JPH08292384A - 画像書込装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数のしーザビームを用いたマルチビーム走
査光学系において、画像再現性を向上させること。 【構成】 レーザビーム数をｎ、前記走査によって得ら
れる走査線画像の走査線間隔をｐとしたとき、ｎとｐが
式｛１／（ｎ・ｐ）≧４ line pairs／mm｝を満足する
ように定められた前記マルチビーム走査光学系。レーザ
ビーム数をｎ、前記走査によって得られる走査線画像の
走査線間隔をｐ、偏向器６の偏向面数をｑ、自然数をｍ
としたとき、副走査方向の画像の繰り返しパターンの周
期が前記走査線間隔ｐのｍ倍に等しく、かつ、ｍ，ｎ，
ｑの最小公倍数をＧ、ｍとｎの最小公倍数をＥとする
と、次式｛１／（Ｅ・ｐ）≧４ line pairs／mm｝また
は｛１／（Ｇ・ｐ）≧４ line pairs／mm｝を満足する
ように定められたマルチビーム走査光学系。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ビームで書込を行う
ためのレーザビーム走査光学系を用いたデジタル複写
機、レーザビームプリンタ等の画像書込装置に関し、特
に、複数のレーザビームによって同時に書込を行うマル
チビーム走査光学系を備えた画像書込装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図８は前記画像書込装置の光ビーム書込
装置に使用される従来のマルチビームレーザ走査装置の
一例の説明図で、たとえば特開平５−５３０６８号に示
されている。図９は前記図８に示される光学系の光路図
で、図９Ａは２本のレーザビームによって走査面上に同
時に２ラインの書込を行うマルチビーム走査光学系の平
面図、図９Ｂは同側面図である。図１０は前記マルチビ
ーム走査光学系で使用されるマルチビーム半導体レーザ
アレイの説明図である。図１０に示すマルチビーム半導
体レーザアレイ１は、モノリシックに構成され、独立し
て駆動可能な２つの半導体レーザをもつＬＤアレイであ
る。このようなマルチビーム半導体レーザアレイは、例
えば、R. Thornton，W. Mosby，R. Donaldson，and T.
Paoli：“Properties of closely spaced independentl
y addressable lasers fabricated by impurity-induce
d disordering”Appl．phys．Lett．56(17),23 April
1990，1623−1625 、または、特開平２−３０８１８５
号公報等に示されており、従来公知である。このＬＤア
レイの各半導体レーザは、図１１に示されるように、独
立したビデオインターフェース回路、及びＬＤドライバ
ーによって、各々独立してビデオ信号により駆動され
る。このような回路は従来公知であり、その一例として
は、特開昭６２−１４６０６７がある。

【０００３】また、前記レーザアレイ１は図示しないフ
ォトダイオードを備えており、このフオトダイオードは
レーザアレイの出射ビームを受光して光量信号を図示し
ない光量制御回路に送出し、該ビーム光量は目的の値と
なるよう制御されている。なお、レーザアレイの光量を
検出するフォトダイオードは例えば特開平２−３０８１
８５号公報、特公平５−５３０６８号公報等に記載され
ている。図９Ａ，図９Ｂに示すように、前記レーザアレ
イ１から出射されたレーザビームＬ1，Ｌ2の光路は、コ
リメートレンズ２、該コリメートレンズ２からのビーム
の径を制限する開口３、副走査方向にのみ光学的パワー
を有するシリンドリカルレンズ４、ミラー５、レーザビ
ーム偏向器（ポリゴンスキャナ、回転多面鏡）６、ｆ-
θレンズ７、ミラー８、及びシリンドリカルミラー９よ
り成るマルチビーム走査光学系により、中心軸まわりに
回転自在に設けられた感光ドラム１１の表面（すなわ
ち、走査面）を走査する。ここで、レーザビーム偏向用
の偏向器６の回転に伴うビームの走査を主走査と呼び、
走査面が主走査方向に直交する方向に移動することによ
り走査されることを、副走査と呼ぶ。

【０００４】感光ドラム１１の端部に相当する位置に
は、前記走査ビームを検出するためのミラー１２および
光センサ１３が設けられており、この光センサ１３の出
力するビーム位置検出信号（ＳＯＳ信号）によって前記
レーザアレイ１への画像信号の出力タイミングが設定さ
れるように構成されている。図１２は前記マルチビーム
走査光学系を用いて書き込み走査をする場合の走査面１
１上のレーザビームＬ1，Ｌ2によって形成されるスポッ
トＡ，Ｂの位置を示す。ここで、隣り合つた２つのスポ
ットＡ，Ｂで走査される各走査ラインの間隔ｒ3を走査
ライン幅（走査ピッチ）ｐで割つた自然数ｉを「飛び越
し走査周期」と定義する。図１２は、レーザビームの本
数ｎが２で飛び越し走査周期ｉが１の場合を示してい
る。Ａ1，Ｂ1は前記スポットＡ，Ｂの第１回目の走査
（図においては、走査番号（１）のように表示する）時
の副走査方向の位置、Ａ2，Ｂ2は第２走査時の副走査方
向の位置、…、Ａj，Ｂjは第ｊ（ｊ＝１，２，３，…）
走査時の副走査方向の位置を示している。

【０００５】図１２において、第０走査時すなわち走査
番号（０）において第１，２レーザビームによるスポッ
トＡ0，Ｂ0により第１，２走査ラインの走査が同時に行
われた後、走査番号（１）において第１，２レーザビー
ムによるスポットＡ1，Ｂ1により第３，４走査ラインの
走査が同時に行われる。以下同様にして走査番号
（２），（３），（４），…の順に２ラインずつの走査
が繰り返される。また、図１３に示すように、飛び越し
走査周期ｉ＝３の場合、すなわち、２つのスポットＡ，
Ｂの間隔ｒ3を３ｐ（ｐは走査線間隔）に設定すると、
図１３の走査番号（０）において第１レーザビームによ
るスポットＡ0が第１走査ライン、第２レーザビームに
よるスポットＢ0が第４走査ライン、走査番号（１）に
おいて第１レーザビームによるスポットＡ1が第３走査
ライン、第２レーザビームによるスポットＢ1が第６走
査ライン、走査番号（２）以降において第１レーザビー
ムが第５，７，９，…走査ラインの走査を行うと同時
に、第２レーザビームは第８，１０，１２，…走査ライ
ンの走査を同時に行う。

【０００６】以上、図１２，図１３において２本ビーム
を例にして従来のマルチビーム走査装置の概要を説明し
たが、このようなマルチビームによる飛び越し走査は、
前記レーザビームの本数ｎと飛び越し走査周期ｉとが互
いに素の自然数であれば、すなわち、レーザビームの本
数ｎと飛び越し走査周期ｉが１以外に割り切れる共通の
整数を持たなければ可能であり、３本以上のレーザビー
ムを用いたマルチビーム走査装置も従来公知である。図
１４に示す表１は、飛び越し走査が成立するｎとｉの条
件を示しているが、たとえば「伊藤他：”ＬＤアレー飛
び越し走査によるマルチビーム走査光学系”，光学，Vo
l.２３（１９９４）ｐ４９２−４９７」に示されてい
る。また図１５はレーザビームが４本の場合の飛び越し
走査の例であり、同様に「伊藤他：”ＬＤアレー飛び越
し走査によるマルチビーム走査光学系”，光学，Vol.２
３（１９９４）ｐ４９２−４９７」に示されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ＬＤアレー
を用いたマルチビーム走査光学系において、前記複数の
レーザビームＬ1，Ｌ2の走査面１１上のスポットＡ，Ｂ
間の副走査方向の間隔ｒ3は、光源であるＬＤアレーの
発光点間隔ｒ1、および投影光学系の副走査方向の幾何
光学的な横倍率によって決定される。しかし、ＬＤアレ
ーの発光点間隔ｒ1は、ＬＤアレーの製作誤差によって
簡単に変動する。また、光学系の製作誤差、温度変動に
よるレンズパワ一変動によって、光学系横倍率は変動す
る。これらの上記の要因によって走査面１１上のスポッ
トＡ，Ｂ間の副走査方向の間隔がδyの誤差を持つ。図
１６はビームの間隔がδy狭まったときの走査線位置の
誤差を示すが、走査画像に露光量むらが発生し、画質を
劣化させる。

【０００８】また、マルチビームを用いたレーザビーム
走査光学系では、図１７の点線で示すスポットＡと実線
で示すスポットＢのように、副走査方向（図１７で上下
方向）および主走査方向（図１７で左右方向）に位置ず
れが無い場合には露光量むらが発生しない。しかしなが
ら、図１７の実線で示すスポットＡ，Ｂに示すように副
走査方向に配列された複数のビームの主走査方向の位置
が異なる場合には、走査画像に露光量むらが発生し、画
質を劣化させる。この理由については、後で数式
（８），（９）により説明する。偏向器等の偏向器を用
いた走査光学系において、レーザビーム走査速度が偏向
器の走査面毎に異なることにより、ビームによる画素の
露光位置が周期的に変動することが知られており、同様
に画質の劣化をもたらす。以上に述べた要因による画質
の劣化は、網点またはラインスクリーン等を用いた中間
調再現、または繰り返しのパターンを持つ画像の再現に
おいてとくに著しい。中間調の画像再現性向上のための
例として、例えば特開平１−９２７７２に示されるよう
に、ビーム数ｎ、網点の副走査方向繰り返し周期をｍと
すると、ｍをｎの整数倍と設定することで、改善をはか
った例があるが、網点の種類に制限が加わること、ま
た、飛び越し走査を用いた時の考察がなく、必ずしも十
分でない。

【０００９】前述したように従来、画像書込装置で使用
するマルチビーム走査光学系を記載した文献は多い。し
かしながら、実用化されて市販された製品は少なく、最
近やっと、隣合う走査線を同時に走査する２本ビームを
用いた製品が１種類市販されたのが実情である。その理
由は、マルチビームを使用すると、画像書込速度は速く
なるが、露光量分布にむらが発生し易くて画質が低下す
るのが大きな原因である。しかも、同時に走査する走査
線間に１本以上の走査線が配置されるような飛び越し走
査（ｉ≧２の走査）を行ったり、同時に走査を行うビー
ム数が増加したりした場合には、露光量むらがさらに生
じ易く、高画質を維持するのがいっそう困難であった。
本発明は、前述の事情に鑑み、下記の記載内容を技術的
課題とする。 （Ｏ01）複数のレーザビームを用いたマルチビーム走査
光学系において、再現画像の画質を向上させること。

【００１０】本発明者は、前記技術的課題を解決するた
めに種々の検討および考察を行った。先ず最初に、副走
査方向のスポット位置ずれを発生させる要因を考察し
た。前記要因として挙げられるものは、 （１）レーザアレー間隔誤差 （２）光学系横倍率の誤差 （３）走査面副走査方向移動速度の誤差 である。まず、レーザアレー間隔ｒ1の誤差と、光学系
横倍率βの誤差が存在する場合について図１８により説
明する。ここで、前述のように走査光学系の副走査方向
の光学系横倍率の誤差、レーザ間隔の誤差によってスポ
ット間隔ｒ3がδyの誤差を持つ。この時の任意のスポッ
トの副走査方向の位置ｙ（j,k）は、 ｙ（j,k）＝ｐ｛（ｎ・ｊ十１）＋ｉ・（ｋ−１）｝ （数式５） ここで、 ｊ；走査番号で整数 ｋ＝１，２，…，ｎ；ビーム番号で自然数 であり、ｐ＝ｒ3／ｉであるから、 ｙ（j,k）＝ｒ3（ｎ・ｊ＋１）／ｉ＋ｒ3・（ｋ一１） （数式６） ｒ3について微分するとスポットの副走査方向の位置誤
差が求まり、 δy（j,k）＝δｒ3/ｉ｛（ｎ・ｊ十１）＋ｉ・（ｋ−１）｝ ＝（ｎ・δｒ3／ｉ）・ｊ＋δｒ3・ｋ＋δｒ3／ｉ一δｒ3 数式７） ここで、ｊ，ｋが変数であるから、数式（７）右辺第１
項はビーム数ｎの周期にて誤差を持ち、数式（７）右辺
第２項はｋが１，２，…，ｎのあいだで変動する変数で
あるから、やはりビーム数ｎの周期にて誤差を持つ。数
式（７）右辺第３項、第４項は固定されるから、走査線
の副走査方向の位置誤差は、ビーム数ｎの周期にて変動
することになる。

【００１１】図１８は、ｎ＝２，ｉ＝ｒ3／ｐ＝３のと
き、ｒ3が誤差を持つ場合の副走査方向の露光パターン
を示すが、露光量分布はビーム数ｎの周期にて変動して
いる。同様に図１９は、ｎ＝２，ｉ＝５のとき、ｒ3が
誤差を持つ場合の副走査方向の露光パターンを示すが、
露光量分布はビーム数ｎの周期にて変動している。同様
に図２０は、ｎ＝４，ｉ＝３のとき、ｒ3が誤差を持つ
場合の副走査方向の露光パターンを示すが、露光量分布
はビーム数ｎの周期にて変動している。同様に図２１
は、ｎ＝４，ｉ＝５のとき、ｒ3が誤差を持つ場合の副
走査方向の露光パターンを示すが、露光量分布はビーム
数ｎの周期にて変動している。

【００１２】次に、露光面移動速度の誤差が存在する場
合について検討する。図２２において、任意のスポット
の副走査方向の位置ｙ（j,k）は、 ｙ（j,ｋ）＝ｐ｛（ｎ・ｊ＋１）＋ｉ・（ｋ−１）｝ ここで、 ｊ；走査番号で整数 ｋ＝１，２，…，ｎ；ビーム番号で自然数 である。先頭のｋ＝１のスポットＡが移動する距離は一
主走査毎にｎ・ｐであり、同一主走査の複数のスポット
間隔相互には間隔の設定誤差が存在しない場合、副走査
方向の任意のスポットの位置誤差δy（j,k）はｋに依存
しない値となり、 δy（ｊ）＝δｐ（ｎ・ｊ＋１＋ｉ・ｋ−ｉ） （数式８） ここで、スポット間隔相互には間隔の設定誤差が存在し
ないので、数式（８）はｋに依存しない値となり、ｊが
変数であるから、数式（８）右辺第１項はビーム数ｎの
周期にて変動することになる。ｎ＝２の場合の露光面移
動速度の誤差が存在する場合について、図２３に示す
が、ｎ＝４の場合と同様にスポットの位置誤差δy
（ｊ）は、ビーム数ｎの周期にて変動することになる。

【００１３】次に、主走査方向のスポット位置変動につ
いて考察する。ｎ＝４，ｉ＝３の場合について図２４に
示すが、任意のスポットの副走査方向の位置ｙ（j,k）
は、 ｙ（j,k）＝ｐ｛（ｎ・ｊ＋１）＋ｉ・（ｋ一１）｝ ここで、 ｊ；走査番号で整数 ｋ＝１，２，…，ｎ；ビーム番号で自然数 である。スポット列が角度ｕだけ副走査方向に対し傾い
ていたとすると、主走査方向のスポット位置ずれδx
は、 δx（j,ｋ）＝ｙ（j,k）ｔａｎ（ｕ） ＝ｐ｛（ｎ・ｊ十１）＋ｉ・（ｋ−１）｝ｔａｎ（ｕ）（数式９） ここで、複数のスポット相互の主走査方向の位置は全て
の主走査において変わらないから、数式（９）はｋのみ
の変数となり、 δx（ｋ）＝ｐｉ・（ｋ−１）ｔａｎ（ｕ） （数式１０） ここでｋはビーム番号でｎまでの自然数だから、δx
（ｋ）はビーム数ｎの周期にて変動することになる。

【００１４】次に、複数のビーム間に光量の設定誤差が
存在する場合について考察する。ｎ＝４，ｉ＝３の場合
について図２５に示すが、ビーム番号ｋ＝１であるスポ
ットＡに着目する。スポットＡのみ他のスポットに比べ
て光量が多いと、走査面での露光量分布は変動する。マ
ルチビーム走査、または飛び越し走査によるマルチビー
ム走査において、１回の主走査ごとに、副走査方向にビ
ーム数ｎに走査線間隔ｐを乗じた距離だけ移動するわけ
だから、スポットＡは４走査線毎に走査を繰り返す。す
なわち、光量の設定誤差を持つ走査線は、ビーム数ｎの
周期を持つことになる。すなわち、走査線画像の露光量
分布の変動は、飛び越し走査のパラメータにかかわりな
くビーム数ｎの周期にて変動する。複数のスポット間の
プロファイル（形状）が相互で異なる場合も、複数のビ
ーム間に光量の設定誤差が存在する場合と同様に、走査
線画像の露光量分布の変動は、飛び越し走査のパラメー
タにかかわりなくビーム数ｎの周期にて変動する。

【００１５】前述の検討により、マルチビーム飛び越し
走査において、次に示す項目（画質に悪影響を与える項
目、すなわち、露光量分布に変動を与える項目）は全て
ビーム数ｎの周期で変動することが分かった。 （１）レーザアレー間隔ｒ1の誤差と、光学系横倍率β
の誤差に起因する走査線の副走査方向の位置誤差、
（２）露光面移動速度の誤差に起因する副走査方向のス
ポットの位置誤差、（３）ビームのスポット列の傾きに
起因する主走査方向のスポットの位置ずれ、（４）ビー
ム間の光量誤差に起因する副走査方向の露光量分布の変
動、

【００１６】ところで、人間の眼の画像分解能について
は、Roger P Dooley and Rodney Shaw："Noise percept
ion in EIectrophotography",Journal of Applied Phot
ogmphic Englneering，Volume 5，Number4，Fall 197
9，p190-p196 により、VisualTransfer Function と
して図２６が知られている。人間の眼のVisuaI Transfe
r Function は、画像の空間周波数において、4line pa
is／mm 以上の高い周波数の画像については、認識する
ことが難しくなる。したがって、前記マルチビーム走査
光学系を用いた場合に生じる露光量分布のバラツキを、
4line pais／mm 以上の空間周波数の高い画像とするこ
とによって、人の眼に感じさせないようにすることがで
き、実質的に良質の画像を得ることができる。本発明
は、前記の技術的課題（Ｏ01）を解決するために行った
前述の検討、考察の結果に基づいて完成したものであ
る。

【００１７】

【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決す
るために案出した本発明を説明するが、本発明の要素に
は、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実
施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。な
お、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する
理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明
の範囲を実施例に限定するためではない。

【００１８】（第１発明）前記課題を解決するために、
本出願の第１発明の画像書込装置は、下記の要件を備え
たことを特徴とする、（Ｙ01）各々独立に変調された複
数のレーザダイオード（ＬＤ1〜ＬＤ4）を有するレーザ
アレイ（１，１５）、（Ｙ02）前記複数のレーザダイオ
ード（ＬＤ1〜ＬＤ4）の出力する複数のレーザビーム
（Ｌ1〜Ｌ4）を偏向走査する偏向器（６）を有し、前記
偏向器（６）により偏向された前記複数のレーザビーム
（Ｌ1〜Ｌ4）によりそれぞれ走査面（１１）の異なった
走査線を走査して、前記走査面（１１）に画像を書込む
マルチビーム走査光学系、（Ｙ03）前記レーザビーム数
をｎ、前記走査によって得られる走査線画像の走査線間
隔をｐとしたとき、ｎとｐが次式 １／（ｎ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式１） を満足するように定められた前記マルチビーム走査光学
系。（Ｙ04）隣り合うビーム間隔ｒ3をｐで除した自然
数ｉにより定義される飛び越し周期ｉと、前記レーザビ
ーム数ｎとが、互いに素の自然数であることを特徴とす
る飛び越し走査を用いた前記マルチビーム走査光学系。

【００１９】（第２発明）また、本出願の第２発明の画
像書込装置は、前記第１発明の画像書込装置において下
記の要件を備えたことを特徴とする、（Ｙ05）前記飛び
越し周期ｉがｉ≧２に設定された前記マルチビーム走査
光学系、

【００２０】（第３発明）また、本出願の第３発明の画
像書込装置は、前記第１または第２発明において下記の
要件を備えたことを特徴とする、（Ｙ06）ｎ≧３に設定
された前記マルチビーム走査光学系。

【００２１】（第４発明）また、本出願の第４発明の画
像書込装置は、前記第１〜３発明のいずれかの画像書込
装置において、下記の要件を備えたことを特徴とする、
（Ｙ07）前記レーザビーム数をｎ、前記走査によって得
られる走査線画像の走査線間隔をｐ、自然数をｍとした
とき、副走査方向の画像の繰り返しパターンの周期が前
記走査線間隔ｐのｍ倍に等しく、かつ、ｍとｎの最小公
倍数をＥとすると、次式 １／（Ｅ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式２） を満足するように定められた前記マルチビーム走査光学
系。

【００２２】（第５発明）また、本出願の第５発明の画
像書込装置は、前記第１〜４発明のいずれかの画像書込
装置において、下記の要件を備えたことを特徴とする、
（Ｙ08）前記レーザビーム数をｎ、前記走査によって得
られる走査線画像の走査線間隔をｐ、偏向器の偏向面数
をｑ、走査線画像の走査線間隔をｐとしたとき、ｎ，ｑ
の最小公倍数をＦとすると、次式 １／（Ｆ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式３） を満足するように定められた前記マルチビーム走査光学
系。

【００２３】（第６発明）また、本出願の第６発明の画
像書込装置は、前記第１〜５発明のいずれかの画像書込
装置において、下記の要件を備えたことを特徴とする、
（Ｙ09）前記レーザビーム数をｎ、前記走査によって得
られる走査線画像の走査線間隔をｐ、偏向器（６）の偏
向面数をｑ、自然数をｍとしたとき、副走査方向の画像
の繰り返しパターンの周期が前記走査線間隔ｐのｍ倍に
等しく、かつ、ｍ，ｎ，ｑの最小公倍数をＧとすると、
次式 １／（Ｇ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式４） を満足するように定められた前記マルチビーム走査光学
系。

【００２４】

【作用】

（第１発明の作用）前述の構成を備えた本出願の第１発
明によれば、マルチビーム走査光学系において、次式、 １／（ｎ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式１） を満足するように各パラメータｎ，ｐの値を定めること
により、露光量むらの少ない良質の画像が得られる。す
なわち、高画質の画像が得られるマルチビーム走査光学
系を容易に設計することができる。

【００２５】（第２発明の作用）前述の構成を備えた本
出願の第２発明によれば、隣り合うビーム間隔ｒ3をｐ
で除した自然数ｉにより定義される飛び越し周期ｉの値
がｉ≧２の場合に、次式 １／（ｎ・ｐ）≧４ line pairs／mm、 （数式１） を満足するように、各パラメータｎ，ｐの値を定めるこ
とにより、露光量むらの少ない良質の画像が得られる。
すなわち、ｉ≧２で飛び越し走査を行うマルチビーム走
査光学系においても、高画質の画像が得られるマルチビ
ーム走査光学系を容易に設計することができる。

【００２６】（第３発明の作用）前述の構成を備えた本
出願の第３発明によれば、マルチビーム走査光学系のビ
ーム数が３以上であっても、次式、 １／（ｎ・ｐ）≧４ line pairs／mm、 を満足するように、各パラメータｎ，ｐの値を定めるこ
とにより、露光量むらの少ない良質の画像が得られる。
すなわち、ビーム数が３本以上であっても、高画質の画
像が得られる飛び越し走査を行うマルチビーム走査光学
系を容易に設計することができる。

【００２７】（第４発明の作用）前述の構成を備えた本
出願の第４発明によれば、前記レーザビーム数をｎ、前
記走査によって得られる走査線画像の走査線間隔をｐ、
自然数をｍとしたとき、副走査方向の画像の繰り返しパ
ターンの周期が前記走査線間隔ｐのｍ倍に等しく、か
つ、ｍとｎの最小公倍数をＥとした場合、次式、 １／（Ｅｐ）４≧ line pairs／mm、 （数式２） を満足するように、マルチビーム走査光学系の各パラメ
ータｎ，ｐ，ｍの値を定めることにより、すぐれた中間
調画像および線画像を再現することができる。すなわ
ち、前記（数式２）を満たすように、前記各パラメータ
ｎ，ｐ，ｍの値を定めることにより、すぐれた中間調画
像および線画像が得られるマルチビーム走査光学系を容
易に設計することができる。

【００２８】（第５発明の作用）前述の構成を備えた本
出願の第５発明によれば、前記レーザビーム数をｎ、前
記走査によって得られる走査線画像の走査線間隔をｐ、
偏向器の偏向面数をｑ、走査線画像の走査線間隔をｐと
したとき、ｎ，ｑの最小公倍数をＦとすると、次式 １／（Ｆ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式３） を満足するように、マルチビーム走査光学系の各パラメ
ータｎ，ｐ，ｑの値を定めることにより、露光量むらの
少ない良質の画像が得られる。すなわち、前記（数式
３）を満たすように、前記各パラメータｎ，ｐ，ｑの値
を定めることにより、露光量むらの少ない良質の画像が
得られるマルチビーム走査光学系を容易に設計すること
ができる。

【００２９】（第６発明の作用）前述の構成を備えた本
出願の第６発明によれば、前記レーザビーム数をｎ、前
記走査によって得られる走査線画像の走査線間隔をｐ、
偏向器（６）の偏向面数をｑ、自然数をｍとしたとき、
副走査方向の画像の繰り返しパターンの周期が前記走査
線間隔ｐのｍ倍に等しく、かつ、ｍ，ｎ，ｑの最小公倍
数をＧとした場合に、次式、 １／（Ｇ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式４） を満足するようにマルチビーム走査光学系の各パラメー
タｎ，ｐ，ｍ，ｑの値を定めることにより、すぐれた中
間調画像および線画像が得られる。すなわち、前記（数
式４）を満たすように、前記各パラメータｎ，ｐ，ｍ，
ｑの値を定めることにより、すぐれた中間調画像および
線画像が得られるマルチビーム走査光学系を容易に設計
することができる。

【００３０】

【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。 （実施例１）図１は本発明の実施例１の画像書込装置の
説明図で、図１Ａは平面図、図１Ｂは側面図である。図
１に示す構成要素は従来例の図９Ａおよび図９Ｂと同様
であり、レーザビームの結像方式も同様である。ただ
し、それぞれの構成要素は次のようなパラメータを持つ
ている。図２は本発明の実施例１のマルチビーム走査光
学系において、スポット位置のずれ等の乱れがない時
の、走査面上のレーザビーム（スポット）と走査線間隔
との関連を示す図である。図５は、中間課画像を再現す
る網点パターンを示す図である。まず図１Ｂにおいて、
コリメートレンズ２の焦点距離をｆ1、シリンドリカル
レンズ（第１副走査方向光学部材）４の焦点距離をｆ
2、ｆ-θレンズ７の焦点距離をｆ3、シリンドリカルミ
ラー９の焦点距離をｆ4とする。そして、レーザアレイ
１と偏向器６との間に配置された、コリメートレンズ
２、アパーチャ３、シリンドリカルレンズ４から構成さ
れる第１走査光学系の副走査方向の横倍率をβ1、と
し、偏向器６と走査面１１との間に配置されたｆ-θレ
ンズ７およびシリンドリカルミラー９等から構成された
第２走査光学系の副走査方向の横倍率をβ2とし、これ
らの横倍率β1，β2の両光学系を合成したマルチビーム
走査光学系の副走査方向横倍率をβとする。

【００３１】また、レーザダイオードＬＤ1，ＬＤ2のそ
れぞれのレーザビーム出射位置の間隔をｒ1とする。そ
して、これらのレーザビームＬＤ1，ＬＤ2は前記横倍率
β1の第１走査光学系を通つて、一旦偏向器６の面上に
副走査方向のみ収束する。そして、偏向器６で反射した
レーザビームは前記横倍率β2の第２走査光学系を通つ
て走査面１１に再度収束するように構成されている。こ
の図１Ａ，図１Ｂに示されたマルチビーム走査光学系の
実施例の前記各パラメータは次のように設定されてい
る。 ｒ1＝１４μｍ ｆ1＝２５.０ｍｍ ｆ2＝２０１.１ｍｍ β1＝ｆ2／ｆ1＝８.０４２ β2＝０.５５５ β＝β1／β2＝４.４６４ ｒ3＝ｒ1・β＝６２.５μｍ ｐ＝２０.８３μｍ したがつて、前述のように各パラメータが設定された図
１Ａ，図１Ｂのマルチビーム走査光学系は前記走査面１
１に図２で示すようなレーザビームＬ1，Ｌ2のスポット
Ａ，Ｂを形成する。この図２において、飛び越し走査周
期ｉ＝ｒ3／ｐ＝３であり、２本のレーザビームＬ1，Ｌ
2を用いているから、ｎ＝２である。すなわち、 ｉ＝３ ｎ＝２ である。

【００３２】したがって、この実施例１では、レーザビ
ーム数をｎ、前記走査によって得られる走査線画像の走
査線間隔をｐとしたとき、ｎとｐが次式 １／（ｎ・ｐ）＝１／（２×０.０２０８３） ＝２４.０≧４ line pairs／mm を満たしている。すなわち、この実施例１は、前記（数
式１）を満たしている。したがって、この実施例１の画
像書込装置を用いることにより、マルチビーム走査に起
因する光量むらは人間の眼に認識されない。よって、高
画質を達成することができる。

【００３３】また、この実施例１では、階調を表示する
場合には図５に示す網点を使用している。図５の網点
は、副走査方向に対して４５°のスクリーン角度を持っ
ているが、副走査方向の網点パターンの繰り返し周期は
ｍ・ｐであり、図５の例では、ｍ＝３となる。前述した
ように、マルチビーム走査光学系において、ビーム間隔
が設計値に対し誤差を持つ場合、飛び越し走査のパラメ
ータにかかわらず、ビーム数ｎに等しい繰り返し周期で
走査線間隔が変動する。そこで網点の副走査方向の繰り
返し周期と、ビーム数ｎに等しい周期で変動する走査線
間隔のＭｏｉｒｅ縞が発生する。このＭｏｉｒｅ縞の周
期は、飛び越し走査のパラメータにかかわらず、ビーム
数ｎと網点の副走査方向の繰り返しを定めるｍの最小公
倍数Ｅによって定まり、この実施例１では、ｎ＝２，ｍ
＝３だからＥ＝６となる。さらに、ｐ＝０.０２０８３
ｍｍであるから、 １／（Ｅ・ｐ）＝８.００１２≧４ line pairs／mm となる。すなわち、この実施例１は、前記（数式２）を
満たしている。したがって、図５の網点により階調表示
を行うこの実施例１の画像書込装置を用いて階調表示を
行った場合、マルチビーム走査の走査線間隔変動と、網
点パターンの副走査方向の繰り返し周期に起因するＭｏ
ｉｒｅ縞は、人間の眼に認識されにくい。よって、高画
質を達成することができる。

【００３４】偏向器をレーザビーム走査光学系に用いる
と、主にミラー面の歪みによってビームの主走査方向の
位置が変動するために、画像に歪みが生ずる。図７は、
ミラー面に歪みがある偏向器を、従来のシングルビーム
走査光学系に用いたときの、副走査方向にのびた線画像
の出力例である。ポリゴンミラーの１回転に１回の周期
で、画像位置が主走査方向に変動している。この現象
を、偏向器によるジッターと呼ぶ。前述したように、レ
ーザビーム走査光学系において副走査方向のビーム間隔
が設計値に対し誤差を持つ場合、飛び越し走査のパラメ
ータにかかわらず、ビーム数ｎに等しい繰り返し周期で
走査線間隔が変動する。そのため、偏向器のジッターと
走査線間隔の変動による、Ｍｏｉｒｅ縞が発生する。こ
のＭｏｉｒｅ縞の繰り返し周期は、飛び越し走査のパラ
メータにかかわらず、ビーム数ｎと偏向器のミラー面数
ｑの最小公倍数Ｆこよって定まる。この実施例１では、
偏向器６のミラー面数ｑ＝６に設定されているので、ｎ
＝２，ｑ＝６である。したがって、Ｆ＝６、ｐ＝０.０
２０８３ｍｍであるから、 １／（Ｆ・ｐ）＝８.００１２≧４ line pairs／mm となる。すなわち、この実施例１は、前記（数式３）を
満たしている。したがって、マルチビーム走査の走査線
間隔変動と、偏向器によるジッターとに起因するＭｏｉ
ｒｅ縞は、人間の眼に認識されにくい。よって、高画質
を達成することができる。

【００３５】図５に示される網点パターンの副走査方向
の繰り返し周期はｍ・ｐであり、ｍ＝３である。また、
図７に示されるように、偏向器のジッターによる画像歪
みの繰り返し周期はｑ・ｐであり、本実施例１ではｑ＝
６である。ビーム間隔が設計値より変化した場合、飛び
越し走査のパラメータにかかわらず、ビーム数ｎに等し
い周期で走査線間隔が変動する。前述したように、副走
査方向の網点パターンの繰り返し数ｍ，偏向器のミラー
面数ｑ，ビーム数ｎの最小公倍数をＧとすると、Ｇ・ｐ
の周期でＭｏｉｒｅ縞が発生する。これが飛び越し走査
のパラメータにかかわらず発生することは前述したとお
りである。この実施例１の例では、ｎ＝２，ｍ＝３，ｑ
＝６だからＧ＝６となる。さらに、ｐ＝０.０２０８３
ｍｍであるから、 １／（Ｇ・ｐ）＝８.００１２≧４ line pairs／mm となる。すなわち、この実施例１は、前記（数式４）を
満たしている。したがって、マルチビーム走査の走査線
間隔変動と、副走査方向の綱点パターンの繰り返し周
期、および偏向器によるジッターとに起因するＭｏｉｒ
ｅ縞は、人間の眼に認識されにくい。よって、高画質を
達成することができる。

【００３６】（実施例２）図３は本発明の実施例２の画
像書込装置の説明図で、図３Ａは平面図、図３Ｂは側面
図である。図３に示す構成要素は前記図１に示す実施例
１とレーザ以外は同一である。ここで、光源として独立
して変調可能な４本のレーザビームが出力されるレーザ
アレー１５を用いている。図４は本発明の実施例２のマ
ルチビーム走査光学系において、スポット位置のずれ等
の乱れがない時の、走査面上のレーザビーム（スポッ
ト）と走査線間隔との関連を示す図である。レーザビー
ムの結像方式は、第１の実施例と同様であり、それぞれ
の構成要素は第１の実施例と同様なパラメータを持つて
いる。すなわち、コリメートレンズ２の焦点距離をｆ
1、シリンドリカルレンズ（第１副走査方向光学部材）
４の焦点距離をｆ2、ｆ-θレンズ７の焦点距離をｆ3、
シリンドリカルミラ−９の焦点距離をｆ4とする。そし
て、レーザアレイ１５と偏向器６との間に配置された、
コリメートレンズ２、アパーチャ３、シリンドリカルレ
ンズ４から構成される第１走査光学系の副走査方向の横
倍率をβ1とし、偏向器６と走査面１１との間に配置さ
れたｆ-θレンズ７およびシリンドリカルミラー９から
構成された第２走査光学系の副走査方向の横倍率をβ2
とし、これらの横倍率β1，β2の両光学系を合成したマ
ルチビーム走査光学系の副走査方向横倍率をβとする。
また、レーザアレイ１５のそれぞれのＬＤ1，ＬＤ2，Ｌ
Ｄ3，ＬＤ4のレーザビーム出射位置の間隔をｒ1とす
る。そして、これらのレーザビームは前記横倍率β1の
第１走査光学系を通つて、一旦偏向器６の面上に副走査
方向のみ収束する。そして、偏向器６で反射したレーザ
ビームは前記横倍率β2の第２走査光学系を通つて走査
面１１に再度収束するように構成されている。

【００３７】この図３Ａ，図３Ｂに示された実施例２の
マルチビーム走査光学系の前記各パラメータは次のよう
に設定されている。 ｒ1＝１４μｍ ｆ1＝２５.０ｍｍ ｆ2＝２０１.１ｍｍ β1＝ｆ2／ｆ1＝８.０４２ β2＝０.５５５ β＝β1・β2＝４.４６４ ｒ3＝ｒ1・β＝６２.５μｍ ｐ＝２０.８３μｍ したがって、図３Ａ，図３Ｂのマルチビーム走査光学系
は前記走査面１１に図４で示すようなレーザビームＬ
1，Ｌ2，Ｌ3，Ｌ4のスポットＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄを形成す
る。この図４において、飛び越し走査周期ｉ＝ｒ3／ｐ
＝３であり、４本のレーザビームＬ1，Ｌ2，Ｌ3，Ｌ4を
用いているから、ｎ＝４である。すなわち、 ｉ＝３ ｎ＝４ である。

【００３８】したがって、この実施例２では、レーザビ
ーム数をｎ、前記走査によって得られる走査線画像の走
査線間隔をｐとしたとき、ｎとｐが次式 １／（ｎ・ｐ）＝１／（４×０.０２０８３） ＝１２.０≧４ line pairs／mm を満たしている。すなわち、この実施例２は、前記（数
式１）を満たしている。したがって、この実施例２の画
像書込装置を用いることにより、マルチビーム走査に起
因する光量むらは人間の眼に認識されない。よって、高
画質を達成することができる。

【００３９】また、この実施例２では、階調を表示する
場合には図５に示す網点を使用している。図５の網点
は、副走査方向に対して４５°のスクリーン角度を持っ
ているが、副走査方向の網点パターンの繰り返し周期は
ｍ・ｐであり、図５の例では、ｍ＝３となる。前述した
ように、マルチビーム走査光学系において、図６に示さ
れるようにビーム間隔が設計値に対し誤差を持つ場合、
飛び越し走査のパラメータにかかわらず、ビーム数ｎに
等しい繰り返し周期で走査線間隔が変動する。そこで網
点の副走査方向の繰り返し周期と、ビーム数ｎに等しい
周期で変動する走査線間隔のＭｏｉｒｅ縞が発生する。
このＭｏｉｒｅ縞の周期は、飛び越し走査のパラメータ
にかかわらず、ビーム数ｎと網点の副走査方向の繰り返
しを定めるｍの最小公倍数Ｅによって定まり、この実施
例２では、ｎ＝４，ｍ＝３だからＥ＝１２となる。さら
に、ｐ＝０.０２０８３ｍｍであるから、 １／（Ｅ・ｐ）＝４.０００６≧４ line pairs／mm となる。すなわち、この実施例２は、前記（数式２）を
満たしている。したがって、図５の網点により階調表示
を行うこの実施例２の画像書込装置を用いて階調表示を
行った場合、マルチビーム走査の走査線間隔変動と、網
点パターンの副走査方向の繰り返し周期に起因するＭｏ
ｉｒｅ縞は、人間の眼に認識されにくい。よって、高画
質を達成することができる。

【００４０】偏向器をレーザビーム走査光学系に用いる
と、主にミラー面の歪みによってビームの主走査方向の
位置が変動するために、画像に歪みが生ずる。図７は、
ミラー面に歪みがある偏向器を、従来のシングルビーム
走査光学系に用いたときの、副走査方向にのびた線画像
の出力例である。ポリゴンミラーの１回転に１回の周期
で、画像位置が主走査方向に変動している。この現象
を、偏向器によるジッターと呼ぶ。図６に示すように、
レーザビーム走査光学系において副走査方向のビーム間
隔が設計値に対し誤差を持つ場合、飛び越し走査のパラ
メータにかかわらず、ビーム数ｎに等しい繰り返し周期
で走査線間隔が変動する。そのため、偏向器のジッター
と走査線間隔の変動による、Ｍｏｉｒｅ縞が発生する。
このＭｏｉｒｅ縞の繰り返し周期は、飛び越し走査のパ
ラメータにかかわらず、ビーム数ｎと偏向器のミラー面
数ｑの最小公倍数Ｆこよって定まる。図３の実施例２で
は、偏向器６のミラー面数ｑ＝６に設定されているの
で、ｎ＝４，ｑ＝６である。したがって、Ｆ＝１２、ｐ
＝０.０２０８３ｍｍであるから、 １／（Ｆ・ｐ）＝４.０００６≧４ line pairs／mm となる。すなわち、この実施例２は、前記（数式３）を
満たしている。したがってこの実施例２においては、マ
ルチビーム走査の走査線間隔変動と、偏向器によるジッ
ターとに起因するＭｏｉｒｅ縞は、人間の眼に認識され
にくい。よって、高画質を達成することができる。

【００４１】図５に示される網点パターンの副走査方向
の繰り返し周期はｍ・ｐであり、ｍ＝３である。また、
図７に示されるように、偏向器のジッターによる画像歪
みの繰り返し周期はｑ・ｐであり、本実施例２ではｑ＝
６である。図６に示すようにビーム間隔が設計値より変
化した場合、飛び越し走査のパラメータにかかわらず、
ビーム数ｎに等しい周期で走査線間隔が変動する。前述
したように、副走査方向の網点パターンの繰り返し数
ｍ，偏向器のミラー面数ｑ，ビーム数ｎの最小公倍数を
Ｇとすると、Ｇ・ｐの周期でＭｏｉｒｅ縞が発生する。
これが飛び越し走査のパラメータにかかわらず発生する
ことは前述したとおりである。この実施例２の例では、
ｎ＝４，ｍ＝３，ｑ＝６だからＧ＝１２となる。さら
に、ｐ＝０.０２０８３ｍｍであるから、 １／（Ｇ・ｐ）＝４.０００６≧４ line pairs／mm となる。すなわち、この実施例２は、前記（数式４）を
満たしている。したがってこの実施例２においては、マ
ルチビーム走査の走査線間隔変動と、副走査方向の綱点
パターンの繰り返し周期、および偏向器によるジッター
とに起因するＭｏｉｒｅ縞は、人間の眼に認識されにく
い。よって、高画質を達成することができる。

【００４２】以上、本発明の実施例を詳述したが、本発
明は、前記実施例に限定されるものではなく、特許請求
の範囲に記載された本発明を逸脱することなく、種々の
小設計変更を行うことが可能である。たとえば、各光学
系構成要素のパラメータを種々異なる値に設定しなが
ら、前述したパラメータｎ，ｐ，ｍ，ｑの設定の仕方を
変えることにより、１／（ｎ・ｐ），１／（Ｅ・ｐ），
１／（Ｆ・ｐ），１／（Ｇ・ｐ）が４ line pairs／mm
以上の範囲にあるマルチビーム走査光学系を容易に得る
ことが可能である。

【００４３】

【発明の効果】前述の本発明のマルチビーム走査光学系
によれば、前記１／（ｎ・ｐ）、または１／（Ｅ・
ｐ）、または１／（Ｆ・ｐ）、または１／（Ｇ・ｐ）の
値が４ line pairs／mm 以上の適当な値となるよう
に、前記各パラメータｎおよびｐ、またはｎ，ｍおよび
ｐ、またはｎ，ｑおよびｐ、またはｎ，ｍ，ｑおよびｐ
の値を定めることにより、走査面のレーザビームスポッ
トの走査位置変動、または光量設定誤差、または走査面
上のスポットのプロファイルの誤差によって発生するＭ
ｏｉｒｅ縞の繰り返し周期を、人間の眼の画像分解能の
限界以上に設定することができる。したがって、本発明
のマルチビーム走査光学系によれば、良好な画像再現性
を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１は本発明の実施例１の画像書込装置の説
明図で、図１Ａは平面図、図１Ｂは側面図である。

【図２】 図２は本発明の実施例１のマルチビーム走査
光学系において、スポット位置のずれ等の乱れがない時
の、走査面上のレーザビーム（スポット）と走査線間隔
との関連を示す図である。

【図３】 図３は本発明の実施例２の画像書込装置の説
明図で、図３Ａは平面図、図３Ｂは側面図である。

【図４】 図４は本発明の実施例２のマルチビーム走査
光学系において、スポット位置のずれ等の乱れがない時
の、走査面上のレーザビーム（スポット）と走査線間隔
との関連を示す図である。

【図５】 図５は、中間課画像を再現する網点パターン
を示す図である。

【図６】 図６は、本発明第２の実施例のマルチビーム
走査光学系において、走査面上のレーザビーム（スポッ
ト）の間隔が設定の値からずれた場合の副走査方向の露
光量分布のムラを示す図である。

【図７】 図７は、従来例のシングルビーム走査光学系
において、偏向器のジッターによる露光量分布のムラを
示す図である。

【図８】 図８はマルチビーム走査光学系の従来例を示
す図である。

【図９】 図９は同従来例の説明図で、図９Ａは平面
図、図９Ｂは側面図である。

【図１０】 図１０は同従来例のマルチビーム走査光学
系のレーザアレイ光源の説明図である。

【図１１】 図１１は同従来例のマルチビーム走査光学
系の回路部分（ビデオ回路およびレーザ駆動回路）の説
明図である。

【図１２】 図１２は従来例の走査面上のレーザビーム
（スポット）と走査間隔との関連を示す図である。

【図１３】 図１３は他の従来例の走査面上のレーザビ
ーム（スポット）と走査間隔との関連を示す図である。

【図１４】 図１４は飛び越し走査が成立するｎとｉの
組み合わせを示す表である。

【図１５】 図１５は他の従来例の走査面上のレーザビ
ーム（スポット）と走査間隔との関連を示す図である。

【図１６】 図１６は従来例の走査面上のレーザビーム
（スポット）の、副走査方向の位置誤差を示す図であ
る。

【図１７】 図１７は従来例の走査面上のレーザビーム
（スポット）の、主走査方向の位置誤差を示す図であ
る。

【図１８】 図１８はｎ＝２，ｉ＝３のマルチビーム走
査光学系による走査面上のレーザビーム（スポット）の
間隔が、設定の値からずれた場合の副走査方向の露光量
分布のムラを示す図である。

【図１９】 図１９は前記図１８に示すマルチビーム走
査光学系と異なる飛び越し走査のパラメータｎ＝２，ｉ
＝ｒ3／ｐ＝５を持つ光学系において、走査面上のレー
ザビーム（スポットの間隔が設定値からずれた場合の副
走査方向の露光量分布のムラを示す図である。

【図２０】 図２０はマルチビーム走査光学系による走
査面上のレーザビーム（スポット）の間隔が、設定の値
からずれた場合の副走査方向の露光量分布のムラを示す
図である。

【図２１】 図２１は前記図２０に示すマルチビーム走
査光学系と異なる飛び越し走査のパラメータ（ｎ＝４，
ｉ＝５）を持つ光学系において、走査面上のレーザビー
ム（スポット）の間隔が設定の値からずれた場合の副走
査方向の露光量分布のムラを示す図である。

【図２２】 図２２はマルチビーム走査光学系におい
て、走査面の異動量が設定値からずれた場合の副走査方
向の露光量分布のムラを示す図である。

【図２３】 図２３は前記図２２に示すマルチビーム走
査光学系と異なる飛び越し走査のパラメータ（ｎ＝２，
ｉ＝３）において、走査面の異動量が設定の値からずれ
た場合の副走査方向の露光量分布のムラを示す図であ
る。

【図２４】 図２４はマルチビーム走査光学系におい
て、走査面のレーザビーム（スポット）の位置が主走査
方向にずれた場合の露光位置のずれを示す図である。

【図２５】 図２５はマルチビーム走査光学系におい
て、走査面のレーザビーム（スポット）の光量が設定値
からずれた時の露光量分布のムラを示す図である。

【図２６】 図２６は、人間の眼の画像分解能である
VisuaI TransferFunctionを示す図である。

【符号の説明】

Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ…走査面のレーザビームのスポット、ｉ
…飛び越し走査周期、Ｌ1，Ｌ2…レーザビーム、ＬＤ
1，ＬＤ2…レーザダイオード、ｐ…走査ピッチ、ｒ1…
レーザアレイに設けられた複数のレーザダイオード間の
間隔、ｒ3…走査面上のレーザビームのスポットＡ，Ｂ
間の間隔、１…レーザアレイ、２…コリメートレンス、
３…アパーチャ、４…第１副走査方向パワー光学部材
（シリンドリカルレンズ）、６…偏向器、７…ｆ-θレ
ンズ、９…第２副走査方向パワー光学部材（シリンドリ
カルミラー）、１１…走査面、１３…走査ビーム位置検
出センサ、１５…レーザアレー

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記の要件を備えたことを特徴とする画
   像書込装置、（Ｙ01）各々独立に変調された複数のレー
   ザダイオードを有するレーザアレイ、（Ｙ02）前記複数
   のレーザダイオードの出力する複数のレーザビームを偏
   向走査する偏向器を有し、前記偏向器により偏向された
   前記複数のレーザビームによりそれぞれ走査面の異なっ
   た走査線を走査して、前記走査面に画像を書込むマルチ
   ビーム走査光学系、（Ｙ03）前記レーザビーム数をｎ、
   前記走査によって得られる走査線画像の走査線間隔をｐ
   としたとき、ｎとｐが次式 １／（ｎ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式１） を満足するように定められた前記マルチビーム走査光学
   系。（Ｙ04）隣り合うビーム間隔ｒ3をｐで除した自然
   数ｉにより定義される飛び越し周期ｉと、前記レーザビ
   ーム数ｎとが、互いに素の自然数であることを特徴とす
   る飛び越し走査を用いた前記マルチビーム走査光学系。
2. 【請求項２】 下記の要件を備えたことを特徴とする請
   求項１記載の画像書込装置、（Ｙ05）前記飛び越し周期
   ｉがｉ≧２に設定された前記マルチビーム走査光学系、
3. 【請求項３】 下記の要件を備えたことを特徴とする請
   求項１または２記載の画像書込装置、（Ｙ06）ｎ≧３に
   設定された前記マルチビーム走査光学系。
4. 【請求項４】 下記の要件を備えたことを特徴とする請
   求項１〜３のいずれか記載の画像書込装置、（Ｙ07）前
   記レーザビーム数をｎ、前記走査によって得られる走査
   線画像の走査線間隔をｐ、自然数をｍとしたとき、副走
   査方向の画像の繰り返しパターンの周期が前記走査線間
   隔ｐのｍ倍に等しく、かつ、ｍとｎの最小公倍数をＥと
   すると、次式 １／（Ｅ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式２） を満足するように定められた前記マルチビーム走査光学
   系。
5. 【請求項５】 下記の要件を備えたことを特徴とする請
   求項１〜４のいずれか記載の画像書込装置、（Ｙ08）前
   記レーザビーム数をｎ、前記走査によって得られる走査
   線画像の走査線間隔をｐ、偏向器の偏向面数をｑ、走査
   線画像の走査線間隔をｐとしたとき、ｎ，ｑの最小公倍
   数をＦとすると、次式 １／（Ｆ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式３） を満足するように定められた前記マルチビーム走査光学
   系。
6. 【請求項６】 下記の要件を備えたことを特徴とする請
   求項１〜４のいずれか記載の画像書込装置、（Ｙ09）前
   記レーザビーム数をｎ、前記走査によって得られる走査
   線画像の走査線間隔をｐ、偏向器の偏向面数をｑ、自然
   数をｍとしたとき、副走査方向の画像の繰り返しパター
   ンの周期が前記走査線間隔ｐのｍ倍に等しく、かつ、
   ｍ，ｎ，ｑの最小公倍数をＧとすると、次式 １／（Ｇ・ｐ）≧４ line pairs／mm （数式４） を満足するように定められた前記マルチビーム走査光学
   系。