JPH08288455A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH08288455A JPH08288455A JP7085021A JP8502195A JPH08288455A JP H08288455 A JPH08288455 A JP H08288455A JP 7085021 A JP7085021 A JP 7085021A JP 8502195 A JP8502195 A JP 8502195A JP H08288455 A JPH08288455 A JP H08288455A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bare chip
- semiconductor device
- bare
- circuit board
- bonding wire
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/30—Die-attach connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/073—Connecting or disconnecting of die-attach connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/851—Dispositions of multiple connectors or interconnections
- H10W72/874—On different surfaces
- H10W72/884—Die-attach connectors and bond wires
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/731—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors
- H10W90/732—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors between stacked chips
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/731—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors
- H10W90/734—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of die-attach connectors between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/754—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 放熱効率が良く多品種少量生産に適した半導
体装置およびその製造方法を提供すること。 【構成】 本発明は回路基板2上に一のベアチップであ
る第1ベアチップ10を固定用樹脂3を介して接続した
後、第1ベアチップ10と回路基板2上の回路とをボン
ディングワイヤー4で接続し、この第1ベアチップ10
上に絶縁部材である絶縁用樹脂5および固定用樹脂3を
介して他のベアチップである第2ベアチップ20を接続
する。その後、第2ベアチップ20と回路基板2上の回
路とをボンディングワイヤー4で接続する半導体装置1
およびその製造方法である。
体装置およびその製造方法を提供すること。 【構成】 本発明は回路基板2上に一のベアチップであ
る第1ベアチップ10を固定用樹脂3を介して接続した
後、第1ベアチップ10と回路基板2上の回路とをボン
ディングワイヤー4で接続し、この第1ベアチップ10
上に絶縁部材である絶縁用樹脂5および固定用樹脂3を
介して他のベアチップである第2ベアチップ20を接続
する。その後、第2ベアチップ20と回路基板2上の回
路とをボンディングワイヤー4で接続する半導体装置1
およびその製造方法である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、回路基板上に複数のベ
アチップを立体的に実装して成る半導体装置およびその
製造方法に関する。
アチップを立体的に実装して成る半導体装置およびその
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】小さなパッケージで高集積度の半導体装
置を製造する場合、回路基板上に複数のベアチップを実
装するマルチチップモジュール化が検討されている。こ
のうち、複数のベアチップを重ねて実装する3次元実装
構造としては、各ベアチップにそれぞれTAB(Tape A
utomated Bonding)用テープを接続しておき、これらを
所定の間隔で重ねて実装する構造が考えられている(例
えば、畑田賢造著、TAB技術入門(工業調査会出
版)、p290参照)。
置を製造する場合、回路基板上に複数のベアチップを実
装するマルチチップモジュール化が検討されている。こ
のうち、複数のベアチップを重ねて実装する3次元実装
構造としては、各ベアチップにそれぞれTAB(Tape A
utomated Bonding)用テープを接続しておき、これらを
所定の間隔で重ねて実装する構造が考えられている(例
えば、畑田賢造著、TAB技術入門(工業調査会出
版)、p290参照)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな半導体装置ではベアチップの大きさや配線間隔に応
じた専用のTAB用テープを用意しておく必要があり非
常に手間と時間がかかることになる。つまり、TAB用
テープは、所定のキャリアテープにフォトリソグラフィ
ーおよびエッチング処理を施して導体であるリードを形
成したり、接続用のバンプを形成したりする必要があ
る。このため、多くの開発初期費用がかかり特に多品種
少量生産を行う場合には不適当である。
うな半導体装置ではベアチップの大きさや配線間隔に応
じた専用のTAB用テープを用意しておく必要があり非
常に手間と時間がかかることになる。つまり、TAB用
テープは、所定のキャリアテープにフォトリソグラフィ
ーおよびエッチング処理を施して導体であるリードを形
成したり、接続用のバンプを形成したりする必要があ
る。このため、多くの開発初期費用がかかり特に多品種
少量生産を行う場合には不適当である。
【0004】また、重ねて実装した複数のベアチップの
放熱経路は、ベアチップから周囲の空気への放出と、T
ABテープの接続用のリードを介した外部への放出とが
ある。ところが、リードの厚みは一般に35μm程度で
あるため高い放熱効率は期待できず、また、複数のベア
チップが重ねて配置されていることからベアチップの周
囲の空気への十分な熱放出も期待できない。
放熱経路は、ベアチップから周囲の空気への放出と、T
ABテープの接続用のリードを介した外部への放出とが
ある。ところが、リードの厚みは一般に35μm程度で
あるため高い放熱効率は期待できず、また、複数のベア
チップが重ねて配置されていることからベアチップの周
囲の空気への十分な熱放出も期待できない。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するために成された半導体装置およびその製造
方法である。すなわち、本発明は回路基板上に複数のベ
アチップが立体的に実装されて成る半導体装置であっ
て、回路基板上に実装される一のベアチップと、一のベ
アチップと回路基板上の回路との電気的な接続を行う一
のボンディングワイヤーと、一のベアチップ上に絶縁部
材を介して接続される他のベアチップと、他のベアチッ
プと回路基板上の回路との電気的な接続を行う他のボン
ディングワイヤーとを備えている。
題を解決するために成された半導体装置およびその製造
方法である。すなわち、本発明は回路基板上に複数のベ
アチップが立体的に実装されて成る半導体装置であっ
て、回路基板上に実装される一のベアチップと、一のベ
アチップと回路基板上の回路との電気的な接続を行う一
のボンディングワイヤーと、一のベアチップ上に絶縁部
材を介して接続される他のベアチップと、他のベアチッ
プと回路基板上の回路との電気的な接続を行う他のボン
ディングワイヤーとを備えている。
【0006】また、回路基板上に一のベアチップを実装
した後、一のベアチップと回路基板上の回路とを一のボ
ンディングワイヤーで接続し、次いで、一のベアチップ
上に絶縁部材を介して他のベアチップを接続した後、他
のベアチップと回路基板上の回路とを他のボンディング
ワイヤーで接続する半導体装置の製造方法である。
した後、一のベアチップと回路基板上の回路とを一のボ
ンディングワイヤーで接続し、次いで、一のベアチップ
上に絶縁部材を介して他のベアチップを接続した後、他
のベアチップと回路基板上の回路とを他のボンディング
ワイヤーで接続する半導体装置の製造方法である。
【0007】
【作用】本発明の半導体装置では、回路基板上に実装さ
れる一のベアチップと他のベアチップとが絶縁部材を介
して接続されているため、各ベアチップからの熱がこの
絶縁部材を介して外部に放出する状態となる。また、本
発明の半導体装置の製造方法では、各ベアチップと回路
基板とをボンディングワイヤーによって接続しているこ
とから、ベアチップの大きさや配線間隔等が変更となっ
た場合であっても容易に対応できることになる。
れる一のベアチップと他のベアチップとが絶縁部材を介
して接続されているため、各ベアチップからの熱がこの
絶縁部材を介して外部に放出する状態となる。また、本
発明の半導体装置の製造方法では、各ベアチップと回路
基板とをボンディングワイヤーによって接続しているこ
とから、ベアチップの大きさや配線間隔等が変更となっ
た場合であっても容易に対応できることになる。
【0008】
【実施例】以下に、本発明の半導体装置およびその製造
方法における実施例を図に基づいて説明する。図1は本
発明の半導体装置を説明する模式断面図であり、(a)
は2段の例、(b)は3段の例を示している。図1
(a)に示す半導体装置1は、回路基板2上に第1ベア
チップ10および第2ベアチップ20の2つのベアチッ
プが重ねて実装されたものである。すなわち、この半導
体装置1は、所定の回路(図示せず)が形成された回路
基板2上に固定用樹脂3を介して接続される第1ベアチ
ップ10と、第1ベアチップ10と回路基板2の回路と
を電気的に接続するボンディングワイヤー4と、第1ベ
アチップ10上に絶縁部材である絶縁用樹脂5および固
定用樹脂3を介して接続される第2ベアチップ20と、
第2ベアチップ20と回路基板2の回路とを電気的に接
続するボンディングワイヤー4とを備える構成となって
いる。
方法における実施例を図に基づいて説明する。図1は本
発明の半導体装置を説明する模式断面図であり、(a)
は2段の例、(b)は3段の例を示している。図1
(a)に示す半導体装置1は、回路基板2上に第1ベア
チップ10および第2ベアチップ20の2つのベアチッ
プが重ねて実装されたものである。すなわち、この半導
体装置1は、所定の回路(図示せず)が形成された回路
基板2上に固定用樹脂3を介して接続される第1ベアチ
ップ10と、第1ベアチップ10と回路基板2の回路と
を電気的に接続するボンディングワイヤー4と、第1ベ
アチップ10上に絶縁部材である絶縁用樹脂5および固
定用樹脂3を介して接続される第2ベアチップ20と、
第2ベアチップ20と回路基板2の回路とを電気的に接
続するボンディングワイヤー4とを備える構成となって
いる。
【0009】回路基板2は例えばセラミックス製の基板
に所定の導体を被着したものから成り、また、固定用樹
脂3は熱伝導性を高めるため銀フィラー等を混入したエ
ポキシ系の接着剤から構成されている。絶縁用樹脂5
は、第1ベアチップ10上においてボンディングワイヤ
ー4のループ部分を覆う状態で塗布されており、ボンデ
ィングワイヤー4や第1ベアチップ10と第2ベアチッ
プ20との電気的な絶縁を保つ役目を果たしている。さ
らに絶縁用樹脂5には絶縁性を保ちかつ熱伝導性を高め
るためのフィラー(例えば、アルミナ、窒化アルミニウ
ム、シリコーン、ダイアモンド)を混入してある。
に所定の導体を被着したものから成り、また、固定用樹
脂3は熱伝導性を高めるため銀フィラー等を混入したエ
ポキシ系の接着剤から構成されている。絶縁用樹脂5
は、第1ベアチップ10上においてボンディングワイヤ
ー4のループ部分を覆う状態で塗布されており、ボンデ
ィングワイヤー4や第1ベアチップ10と第2ベアチッ
プ20との電気的な絶縁を保つ役目を果たしている。さ
らに絶縁用樹脂5には絶縁性を保ちかつ熱伝導性を高め
るためのフィラー(例えば、アルミナ、窒化アルミニウ
ム、シリコーン、ダイアモンド)を混入してある。
【0010】この半導体装置1では、重なって配置され
る第1ベアチップ10と第2ベアチップ20との間に絶
縁用樹脂5および固定用樹脂3が各々のベアチップと面
接触する状態で介在しているため、第1ベアチップ10
および第2ベアチップ20からの熱がこの絶縁用樹脂5
および固定用樹脂3を介して効率良く外部へ放出する状
態となる。つまり、絶縁用樹脂5および固定用樹脂3に
は各々熱伝導性を高めるためのフィラーを混入している
ため、第1ベアチップ10と第2ベアチップ20との間
が空気である場合に比べてはるかに放熱効率が高まるこ
とになる。
る第1ベアチップ10と第2ベアチップ20との間に絶
縁用樹脂5および固定用樹脂3が各々のベアチップと面
接触する状態で介在しているため、第1ベアチップ10
および第2ベアチップ20からの熱がこの絶縁用樹脂5
および固定用樹脂3を介して効率良く外部へ放出する状
態となる。つまり、絶縁用樹脂5および固定用樹脂3に
は各々熱伝導性を高めるためのフィラーを混入している
ため、第1ベアチップ10と第2ベアチップ20との間
が空気である場合に比べてはるかに放熱効率が高まるこ
とになる。
【0011】また、図1(b)に示す半導体装置1は、
回路基板2上に第1ベアチップ10、第2ベアチップ2
0および第3ベアチップ30が実装される構造である。
つまり、先に説明した第1ベアチップ10および第2ベ
アチップ20の重合わせに加え、第2ベアチップ20上
に絶縁部材である絶縁用樹脂5および固定用樹脂3を介
して第3ベアチップ30を接続した構造となっている。
第3ベアチップ30も他の第1ベアチップ10および第
2ベアチップ20と同様にボンディングワイヤー4によ
って回路基板2の回路と電気的に接続されている。
回路基板2上に第1ベアチップ10、第2ベアチップ2
0および第3ベアチップ30が実装される構造である。
つまり、先に説明した第1ベアチップ10および第2ベ
アチップ20の重合わせに加え、第2ベアチップ20上
に絶縁部材である絶縁用樹脂5および固定用樹脂3を介
して第3ベアチップ30を接続した構造となっている。
第3ベアチップ30も他の第1ベアチップ10および第
2ベアチップ20と同様にボンディングワイヤー4によ
って回路基板2の回路と電気的に接続されている。
【0012】また、第3ベアチップ30と第2ベアチッ
プ20との間の固定用樹脂3および絶縁用樹脂5も先と
同様なフィラーを混入したものを使用している。これに
よって、第2ベアチップ20および第3ベアチップ30
からの熱は間の固定用樹脂3および絶縁用樹脂5を介し
て効率良く外部へ放出する状態となる。また、ベアチッ
プを3段に実装することでさらに高密度化を図ることが
可能となる。なお、図1においてはベアチップを2段お
よび3段に重ねる例を示したが、さらに多くのベアチッ
プを重ねる場合であっても同様である。
プ20との間の固定用樹脂3および絶縁用樹脂5も先と
同様なフィラーを混入したものを使用している。これに
よって、第2ベアチップ20および第3ベアチップ30
からの熱は間の固定用樹脂3および絶縁用樹脂5を介し
て効率良く外部へ放出する状態となる。また、ベアチッ
プを3段に実装することでさらに高密度化を図ることが
可能となる。なお、図1においてはベアチップを2段お
よび3段に重ねる例を示したが、さらに多くのベアチッ
プを重ねる場合であっても同様である。
【0013】このように複数のベアチップを立体的に重
ねて実装する半導体装置1であっても放熱効率を向上さ
せることができることから、本実施例における半導体装
置1では、消費電力が大きいベアチップを使用しても故
障の発生や寿命の短縮が起きにくいことになる。
ねて実装する半導体装置1であっても放熱効率を向上さ
せることができることから、本実施例における半導体装
置1では、消費電力が大きいベアチップを使用しても故
障の発生や寿命の短縮が起きにくいことになる。
【0014】次に、本発明の半導体装置の製造方法を図
2に基づいて順に説明する。ここでは、特にベアチップ
を2段重ねて成る半導体装置1の製造方法を大きく3つ
の工程に分けて説明する。先ず、図2(a)に示す第1
工程として、回路基板2上に銀フィラー等を混入したエ
ポキシ系の固定用樹脂3をディスペンス塗布し、液状の
状態でこの上に第1ベアチップ10を搭載する。そし
て、150℃で1時間程度の加熱処理を行い固定用樹脂
3を硬化させ第1ベアチップ10を回路基板2上に固定
する。その後、第1ベアチップ10と回路基板2の回路
とをボンディングワイヤー4によって接続する。
2に基づいて順に説明する。ここでは、特にベアチップ
を2段重ねて成る半導体装置1の製造方法を大きく3つ
の工程に分けて説明する。先ず、図2(a)に示す第1
工程として、回路基板2上に銀フィラー等を混入したエ
ポキシ系の固定用樹脂3をディスペンス塗布し、液状の
状態でこの上に第1ベアチップ10を搭載する。そし
て、150℃で1時間程度の加熱処理を行い固定用樹脂
3を硬化させ第1ベアチップ10を回路基板2上に固定
する。その後、第1ベアチップ10と回路基板2の回路
とをボンディングワイヤー4によって接続する。
【0015】次いで、図2(b)に示す第2工程とし
て、第1ベアチップ上に絶縁用樹脂5および固定用樹脂
3の塗布を行う。絶縁用樹脂5は先に説明したように絶
縁性を保ちかつ熱伝導性を高めるためのアルミナフィラ
ー等を混入したエポキシ系のものを使用し、これを第1
ベアチップ10上にディスペンス塗布する。この際、第
1ベアチップ10に接続されるボンディングワイヤー4
のループ部分を覆う状態に塗布する。そして、150℃
で1時間程度の加熱処理を行い、絶縁用樹脂5を硬化さ
せその表面を平らにしておく。また、この絶縁用樹脂5
の上には次の工程で第2ベアチップ20を固定するため
の固定用樹脂3を塗布しておく。
て、第1ベアチップ上に絶縁用樹脂5および固定用樹脂
3の塗布を行う。絶縁用樹脂5は先に説明したように絶
縁性を保ちかつ熱伝導性を高めるためのアルミナフィラ
ー等を混入したエポキシ系のものを使用し、これを第1
ベアチップ10上にディスペンス塗布する。この際、第
1ベアチップ10に接続されるボンディングワイヤー4
のループ部分を覆う状態に塗布する。そして、150℃
で1時間程度の加熱処理を行い、絶縁用樹脂5を硬化さ
せその表面を平らにしておく。また、この絶縁用樹脂5
の上には次の工程で第2ベアチップ20を固定するため
の固定用樹脂3を塗布しておく。
【0016】次に、図2(c)に示す第3工程として、
第1ベアチップ10上に塗布した絶縁用樹脂5および固
定用樹脂3を介して第2ベアチップ20を接続する処理
を行う。つまり、第2工程で硬化させた絶縁用樹脂5を
土台としてその上に塗布した固定用樹脂3上に第2ベア
チップ20を搭載し、例えば150℃で1時間程度の加
熱処理によって固定用樹脂3を硬化させる。そして、固
定用樹脂3の硬化によって固定された第2ベアチップ2
0と回路基板2の回路とをボンディングワイヤー4によ
って接続する。これにより本発明の半導体装置1の製造
が完了する。
第1ベアチップ10上に塗布した絶縁用樹脂5および固
定用樹脂3を介して第2ベアチップ20を接続する処理
を行う。つまり、第2工程で硬化させた絶縁用樹脂5を
土台としてその上に塗布した固定用樹脂3上に第2ベア
チップ20を搭載し、例えば150℃で1時間程度の加
熱処理によって固定用樹脂3を硬化させる。そして、固
定用樹脂3の硬化によって固定された第2ベアチップ2
0と回路基板2の回路とをボンディングワイヤー4によ
って接続する。これにより本発明の半導体装置1の製造
が完了する。
【0017】このような製造方法においては、第1ベア
チップ10および第2ベアチップ20と回路基板2の回
路との電気的な接続をそれぞれボンディングワイヤー4
によって行っているため、例えば他の種類のベアチップ
(大きさや配線間隔、配線数等が異なるもの)を使用す
る場合には、電気的な接続に関してワイヤーボンディン
グ装置でのプログラム設定変更(ボンディングワイヤー
4の接続位置を指定する設定値の変更)のみで対応でき
ることになる。
チップ10および第2ベアチップ20と回路基板2の回
路との電気的な接続をそれぞれボンディングワイヤー4
によって行っているため、例えば他の種類のベアチップ
(大きさや配線間隔、配線数等が異なるもの)を使用す
る場合には、電気的な接続に関してワイヤーボンディン
グ装置でのプログラム設定変更(ボンディングワイヤー
4の接続位置を指定する設定値の変更)のみで対応でき
ることになる。
【0018】また、他の種類のベアチップを使用する場
合、第1ベアチップ10および第2ベアチップ20の接
続に関しても、絶縁用樹脂5や固定用樹脂3を塗布する
装置のプログラム設定変更のみで対応できることにな
る。したがって、異なる品種の半導体装置1を製造する
場合であっても即座に対応でき、品種変更にともなう初
期費用をほとんどかけなくて済むというメリットがあ
る。
合、第1ベアチップ10および第2ベアチップ20の接
続に関しても、絶縁用樹脂5や固定用樹脂3を塗布する
装置のプログラム設定変更のみで対応できることにな
る。したがって、異なる品種の半導体装置1を製造する
場合であっても即座に対応でき、品種変更にともなう初
期費用をほとんどかけなくて済むというメリットがあ
る。
【0019】なお、図2では第1ベアチップ10および
第2ベアチップ20の2つのベアチップを重ねて成る半
導体装置1の製造方法の例を示したが、図1(b)に示
すような第3ベアチップ30を重ねて3段とする半導体
装置1またこれ以上のベアチップを重ねる半導体装置の
製造方法であっても同様である。この場合には、第1ベ
アチップ10上に絶縁用樹脂5および固定用樹脂3を介
して第2ベアチップ20を接続したと同様に、第3ベア
チップ30上に他のベアチップを接続すればよい。
第2ベアチップ20の2つのベアチップを重ねて成る半
導体装置1の製造方法の例を示したが、図1(b)に示
すような第3ベアチップ30を重ねて3段とする半導体
装置1またこれ以上のベアチップを重ねる半導体装置の
製造方法であっても同様である。この場合には、第1ベ
アチップ10上に絶縁用樹脂5および固定用樹脂3を介
して第2ベアチップ20を接続したと同様に、第3ベア
チップ30上に他のベアチップを接続すればよい。
【0020】図3は、本発明の半導体装置1の他の例を
説明する模式断面図である。図3(a)および(b)で
は、第1ベアチップ10と第2ベアチップ20との大き
さが異なる半導体装置1の例を各々示している。図3
(a)に示す半導体装置1では、第1ベアチップ10の
上にこれより小さい第2ベアチップ20が接続されてお
り、図3(b)に示す半導体装置1では、第1ベアチッ
プ10の上にこれより大きい第2ベアチップ20が接続
されている。このように、重ね合わせるベアチップの大
きさが異なっていてもよく、これによって種々のベアチ
ップの組合せから成る半導体装置1を構成できることに
なる。
説明する模式断面図である。図3(a)および(b)で
は、第1ベアチップ10と第2ベアチップ20との大き
さが異なる半導体装置1の例を各々示している。図3
(a)に示す半導体装置1では、第1ベアチップ10の
上にこれより小さい第2ベアチップ20が接続されてお
り、図3(b)に示す半導体装置1では、第1ベアチッ
プ10の上にこれより大きい第2ベアチップ20が接続
されている。このように、重ね合わせるベアチップの大
きさが異なっていてもよく、これによって種々のベアチ
ップの組合せから成る半導体装置1を構成できることに
なる。
【0021】また、図3(c)に示す半導体装置1は、
第1ベアチップ10上の絶縁用樹脂5の中央部分に窪み
を設け、この中に第2ベアチップ20を埋め込む構成と
なっている。この半導体装置1を製造する場合には、先
ず回路基板2上に固定用樹脂3を介して第1ベアチップ
を接続し、ボンディングワイヤー4による配線を施す。
その後、第1ベアチップ10上に絶縁用樹脂5を塗布す
るが、この際、ボンディングワイヤー4の配線領域(図
中S参照)内に窪みを設ける。
第1ベアチップ10上の絶縁用樹脂5の中央部分に窪み
を設け、この中に第2ベアチップ20を埋め込む構成と
なっている。この半導体装置1を製造する場合には、先
ず回路基板2上に固定用樹脂3を介して第1ベアチップ
を接続し、ボンディングワイヤー4による配線を施す。
その後、第1ベアチップ10上に絶縁用樹脂5を塗布す
るが、この際、ボンディングワイヤー4の配線領域(図
中S参照)内に窪みを設ける。
【0022】この窪みを設けるには、第1ベアチップ1
0に接続されるボンディングワイヤー4を覆う絶縁用樹
脂5として粘性の高いものを使用しボンディングワイヤ
ー4のループ部分を覆うようダム状に塗布した後、この
内側に粘性の低い絶縁用樹脂5を薄く塗布する。そし
て、この窪み内に第2ベアチップ20を埋め込むように
固定するための固定用樹脂3をなるべく薄く塗布し、こ
れを介して第2ベアチップ20を接続する。
0に接続されるボンディングワイヤー4を覆う絶縁用樹
脂5として粘性の高いものを使用しボンディングワイヤ
ー4のループ部分を覆うようダム状に塗布した後、この
内側に粘性の低い絶縁用樹脂5を薄く塗布する。そし
て、この窪み内に第2ベアチップ20を埋め込むように
固定するための固定用樹脂3をなるべく薄く塗布し、こ
れを介して第2ベアチップ20を接続する。
【0023】このような半導体装置1では、絶縁用樹脂
5に窪みを設けた分だけ他の例に比べて半導体装置1全
体の高さhを低くすることが可能となる。つまり、半導
体装置1の高密度化と放熱効率の向上さらには半導体装
置1の薄型化を図る場合に有効なものとなる。
5に窪みを設けた分だけ他の例に比べて半導体装置1全
体の高さhを低くすることが可能となる。つまり、半導
体装置1の高密度化と放熱効率の向上さらには半導体装
置1の薄型化を図る場合に有効なものとなる。
【0024】なお、本実施例に示したいずれの半導体装
置1においても絶縁用樹脂5と固定用樹脂3とを異なる
ものとして説明したが、固定用樹脂3を絶縁用樹脂5と
同じものとしてもよい。これによって、さらに半導体装
置1の製造におけるコストダウンを図ることが可能とな
る。また、図3に示す他の例においても、ベアチップを
2段にする場合のみならず3段またはそれ以上であって
も同様である。
置1においても絶縁用樹脂5と固定用樹脂3とを異なる
ものとして説明したが、固定用樹脂3を絶縁用樹脂5と
同じものとしてもよい。これによって、さらに半導体装
置1の製造におけるコストダウンを図ることが可能とな
る。また、図3に示す他の例においても、ベアチップを
2段にする場合のみならず3段またはそれ以上であって
も同様である。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置およびその製造方法によれば次のような効果がある。
すなわち、複数のベアチップを重ねる半導体装置の場合
であっても、各ベアチップの間に絶縁部材を介している
ためベアチップの放熱効率を向上させることが可能とな
る。また、本発明の半導体装置を製造するにあたり、ボ
ンディングワイヤーを用いて配線を行っているため、多
品種少量生産に即座に対応することが可能となる。
置およびその製造方法によれば次のような効果がある。
すなわち、複数のベアチップを重ねる半導体装置の場合
であっても、各ベアチップの間に絶縁部材を介している
ためベアチップの放熱効率を向上させることが可能とな
る。また、本発明の半導体装置を製造するにあたり、ボ
ンディングワイヤーを用いて配線を行っているため、多
品種少量生産に即座に対応することが可能となる。
【図1】本発明の半導体装置を説明する模式断面図で、
(a)は2段の例、(b)は3段の例である。
(a)は2段の例、(b)は3段の例である。
【図2】本発明の半導体装置の製造方法を(a)〜
(c)の各工程順に説明する模式断面図である。
(c)の各工程順に説明する模式断面図である。
【図3】他の例を(a)〜(c)に示す模式断面図であ
る。
る。
1 半導体装置 2 回路基板 3 固定用樹脂 4 ボンディングワイヤー 5 絶縁用樹脂 10 第1ベアチップ 20 第2ベアチップ 30 第3ベアチップ
Claims (2)
- 【請求項1】 回路基板上に複数のベアチップが立体的
に実装されて成る半導体装置であって、 前記回路基板上に実装される一のベアチップと、 前記一のベアチップと前記回路基板上の回路との電気的
な接続を行う一のボンディングワイヤーと、 前記一のベアチップ上に絶縁部材を介して接続される他
のベアチップと、 前記他のベアチップと前記回路基板上の回路との電気的
な接続を行う他のボンディングワイヤーとを備えている
ことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】 回路基板上に一のベアチップを実装した
後、該一のベアチップと該回路基板上の回路とを一のボ
ンディングワイヤーで接続し、 次いで、前記一のベアチップ上に絶縁部材を介して他の
ベアチップを接続した後、該他のベアチップと前記回路
基板上の回路とを他のボンディングワイヤーで接続する
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7085021A JPH08288455A (ja) | 1995-04-11 | 1995-04-11 | 半導体装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7085021A JPH08288455A (ja) | 1995-04-11 | 1995-04-11 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08288455A true JPH08288455A (ja) | 1996-11-01 |
Family
ID=13847085
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7085021A Pending JPH08288455A (ja) | 1995-04-11 | 1995-04-11 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08288455A (ja) |
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20020015214A (ko) * | 2000-08-21 | 2002-02-27 | 마이클 디. 오브라이언 | 반도체패키지 |
| JP2002203939A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-19 | Sony Corp | 集積型電子部品及びその集積方法 |
| JP2003031760A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-31 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置 |
| US6545365B2 (en) | 2000-04-26 | 2003-04-08 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Resin-sealed chip stack type semiconductor device |
| US6800943B2 (en) * | 2001-04-03 | 2004-10-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Solid image pickup device |
| JP2005519471A (ja) * | 2002-02-28 | 2005-06-30 | フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド | 積層ダイ半導体装置 |
| US6977439B2 (en) | 2002-03-21 | 2005-12-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor chip stack structure |
| JP2006040983A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Akita Denshi Systems:Kk | 半導体装置の製造方法 |
| JP2006128169A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
| JP2007088512A (ja) * | 2006-12-26 | 2007-04-05 | Sharp Corp | 半導体装置 |
| JP2007318060A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-12-06 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
| CN100369248C (zh) * | 2004-02-13 | 2008-02-13 | 株式会社东芝 | 叠层mcp及其制造方法 |
| JP2008078367A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
| DE19905220B4 (de) * | 1998-02-11 | 2008-11-20 | Microelectronic Packaging Dresden Gmbh | Multichipanordnung |
| CN100440464C (zh) * | 2005-03-28 | 2008-12-03 | 株式会社东芝 | 层叠型半导体器件以及层叠型电子部件的制造方法 |
| US7518223B2 (en) * | 2001-08-24 | 2009-04-14 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor devices and semiconductor device assemblies including a nonconfluent spacer layer |
| JP2009099922A (ja) * | 2007-10-16 | 2009-05-07 | Hynix Semiconductor Inc | 積層半導体パッケージ及びこれの製造方法 |
| US7615413B2 (en) | 2005-03-28 | 2009-11-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing stack-type semiconductor device and method of manufacturing stack-type electronic component |
| US7629695B2 (en) | 2004-05-20 | 2009-12-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Stacked electronic component and manufacturing method thereof |
| US7633144B1 (en) | 2006-05-24 | 2009-12-15 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package |
| JP2019186552A (ja) * | 2018-04-12 | 2019-10-24 | アナログ・ディヴァイシス・グローバル・アンリミテッド・カンパニー | 集積デバイスパッケージの実装構造体 |
-
1995
- 1995-04-11 JP JP7085021A patent/JPH08288455A/ja active Pending
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19905220B4 (de) * | 1998-02-11 | 2008-11-20 | Microelectronic Packaging Dresden Gmbh | Multichipanordnung |
| US6545365B2 (en) | 2000-04-26 | 2003-04-08 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Resin-sealed chip stack type semiconductor device |
| KR20020015214A (ko) * | 2000-08-21 | 2002-02-27 | 마이클 디. 오브라이언 | 반도체패키지 |
| JP2002203939A (ja) * | 2000-12-27 | 2002-07-19 | Sony Corp | 集積型電子部品及びその集積方法 |
| US6800943B2 (en) * | 2001-04-03 | 2004-10-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Solid image pickup device |
| JP2003031760A (ja) * | 2001-07-11 | 2003-01-31 | Nec Kyushu Ltd | 半導体装置 |
| US7518223B2 (en) * | 2001-08-24 | 2009-04-14 | Micron Technology, Inc. | Semiconductor devices and semiconductor device assemblies including a nonconfluent spacer layer |
| JP2005519471A (ja) * | 2002-02-28 | 2005-06-30 | フリースケール セミコンダクター インコーポレイテッド | 積層ダイ半導体装置 |
| US6977439B2 (en) | 2002-03-21 | 2005-12-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor chip stack structure |
| CN100369248C (zh) * | 2004-02-13 | 2008-02-13 | 株式会社东芝 | 叠层mcp及其制造方法 |
| US7629695B2 (en) | 2004-05-20 | 2009-12-08 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Stacked electronic component and manufacturing method thereof |
| US9024424B2 (en) | 2004-05-20 | 2015-05-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Stacked electronic component and manufacturing method thereof |
| US8268673B2 (en) | 2004-05-20 | 2012-09-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Stacked electronic component and manufacturing method thereof |
| US8008763B2 (en) | 2004-05-20 | 2011-08-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Stacked electronic component and manufacturing method thereof |
| JP2006040983A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Akita Denshi Systems:Kk | 半導体装置の製造方法 |
| JP2006128169A (ja) * | 2004-10-26 | 2006-05-18 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
| US7785926B2 (en) | 2005-03-28 | 2010-08-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing stack-type semiconductor device and method of manufacturing stack-type electronic component |
| CN100440464C (zh) * | 2005-03-28 | 2008-12-03 | 株式会社东芝 | 层叠型半导体器件以及层叠型电子部件的制造方法 |
| US7615413B2 (en) | 2005-03-28 | 2009-11-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing stack-type semiconductor device and method of manufacturing stack-type electronic component |
| JP2007318060A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-12-06 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
| US7633144B1 (en) | 2006-05-24 | 2009-12-15 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package |
| US8518744B2 (en) | 2006-09-21 | 2013-08-27 | Renesas Electronics Corporation | Method of manufacturing semiconductor device |
| JP2008078367A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
| JP2007088512A (ja) * | 2006-12-26 | 2007-04-05 | Sharp Corp | 半導体装置 |
| JP2009099922A (ja) * | 2007-10-16 | 2009-05-07 | Hynix Semiconductor Inc | 積層半導体パッケージ及びこれの製造方法 |
| JP2019186552A (ja) * | 2018-04-12 | 2019-10-24 | アナログ・ディヴァイシス・グローバル・アンリミテッド・カンパニー | 集積デバイスパッケージの実装構造体 |
| US11127716B2 (en) | 2018-04-12 | 2021-09-21 | Analog Devices International Unlimited Company | Mounting structures for integrated device packages |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6261865B1 (en) | Multi chip semiconductor package and method of construction | |
| US6410987B1 (en) | Semiconductor device and a method of manufacturing the same and an electronic device | |
| CN104520987B (zh) | 具有引线键合互连且基板少的堆叠封装 | |
| KR970002140B1 (ko) | 반도체 소자, 패키지 방법, 및 리드테이프 | |
| US7074696B1 (en) | Semiconductor circuit module and method for fabricating semiconductor circuit modules | |
| US20040106229A1 (en) | Methods for assembling multiple semiconductor devices | |
| KR100926002B1 (ko) | 반도체 패키지 디바이스와 그의 형성 및 테스트 방법 | |
| US20020172024A1 (en) | Method for encapsulating intermediate conductive elements connecting a semiconductor die to a substrate and semiconductor devices so packaged | |
| JPH0661406A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法及びテ−プキャリア | |
| US7888179B2 (en) | Semiconductor device including a semiconductor chip which is mounted spaning a plurality of wiring boards and manufacturing method thereof | |
| US9147600B2 (en) | Packages for multiple semiconductor chips | |
| JPS6290953A (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
| KR20020053739A (ko) | 집적 전자 장치 및 집적 방법 | |
| US7598599B2 (en) | Semiconductor package system with substrate having different bondable heights at lead finger tips | |
| JPH08306723A (ja) | 電子回路盤とその製造方法 | |
| KR20070034438A (ko) | 스택된 다이 패키지의 제조 방법 | |
| JPH05326735A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
| CN100435329C (zh) | 微引线框封装及制造微引线框封装的方法 | |
| US6284566B1 (en) | Chip scale package and method for manufacture thereof | |
| US6410977B1 (en) | Semiconductor device, circuit board electronic instrument and method of making a semiconductor device | |
| US6339253B1 (en) | Semiconductor package | |
| KR100207902B1 (ko) | 리드 프레임을 이용한 멀티 칩 패키지 | |
| JP2004031561A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| KR100704311B1 (ko) | 내부리드 노출형 반도체 칩 패키지와 그 제조 방법 | |
| JP2568057B2 (ja) | 集積回路装置 |