で1時間保持した。得ら
れた4−クロロベンゼンスルホニルクロリドを含む反応
液1069.6gを分割して、以下の実施例1〜4および比較
例1の原料液として供した。
Production Example 1 32.8 g of sodium sulfate was added to 652.4 g (5.6 mol) of chlorosulfonic acid, and the temperature was raised to 50 ° C. To this, 450.4 g (4.0 mol) of monochlorobenzene was added dropwise over 3 hours. 70 ° C
After the temperature was raised to 1 hour, 499.4 g (4.2 mol) of thionyl chloride was added dropwise over 3 hours and the temperature was maintained for 1 hour. 1069.6 g of the obtained reaction liquid containing 4-chlorobenzenesulfonyl chloride was divided and used as a raw material liquid for Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 below.

実施例1 製造例1において1.0モルに相当する4−クロロベン
ゼンスルホニルクロリドを含む反応液267.4gをメタノー
ル240g、水160gの混合溶液に20分で滴下した。この間、
温度を10℃に保った。同温度で2時間攪拌した後、減圧
濾過し、メタノール60gおよび水40gの混合溶液で洗浄で
洗浄した。4−クロロベンゼンスルホニルクロリドの湿
ケーキ219gをトルエン50gおよび濃塩酸657g(6.3モル)
中に添加し、亜鉛196.2g(3.0モル)を20℃から80℃に
昇温しながら1時間で添加した。
Example 1 267.4 g of a reaction solution containing 4-chlorobenzenesulfonyl chloride corresponding to 1.0 mol in Production Example 1 was added dropwise to a mixed solution of 240 g of methanol and 160 g of water in 20 minutes. During this time,
The temperature was kept at 10 ° C. After stirring at the same temperature for 2 hours, the mixture was filtered under reduced pressure and washed with a mixed solution of 60 g of methanol and 40 g of water. 219 g of a wet cake of 4-chlorobenzenesulfonyl chloride, 50 g of toluene and 657 g of concentrated hydrochloric acid (6.3 mol)
Then, 196.2 g (3.0 mol) of zinc was added in 1 hour while the temperature was raised from 20 ° C to 80 ° C.

85℃で2時間保持した後、トルエン150gを添加し、30
に冷却した後、分離した。
After keeping at 85 ℃ for 2 hours, add 150g of toluene,
Separated after cooling to.

トルエン層を10%塩酸100gで洗浄した後、水100gで水
洗し、有機層330.6gを得た。4−クロロチオフェノール
の生成率は、90.8%で、2−クロロチオフェノールの含
量は、0.12%であった。
The toluene layer was washed with 100 g of 10% hydrochloric acid and then with 100 g of water to obtain 330.6 g of an organic layer. The production rate of 4-chlorothiophenol was 90.8%, and the content of 2-chlorothiophenol was 0.12%.

有機層を減圧蒸留し、4−クロロチオフェノールとし
て94〜97℃/15〜20mmHg℃の留分、127.1gを得た。
The organic layer was distilled under reduced pressure to obtain 127.1 g of 4-chlorothiophenol as a fraction of 94 to 97 ° C / 15 to 20 mmHg ° C.

有姿収率は87.9%(対クロロベンゼン)、純度は99.7
%で、2−クロロチオフェノールの含量は0.12%であっ
た。
Physical yield is 87.9% (vs chlorobenzene), purity is 99.7
%, The content of 2-chlorothiophenol was 0.12%.

実施例2 製造例1において0.5モルに相当する4−クロロベン
ゼンスルホニルクロリドを含む反応液133.7gを2−プロ
パノール80g、水120gの混合溶液に15分で滴下した。こ
の間、温度を15℃に保った。同温度で1時間45分攪拌し
た後、減圧濾過し、2−プロパノール20gおよび水30gの
混合溶液で洗浄した。
Example 2 133.7 g of the reaction solution containing 0.5 mol of 4-chlorobenzenesulfonyl chloride in Preparation Example 1 was added dropwise to a mixed solution of 80 g of 2-propanol and 120 g of water over 15 minutes. During this time, the temperature was kept at 15 ° C. After stirring at the same temperature for 1 hour and 45 minutes, the mixture was filtered under reduced pressure and washed with a mixed solution of 20 g of 2-propanol and 30 g of water.

4−クロロベンゼンスルホニルクロリドの湿ケーキ11
3.5gをトルエン25gおよび濃塩酸334g(3.2モル)中に添
加し、亜鉛98.1g(1.5モル)を、20℃から80℃に昇温し
ながら30分で添加した。85℃で1時間30分保持した後、
トルエン100gを添加し、30℃に冷却し、ついで、分液し
た。
Wet cake of 4-chlorobenzenesulfonyl chloride 11
3.5 g was added to 25 g of toluene and 334 g (3.2 mol) of concentrated hydrochloric acid, and 98.1 g (1.5 mol) of zinc was added in 30 minutes while raising the temperature from 20 ° C to 80 ° C. After holding at 85 ℃ for 1 hour and 30 minutes,
100 g of toluene was added, the mixture was cooled to 30 ° C., and then the layers were separated.

トルエン層を10%塩酸50gで洗浄し、さらに水50gで洗
浄して有機層186.7gを得た。
The toluene layer was washed with 50 g of 10% hydrochloric acid and further with 50 g of water to obtain 186.7 g of an organic layer.

4−クロロチオフェノールの生成率は88.3%であり、
2−クロロチオフェノールの含量は0.11%であった。有
機層を実施例1と同様に蒸留し、純度99.8%の4−クロ
ロチオフェノール62.0gを得た。クロロベンゼンに対す
る収率は85.8%であり、0.11%の2−クロロチオフェノ
ールを含んでいた。
The production rate of 4-chlorothiophenol is 88.3%,
The content of 2-chlorothiophenol was 0.11%. The organic layer was distilled in the same manner as in Example 1 to obtain 62.0 g of 4-chlorothiophenol having a purity of 99.8%. The yield based on chlorobenzene was 85.8% and contained 0.11% 2-chlorothiophenol.

実施例3 製造例1で得た4−クロロベンゼンスルホニルクロリ
ドを含む反応液267.4gをn−ヘキサン200gおよび水200g
の混合溶液中に30分で滴下した。この間、温度を10℃に
保った。同温度で1時間30分攪拌した後、減圧濾過し、
n−ヘキサン50gおよび水50gで洗浄し、湿ケーキ177.0g
を得た。以下、実施例1と同様にトルエンおよび濃塩酸
中に添加し、還元反応を行った。
Example 3 267.4 g of a reaction solution containing 4-chlorobenzenesulfonyl chloride obtained in Production Example 1 was added to 200 g of n-hexane and 200 g of water.
It was added dropwise to the mixed solution of 30 minutes. During this time, the temperature was kept at 10 ° C. After stirring for 1 hour 30 minutes at the same temperature, vacuum filtration,
Wash with n-hexane 50g and water 50g, wet cake 177.0g
I got Thereafter, in the same manner as in Example 1, the reaction mixture was added to toluene and concentrated hydrochloric acid to carry out a reduction reaction.

4−クロロチオフェノールの生成率は86.9%で、2−
クロロチオフェノールの含量は0.04%であった。
The production rate of 4-chlorothiophenol is 86.9%.
The content of chlorothiophenol was 0.04%.

実施例1と同様に蒸留し、純度99.8%の4−クロロチ
オフェノール122.6gを得た。クロロベンゼンに対する収
率は84.8%であり、0.04%の2−クロロチオフェノール
を含んでいた。
It was distilled in the same manner as in Example 1 to obtain 122.6 g of 4-chlorothiophenol having a purity of 99.8%. The yield based on chlorobenzene was 84.8% and contained 0.04% of 2-chlorothiophenol.

実施例4 製造例1で得た4−クロロベンゼンスルホニルクロリ
ドを含む反応液133.7gをジオキサン80gおよび水120gの
混合溶液中に15分で滴下した。この間、温度を5℃に保
った。同温度で1時間45分攪拌した後、減圧濾過し、ジ
オキサン25gおよび水25gで洗浄し、湿ケーキ93.9gを得
た。
Example 4 133.7 g of the reaction solution containing 4-chlorobenzenesulfonyl chloride obtained in Preparation Example 1 was added dropwise to a mixed solution of 80 g of dioxane and 120 g of water over 15 minutes. During this time, the temperature was kept at 5 ° C. After stirring at the same temperature for 1 hour and 45 minutes, the mixture was filtered under reduced pressure and washed with 25 g of dioxane and 25 g of water to obtain 93.9 g of a wet cake.

以下、実施例2と同様にトルエンおよび濃塩酸中に添
加し、還元反応を行った。
Thereafter, in the same manner as in Example 2, the reaction mixture was added to toluene and concentrated hydrochloric acid to carry out a reduction reaction.

4−クロロチオフェノールの生成率は87.5%で、2−
クロロチオフェノールの含量は0.18%であった。
The production rate of 4-chlorothiophenol is 87.5%.
The content of chlorothiophenol was 0.18%.

実施例2と同様に蒸留し、純度99.6%の4−クロロチ
オフェノール61.5gを得た。
It was distilled in the same manner as in Example 2 to obtain 61.5 g of 4-chlorothiophenol having a purity of 99.6%.

クロロベンゼンに対する収率は85.1%であり、0.18%
の2−クロロチオフェノールを含んでいた。
Yield to chlorobenzene is 85.1%, 0.18%
Of 2-chlorothiophenol.

比較例1 製造例1において0.5モルに相当する4−クロロベン
ゼンスルホニルクロリドを含む反応液133.7gを水200g中
に20分で滴下した。この間、温度を15℃に保った。同温
度で1時間45分間攪拌し、減圧濾過し、水50gで洗浄し
た。得られた湿ケーキ118.2gをトルエン25g、濃塩酸313
g(3.0モル)中に添加し、亜鉛98.1g(1.5モル)を20℃
から80℃に昇温しながら、1時間で添加した。85℃で2
時間保持した後、トルエン100gを添加し、30℃に冷却
し、ついで、分液した。トルエン層を10%塩酸50gで洗
浄した後、水50gで水洗して有機層188.5gを得た。4−
クロロチオフェノールの生成収率は88.1%で、2−クロ
ロチオフェノールの含量は0.92%であった。実施例2と
同様に蒸留し4−クロロチオフェノール61.4gを得た。
有姿収率は84.9%(対モノクロロベンゼン)、純度は9
8.9%で、2−クロロチオフェノールを0.93%含んでい
た。
Comparative Example 1 133.7 g of a reaction solution containing 0.5 mol of 4-chlorobenzenesulfonyl chloride in Preparation Example 1 was added dropwise to 200 g of water over 20 minutes. During this time, the temperature was kept at 15 ° C. The mixture was stirred at the same temperature for 1 hour and 45 minutes, filtered under reduced pressure, and washed with 50 g of water. To the resulting wet cake 118.2 g, toluene 25 g, concentrated hydrochloric acid 313
g (3.0 mol) and add 98.1 g (1.5 mol) zinc at 20 ° C
The temperature was raised from 1 to 80 ° C, and the mixture was added in 1 hour. 2 at 85 ° C
After maintaining for a time, 100 g of toluene was added, the mixture was cooled to 30 ° C., and then the layers were separated. The toluene layer was washed with 50 g of 10% hydrochloric acid and then with 50 g of water to obtain 188.5 g of an organic layer. 4-
The production yield of chlorothiophenol was 88.1% and the content of 2-chlorothiophenol was 0.92%. It was distilled in the same manner as in Example 2 to obtain 61.4 g of 4-chlorothiophenol.
Physical yield is 84.9% (versus monochlorobenzene), purity is 9
It contained 0.93% of 2-chlorothiophenol at 8.9%.

製造例2 クロルスルホン酸326.3g(2.8モル)に無水硫酸ナト
リウム16.4gを添加し、50℃に昇温した。これにモノブ
ロムベンゼン314.0g(2.0モル)を3時間かけて滴下し
た。同温度で30分保持した後80℃に昇温し、塩化チオニ
ル249.8g(2.1モル)を3時間で滴下した。滴下後、同
温度で1時間保持し、4−ブロムベンゼンスルホニルク
ロリドを含む反応液622.0gを得た。この反応液を分割し
て以下の実施例5および比較例2の原料液に供した。
Production Example 2 16.4 g of anhydrous sodium sulfate was added to 326.3 g (2.8 mol) of chlorosulfonic acid, and the temperature was raised to 50 ° C. To this, 314.0 g (2.0 mol) of monobromobenzene was added dropwise over 3 hours. After holding at the same temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 80 ° C., and 249.8 g (2.1 mol) of thionyl chloride was added dropwise over 3 hours. After the dropping, the temperature was maintained for 1 hour at the same temperature to obtain 622.0 g of a reaction liquid containing 4-bromobenzenesulfonyl chloride. This reaction liquid was divided and used as the raw material liquids of Example 5 and Comparative Example 2 below.

実施例5 製造例2の反応液において1.0モルに相当する4−ブ
ロムベンゼンスルホニルクロリドを含む反応液311.0gを
メタノール200gおよび水200gの混合溶液に15分で滴下し
た。この間、温度を15℃に保った。同温度で、1時間45
分攪拌した後、減圧濾過し、メタノール50gおよび水50g
の混合溶液で洗浄した。
Example 5 311.0 g of a reaction solution containing 4-bromobenzenesulfonyl chloride corresponding to 1.0 mol in the reaction solution of Production Example 2 was added dropwise to a mixed solution of 200 g of methanol and 200 g of water over 15 minutes. During this time, the temperature was kept at 15 ° C. 45 at the same temperature for 1 hour
After stirring for minutes, vacuum filtration was performed, and 50 g of methanol and 50 g of water were added.
It was washed with the mixed solution of.

4−ブロムベンゼンスルホニルクロリドの湿ケーキ26
3.0gをトルエン50gおよび濃塩酸689g(6.6モル)中に添
加し、亜鉛206.0g(3.15モル)を20℃から80℃に昇温し
ながら1時間で添加した。85℃で1時間保持した後、ト
ルエン400gを加え、30℃に冷却し、ついで、分液した。
トルエン層を10%塩酸100gで洗浄し、さらに水100gで洗
浄して有機層618.4gを得た。4−ブロムチオフェノール
の生成収率は91.0%、2−ブロムチオフェノールの含量
は0.11%であった。有機層を蒸留し、4−ブロムチオフ
ェノール166.6gを得た。有姿収率は88.1%(対ブロムベ
ンゼン)、純度99.7%で、2−ブロムチオフェノールを
0.11%含んでいた。
Wet cake of 4-bromobenzenesulfonyl chloride 26
3.0 g was added to 50 g of toluene and 689 g of concentrated hydrochloric acid (6.6 mol), and 206.0 g (3.15 mol) of zinc was added over 1 hour while raising the temperature from 20 ° C to 80 ° C. After holding at 85 ° C. for 1 hour, 400 g of toluene was added, the mixture was cooled to 30 ° C., and then the layers were separated.
The toluene layer was washed with 100 g of 10% hydrochloric acid and further washed with 100 g of water to obtain 618.4 g of an organic layer. The production yield of 4-bromothiophenol was 91.0%, and the content of 2-bromothiophenol was 0.11%. The organic layer was distilled to obtain 166.6 g of 4-bromothiophenol. The physical yield was 88.1% (relative to brombenzene) and the purity was 99.7%.
It contained 0.11%.

比較例2 実施例5と同様に製造例2で得た4−ブロムベンゼン
スルホニルクロリドを含む反応液311.0gをトルエン50g
および濃塩酸689g(6.6モル)中に添加し、20から80℃
に昇温しながら亜鉛235.4g(3.6モル)を添加した。添
加に要した時間は1時間であった。85℃で1時間保持し
た後、トルエン400gを加え、30℃に冷却して分液した。
トルエン層を10%塩酸で洗浄した後、水100gで洗浄し、
有機層612.6gを得た。4−ブロムチオフェノールの生成
収率は88.1%、2−ブロムチオフェノールの含量は0.76
%であった。有機層を実施例5と同様に蒸留し、4−ブ
ロムチオフェノール163.7gを有姿収率86.6%(対ブロム
ベンゼン)で得た。純度は98.2%で0.96%の2−ブロム
チオフェノールを含んでいた。2−ブロムチオフェノー
ルを除去するため同量のヘキサンを用いて再結晶を行っ
たところ2−ブロムチオフェノールの含量は0.21%に減
少したが、回収率は82%であった。
Comparative Example 2 311.0 g of a reaction liquid containing 4-bromobenzenesulfonyl chloride obtained in Production Example 2 as in Example 5 was added to 50 g of toluene.
And added to 689 g (6.6 mol) of concentrated hydrochloric acid at 20 to 80 ° C.
235.4 g (3.6 mol) of zinc was added while the temperature was raised to. The time required for the addition was 1 hour. After holding at 85 ° C for 1 hour, 400 g of toluene was added, and the mixture was cooled to 30 ° C and separated.
After washing the toluene layer with 10% hydrochloric acid, wash with 100 g of water,
612.6 g of an organic layer was obtained. The production yield of 4-bromothiophenol was 88.1%, and the content of 2-bromothiophenol was 0.76.
%Met. The organic layer was distilled in the same manner as in Example 5 to obtain 163.7 g of 4-bromothiophenol in a yield of 86.6% (relative to brombenzene). The purity was 98.2% and contained 0.96% 2-bromothiophenol. When recrystallization was performed using the same amount of hexane to remove 2-bromothiophenol, the content of 2-bromothiophenol decreased to 0.21%, but the recovery rate was 82%.

製造例3 クロロスルホン酸326.3g(2.8モル)に無水硫酸ナト
リウム14.2gを添加し、これにモノフルオロベンゼン19
2.2g(2.0モル)を3時間かけて滴下した。同温度で30
分保持した後、70℃に昇温し、塩化チオニル249.8g(2.
1モル)を3時間で滴下した。滴下後、同温度で1時間
保持し、4−フルオロベンゼンスルホニルクロリドを含
む反応液496.4gを得た。この反応液を分割して以下の実
施例6および比較例3の原料液に供した。
Production Example 3 To 14.3 g (2.8 mol) of chlorosulfonic acid, 14.2 g of anhydrous sodium sulfate was added, and monofluorobenzene 19
2.2 g (2.0 mol) was added dropwise over 3 hours. 30 at the same temperature
After maintaining the temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C and 249.8 g (2.
1 mol) was added dropwise over 3 hours. After the dropping, the temperature was maintained at the same temperature for 1 hour to obtain 496.4 g of a reaction liquid containing 4-fluorobenzenesulfonyl chloride. This reaction liquid was divided and used as the raw material liquids of Example 6 and Comparative Example 3 below.

実施例6 製造例3の反応液において1.0モルに相当する4−フ
ルオロベンゼンスルホニルクロリドを含む反応液248.2g
を2−プロパノール30g、水270gの混合溶液に30分で滴
下した。この間温度は10℃に保った。同温度で1時間攪
拌した後、減圧濾過し、水100gで洗浄した。
Example 6 248.2 g of a reaction liquid containing 4-fluorobenzenesulfonyl chloride corresponding to 1.0 mol in the reaction liquid of Production Example 3.
Was added dropwise to a mixed solution of 30 g of 2-propanol and 270 g of water in 30 minutes. During this time, the temperature was kept at 10 ° C. After stirring at the same temperature for 1 hour, the mixture was filtered under reduced pressure and washed with 100 g of water.

4−フルオロベンゼンスルホニルクロリドの湿ケーキ
218.2gをシクロヘキサン50gおよび濃塩酸615g(5.9モ
ル)中で添加し、亜鉛196.1g(3.0モル)を、20℃から8
0℃に昇温しながら1時間で添加した。80℃で1時間保
持した後、30℃に冷却し、ついで、分液した。シクロヘ
キサン層を水100gで洗浄して有機層159.0gを得た。4−
フルオロチオフェノールの生成収率は87.4%、2−フル
オロチオフェノールの含量は0.20%であった。有機層を
蒸留し、4−フルオロチオフェノール108.4gを得た。有
姿収率は84.6%(対モノフルオロベンゼン)、純度99.3
%で、2−フルオロチオフェノールを0.20%含んでい
た。
Wet cake of 4-fluorobenzenesulfonyl chloride
218.2 g was added in 50 g of cyclohexane and 615 g (5.9 mol) of concentrated hydrochloric acid, and 196.1 g (3.0 mol) of zinc was added from 20 ° C to 8 ° C.
The temperature was raised to 0 ° C., and the mixture was added in 1 hour. After holding at 80 ° C for 1 hour, the mixture was cooled to 30 ° C, and then separated. The cyclohexane layer was washed with 100 g of water to obtain 159.0 g of an organic layer. 4-
The production yield of fluorothiophenol was 87.4%, and the content of 2-fluorothiophenol was 0.20%. The organic layer was distilled to obtain 108.4 g of 4-fluorothiophenol. Physical yield is 84.6% (vs. monofluorobenzene), purity 99.3
% Of 2-fluorothiophenol.

比較例3 実施例6と同様に製造例3で得た4−フルオロベンゼ
ンスルホニルクロリドを含む反応液248.2gをシクロヘキ
サン50gおよび濃塩酸646g(6.2モル)中に添加し、20℃
から80℃に昇温しながら亜鉛202.7g(3.1モル)を添加
した。添加に要した時間は1時間であった。80で1時間
保持した後、30℃に冷却して分液した。シクロヘキサン
層を水100gで洗浄し、有機層161.3gを得た。4−フルオ
ロチオフェノールの生成収率は90.5%、2−フルオロチ
オフェノールの含量は2.02%であった。有機層を実施例
6と同様に蒸留し、4−フルオロチオフェノール112.5g
を有姿収率87.8%(対モノフルオロベンゼン)で得た。
純度は98.6%で、2.00%の2−フルオロチオフェノール
を含んでいた。
Comparative Example 3 248.2 g of the reaction liquid containing 4-fluorobenzenesulfonyl chloride obtained in Production Example 3 was added to 50 g of cyclohexane and 646 g of concentrated hydrochloric acid (6.2 mol) at 20 ° C.
Then, 202.7 g (3.1 mol) of zinc was added while heating to 80 ° C. The time required for the addition was 1 hour. After holding at 80 for 1 hour, it was cooled to 30 ° C. and separated. The cyclohexane layer was washed with 100 g of water to obtain 161.3 g of an organic layer. The production yield of 4-fluorothiophenol was 90.5%, and the content of 2-fluorothiophenol was 2.02%. The organic layer was distilled in the same manner as in Example 6 to give 112.5 g of 4-fluorothiophenol.
Was obtained in a physical yield of 87.8% (relative to monofluorobenzene).
The purity was 98.6% and contained 2.00% 2-fluorothiophenol.

製造例4 クロロスルホン酸326.3g(2.8モル)に無水硫酸ナト
リウム14.2gを添加し、40℃に昇温した。これにモノヨ
ードベンゼン408.0g(2.0モル)を3時間かけて滴下し
た。70℃まで1時間で昇温した後、塩化チオニル249.8g
(2.1モル)を3時間で滴下し、同温度で1時間保持し
た。得られた4−ヨードベンゼンスルホニルクロリドを
含む反応液686.2gを分割して、以下の実施例7および比
較例4の原料液として供した。
Production Example 4 14.2 g of anhydrous sodium sulfate was added to 326.3 g (2.8 mol) of chlorosulfonic acid, and the temperature was raised to 40 ° C. To this, 408.0 g (2.0 mol) of monoiodobenzene was added dropwise over 3 hours. After heating to 70 ℃ for 1 hour, 249.8g of thionyl chloride
(2.1 mol) was added dropwise over 3 hours, and the temperature was maintained for 1 hour. 686.2 g of the obtained reaction liquid containing 4-iodobenzenesulfonyl chloride was divided and provided as a raw material liquid for Example 7 and Comparative Example 4 below.

実施例7 製造例4の反応液において1.0モルに相当する4−ヨ
ードベンゼンスルホニルクロリドを含む反応液343.1gを
エタノール150g、水150gの混合液に30分で滴下した。こ
の間温度を10℃に保った。同温度で1時間30分攪拌した
後、減圧濾過し、水100gで洗浄した。
Example 7 343.1 g of a reaction solution containing 4-iodobenzenesulfonyl chloride corresponding to 1.0 mol in the reaction solution of Preparation Example 4 was added dropwise to a mixed solution of 150 g of ethanol and 150 g of water over 30 minutes. During this time, the temperature was kept at 10 ° C. The mixture was stirred at the same temperature for 1 hour and 30 minutes, filtered under reduced pressure, and washed with 100 g of water.

4−ヨードベンゼンスルホニルクロリドの湿ケーキ30
2.8gをトルエン50g、濃塩酸646g(6.2モル)中に添加
し、亜鉛196.1g(3.0モル)を20℃から80℃に昇温しな
がら1時間で添加した。85℃で2時間保持した後、トル
エン400gを加え、30℃に冷却し、ついで、分液した。ト
ルエン層を10%塩酸100gで洗浄し、さらに水100gで洗浄
して有機層652.3gを得た。4−ヨードチオフェノールの
生成収率は87.8%、2−ヨードチオフェノールの含量は
0.13%であった。有機層を蒸留し、4−ヨードチオフェ
ノール203.7gを得た。有姿収率は86.3%(対モノヨード
ベンゼン)、純度99.6%で、2−ヨードチオフェノール
を0.13%含んでいた。
Wet cake of 4-iodobenzenesulfonyl chloride 30
2.8 g was added to 50 g of toluene and 646 g (6.2 mol) of concentrated hydrochloric acid, and 196.1 g (3.0 mol) of zinc was added over 1 hour while raising the temperature from 20 ° C to 80 ° C. After holding at 85 ° C. for 2 hours, 400 g of toluene was added, the mixture was cooled to 30 ° C., and then the layers were separated. The toluene layer was washed with 100 g of 10% hydrochloric acid, and further washed with 100 g of water to obtain 652.3 g of an organic layer. The production yield of 4-iodothiophenol was 87.8%, and the content of 2-iodothiophenol was
It was 0.13%. The organic layer was distilled to obtain 203.7 g of 4-iodothiophenol. The organic yield was 86.3% (relative to monoiodobenzene), the purity was 99.6%, and 2-iodothiophenol was contained at 0.13%.

比較例4 製造例4の反応液において1.0モルに相当する4−ヨ
ードベンゼンスルホニルクロリドを含む反応液343.1gを
水300g中に30分で滴下した。この間温度を10℃に保っ
た。同温度で1時間30分攪拌し、減圧濾過し、水100gで
洗浄した。得られた湿ケーキ307.8gをトルエン50g、濃
塩酸646g(6.2モル)中に添加し、亜鉛202.7g(3.1モ
ル)を20℃から80℃に昇温しながら、1時間で添加し
た。85℃で2時間保持した後、トルエン400gを添加し、
30℃に冷却し、ついで、分液した。トルエン層を10%塩
酸100gで洗浄した後、水100gで洗浄して有機層659.5gを
得た。4−ヨードチオフェノールの生成収率は89.8%
で、2−ヨードチオフェノールの含量は2.50%であっ
た。実施例7と同様に蒸留し4−ヨードチオフェノール
205.6gを得た。有姿収率は87.1%(対モノヨードベンゼ
ン)、純度は98.8%で、2−ヨードチオフェノールを2.
50%含んでいた。
Comparative Example 4 343.1 g of a reaction liquid containing 4-iodobenzenesulfonyl chloride corresponding to 1.0 mol in the reaction liquid of Production Example 4 was added dropwise to 300 g of water over 30 minutes. During this time, the temperature was kept at 10 ° C. The mixture was stirred at the same temperature for 1 hour and 30 minutes, filtered under reduced pressure, and washed with 100 g of water. 307.8 g of the obtained wet cake was added to 50 g of toluene and 646 g (6.2 mol) of concentrated hydrochloric acid, and 202.7 g (3.1 mol) of zinc was added over 1 hour while the temperature was raised from 20 ° C to 80 ° C. After keeping at 85 ℃ for 2 hours, add 400g of toluene,
It was cooled to 30 ° C. and then separated. The toluene layer was washed with 100 g of 10% hydrochloric acid and then with 100 g of water to obtain 659.5 g of an organic layer. The production yield of 4-iodothiophenol is 89.8%.
The content of 2-iodothiophenol was 2.50%. 4-iodothiophenol was distilled as in Example 7.
205.6g was obtained. The physical yield is 87.1% (vs. monoiodobenzene), the purity is 98.8%, and 2-iodothiophenol is 2.
It contained 50%.

(発明の効果) 本発明によれば、4−ハロゲノベンゼンスルホニルク
ロリドを含む反応液を水および有機溶媒の混合溶液に添
加し、晶析させ、これを濾取することにより異性体の2
−ハロゲノベンゼンスルホニルクロリドを除去すること
が容易に出来、異性体をほとんど含まない4−ハロゲノ
ベンゼンスルホニルクロリドを得ることができる。つい
で、これを還元することにより、通常の方法では分離困
難な2−ハロゲノチオフェノールの含量が極めて少ない
4−ハロゲノチオフェノールをこれまでに無い高収率で
得ることができる。
(Effect of the Invention) According to the present invention, a reaction solution containing 4-halogenobenzenesulfonyl chloride is added to a mixed solution of water and an organic solvent to cause crystallization, and this is filtered to obtain two isomers of isomers.
-The halogenobenzenesulfonyl chloride can be easily removed, and 4-halogenobenzenesulfonyl chloride containing almost no isomer can be obtained. Then, by reducing this, 4-halogenothiophenol having an extremely low content of 2-halogenothiophenol, which is difficult to separate by a usual method, can be obtained in a high yield never before.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ハロゲノベンゼンからスルホン化および塩
素化により誘導した4−ハロゲノベンゼンスルホニルク
ロリドを亜鉛および/または錫と鉱酸とで還元して4−
ハロゲノチオフェノールを得るに際し、4−ハロゲノベ
ンゼンスルホニルクロリドを含む反応液を水および有機
溶剤の混合液中に添加し、晶析させ、濾取した後、亜鉛
および/または錫と鉱酸とで還元することを特徴とする
4−ハロゲノチオフェノールの製造方法。
1. A 4-halogenobenzenesulfonyl chloride derived from a halogenobenzene by sulfonation and chlorination is reduced with zinc and / or tin and a mineral acid to produce 4-halogenobenzenesulfonyl chloride.
Upon obtaining the halogenothiophenol, the reaction solution containing 4-halogenobenzenesulfonyl chloride was added to a mixed solution of water and an organic solvent, crystallized and collected by filtration, and then reduced with zinc and / or tin and a mineral acid. And a method for producing 4-halogenothiophenol.
【請求項2】水および有機溶剤の混合液における混合割
合が水1重量部に対して有機溶剤が0.1〜3.0重量部であ
る請求項(1)記載の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the mixing ratio in the mixed liquid of water and the organic solvent is 0.1 to 3.0 parts by weight with respect to 1 part by weight of water.
【請求項3】有機溶剤がアルコール類である請求項
(1)記載の方法。
3. The method according to claim 1, wherein the organic solvent is an alcohol.
【請求項4】アルコール類がメタノール、エタノール、
プロパノールからなる群から選ばれたものである請求項
(3)記載の方法。
4. The alcohol is methanol, ethanol,
The method according to claim (3), which is selected from the group consisting of propanol.
【請求項5】有機溶剤が脂肪族炭化水素類である請求項
(1)記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein the organic solvent is an aliphatic hydrocarbon.
【請求項6】脂肪族炭化水素類がヘキサンまたはヘプタ
ンである請求項(5)記載の方法。
6. The method according to claim 5, wherein the aliphatic hydrocarbon is hexane or heptane.
【請求項7】有機溶剤がエーテル類である請求項(1)
記載の方法。
7. The organic solvent is ethers (1).
The described method.
【請求項8】エーテル類がジオキサンである請求項
(7)記載の方法。
8. The method according to claim 7, wherein the ether is dioxane.
【請求項9】ハロゲノベンゼンがモノクロロベンゼンで
ある請求項(1)記載の方法。
9. The method according to claim 1, wherein the halogenobenzene is monochlorobenzene.
【請求項10】ハロゲノベンゼンがモノブロムベンゼン
である請求項(1)記載の方法。
10. The method according to claim 1, wherein the halogenobenzene is monobromobenzene.
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