JPH08291086A - １，２−ジクロルエタンの製造方法 - Google Patents
１，２−ジクロルエタンの製造方法Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＥＤＣを製造するいわゆるオキシ反応に
おいて、安全で廃ガス量が大幅に減少し効率的にＥＤＣ
を連続的に製造する方法を提供する。 【構成】 オキシ反応によりＥＤＣを製造する方法
において、反応器から流出した気体より、ＥＤＣ、水、
塩化水素及び二酸化炭素を除去した後に、酸素濃度２０
〜３０容量％、エチレン濃度１〜３容量％となるように
酸素及び窒素を混合し、オキシ反応器に供給することを
特徴とするＥＤＣの連続的な製造方法。
おいて、安全で廃ガス量が大幅に減少し効率的にＥＤＣ
を連続的に製造する方法を提供する。 【構成】 オキシ反応によりＥＤＣを製造する方法
において、反応器から流出した気体より、ＥＤＣ、水、
塩化水素及び二酸化炭素を除去した後に、酸素濃度２０
〜３０容量％、エチレン濃度１〜３容量％となるように
酸素及び窒素を混合し、オキシ反応器に供給することを
特徴とするＥＤＣの連続的な製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、１，２−ジクロルエタ
ン（以下、ＥＤＣという。）を熱分解して塩化ビニルモ
ノマーを製造する際、大量に副生する塩化水素を用い、
エチレン及び酸素との反応により、ＥＤＣを製造するい
わゆるオキシクロリネーション反応（以下、オキシ反応
という。）において、エチレンが酸素との燃焼や爆発等
の危険な状態になることを回避しつつ、エチレン収率及
び塩化水素収率を極めて向上させ、更に該反応を実施す
る際に系外に排出される気体（以下、廃ガスという。）
の量を大幅に削減しつつ、効率的にＥＤＣを連続的に製
造する方法に関するものである。
ン（以下、ＥＤＣという。）を熱分解して塩化ビニルモ
ノマーを製造する際、大量に副生する塩化水素を用い、
エチレン及び酸素との反応により、ＥＤＣを製造するい
わゆるオキシクロリネーション反応（以下、オキシ反応
という。）において、エチレンが酸素との燃焼や爆発等
の危険な状態になることを回避しつつ、エチレン収率及
び塩化水素収率を極めて向上させ、更に該反応を実施す
る際に系外に排出される気体（以下、廃ガスという。）
の量を大幅に削減しつつ、効率的にＥＤＣを連続的に製
造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】エチレン、塩化水素及び酸素からなるオ
キシ反応を実施する際には、代表的な例として、原料の
一つである酸素に、空気を用いるいわゆる空気法と、空
気から予め酸素を分取し、これを用いる酸素法とが工業
化プロセスとして、広く採用され実施されている。
キシ反応を実施する際には、代表的な例として、原料の
一つである酸素に、空気を用いるいわゆる空気法と、空
気から予め酸素を分取し、これを用いる酸素法とが工業
化プロセスとして、広く採用され実施されている。
【０００３】該オキシ反応工業プロセスにおいては、通
常、ＥＤＣ等の塩素化炭化水素及び未反応で残余するエ
チレン等の炭化水素が大気中に直接放出されないよう
に、これらの回収設備、廃ガス焼却炉等の廃ガス処理設
備が設置されている。
常、ＥＤＣ等の塩素化炭化水素及び未反応で残余するエ
チレン等の炭化水素が大気中に直接放出されないよう
に、これらの回収設備、廃ガス焼却炉等の廃ガス処理設
備が設置されている。
【０００４】そして、空気法の場合、オキシ反応器への
供給酸素源に同伴して窒素等の不活性ガスも大量に導入
されるために、系外への排出ガス量が膨大となることか
ら、大規模なＥＤＣ等の回収設備及び廃ガス処理設備が
設置されている。
供給酸素源に同伴して窒素等の不活性ガスも大量に導入
されるために、系外への排出ガス量が膨大となることか
ら、大規模なＥＤＣ等の回収設備及び廃ガス処理設備が
設置されている。
【０００５】一方、酸素法は、事前に窒素等の不活性成
分を取り除くことにより廃ガス量を大幅に削減すること
が可能となり、その結果廃ガス処理設備を極めて小型化
することができることから、近年、特に着目されてい
る。
分を取り除くことにより廃ガス量を大幅に削減すること
が可能となり、その結果廃ガス処理設備を極めて小型化
することができることから、近年、特に着目されてい
る。
【０００６】また、オキシ反応プロセスには、反応器自
体の構造の違いにより、微粒子の触媒を反応器内で流動
化させつつ、オキシ反応を実施するいわゆる流動床方式
と、粒子状の触媒を金属製の管に充填し、管外部には反
応により発生する熱を取り除く為の熱媒体を循環させつ
つ反応を実施する固定床方式とが実用化されている。
体の構造の違いにより、微粒子の触媒を反応器内で流動
化させつつ、オキシ反応を実施するいわゆる流動床方式
と、粒子状の触媒を金属製の管に充填し、管外部には反
応により発生する熱を取り除く為の熱媒体を循環させつ
つ反応を実施する固定床方式とが実用化されている。
【０００７】流動床反応器を用いる酸素法としては、特
公昭６３−１２９９号公報に、純酸素、エチレン、塩化
水素を導入し、オキシ反応を実施後、該反応器から流出
する反応ガスを冷却しこれに含まれるＥＤＣや水を凝縮
分離し、大部分の未凝縮ガス（以下、循環ガスとい
う。）は再び触媒の流動化等の為に反応器に循環し、Ｅ
ＤＣを連続的に製造する方法が開示されている。
公昭６３−１２９９号公報に、純酸素、エチレン、塩化
水素を導入し、オキシ反応を実施後、該反応器から流出
する反応ガスを冷却しこれに含まれるＥＤＣや水を凝縮
分離し、大部分の未凝縮ガス（以下、循環ガスとい
う。）は再び触媒の流動化等の為に反応器に循環し、Ｅ
ＤＣを連続的に製造する方法が開示されている。
【０００８】また、固定床反応器を用いる酸素法として
は、米国特許第３，８９２，８１６号には、循環ガス中
のエチレン濃度を５０％以上にし、系内反応ゾーンで常
時７０％以上のエチレン濃度を維持し、複数に分割した
反応器に、燃焼や爆発濃度以下となるように酸素を分割
導入しオキシ反応を実施する方法が開示され、特開平６
−１３４２９５号公報には、循環ガス中のエチレン濃度
を１〜１０容量％、酸素濃度を０．５〜７容量％に保つ
ことを特徴とする製造方法が開示されている。
は、米国特許第３，８９２，８１６号には、循環ガス中
のエチレン濃度を５０％以上にし、系内反応ゾーンで常
時７０％以上のエチレン濃度を維持し、複数に分割した
反応器に、燃焼や爆発濃度以下となるように酸素を分割
導入しオキシ反応を実施する方法が開示され、特開平６
−１３４２９５号公報には、循環ガス中のエチレン濃度
を１〜１０容量％、酸素濃度を０．５〜７容量％に保つ
ことを特徴とする製造方法が開示されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特公昭６３−
１２９９号公報に開示されている酸素法においては、流
動床反応器を用いるため、反応器内で触媒同士の摩耗に
より触媒が微粒子化し、その結果反応ガスに同伴し損失
するばかりでなく、凝縮液中に微粒子化した触媒又は触
媒成分である塩化銅等の重金属が混入し系外に排出され
るおそれがある。又、反応器が単一容器であることから
エチレンとの燃焼や爆発を回避するために酸素の供給に
当たっては特別な配慮が必要であり、仮に反応が不均一
となった場合や流動化の異常の際には、極めて危険であ
る等の安全上の問題も懸念される。
１２９９号公報に開示されている酸素法においては、流
動床反応器を用いるため、反応器内で触媒同士の摩耗に
より触媒が微粒子化し、その結果反応ガスに同伴し損失
するばかりでなく、凝縮液中に微粒子化した触媒又は触
媒成分である塩化銅等の重金属が混入し系外に排出され
るおそれがある。又、反応器が単一容器であることから
エチレンとの燃焼や爆発を回避するために酸素の供給に
当たっては特別な配慮が必要であり、仮に反応が不均一
となった場合や流動化の異常の際には、極めて危険であ
る等の安全上の問題も懸念される。
【００１０】固定床反応器を用いる酸素法として、米国
特許第３，８９２，８１６号に開示されている方法にお
いては、反応器直前で可燃物であるエチレンやＥＤＣが
高濃度の状態に直接純酸素を導入するため、その導入箇
所においては、燃焼や爆発等の可能性があり、特開平６
−１３４２９５号公報に開示されている固定床の酸素法
においても、循環ガス中のエチレン濃度が米国特許第
３，８９２，８１６号より低濃度ではあるが、やはり直
接高純度の酸素を導入することから、エチレン及びＥＤ
Ｃの燃焼組成となる為、爆発や燃焼の可能性を有してい
る。
特許第３，８９２，８１６号に開示されている方法にお
いては、反応器直前で可燃物であるエチレンやＥＤＣが
高濃度の状態に直接純酸素を導入するため、その導入箇
所においては、燃焼や爆発等の可能性があり、特開平６
−１３４２９５号公報に開示されている固定床の酸素法
においても、循環ガス中のエチレン濃度が米国特許第
３，８９２，８１６号より低濃度ではあるが、やはり直
接高純度の酸素を導入することから、エチレン及びＥＤ
Ｃの燃焼組成となる為、爆発や燃焼の可能性を有してい
る。
【００１１】更に、特公昭６３−１２９９号公報、米国
特許第３，８９２，８１６号及び特開平６−１３４２９
５号公報のいずれの方法においても、反応器から流出し
たガスを凝縮分離した後の未凝縮成分を循環ガスとして
そのまま用いるため、未凝縮ガスに同伴する微量の未反
応の塩化水素やＥＤＣ、更には水分が含まれることから
装置の腐食を考慮する必要がある。
特許第３，８９２，８１６号及び特開平６−１３４２９
５号公報のいずれの方法においても、反応器から流出し
たガスを凝縮分離した後の未凝縮成分を循環ガスとして
そのまま用いるため、未凝縮ガスに同伴する微量の未反
応の塩化水素やＥＤＣ、更には水分が含まれることから
装置の腐食を考慮する必要がある。
【００１２】また、オキシ反応の工業化において、プロ
セスの優位性を評価する際、エチレン及び塩化水素のＥ
ＤＣへの転化率、即ちエチレン収率及び塩化水素収率
は、極めて重要な意味を持ち、これらは可能な限り高い
値とすることが必要となる。つまり、エチレン収率の低
下はエチレンの燃焼量、副生成量又は未反応量の増加を
意味し、これらを排出する際、それに伴う廃ガス処理設
備の大型化、廃ガス処理費の増加等を引き起こす。ま
た、塩化水素収率についても同様であり、塩化水素収率
の低下は未反応量の増加を意味し、オキシ反応で生成す
る水の酸濃度が高くなり、該水を系外に排出する際の中
和等の処理費の増大を引き起こす。
セスの優位性を評価する際、エチレン及び塩化水素のＥ
ＤＣへの転化率、即ちエチレン収率及び塩化水素収率
は、極めて重要な意味を持ち、これらは可能な限り高い
値とすることが必要となる。つまり、エチレン収率の低
下はエチレンの燃焼量、副生成量又は未反応量の増加を
意味し、これらを排出する際、それに伴う廃ガス処理設
備の大型化、廃ガス処理費の増加等を引き起こす。ま
た、塩化水素収率についても同様であり、塩化水素収率
の低下は未反応量の増加を意味し、オキシ反応で生成す
る水の酸濃度が高くなり、該水を系外に排出する際の中
和等の処理費の増大を引き起こす。
【００１３】更に、オキシ反応で形成される塩素化炭化
水素類のうち、ＥＤＣ以外の副生成物については、これ
らの増加がエチレン収率及び塩化水素収率を低下させる
ことは当然であり、更にＥＤＣを精製処理する際にエネ
ルギーの消費量を増大させる等の悪影響を及ぼすため、
可能な限り生成した塩素化炭化水素成分の内、ＥＤＣの
割合（以下、ＥＤＣ純度という。）を高くすることが必
要である。
水素類のうち、ＥＤＣ以外の副生成物については、これ
らの増加がエチレン収率及び塩化水素収率を低下させる
ことは当然であり、更にＥＤＣを精製処理する際にエネ
ルギーの消費量を増大させる等の悪影響を及ぼすため、
可能な限り生成した塩素化炭化水素成分の内、ＥＤＣの
割合（以下、ＥＤＣ純度という。）を高くすることが必
要である。
【００１４】このため、エチレン、塩化水素及び酸素と
からなるオキシ反応を実施する際に、系外に排出される
廃ガス量を抑制し、装置の腐食を防止し、更には爆発等
の危険性が無い条件で、ＥＤＣを高収率で得る製造方法
が要望されていた。
からなるオキシ反応を実施する際に、系外に排出される
廃ガス量を抑制し、装置の腐食を防止し、更には爆発等
の危険性が無い条件で、ＥＤＣを高収率で得る製造方法
が要望されていた。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、安全、か
つ、環境上問題がなく、しかも高収率でＥＤＣを製造す
る方法について鋭意検討した結果、オキシ反応器から流
出した未凝縮気体の組成を特定し、該気体を再びオキシ
反応器へ供給することにより、装置の腐食を防止し、更
には爆発等の危険性が無い条件で、ＥＤＣを高収率で製
造できることを見出だし本発明を完成するに至った。
つ、環境上問題がなく、しかも高収率でＥＤＣを製造す
る方法について鋭意検討した結果、オキシ反応器から流
出した未凝縮気体の組成を特定し、該気体を再びオキシ
反応器へ供給することにより、装置の腐食を防止し、更
には爆発等の危険性が無い条件で、ＥＤＣを高収率で製
造できることを見出だし本発明を完成するに至った。
【００１６】即ち、本発明はエチレン、塩化水素及び酸
素からなるオキシ反応により、ＥＤＣを製造する方法に
おいて、反応器から流出した気体を冷却し、ＥＤＣ及び
水を凝縮分離し、更に塩化水素及び二酸化炭素を除去し
た後に、酸素濃度２０〜３０容量％、エチレン濃度１〜
３容量％となるように酸素及び窒素を混合し、オキシ反
応器に供給することを特徴とするＥＤＣの連続的な製造
方法に関するものである。
素からなるオキシ反応により、ＥＤＣを製造する方法に
おいて、反応器から流出した気体を冷却し、ＥＤＣ及び
水を凝縮分離し、更に塩化水素及び二酸化炭素を除去し
た後に、酸素濃度２０〜３０容量％、エチレン濃度１〜
３容量％となるように酸素及び窒素を混合し、オキシ反
応器に供給することを特徴とするＥＤＣの連続的な製造
方法に関するものである。
【００１７】以下に、本発明の代表的形態を図１及び図
２に準じて、更に詳しく説明する。本発明はこれら図１
及び図２に限定されるものではない。
２に準じて、更に詳しく説明する。本発明はこれら図１
及び図２に限定されるものではない。
【００１８】図１及び図２に示された符号は、それぞれ
次のものを示す。１，２，３はそれぞれオキシ反応器、
４，５はそれぞれエチレン、塩化水素等を導入する導
管、６，７は酸素含有ガスを導入する導管、８は酸素混
合部、９は酸素及び窒素を導入する導管、１０は循環ガ
スが流れる導管、１１は冷却用熱交換器、１２は気液分
離槽、１３は後処理設備に導く導管、１４は導管、１５
は充填塔、１６は導管、１７は圧縮機、１８は塩素化炭
化水素化合物吸収装置、１９は導管を示す。
次のものを示す。１，２，３はそれぞれオキシ反応器、
４，５はそれぞれエチレン、塩化水素等を導入する導
管、６，７は酸素含有ガスを導入する導管、８は酸素混
合部、９は酸素及び窒素を導入する導管、１０は循環ガ
スが流れる導管、１１は冷却用熱交換器、１２は気液分
離槽、１３は後処理設備に導く導管、１４は導管、１５
は充填塔、１６は導管、１７は圧縮機、１８は塩素化炭
化水素化合物吸収装置、１９は導管を示す。
【００１９】図１は、本発明のＥＤＣの連続的な製造方
法の基本的なフローシートであり、図２は循環ガスの腐
食性をより抑制するためにさらに塩素化炭化水素化合物
吸収工程を付随したＥＤＣの連続的な製造方法のフロー
シートである。
法の基本的なフローシートであり、図２は循環ガスの腐
食性をより抑制するためにさらに塩素化炭化水素化合物
吸収工程を付随したＥＤＣの連続的な製造方法のフロー
シートである。
【００２０】１，２，３のオキシ反応器は、管内部にオ
キシ反応の触媒を充填し、管外には反応熱を系外に取り
除く熱媒体を循環させた多管式熱交換器形式の反応器で
あり、オキシ反応を行うことが可能であればいかなる反
応器も使用することが可能であり、例えば固定床反応
器、流動床反応器等を挙げることができる。
キシ反応の触媒を充填し、管外には反応熱を系外に取り
除く熱媒体を循環させた多管式熱交換器形式の反応器で
あり、オキシ反応を行うことが可能であればいかなる反
応器も使用することが可能であり、例えば固定床反応
器、流動床反応器等を挙げることができる。
【００２１】そして、本発明においては、安全に効率良
く反応を進行せることが可能であり、反応器からの流出
物に微細化した触媒等の不純物又は重金属成分が混入さ
れる可能性がきわめて低いことから特に固定床反応器が
好ましい。
く反応を進行せることが可能であり、反応器からの流出
物に微細化した触媒等の不純物又は重金属成分が混入さ
れる可能性がきわめて低いことから特に固定床反応器が
好ましい。
【００２２】また、本発明において用いられるオキシ反
応器は、安全に生産効率良くＥＤＣを製造することが可
能となることから、反応器を直列に３器以上連結するこ
とが好ましい。
応器は、安全に生産効率良くＥＤＣを製造することが可
能となることから、反応器を直列に３器以上連結するこ
とが好ましい。
【００２３】本発明において用いられる反応触媒として
は、オキシ反応の触媒として一般的に使用されているも
のでよく、例えば塩化銅を主成分とするいわゆるディー
コン触媒粒子等を使用することができる。
は、オキシ反応の触媒として一般的に使用されているも
のでよく、例えば塩化銅を主成分とするいわゆるディー
コン触媒粒子等を使用することができる。
【００２４】４，５の導管は、オキシ反応器への供給原
料のうち、エチレン及び塩化水素をオキシ反応器へ供給
するものであり、６，７の導管は、酸素含有ガスをオキ
シ反応器へ供給するものである。そして、オキシ反応器
が３器以上直列に配置されている場合、エチレン並びに
塩化水素の供給及び酸素含有ガスの供給は、エチレン及
びＥＤＣとの燃焼や爆発の危険を回避し安全に生産効率
良くＥＤＣを製造することが可能となることから、エチ
レン及び塩化水素を最も上流のオキシ反応器に全て供給
し、酸素含有ガスを上流から２器以上のオキシ反応器に
分割し供給することが好ましい。尚、反応のバランス
上、酸素含有ガスは上流から第３番目以降の反応器にも
分割し供給することも勿論可能である。
料のうち、エチレン及び塩化水素をオキシ反応器へ供給
するものであり、６，７の導管は、酸素含有ガスをオキ
シ反応器へ供給するものである。そして、オキシ反応器
が３器以上直列に配置されている場合、エチレン並びに
塩化水素の供給及び酸素含有ガスの供給は、エチレン及
びＥＤＣとの燃焼や爆発の危険を回避し安全に生産効率
良くＥＤＣを製造することが可能となることから、エチ
レン及び塩化水素を最も上流のオキシ反応器に全て供給
し、酸素含有ガスを上流から２器以上のオキシ反応器に
分割し供給することが好ましい。尚、反応のバランス
上、酸素含有ガスは上流から第３番目以降の反応器にも
分割し供給することも勿論可能である。
【００２５】本発明におけるエチレンの供給量は特に限
定するものではないが、塩化水素に対し両論比より若干
過剰とすることで塩化水素の未反応量を極力低減させる
ことが可能であり、同時にエチレンが高塩素化され不必
要な１，１，２−トリクロロエタン又は１，１，２，２
−テトラクロロエタン等の副産物の生成を抑制すること
が可能である。しかし、エチレン供給量を塩化水素との
両論比より過剰側とした場合、オキシ反応での未反応分
のエチレンが増加し、最終反応器の出口でのエチレン濃
度を高濃度化させるが、これは後述するように再び大部
分が反応器に戻されるため、全量が損失することにはな
らない。しかし、反応器から流出する気体中のエチレン
が高濃度となり、一部系外に排出される気体に大量のエ
チレンが同伴し収率を低下させることは当然ながら、さ
らに重要な問題としては酸素混合箇所８での爆発の可能
性があると考えられる。しかし、本発明の方法において
は、エチレンの高濃度化を防止するため窒素を導管９か
ら混入している。この時、エチレンの塩化水素に対する
供給量が必要以上に大過剰であるとこの窒素の必要量も
増加し、これは最終的にはオキシ反応器設備全体の廃ガ
ス量の増加を引き起こし不合理なこととなる。従って、
本発明におけるエチレン及び窒素の供給量を酸素混合箇
所８において、エチレン濃度１〜３容量％、好ましくは
１．５〜２．５容量％となるように調整することによ
り、オキシ反応における塩化水素の両論比に対するエチ
レンの供給過剰条件及び酸素混合箇所８での爆発の危険
性回避のいずれの目標も達成することが可能となった。
定するものではないが、塩化水素に対し両論比より若干
過剰とすることで塩化水素の未反応量を極力低減させる
ことが可能であり、同時にエチレンが高塩素化され不必
要な１，１，２−トリクロロエタン又は１，１，２，２
−テトラクロロエタン等の副産物の生成を抑制すること
が可能である。しかし、エチレン供給量を塩化水素との
両論比より過剰側とした場合、オキシ反応での未反応分
のエチレンが増加し、最終反応器の出口でのエチレン濃
度を高濃度化させるが、これは後述するように再び大部
分が反応器に戻されるため、全量が損失することにはな
らない。しかし、反応器から流出する気体中のエチレン
が高濃度となり、一部系外に排出される気体に大量のエ
チレンが同伴し収率を低下させることは当然ながら、さ
らに重要な問題としては酸素混合箇所８での爆発の可能
性があると考えられる。しかし、本発明の方法において
は、エチレンの高濃度化を防止するため窒素を導管９か
ら混入している。この時、エチレンの塩化水素に対する
供給量が必要以上に大過剰であるとこの窒素の必要量も
増加し、これは最終的にはオキシ反応器設備全体の廃ガ
ス量の増加を引き起こし不合理なこととなる。従って、
本発明におけるエチレン及び窒素の供給量を酸素混合箇
所８において、エチレン濃度１〜３容量％、好ましくは
１．５〜２．５容量％となるように調整することによ
り、オキシ反応における塩化水素の両論比に対するエチ
レンの供給過剰条件及び酸素混合箇所８での爆発の危険
性回避のいずれの目標も達成することが可能となった。
【００２６】また、導管９により供給される酸素量は、
エチレンの供給と同様に塩化水素に対する両論比におい
て、若干過剰とすることが好ましい。この理由として
は、反応器内においてエチレンの僅かな燃焼に酸素が消
費されること、微量の未反応酸素が残存しても酸素源と
して再びオキシ反応器へ供給されるため原料損失として
は、廃ガスに同伴する酸素のみの最小限に限られるため
である。
エチレンの供給と同様に塩化水素に対する両論比におい
て、若干過剰とすることが好ましい。この理由として
は、反応器内においてエチレンの僅かな燃焼に酸素が消
費されること、微量の未反応酸素が残存しても酸素源と
して再びオキシ反応器へ供給されるため原料損失として
は、廃ガスに同伴する酸素のみの最小限に限られるため
である。
【００２７】本発明において、酸素源としてオキシ反応
器に供給されるのは、反応器から流出し、後述する一連
の処理の後、導管１０からの循環ガス及び導管９からの
酸素並びに窒素を酸素混合箇所８で混合することによ
り、酸素濃度２０〜３０容量％、好ましくは２２〜２６
容量％に調整した酸素含有ガスである。この酸素含有ガ
スの酸素濃度が低い場合、すなわち導管１０からの循環
ガスの量が多くなると、オキシ反応器でのエチレン、塩
化水素及び酸素の各濃度が下がりオキシ反応が抑制され
ること、反応器での滞留時間、つまり反応時間が短くな
ることによりＥＤＣ生成量が減少し非効率的となり好ま
しくない。また、酸素含有ガスの酸素濃度が高い場合、
すなわち導管１０からの循環ガスの量が抑制されると、
オキシ反応器の通過速度が遅くなり触媒層での局所的な
暴走反応が生じたり、必要以上に高塩素化された１，
１，２−トリクロロエタン、１，１，２，２−テトラク
ロロエタン等の副生成物の生成量が増加することによ
り、生成するＥＤＣの純度が低下し好ましくない。よっ
て、本発明においては、酸素含有ガスの酸素濃度は、効
率良く純度の高いＥＤＣが生産でき、安定的な生産が可
能であることから２０〜３０容量％である。
器に供給されるのは、反応器から流出し、後述する一連
の処理の後、導管１０からの循環ガス及び導管９からの
酸素並びに窒素を酸素混合箇所８で混合することによ
り、酸素濃度２０〜３０容量％、好ましくは２２〜２６
容量％に調整した酸素含有ガスである。この酸素含有ガ
スの酸素濃度が低い場合、すなわち導管１０からの循環
ガスの量が多くなると、オキシ反応器でのエチレン、塩
化水素及び酸素の各濃度が下がりオキシ反応が抑制され
ること、反応器での滞留時間、つまり反応時間が短くな
ることによりＥＤＣ生成量が減少し非効率的となり好ま
しくない。また、酸素含有ガスの酸素濃度が高い場合、
すなわち導管１０からの循環ガスの量が抑制されると、
オキシ反応器の通過速度が遅くなり触媒層での局所的な
暴走反応が生じたり、必要以上に高塩素化された１，
１，２−トリクロロエタン、１，１，２，２−テトラク
ロロエタン等の副生成物の生成量が増加することによ
り、生成するＥＤＣの純度が低下し好ましくない。よっ
て、本発明においては、酸素含有ガスの酸素濃度は、効
率良く純度の高いＥＤＣが生産でき、安定的な生産が可
能であることから２０〜３０容量％である。
【００２８】本発明において、酸素含有ガスの組成を調
整するのに用いられる酸素及び窒素としては、本発明に
おける酸素含有ガス組成にすることが可能であればいか
なる状態のものも用いることができ、例えば空気、酸素
及び窒素の組成割合が調整された混合気体、純酸素、純
窒素等をあげることができる。そして、効率良く反応を
進行させることが可能であり、発生ガス量を少なくする
ことが可能であることから空気等から分離された高純度
の酸素及び高純度の窒素、又は、効率良く酸素濃度が２
０〜３０容量％、エチレン濃度が１〜３容量％をなるよ
うに調整された酸素及び窒素の混合気体を用いることが
好ましい。
整するのに用いられる酸素及び窒素としては、本発明に
おける酸素含有ガス組成にすることが可能であればいか
なる状態のものも用いることができ、例えば空気、酸素
及び窒素の組成割合が調整された混合気体、純酸素、純
窒素等をあげることができる。そして、効率良く反応を
進行させることが可能であり、発生ガス量を少なくする
ことが可能であることから空気等から分離された高純度
の酸素及び高純度の窒素、又は、効率良く酸素濃度が２
０〜３０容量％、エチレン濃度が１〜３容量％をなるよ
うに調整された酸素及び窒素の混合気体を用いることが
好ましい。
【００２９】これらエチレン、塩化水素、酸素含有ガス
の供給条件下にてオキシ反応器で反応を行った後の流体
は直接連結された熱交換器１１にて常温付近の４０℃程
度に冷却され、オキシ反応で生成したＥＤＣ及び水の大
部分は凝縮・液化され気液分離槽１２で分収され導管１
３より後処理設備に導かれて製品として処理される。
の供給条件下にてオキシ反応器で反応を行った後の流体
は直接連結された熱交換器１１にて常温付近の４０℃程
度に冷却され、オキシ反応で生成したＥＤＣ及び水の大
部分は凝縮・液化され気液分離槽１２で分収され導管１
３より後処理設備に導かれて製品として処理される。
【００３０】この後処理工程において、ＥＤＣの純度が
低いと当然精製設備の負担が大きくなり非効率的であ
る。また、生成水については酸濃度が高い場合、塩化水
素の損出が多くなることはむろんのこと、生成水を系外
に排出する際に中和等を行う必要性が生じることから、
ＥＤＣ純度は可能な限り高くし、生成水の酸濃度は可能
な限り低くすることが好ましく、この条件をより満たし
た製造方法がより優れた１，２−ジクロルエタンの製造
方法ということができる。
低いと当然精製設備の負担が大きくなり非効率的であ
る。また、生成水については酸濃度が高い場合、塩化水
素の損出が多くなることはむろんのこと、生成水を系外
に排出する際に中和等を行う必要性が生じることから、
ＥＤＣ純度は可能な限り高くし、生成水の酸濃度は可能
な限り低くすることが好ましく、この条件をより満たし
た製造方法がより優れた１，２−ジクロルエタンの製造
方法ということができる。
【００３１】また、エチレン及び塩化水素のＥＤＣへの
転化率を示すものに、エチレン収率及び塩化水素収率が
用いられており、ＥＤＣの純度が低かったり、生成水の
酸濃度が上昇し、塩化水素の損失が増加したり、廃ガス
中の未反応エチレンが増加した場合、これらの収率が低
下する。これら収率が高い製造方法がより優れた１，２
−ジクロルエタンの製造方法ということができる。
転化率を示すものに、エチレン収率及び塩化水素収率が
用いられており、ＥＤＣの純度が低かったり、生成水の
酸濃度が上昇し、塩化水素の損失が増加したり、廃ガス
中の未反応エチレンが増加した場合、これらの収率が低
下する。これら収率が高い製造方法がより優れた１，２
−ジクロルエタンの製造方法ということができる。
【００３２】そして、気液分離後の気体成分は、導管１
４を通じて充填塔１５にて処理を行うことにより、これ
に含まれる未反応で残留する塩化水素及びエチレンの燃
焼により生成した微量の二酸化炭素が除去される。気体
成分から塩化水素を除去することにより、該気体成分の
腐食性が低下又はなくなる。また、二酸化炭素について
は、反応に直接影響を与えないものの、二酸化炭素が系
内に不必要に蓄積した場合、循環する気体成分の組成が
不安定になるのみならず、エチレンの燃焼により生成す
る可燃性ガスである一酸化炭素の高濃度化を促し、酸素
との爆発反応を引き起こす危険性がある。
４を通じて充填塔１５にて処理を行うことにより、これ
に含まれる未反応で残留する塩化水素及びエチレンの燃
焼により生成した微量の二酸化炭素が除去される。気体
成分から塩化水素を除去することにより、該気体成分の
腐食性が低下又はなくなる。また、二酸化炭素について
は、反応に直接影響を与えないものの、二酸化炭素が系
内に不必要に蓄積した場合、循環する気体成分の組成が
不安定になるのみならず、エチレンの燃焼により生成す
る可燃性ガスである一酸化炭素の高濃度化を促し、酸素
との爆発反応を引き起こす危険性がある。
【００３３】よって、本発明においては、気液分離後の
気体成分より塩化水素を除去することにより、該気体成
分の腐食性が低下するうえに、さらに、二酸化炭素を取
り除くことにより、一酸化炭素の二酸化炭素への転化が
促進され可燃性ガスである一酸化炭素の高濃度化が防止
でき安全にＥＤＣの製造を行うことが可能となった。
気体成分より塩化水素を除去することにより、該気体成
分の腐食性が低下するうえに、さらに、二酸化炭素を取
り除くことにより、一酸化炭素の二酸化炭素への転化が
促進され可燃性ガスである一酸化炭素の高濃度化が防止
でき安全にＥＤＣの製造を行うことが可能となった。
【００３４】本発明においては、塩化水素及び二酸化炭
素を除去するために用いる装置としては特に制限はな
く、塩化水素及び二酸化炭素を除去することができる装
置であればいかなるものも使用することができ、例えば
充填塔を挙げることができる。そして、充填塔として
は、効率良く塩化水素及び二酸化炭素を除去することが
できることから、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ溶液と処理を行う気体とが向流接触できるも
のであることが好ましい。
素を除去するために用いる装置としては特に制限はな
く、塩化水素及び二酸化炭素を除去することができる装
置であればいかなるものも使用することができ、例えば
充填塔を挙げることができる。そして、充填塔として
は、効率良く塩化水素及び二酸化炭素を除去することが
できることから、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等
のアルカリ溶液と処理を行う気体とが向流接触できるも
のであることが好ましい。
【００３５】本発明においては、塩化水素及び二酸化炭
素が除去された気体はそのまま導管１６を通じて圧縮機
１７により昇圧し、導管１０を通じ酸素混合部８に持ち
込んでも実質上問題はないが、更に図２に示すようにＥ
ＤＣ等の塩素化炭化水素の吸収装置１８による処理を行
っても良い。吸収装置１８を用いることにより、圧縮機
１７での温度上昇により、ＥＤＣ等が分解し発生する酸
成分による腐食を徹底的に防止することが可能となり、
無駄なＥＤＣのオキシ反応への戻りも防止できる。
素が除去された気体はそのまま導管１６を通じて圧縮機
１７により昇圧し、導管１０を通じ酸素混合部８に持ち
込んでも実質上問題はないが、更に図２に示すようにＥ
ＤＣ等の塩素化炭化水素の吸収装置１８による処理を行
っても良い。吸収装置１８を用いることにより、圧縮機
１７での温度上昇により、ＥＤＣ等が分解し発生する酸
成分による腐食を徹底的に防止することが可能となり、
無駄なＥＤＣのオキシ反応への戻りも防止できる。
【００３６】本発明において、場合によって使用される
吸収装置は特に限定はなく、通常使用される有機溶剤と
の向流接触を実施する充填塔形式のもので良い。
吸収装置は特に限定はなく、通常使用される有機溶剤と
の向流接触を実施する充填塔形式のもので良い。
【００３７】本発明においては、充填塔１５に代表され
る装置により腐食性の高い塩化水素が除去され、場合に
よっては吸収装置１８に代表される装置を用いることに
より塩素化炭化水素が除去されることから、充填塔１５
以降の導管１５，１０、圧縮機１７、酸素混合箇所８、
場合によっては吸収装置１８等のすべてを安価な一般的
に用いられている炭素鋼材で製造することが可能となり
経済性に優れたものである。
る装置により腐食性の高い塩化水素が除去され、場合に
よっては吸収装置１８に代表される装置を用いることに
より塩素化炭化水素が除去されることから、充填塔１５
以降の導管１５，１０、圧縮機１７、酸素混合箇所８、
場合によっては吸収装置１８等のすべてを安価な一般的
に用いられている炭素鋼材で製造することが可能となり
経済性に優れたものである。
【００３８】本発明においては、酸素濃度２０〜３０容
量％、好ましくは２２〜２６容量％になるように用いら
れる以外の余剰分の気体は、系内の圧力を一定に保つよ
うに調整しつつ、圧縮機１７の手前で導管１９にて廃ガ
スとして系外に排出する。
量％、好ましくは２２〜２６容量％になるように用いら
れる以外の余剰分の気体は、系内の圧力を一定に保つよ
うに調整しつつ、圧縮機１７の手前で導管１９にて廃ガ
スとして系外に排出する。
【００３９】この導管１９を通じて排出される廃ガス
は、上述したように腐食性又は燃焼等の危険性を有しな
いため、そのまま系外に排出することは可能であるが、
場合によってはごく微量のＥＤＣを含有することもある
ことからＥＤＣの回収処理を実施することが好ましい。
は、上述したように腐食性又は燃焼等の危険性を有しな
いため、そのまま系外に排出することは可能であるが、
場合によってはごく微量のＥＤＣを含有することもある
ことからＥＤＣの回収処理を実施することが好ましい。
【００４０】なお、圧縮機１７に持ち込まれる循環ガス
を該ガスに微量含有されるＥＤＣや水の凝縮成分による
悪影響が無いようにする為、吸入直前の導管１６の箇所
で該ガスを予熱することや、酸素及び窒素を混入した酸
素含有ガスをオキシ反応器に導入する箇所で塩化水素に
よる露点腐食を防止する為に、導管６，７，８，１０等
を予熱しておく等の適正な対策を施すことが好ましい。
を該ガスに微量含有されるＥＤＣや水の凝縮成分による
悪影響が無いようにする為、吸入直前の導管１６の箇所
で該ガスを予熱することや、酸素及び窒素を混入した酸
素含有ガスをオキシ反応器に導入する箇所で塩化水素に
よる露点腐食を防止する為に、導管６，７，８，１０等
を予熱しておく等の適正な対策を施すことが好ましい。
【００４１】以上のように、本発明の方法によって、エ
チレンと塩化水素、酸素とのオキシ反応を実施すること
により、系外に排出される廃ガス量を最小限に抑制し、
且つ、装置の腐食を防止し、更には爆発等の危険性が無
い条件で、ＥＤＣを高収率で得ることが可能である。
チレンと塩化水素、酸素とのオキシ反応を実施すること
により、系外に排出される廃ガス量を最小限に抑制し、
且つ、装置の腐食を防止し、更には爆発等の危険性が無
い条件で、ＥＤＣを高収率で得ることが可能である。
【００４２】
【実施例】以下に、本発明を実施例をもって、更に詳し
く説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
く説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
【００４３】実施例及び比較例は、図１に示すオキシ反
応器を直列に３器有する装置又は図２に示す吸収設備を
有する装置を用い、エチレン、塩化水素及び酸素とのオ
キシ反応を実施した。
応器を直列に３器有する装置又は図２に示す吸収設備を
有する装置を用い、エチレン、塩化水素及び酸素とのオ
キシ反応を実施した。
【００４４】図４には、オキシ反応器１，２，３の詳細
を示した。これらはいずれも同型であり、内部にディー
コン触媒を充填した３４ｍｍφ×４０００ｍｍステンレ
ス管が３本で構成されており、外部には反応により発生
する熱を除去できるように熱媒体を流通させる構造を有
した多管式熱交換器の形状の固定床触媒反応器である。
を示した。これらはいずれも同型であり、内部にディー
コン触媒を充填した３４ｍｍφ×４０００ｍｍステンレ
ス管が３本で構成されており、外部には反応により発生
する熱を除去できるように熱媒体を流通させる構造を有
した多管式熱交換器の形状の固定床触媒反応器である。
【００４５】実施例１ 図１装置を用いオキシ反応器１，２，３への供給は、表
１に示した量をそれぞれの導管より供給した。この時、
オキシ反応後の流体から、後述する一連の処理によりＥ
ＤＣ、水等の大部分を取り除いた後の気体分を圧縮器１
７により昇圧したガスとし、その後、酸素混合箇所８に
て酸素と窒素を導管９より導入混合することにより酸素
含有ガスとした。そして、該酸素含有ガスを導管６，７
より、オキシ反応器１，２に７対３の割合で導入した。
また、各オキシ反応器の入口温度を２００℃以上とし、
オキシ反応器１の入口圧を３８５ｋＰａと設定しＥＤＣ
の製造を行った。
１に示した量をそれぞれの導管より供給した。この時、
オキシ反応後の流体から、後述する一連の処理によりＥ
ＤＣ、水等の大部分を取り除いた後の気体分を圧縮器１
７により昇圧したガスとし、その後、酸素混合箇所８に
て酸素と窒素を導管９より導入混合することにより酸素
含有ガスとした。そして、該酸素含有ガスを導管６，７
より、オキシ反応器１，２に７対３の割合で導入した。
また、各オキシ反応器の入口温度を２００℃以上とし、
オキシ反応器１の入口圧を３８５ｋＰａと設定しＥＤＣ
の製造を行った。
【００４６】ＥＤＣは、オキシ反応器より流出した気体
を冷却用熱交換機１１により、４０℃まで冷却後、気液
分離槽１２により大部分の反応生成水とＥＤＣを分離・
回収する。
を冷却用熱交換機１１により、４０℃まで冷却後、気液
分離槽１２により大部分の反応生成水とＥＤＣを分離・
回収する。
【００４７】更に、次の充填塔１５（アルカリ洗浄設
備）で未凝縮ガス中の酸性分の中和及び二酸化炭素を除
去すると同時に２０℃まで冷却され、少量のＥＤＣを再
び凝縮回収する。
備）で未凝縮ガス中の酸性分の中和及び二酸化炭素を除
去すると同時に２０℃まで冷却され、少量のＥＤＣを再
び凝縮回収する。
【００４８】これらの供給条件及び系外へ排出される廃
ガス及び反応後の分析結果について表１に示した。
ガス及び反応後の分析結果について表１に示した。
【００４９】尚、表１に記載のエチレン収率及び塩化水
素収率は、以下に示す式により算出した。
素収率は、以下に示す式により算出した。
【００５０】エチレン収率（％）＝ＥＤＣに転化したエ
チレンの量／エチレン供給量×１００ 塩化水素収率（％）＝ＥＤＣに転化した塩化水素の量／
塩化水素供給量×１００ この結果、廃ガス発生量は極めて少なく、廃ガス及び酸
素含有ガス組成についても可燃性混合ガスの爆発範囲外
で、且つ、腐食性の無いガスであり、更に二酸化炭素が
完全に除去されたものであり安全な安定した運転が可能
であった。また、得られたＥＤＣは高純度であり、エチ
レン収率及び塩化水素収率は高く、高効率的な製造方法
である。
チレンの量／エチレン供給量×１００ 塩化水素収率（％）＝ＥＤＣに転化した塩化水素の量／
塩化水素供給量×１００ この結果、廃ガス発生量は極めて少なく、廃ガス及び酸
素含有ガス組成についても可燃性混合ガスの爆発範囲外
で、且つ、腐食性の無いガスであり、更に二酸化炭素が
完全に除去されたものであり安全な安定した運転が可能
であった。また、得られたＥＤＣは高純度であり、エチ
レン収率及び塩化水素収率は高く、高効率的な製造方法
である。
【００５１】また、この運転条件下で６ヶ月間連続で運
転を実施したが、触媒の劣化は認められず、更に装置・
配管等の腐食や変質も認められず安全かつ安定な運転が
実施できた。
転を実施したが、触媒の劣化は認められず、更に装置・
配管等の腐食や変質も認められず安全かつ安定な運転が
実施できた。
【００５２】比較例１ 図１装置を用いオキシ反応器への供給は、表１に示した
量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス中
のエチレン濃度を０．５７容量％とした。そして実施例
１と同様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス中
のエチレン濃度を０．５７容量％とした。そして実施例
１と同様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
【００５３】系外へ排出される廃ガス及び反応後の分析
結果について表１に示した。
結果について表１に示した。
【００５４】系内（酸素含有ガス及び廃ガス）に可燃性
ガスである一酸化炭素量が増大し、さらにエチレン収率
及び塩化水素収率は低く、ＥＤＣの純度も低いものであ
った。
ガスである一酸化炭素量が増大し、さらにエチレン収率
及び塩化水素収率は低く、ＥＤＣの純度も低いものであ
った。
【００５５】比較例２ 図１装置を用いオキシ反応器への供給は、表１に示した
量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス中
のエチレン濃度を３．０５容量％とした。そして実施例
１と同様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス中
のエチレン濃度を３．０５容量％とした。そして実施例
１と同様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
【００５６】系外へ排出される廃ガス及び反応後の分析
結果について表１に示した。
結果について表１に示した。
【００５７】系内（酸素含有ガス及び廃ガス）に可燃性
ガスである一酸化炭素量が増大し、さらにエチレン収率
及び塩化水素収率は低く、ＥＤＣの純度も低いものであ
った。
ガスである一酸化炭素量が増大し、さらにエチレン収率
及び塩化水素収率は低く、ＥＤＣの純度も低いものであ
った。
【００５８】実施例２ 図１装置を用い、オキシ反応器への供給は、表２に示し
た量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス
中の酸素濃度を２２容量％とした。そして実施例１と同
様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
た量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス
中の酸素濃度を２２容量％とした。そして実施例１と同
様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
【００５９】系外へ排出される廃ガス及び反応後の分析
結果について表２に示した。
結果について表２に示した。
【００６０】この結果、廃ガス発生量は極めて少なく、
酸素含有ガス組成についても可燃性混合ガスの爆発範囲
外で、且つ、腐食性の無いガスであり、更に二酸化炭素
が完全に除去されたものであり安全な安定した運転が可
能であった。また、得られたＥＤＣは高純度であり、エ
チレン収率及び塩化水素収率は高く、高効率的な製造方
法である。
酸素含有ガス組成についても可燃性混合ガスの爆発範囲
外で、且つ、腐食性の無いガスであり、更に二酸化炭素
が完全に除去されたものであり安全な安定した運転が可
能であった。また、得られたＥＤＣは高純度であり、エ
チレン収率及び塩化水素収率は高く、高効率的な製造方
法である。
【００６１】比較例３ 図１装置を用いオキシ反応器への供給は、表２に示した
量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス中
の酸素濃度を１８．２０容量％とした。そして実施例１
と同様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス中
の酸素濃度を１８．２０容量％とした。そして実施例１
と同様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
【００６２】系外へ排出される廃ガス及び反応後の分析
結果について表２に示した。
結果について表２に示した。
【００６３】エチレン収率及び塩化水素収率は低く、Ｅ
ＤＣの純度も低いものであった。
ＤＣの純度も低いものであった。
【００６４】比較例４ 図１装置を用いオキシ反応器への供給は、表２に示した
量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス中
の酸素濃度を３１．５０容量％とした。そして実施例１
と同様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
量をそれぞれの導管より供給した。特に酸素含有ガス中
の酸素濃度を３１．５０容量％とした。そして実施例１
と同様の方法によりＥＤＣの製造を行った。
【００６５】系外へ排出される廃ガス及び反応後の分析
結果について表２に示した。
結果について表２に示した。
【００６６】系内（酸素含有ガス及び廃ガス）に可燃性
ガスである一酸化炭素量が増大し、さらにエチレン収率
及び塩化水素収率は低く、ＥＤＣの純度も低いものであ
った。
ガスである一酸化炭素量が増大し、さらにエチレン収率
及び塩化水素収率は低く、ＥＤＣの純度も低いものであ
った。
【００６７】実施例３ 図２に示した塩素化炭化水素化合物吸収設備１８（溶媒
吸収設備）を有する装置を用いて、表３に示した量をそ
れぞれの導管より供給した。
吸収設備）を有する装置を用いて、表３に示した量をそ
れぞれの導管より供給した。
【００６８】系外へ排出される廃ガス及び反応後の分析
結果について表３に示した。
結果について表３に示した。
【００６９】この結果、廃ガス発生量は極めて少なく、
廃ガス及び酸素含有ガス組成についても可燃性混合ガス
の爆発範囲外で、且つ、腐食性の無いガスであり、更に
二酸化炭素が完全に除去されたものであり安全な安定し
た運転が可能であった。また、得られたＥＤＣは高純度
であり、エチレン収率及び塩化水素収率は高く、高効率
的な製造方法である。
廃ガス及び酸素含有ガス組成についても可燃性混合ガス
の爆発範囲外で、且つ、腐食性の無いガスであり、更に
二酸化炭素が完全に除去されたものであり安全な安定し
た運転が可能であった。また、得られたＥＤＣは高純度
であり、エチレン収率及び塩化水素収率は高く、高効率
的な製造方法である。
【００７０】比較例５ 図１に示した装置より充填塔１５（アルカリ洗浄設備）
を除去した装置、つまり、反応後流出した未凝縮ガスの
アルカリ洗浄を行わないために塩化水素及び二酸化炭素
の除去が不可能な装置を用いて、表３に示した量をそれ
ぞれの導管より供給しＥＤＣの製造を行った。
を除去した装置、つまり、反応後流出した未凝縮ガスの
アルカリ洗浄を行わないために塩化水素及び二酸化炭素
の除去が不可能な装置を用いて、表３に示した量をそれ
ぞれの導管より供給しＥＤＣの製造を行った。
【００７１】系外へ排出される廃ガス及び反応後の分析
結果について表３に示した。
結果について表３に示した。
【００７２】未凝縮ガス中には腐食性の強い未反応の塩
化水素が認められ、更に、酸素含有ガス及び廃ガス組成
が非常に不安定であり、酸素含有ガス中の一酸化炭素の
急激な上昇が認められ危険な状態となったため製造を停
止した。また、エチレン収率及び塩化水素収率は低く、
ＥＤＣの純度も低いものであった。
化水素が認められ、更に、酸素含有ガス及び廃ガス組成
が非常に不安定であり、酸素含有ガス中の一酸化炭素の
急激な上昇が認められ危険な状態となったため製造を停
止した。また、エチレン収率及び塩化水素収率は低く、
ＥＤＣの純度も低いものであった。
【００７３】実施例４ 図２に示した塩素化炭化水素化合物吸収設備１８（溶媒
吸収設備）を有する装置を用いて、表４に示した量をそ
れぞれの導管より供給した。
吸収設備）を有する装置を用いて、表４に示した量をそ
れぞれの導管より供給した。
【００７４】系外へ排出される廃ガス及び反応後の分析
結果について表４に示した。
結果について表４に示した。
【００７５】この結果、廃ガス発生量は極めて少なく、
酸素含有ガス組成についても可燃性混合ガスの爆発範囲
外で、且つ、残存塩素化炭化水素が殆ど無いことから腐
食性の無いガスであり、更に二酸化炭素が完全に除去さ
れたものであり安全な安定した運転が可能であった。ま
た、得られたＥＤＣは高純度であり、エチレン収率及び
塩化水素収率は高く、高効率的な製造方法である。
酸素含有ガス組成についても可燃性混合ガスの爆発範囲
外で、且つ、残存塩素化炭化水素が殆ど無いことから腐
食性の無いガスであり、更に二酸化炭素が完全に除去さ
れたものであり安全な安定した運転が可能であった。ま
た、得られたＥＤＣは高純度であり、エチレン収率及び
塩化水素収率は高く、高効率的な製造方法である。
【００７６】比較例６ 図３に示した酸素源として空気を用いる装置を用いて、
塩酸に対する両論比が実施例４と同じとなるようにエチ
レン及び酸素源として空気を導入し、ＥＤＣの製造を行
った。
塩酸に対する両論比が実施例４と同じとなるようにエチ
レン及び酸素源として空気を導入し、ＥＤＣの製造を行
った。
【００７７】系外へ排出される廃ガス及び反応後の分析
結果について表４に示した。
結果について表４に示した。
【００７８】廃ガス量は極めて多く、さらにエチレン収
率及び塩化水素収率は低く、ＥＤＣの純度も低いもので
あった。
率及び塩化水素収率は低く、ＥＤＣの純度も低いもので
あった。
【００７９】
【表１】
【００８０】
【表２】
【００８１】
【表３】
【００８２】
【表４】
【００８３】
【発明の効果】本発明の方法により、オキシクロリネー
ション反応を行うことで、安全なプロセスとなり、更
に、廃ガス量が大幅に削減でき、効率的に１，２−ジク
ロルエタンを製造する事が可能となった。
ション反応を行うことで、安全なプロセスとなり、更
に、廃ガス量が大幅に削減でき、効率的に１，２−ジク
ロルエタンを製造する事が可能となった。
【図１】本発明で用いた固定床流通反応装置から充填塔
までの説明図である。
までの説明図である。
【図２】本発明で用いた固定床流通反応装置から溶媒吸
収装置までの説明図である。
収装置までの説明図である。
【図３】空気法の固定床流通反応装置の説明図である。
【図４】一連の固定床流通反応装置の説明図である。
１ オキシ反応器 ２ オキシ反応器 ３ オキシ反応器 ４ 導管 ５ 導管 ６ 導管 ７ 導管 ８ 酸素混合部 ９ 導管 １０ 導管 １１ 冷却用熱交換器 １２ 気液分離槽 １３ 導管 １４ 導管 １５ 充填塔 １６ 導管 １７ 圧縮機 １８ 塩素化炭化水素化合物吸収装置 １９ 導管
Claims (4)
- 【請求項１】エチレン、塩化水素及び酸素とのオキシク
ロリネーション反応により、１，２−ジクロルエタンを
製造する方法において、反応器から流出した気体を冷却
し、１，２−ジクロルエタン及び水を凝縮分離し、更に
塩化水素及び二酸化炭素を除去した後に、酸素濃度２０
〜３０容量％、エチレン濃度１〜３容量％となるように
酸素及び窒素を混合し、オキシクロリネーション反応器
に供給することを特徴とする１，２−ジクロルエタンの
連続的な製造方法。 - 【請求項２】塩化水素及び二酸化炭素を除去した後、更
に１，２−ジクロルエタン等の残留塩素化炭化水素化合
物を除去し、その後、酸素濃度２０〜３０容量％、エチ
レン濃度１〜３容量％となるように酸素及び窒素を混合
し、オキシクロリネーション反応器に供給することを特
徴とする請求項１に記載の１，２−ジクロルエタンの連
続的な製造方法。 - 【請求項３】原料であるエチレン及び塩化水素を３器以
上直列に配置したオキシクロリネーション反応器の最も
上流側の１器の反応器のみに供給し、酸素濃度２０〜３
０容量％、エチレン濃度１〜３容量％となるように調整
した気体を３器以上直列に配置したオキシクロリネーシ
ョン反応器の上流側から２器以上の反応器に分割供給す
ることを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれかに
記載の１，２−ジクロルエタンの連続的な製造方法。 - 【請求項４】オキシクロリネーション反応器が固定床反
応器であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいず
れかに記載の１，２−ジクロルエタンの連続的な製造方
法。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP09497495A JP3747491B2 (ja) | 1995-04-20 | 1995-04-20 | １，２−ジクロルエタンの製造方法 |
| US08/616,453 US5905177A (en) | 1995-04-20 | 1996-03-15 | Method for producing 1,2-dichloroethane |
| EP96302631A EP0738699B1 (en) | 1995-04-20 | 1996-04-16 | Method for producing 1,2-dichloroethane |
| DE69602880T DE69602880T2 (de) | 1995-04-20 | 1996-04-16 | Verfahren zur Herstellung von 1,2-Dichlorethan |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09497495A JP3747491B2 (ja) | 1995-04-20 | 1995-04-20 | １，２−ジクロルエタンの製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JP3747491B2 JP3747491B2 (ja) | 2006-02-22 |
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| JP09497495A Expired - Fee Related JP3747491B2 (ja) | 1995-04-20 | 1995-04-20 | １，２−ジクロルエタンの製造方法 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006335665A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Tokuyama Corp | １，２−ジクロロエタンの製造方法 |
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| US6797845B1 (en) | 1999-11-22 | 2004-09-28 | Dow Global Technologies Inc. | Process for vinyl chloride manufacture from ethane and ethylene with immediate HCl recovery from reactor effluent |
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| CN1173905C (zh) | 2000-11-29 | 2004-11-03 | 芬诺利特技术两合公司 | 提纯1,2-二氯乙烷的方法 |
| DE10059229A1 (de) * | 2000-11-29 | 2002-06-13 | Vinnolit Technologie Gmbh & Co | Verfahren zur Herstellung von mit Bezug auch Chloral sehr reinem 1,2-Dichlorethan (EDC), das durch Oxichlorierung hergestellt worden ist |
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| CA2448500C (en) * | 2001-05-23 | 2009-11-17 | Dow Global Technologies Inc. | Oxidative halogenation and optional dehydrogenation of c3+ hydrocarbons |
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| JP2024519340A (ja) | 2021-05-11 | 2024-05-10 | アーケマ・インコーポレイテッド | 熱交換器のチューブシート監視方法 |
| CN117642257A (zh) | 2021-05-11 | 2024-03-01 | 阿科玛股份有限公司 | 用于监测热交换器的管片的方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| US4071572A (en) * | 1975-06-17 | 1978-01-31 | Allied Chemical Corporation | Cyclic ethylene oxyhydrochlorination process with reduced hydrocarbon emissions |
| DE2819308A1 (de) * | 1978-05-02 | 1979-11-15 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von 1,2-dichloraethan |
| DE3334223A1 (de) * | 1983-09-22 | 1985-04-11 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von 1,2-dichlorethan |
| DE3346464A1 (de) * | 1983-12-22 | 1985-06-27 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zur oxichlorierung von ethylen |
| DE3626853A1 (de) * | 1986-08-08 | 1988-02-11 | Hoechst Ag | Verfahren und vorrichtung zur rueckgewinnung von 1,2-dichlorethan aus abgasen |
-
1995
- 1995-04-20 JP JP09497495A patent/JP3747491B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-03-15 US US08/616,453 patent/US5905177A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-16 DE DE69602880T patent/DE69602880T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-16 EP EP96302631A patent/EP0738699B1/en not_active Expired - Lifetime
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| EP0738699A1 (en) | 1996-10-23 |
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