JPH0829067A - 縦形焼成炉 - Google Patents
縦形焼成炉Info
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- JPH0829067A JPH0829067A JP6157341A JP15734194A JPH0829067A JP H0829067 A JPH0829067 A JP H0829067A JP 6157341 A JP6157341 A JP 6157341A JP 15734194 A JP15734194 A JP 15734194A JP H0829067 A JPH0829067 A JP H0829067A
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Landscapes
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Furnace Housings, Linings, Walls, And Ceilings (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 炉体寸法が小さく、しかもセラミック素体を
急速に昇降温させることが可能な縦形焼成炉を提供す
る。 【構成】 縦形焼成炉1は炉体2を備えてなる。炉体2
の内部には、焼成室4および脱脂室5が設けられ、焼成
室4と脱脂室5の境界部分には、シャッタ7および断熱
板9が備えられる。そして、上端部に匣11および昇降
蓋12が取り付けられた昇降棒10が、匣11に被処理
物を載置した状態で、脱脂室5と焼成室4の間を昇降し
て焼成が行われる。このとき、昇降棒10の昇降に対応
して、シャッタ7が開閉し、断熱板9が昇降する。
急速に昇降温させることが可能な縦形焼成炉を提供す
る。 【構成】 縦形焼成炉1は炉体2を備えてなる。炉体2
の内部には、焼成室4および脱脂室5が設けられ、焼成
室4と脱脂室5の境界部分には、シャッタ7および断熱
板9が備えられる。そして、上端部に匣11および昇降
蓋12が取り付けられた昇降棒10が、匣11に被処理
物を載置した状態で、脱脂室5と焼成室4の間を昇降し
て焼成が行われる。このとき、昇降棒10の昇降に対応
して、シャッタ7が開閉し、断熱板9が昇降する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックコンデンサ
等の電子部品を構成するセラミック素体を焼成するため
に用いられる縦形焼成炉に関する。
等の電子部品を構成するセラミック素体を焼成するため
に用いられる縦形焼成炉に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の縦形焼成炉の構成を図2を用いて
説明する。図2において、21は縦形焼成炉であり、炉
体22を架台23に載置してなるものである。ここで、
炉体22は、その内部に焼成室24と、焼成室24の上
端部から炉外に連通するガス排出管25を有し、焼成室
24の凹部24aにヒータ26を備え、さらに、その下
端部に、架台23側に突出する開口部22aから上向き
に焼成室24に挿入された昇降棒27を備えるものであ
る。また、昇降棒27の上端部には、被処理物としての
セラミック素体(図示せず)を載置する匣28が取り付
けられ、昇降棒27の下端部の近傍にはガス供給管29
が接続される。そして、ガス供給管29は昇降棒27の
内部を貫通し、昇降棒27の上端部に開口部(図示せ
ず)を有するものである。
説明する。図2において、21は縦形焼成炉であり、炉
体22を架台23に載置してなるものである。ここで、
炉体22は、その内部に焼成室24と、焼成室24の上
端部から炉外に連通するガス排出管25を有し、焼成室
24の凹部24aにヒータ26を備え、さらに、その下
端部に、架台23側に突出する開口部22aから上向き
に焼成室24に挿入された昇降棒27を備えるものであ
る。また、昇降棒27の上端部には、被処理物としての
セラミック素体(図示せず)を載置する匣28が取り付
けられ、昇降棒27の下端部の近傍にはガス供給管29
が接続される。そして、ガス供給管29は昇降棒27の
内部を貫通し、昇降棒27の上端部に開口部(図示せ
ず)を有するものである。
【0003】このような構成を有する縦形焼成炉21に
おいては、焼成室24の内部の下方から上方にかけて、
低温から高温となる温度勾配が形成され、セラミック素
体が次のように焼成されるものである。すなわち、昇降
棒27が上昇移動することにより、焼成室24の下方で
脱脂され、上方で本焼成された後、昇降棒27が下降移
動することにより、再び焼成室24の下方に移され、そ
こで冷却されるものである。このようにして、セラミッ
ク素体を急速に昇降温させることができるものである。
また、ガス供給管29を介して、脱脂用ガスおよび焼成
用ガス(図示せず)が焼成室24に取り込まれ、ガス排
出管25を介して、使用済のガス(図示せず)が炉外に
排出されるものである。
おいては、焼成室24の内部の下方から上方にかけて、
低温から高温となる温度勾配が形成され、セラミック素
体が次のように焼成されるものである。すなわち、昇降
棒27が上昇移動することにより、焼成室24の下方で
脱脂され、上方で本焼成された後、昇降棒27が下降移
動することにより、再び焼成室24の下方に移され、そ
こで冷却されるものである。このようにして、セラミッ
ク素体を急速に昇降温させることができるものである。
また、ガス供給管29を介して、脱脂用ガスおよび焼成
用ガス(図示せず)が焼成室24に取り込まれ、ガス排
出管25を介して、使用済のガス(図示せず)が炉外に
排出されるものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
に構成した縦形焼成炉21においては、セラミック素体
を急速に昇降温させるために、温度勾配を形成しなけれ
ばならず、焼成室24の長手方向の寸法を長くする必要
があった。この結果、炉体寸法が、例えば5m乃至10
mという長大なものとなってしまった。そこで、本発明
においては、炉体寸法が小さく、しかもセラミック素体
を急速に昇降温させることが可能な縦形焼成炉を提供す
ることを目的とする。
に構成した縦形焼成炉21においては、セラミック素体
を急速に昇降温させるために、温度勾配を形成しなけれ
ばならず、焼成室24の長手方向の寸法を長くする必要
があった。この結果、炉体寸法が、例えば5m乃至10
mという長大なものとなってしまった。そこで、本発明
においては、炉体寸法が小さく、しかもセラミック素体
を急速に昇降温させることが可能な縦形焼成炉を提供す
ることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明においては、縦形焼成炉の構成として、炉
体の内部の上下位置それぞれに配置され、互いに連続し
た焼成室および脱脂室を備え、前記焼成室と前記脱脂室
の境界部分に、開閉自在なシャッタを備えるとともに、
上端部に匣および昇降蓋が取り付けられ、被処理物を前
記匣に載置した状態で、炉体の下方から上向きに前記脱
脂室の内部に挿入され、前記脱脂室とその上方の前記焼
成室の間を昇降する昇降棒を備えたことを特徴とする。
めに、本発明においては、縦形焼成炉の構成として、炉
体の内部の上下位置それぞれに配置され、互いに連続し
た焼成室および脱脂室を備え、前記焼成室と前記脱脂室
の境界部分に、開閉自在なシャッタを備えるとともに、
上端部に匣および昇降蓋が取り付けられ、被処理物を前
記匣に載置した状態で、炉体の下方から上向きに前記脱
脂室の内部に挿入され、前記脱脂室とその上方の前記焼
成室の間を昇降する昇降棒を備えたことを特徴とする。
【0006】また、前記昇降棒に、その軸周に沿って回
転する回転機構を備えたことを特徴とする。
転する回転機構を備えたことを特徴とする。
【0007】さらに、前記シャッタに冷却機構を備えた
ことを特徴とする。
ことを特徴とする。
【0008】また、前記シャッタの冷却機構として、前
記シャッタの内部に、冷却水が注入された配管を備えた
ことを特徴とする。
記シャッタの内部に、冷却水が注入された配管を備えた
ことを特徴とする。
【0009】加えて、前記シャッタの上方に、前記焼成
室の内部を昇降する断熱板を備えたことを特徴とする。
室の内部を昇降する断熱板を備えたことを特徴とする。
【0010】
【作用】本発明にかかる縦形焼成炉によれば、焼成室と
脱脂室の境界部分に設けられたシャッタにより、焼成室
から脱脂室へ伝導する熱量が制御され、焼成室は高温
に、脱脂室は低温に保たれる。また、シャッタを開くこ
とにより、焼成室から脱脂室への熱伝導が行われる。
脱脂室の境界部分に設けられたシャッタにより、焼成室
から脱脂室へ伝導する熱量が制御され、焼成室は高温
に、脱脂室は低温に保たれる。また、シャッタを開くこ
とにより、焼成室から脱脂室への熱伝導が行われる。
【0011】
【実施例】本発明にかかる縦形焼成炉の構成を図1
(a)を用いて説明する。図1(a)において、1は縦
形焼成炉であり、炉体2を架台3に載置してなるもので
ある。ここで、炉体2は、その内部の上下位置に、互い
に連続して形成された焼成室4および脱脂室5を備える
ものである。また、焼成室4の内部には凹部4aが形成
され、凹部4aに柱状のヒータ6が、その一端を凹部4
aの上部に挿入した状態で配置される。さらに、焼成室
4と脱脂室5の境にあたる部分に配置されるシャッタ7
は、炉外に設置された空気圧シリンダ機構等の駆動装置
(図示せず)に連結されており、焼成室4と脱脂室5を
相互に開放または閉塞するものである。さらに、シャッ
タ7は、冷却機構(図示せず)を備えるものである。こ
の冷却機構は、例えばシャッタ7の内部に設けた配管に
冷却水を注入することにより、加熱されたシャッタ7を
冷却するものである。
(a)を用いて説明する。図1(a)において、1は縦
形焼成炉であり、炉体2を架台3に載置してなるもので
ある。ここで、炉体2は、その内部の上下位置に、互い
に連続して形成された焼成室4および脱脂室5を備える
ものである。また、焼成室4の内部には凹部4aが形成
され、凹部4aに柱状のヒータ6が、その一端を凹部4
aの上部に挿入した状態で配置される。さらに、焼成室
4と脱脂室5の境にあたる部分に配置されるシャッタ7
は、炉外に設置された空気圧シリンダ機構等の駆動装置
(図示せず)に連結されており、焼成室4と脱脂室5を
相互に開放または閉塞するものである。さらに、シャッ
タ7は、冷却機構(図示せず)を備えるものである。こ
の冷却機構は、例えばシャッタ7の内部に設けた配管に
冷却水を注入することにより、加熱されたシャッタ7を
冷却するものである。
【0012】また、焼成室4の内部のシャッタ7の上方
には、支持棒8に支持された断熱板9が配置される。こ
こで、支持棒8は、炉外に設置された空気圧シリンダ機
構等の駆動装置(図示せず)に連結されており、この駆
動装置により、支持棒8および断熱板9の昇降動作が行
われるものである。また、炉体2の下方には、炉体2の
下端部の開口部2aから上向きに脱脂室5および焼成室
4の内部に挿入される昇降棒10(図1(a)において
は挿入する前の状態を示す)が配置される。昇降棒10
の上端部には、被処理物としてのセラミック素体(図示
せず)を載置する匣11が取り付けられ、匣11の下方
には昇降蓋12が、匣11に接した状態で取り付けられ
る。ここで、昇降蓋12は、板状の断熱材を互いに間隔
をあけて、複数枚積層してなるものである。また、昇降
棒10の下端部は、炉外に設置されたシリンダ機構等の
駆動装置(図示せず)に連結されており、この駆動装置
は、昇降棒10の昇降動作を行うとともに、昇降棒10
を軸周に沿って回転させる機構を兼ねるものである。そ
して、匣11には、セラミック素体付近の温度を検出す
る熱伝対等の温度センサ(図示せず)が設けられ、検出
された温度情報は炉外に設置されたマイクロ・コンピュ
ータ等の制御手段(図示せず)に伝わり、この制御手段
が温度情報に基づいて昇降棒10に連結する駆動装置の
動作を制御し、昇降棒10の昇降速度や停止位置等を制
御するものである。
には、支持棒8に支持された断熱板9が配置される。こ
こで、支持棒8は、炉外に設置された空気圧シリンダ機
構等の駆動装置(図示せず)に連結されており、この駆
動装置により、支持棒8および断熱板9の昇降動作が行
われるものである。また、炉体2の下方には、炉体2の
下端部の開口部2aから上向きに脱脂室5および焼成室
4の内部に挿入される昇降棒10(図1(a)において
は挿入する前の状態を示す)が配置される。昇降棒10
の上端部には、被処理物としてのセラミック素体(図示
せず)を載置する匣11が取り付けられ、匣11の下方
には昇降蓋12が、匣11に接した状態で取り付けられ
る。ここで、昇降蓋12は、板状の断熱材を互いに間隔
をあけて、複数枚積層してなるものである。また、昇降
棒10の下端部は、炉外に設置されたシリンダ機構等の
駆動装置(図示せず)に連結されており、この駆動装置
は、昇降棒10の昇降動作を行うとともに、昇降棒10
を軸周に沿って回転させる機構を兼ねるものである。そ
して、匣11には、セラミック素体付近の温度を検出す
る熱伝対等の温度センサ(図示せず)が設けられ、検出
された温度情報は炉外に設置されたマイクロ・コンピュ
ータ等の制御手段(図示せず)に伝わり、この制御手段
が温度情報に基づいて昇降棒10に連結する駆動装置の
動作を制御し、昇降棒10の昇降速度や停止位置等を制
御するものである。
【0013】また、脱脂室5の側部に、脱脂用ガスを供
給する脱脂用ガス供給管13、および使用済の焼成用ガ
スを排出するための焼成用ガス排出管14が、それぞれ
炉外に連通して設けられる。さらに、焼成室4の上端部
には、焼成用ガスを供給する焼成用ガス供給管15と、
使用済の脱脂用ガスおよび焼成用ガスを排出するガス排
出管16が、それぞれ炉外に連通して設けられる。
給する脱脂用ガス供給管13、および使用済の焼成用ガ
スを排出するための焼成用ガス排出管14が、それぞれ
炉外に連通して設けられる。さらに、焼成室4の上端部
には、焼成用ガスを供給する焼成用ガス供給管15と、
使用済の脱脂用ガスおよび焼成用ガスを排出するガス排
出管16が、それぞれ炉外に連通して設けられる。
【0014】次に、縦形焼成炉1において、どのように
焼成が行われるかを、図1(b)と図1(c)を用いて
説明する。縦形焼成炉1においては、脱脂用ガス供給管
13を介して、脱脂室5に脱脂用ガス(図示せず)が供
給され、そこで脱脂が行われ、焼成用ガス供給管15を
介して、焼成室4に焼成用ガスが供給され、そこで本焼
成が行われるものである。焼成室4と脱脂室5は、断熱
板9およびシャッタ7を介して配置されるため、シャッ
タ7が閉じているときには、ヒータ6による放射熱の脱
脂室5への伝導は大幅に抑制される。したがって、ヒー
タ6により、焼成室4は急速に昇温され、例えば100
0℃の高温となり、その高温が維持されるものである。
ここで、図1(b)に示すように、昇降棒10が上昇移
動することにより、匣11に載置されたセラミック素体
が脱脂室5に入れられる。そして、昇降棒10に取り付
けられた昇降蓋12により炉体2の開口部2aが閉塞さ
れる。このとき、昇降蓋12は、複数枚の断熱材が間隔
をあけて積層されてなり、脱脂室5の内部の脱脂用ガス
および熱が外部に漏れることを防止するものである。
焼成が行われるかを、図1(b)と図1(c)を用いて
説明する。縦形焼成炉1においては、脱脂用ガス供給管
13を介して、脱脂室5に脱脂用ガス(図示せず)が供
給され、そこで脱脂が行われ、焼成用ガス供給管15を
介して、焼成室4に焼成用ガスが供給され、そこで本焼
成が行われるものである。焼成室4と脱脂室5は、断熱
板9およびシャッタ7を介して配置されるため、シャッ
タ7が閉じているときには、ヒータ6による放射熱の脱
脂室5への伝導は大幅に抑制される。したがって、ヒー
タ6により、焼成室4は急速に昇温され、例えば100
0℃の高温となり、その高温が維持されるものである。
ここで、図1(b)に示すように、昇降棒10が上昇移
動することにより、匣11に載置されたセラミック素体
が脱脂室5に入れられる。そして、昇降棒10に取り付
けられた昇降蓋12により炉体2の開口部2aが閉塞さ
れる。このとき、昇降蓋12は、複数枚の断熱材が間隔
をあけて積層されてなり、脱脂室5の内部の脱脂用ガス
および熱が外部に漏れることを防止するものである。
【0015】次に、シャッタ7を開くことにより、ヒー
タ6の放射熱が、断熱板9を介して脱脂室5に伝導す
る。そして、シャッタ7を開く度合いを調整するととも
に、断熱板9の上下位置を調整することにより、伝導す
る熱量を制御でき、匣11上のセラミック素体の温度
は、例えば400℃のまま維持される。また、このと
き、シャッタ7は、その内部に備える冷却機構により、
脱脂室5に伝導した熱を吸収するので、焼成室4から匣
11上のセラミック素体へ伝導する熱量を制御するうえ
で大きな効果があるものである。さらに、昇降棒10
を、例えば毎分5乃至10回、軸周に沿って回転させる
ことにより、匣11上のセラミック素体が均等に加熱さ
れるものである。
タ6の放射熱が、断熱板9を介して脱脂室5に伝導す
る。そして、シャッタ7を開く度合いを調整するととも
に、断熱板9の上下位置を調整することにより、伝導す
る熱量を制御でき、匣11上のセラミック素体の温度
は、例えば400℃のまま維持される。また、このと
き、シャッタ7は、その内部に備える冷却機構により、
脱脂室5に伝導した熱を吸収するので、焼成室4から匣
11上のセラミック素体へ伝導する熱量を制御するうえ
で大きな効果があるものである。さらに、昇降棒10
を、例えば毎分5乃至10回、軸周に沿って回転させる
ことにより、匣11上のセラミック素体が均等に加熱さ
れるものである。
【0016】このようにして、セラミック素体の脱脂が
行われた後、シャッタ7が全開し、続いて断熱板9を支
持する支持棒8が上昇移動することにより、断熱板9が
焼成室4の上方に移動する。こうして、昇降棒10の進
路が空けられたところへ、昇降棒10が上昇移動するこ
とにより、セラミック素体が焼成室4に入れられる。そ
して、図1(c)に示すように、シャッタ7が再び閉
じ、昇降棒10に取り付けられた昇降蓋12が、シャッ
タ7とともに焼成室4を閉塞する。このとき、昇降蓋1
2は、焼成室4を閉塞するとともに、焼成室4からシャ
ッタ7に伝導する熱量を抑制するものである。このよう
に、低温の脱脂室5から高温の焼成室4に移されること
により、セラミック素体は急速に加熱され、例えば毎秒
5℃ずつ昇温する。そして、セラミック素体は、例えば
1300℃のトップ温度まで昇温された後、例えば10
00℃まで降温される。
行われた後、シャッタ7が全開し、続いて断熱板9を支
持する支持棒8が上昇移動することにより、断熱板9が
焼成室4の上方に移動する。こうして、昇降棒10の進
路が空けられたところへ、昇降棒10が上昇移動するこ
とにより、セラミック素体が焼成室4に入れられる。そ
して、図1(c)に示すように、シャッタ7が再び閉
じ、昇降棒10に取り付けられた昇降蓋12が、シャッ
タ7とともに焼成室4を閉塞する。このとき、昇降蓋1
2は、焼成室4を閉塞するとともに、焼成室4からシャ
ッタ7に伝導する熱量を抑制するものである。このよう
に、低温の脱脂室5から高温の焼成室4に移されること
により、セラミック素体は急速に加熱され、例えば毎秒
5℃ずつ昇温する。そして、セラミック素体は、例えば
1300℃のトップ温度まで昇温された後、例えば10
00℃まで降温される。
【0017】こうして、本焼成が完了すると、シャッタ
7が再び開いて、昇降棒10が下降移動することによ
り、セラミック素体が再び脱脂室5に入れられる。ここ
で、セラミック素体が本焼成されている間、炉体2の下
方の開口部2aは閉塞されないため、開口部2aを介し
て脱脂室5の内部の熱が放散し、脱脂室5は急速に降温
されるものである。これにより、脱脂室5に入れられた
セラミック素体は急速に冷却され、例えば100℃以下
の低温となり、その後、昇降棒10がさらに下降移動す
ることより、セラミック素体が炉外に出され、焼成が完
了するものである。
7が再び開いて、昇降棒10が下降移動することによ
り、セラミック素体が再び脱脂室5に入れられる。ここ
で、セラミック素体が本焼成されている間、炉体2の下
方の開口部2aは閉塞されないため、開口部2aを介し
て脱脂室5の内部の熱が放散し、脱脂室5は急速に降温
されるものである。これにより、脱脂室5に入れられた
セラミック素体は急速に冷却され、例えば100℃以下
の低温となり、その後、昇降棒10がさらに下降移動す
ることより、セラミック素体が炉外に出され、焼成が完
了するものである。
【0018】このように、本発明にかかる縦形焼成炉1
においては、シャッタ7および断熱板9を用いて、焼成
室4から脱脂室5へ伝導する熱量を制御し、焼成室4を
高温に、脱脂室5を低温に維持するものである。そし
て、セラミック素体を脱脂室5から焼成室4へ、あるい
は焼成室4から脱脂室5へ移動させるだけで、セラミッ
ク素体の急速な昇降温が可能なものである。したがっ
て、セラミック素体を移動させる距離は短くてよいもの
であり、炉体2の長手方向の寸法は、従来の炉体内が分
離されていない縦形焼成炉の炉体寸法に比べて、例えば
2分の1程度とすることができ、縦形焼成炉の小形化が
実現できるものである。また、焼成炉の小形化に伴い、
消費エネルギーも、従来の縦形焼成炉に要する消費エネ
ルギーの、例えば2分の1程度でよいものとなり、焼成
にかかるコストを低減できるものである。さらに、本発
明にかかる縦形焼成炉1においては、焼成室4から脱脂
室5へ移動させるだけで、セラミック素体の冷却が行え
る。したがって、セラミック素体の冷却を行うに際し
て、まず炉体を冷却しなければならない従来の焼成炉に
比べて、焼成時間を、例えば2分の1程度に短縮できる
ものである。
においては、シャッタ7および断熱板9を用いて、焼成
室4から脱脂室5へ伝導する熱量を制御し、焼成室4を
高温に、脱脂室5を低温に維持するものである。そし
て、セラミック素体を脱脂室5から焼成室4へ、あるい
は焼成室4から脱脂室5へ移動させるだけで、セラミッ
ク素体の急速な昇降温が可能なものである。したがっ
て、セラミック素体を移動させる距離は短くてよいもの
であり、炉体2の長手方向の寸法は、従来の炉体内が分
離されていない縦形焼成炉の炉体寸法に比べて、例えば
2分の1程度とすることができ、縦形焼成炉の小形化が
実現できるものである。また、焼成炉の小形化に伴い、
消費エネルギーも、従来の縦形焼成炉に要する消費エネ
ルギーの、例えば2分の1程度でよいものとなり、焼成
にかかるコストを低減できるものである。さらに、本発
明にかかる縦形焼成炉1においては、焼成室4から脱脂
室5へ移動させるだけで、セラミック素体の冷却が行え
る。したがって、セラミック素体の冷却を行うに際し
て、まず炉体を冷却しなければならない従来の焼成炉に
比べて、焼成時間を、例えば2分の1程度に短縮できる
ものである。
【0019】なお、本実施例においては、昇降棒10
が、その軸方向に沿って回転する回転機構を備える場合
について説明したが、このような回転機構を備えない縦
形焼成炉にも、本発明を適用できるものである。また、
本実施例においては、シャッタ7が冷却機構を備える場
合について説明したが、このような冷却機構を備えない
縦形焼成炉にも、本発明を適用できるものである。さら
に、本実施例においては、断熱板9を設ける場合につい
て説明したが、断熱板を設けない縦形焼成炉にも、本発
明を適用できるものである。加えて、本実施例において
は、昇降蓋12が、断熱材を複数枚積層してなる場合に
ついて説明したが、単一の断熱材から構成される昇降蓋
を用いた縦形焼成炉にも、本発明を適用できるものであ
る。
が、その軸方向に沿って回転する回転機構を備える場合
について説明したが、このような回転機構を備えない縦
形焼成炉にも、本発明を適用できるものである。また、
本実施例においては、シャッタ7が冷却機構を備える場
合について説明したが、このような冷却機構を備えない
縦形焼成炉にも、本発明を適用できるものである。さら
に、本実施例においては、断熱板9を設ける場合につい
て説明したが、断熱板を設けない縦形焼成炉にも、本発
明を適用できるものである。加えて、本実施例において
は、昇降蓋12が、断熱材を複数枚積層してなる場合に
ついて説明したが、単一の断熱材から構成される昇降蓋
を用いた縦形焼成炉にも、本発明を適用できるものであ
る。
【0020】
【発明の効果】本発明にかかる縦形焼成炉によれば、シ
ャッタおよび断熱板により、炉内の熱伝導が制御される
ため、焼成室が高温に、脱脂室が低温に維持されるもの
である。これにより、被焼成物であるセラミック素体を
脱脂室から焼成室へ、あるいは焼成室から脱脂室へ移動
させるだけで、セラミック素体を急速に昇降温させるこ
とができる。したがって、セラミック素体を移動させる
距離は短くなるので、炉体の長手方向の寸法を小さく
し、縦形焼成炉の小形化を実現できるものである。ま
た、焼成炉の小形化に伴い、消費エネルギーも少なくて
よいものとなり、焼成にかかるコストを低減できるもの
である。
ャッタおよび断熱板により、炉内の熱伝導が制御される
ため、焼成室が高温に、脱脂室が低温に維持されるもの
である。これにより、被焼成物であるセラミック素体を
脱脂室から焼成室へ、あるいは焼成室から脱脂室へ移動
させるだけで、セラミック素体を急速に昇降温させるこ
とができる。したがって、セラミック素体を移動させる
距離は短くなるので、炉体の長手方向の寸法を小さく
し、縦形焼成炉の小形化を実現できるものである。ま
た、焼成炉の小形化に伴い、消費エネルギーも少なくて
よいものとなり、焼成にかかるコストを低減できるもの
である。
【0021】さらに、本焼成後、炉体内が冷却するまで
待つことなく、セラミック素体を焼成室から脱脂室へ移
動させるだけで冷却が行えるので、焼成時間を大幅に短
縮できるものである。
待つことなく、セラミック素体を焼成室から脱脂室へ移
動させるだけで冷却が行えるので、焼成時間を大幅に短
縮できるものである。
【図1】本発明にかかる縦形焼成炉の側面断面図であ
り、(a)は焼成を行う前の状態、(b)は脱脂工程に
おける状態、(c)は本焼成工程における状態を示すも
のである。
り、(a)は焼成を行う前の状態、(b)は脱脂工程に
おける状態、(c)は本焼成工程における状態を示すも
のである。
【図2】従来の縦形焼成炉の側面断面図である。
1 縦形焼成炉 2 炉体 4 焼成室 5 脱脂室 7 シャッタ 9 断熱板 10 昇降棒 11 匣 12 昇降蓋
Claims (5)
- 【請求項1】 炉体の内部の上下位置それぞれに配置さ
れ、互いに連続した焼成室および脱脂室を備え、 前記焼成室と前記脱脂室の境界部分に、開閉自在なシャ
ッタを備えるとともに、 上端部に匣および昇降蓋が取り付けられ、被処理物を前
記匣に載置した状態で、炉体の下方から上向きに前記脱
脂室の内部に挿入され、前記脱脂室とその上方の前記焼
成室の間を昇降する昇降棒を備えたことを特徴とする縦
形焼成炉。 - 【請求項2】 前記昇降棒に、その軸周に沿って回転す
る回転機構を備えたことを特徴とする請求項1に記載の
縦形焼成炉。 - 【請求項3】 前記シャッタに冷却機構を備えたことを
特徴とする請求項1に記載の縦形焼成炉。 - 【請求項4】 前記シャッタの冷却機構として、前記シ
ャッタの内部に、冷却水が注入された配管を備えたこと
を特徴とする請求項3に記載の縦形焼成炉。 - 【請求項5】 前記シャッタの上方に、前記焼成室の内
部を昇降する断熱板を備えたことを特徴とする請求項1
に記載の縦形焼成炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6157341A JPH0829067A (ja) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | 縦形焼成炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6157341A JPH0829067A (ja) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | 縦形焼成炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0829067A true JPH0829067A (ja) | 1996-02-02 |
Family
ID=15647573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6157341A Pending JPH0829067A (ja) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | 縦形焼成炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0829067A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004003812A (ja) * | 2002-04-08 | 2004-01-08 | Kobe Steel Ltd | 等方圧加圧装置および等方圧加圧処理方法 |
| JP2015135202A (ja) * | 2014-01-16 | 2015-07-27 | 大成建設株式会社 | 加熱システムおよび加熱方法 |
| CN108413771A (zh) * | 2018-04-27 | 2018-08-17 | 浙江凯盈新材料有限公司 | 一种银浆烧结炉 |
| JP2021196135A (ja) * | 2020-06-17 | 2021-12-27 | 光洋サーモシステム株式会社 | 熱処理炉 |
-
1994
- 1994-07-08 JP JP6157341A patent/JPH0829067A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004003812A (ja) * | 2002-04-08 | 2004-01-08 | Kobe Steel Ltd | 等方圧加圧装置および等方圧加圧処理方法 |
| JP2015135202A (ja) * | 2014-01-16 | 2015-07-27 | 大成建設株式会社 | 加熱システムおよび加熱方法 |
| CN108413771A (zh) * | 2018-04-27 | 2018-08-17 | 浙江凯盈新材料有限公司 | 一种银浆烧结炉 |
| JP2021196135A (ja) * | 2020-06-17 | 2021-12-27 | 光洋サーモシステム株式会社 | 熱処理炉 |
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