JPH08293200A - Semiconductor memory device and semiconductor memory device testing apparatus and testing method - Google Patents
Semiconductor memory device and semiconductor memory device testing apparatus and testing methodInfo
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- JPH08293200A JPH08293200A JP7097249A JP9724995A JPH08293200A JP H08293200 A JPH08293200 A JP H08293200A JP 7097249 A JP7097249 A JP 7097249A JP 9724995 A JP9724995 A JP 9724995A JP H08293200 A JPH08293200 A JP H08293200A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は動作試験時間を短縮し、かつ冗長試験
の効率を向上させ得る半導体記憶装置を提供することを
目的とする。
【構成】共通のビット線BL,バーBLに接続された複
数の記憶セルCには、該記憶セルCのセル情報が同一で
あるか否かを検出した検出信号Kを出力するセル情報検
出回路6が接続される。
(57) [Summary] [Object] An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of shortening an operation test time and improving the efficiency of a redundancy test. A cell information detection circuit that outputs a detection signal K for detecting whether or not the cell information of the storage cells C is the same to a plurality of storage cells C connected to a common bit line BL, BL. 6 is connected.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置の試
験装置に関するものである。近年、半導体記憶装置は益
々高集積化及び記憶容量の大容量化が進んでいる。この
ような半導体記憶装置では、製品出荷に先立って動作試
験が行われるが、大容量化にともなって動作試験に要す
る時間が長くなる傾向にある。このため、試験時間の短
縮を図ることが必要となっている。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device testing apparatus. 2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor memory devices have become more highly integrated and have a larger storage capacity. In such a semiconductor memory device, an operation test is performed prior to product shipment, but the operation test tends to take a longer time as the capacity increases. Therefore, it is necessary to reduce the test time.
【0002】また、記憶容量の大容量化にともなって不
良記憶セルの発生も増大する傾向にある。このような半
導体記憶装置では、不良セルへのアクセスをあらかじめ
設けられている冗長セルへのアクセスに切り換えること
により、歩留りを向上させる冗長機能を備えている。そ
して、動作試験時にはすべての不良セルに対し冗長セル
を設定する冗長試験も行われ、この冗長試験に要する時
間の短縮及び冗長試験の効率化を図ることが必要となっ
ている。Further, as the storage capacity increases, the number of defective memory cells tends to increase. Such a semiconductor memory device has a redundancy function for improving yield by switching access to a defective cell to access to a redundant cell provided in advance. Then, during the operation test, a redundancy test for setting redundant cells is also performed for all defective cells, and it is necessary to reduce the time required for this redundancy test and improve the efficiency of the redundancy test.
【0003】[0003]
【従来の技術】従来の試験装置による半導体記憶装置の
動作試験では、被試験メモリの記憶セルに同一データを
書き込み、次いで書き込まれたデータを読みだして、試
験装置内の試験用メモリに格納する。このとき、被試験
メモリからの読み出しデータのアドレスと、当該読み出
しデータが格納される試験用メモリのアドレスとを対応
させる。2. Description of the Related Art In an operation test of a semiconductor memory device by a conventional test apparatus, the same data is written in a memory cell of a memory under test, the written data is read out and stored in a test memory in the test apparatus. . At this time, the address of the read data from the memory under test is associated with the address of the test memory in which the read data is stored.
【0004】そして、試験用メモリに格納されたデータ
がすべて同一か否かを判定することにより、被試験メモ
リの各記憶セルが正常に動作しているか否かが判定され
る。このとき、試験装置内の試験用メモリの各記憶セル
にそれぞれアクセスしてセル情報を読みだし、その読み
出しデータがすべて同一か否かを判定すると、大容量化
された半導体記憶装置では、試験時間が長くなってしま
う。Then, by determining whether all the data stored in the test memory are the same, it is determined whether or not each memory cell of the memory under test is operating normally. At this time, when each storage cell of the test memory in the test apparatus is accessed to read the cell information and it is determined whether or not all the read data are the same, the test time is increased in the semiconductor memory device having a large capacity. Will be long.
【0005】そこで、同一ワード線に接続された記憶セ
ルから各ビット線に読みだされるセル情報のAND論理
あるいはOR論理をとって、当該ワード線に接続されて
いる多数の記憶セルに不良セルが含まれているか否かを
検出することにより、試験時間を短縮することが一般的
に行われている。Therefore, AND logic or OR logic of the cell information read from the memory cells connected to the same word line to each bit line is taken, and the defective cells are connected to a large number of memory cells connected to the word line. It is generally practiced to shorten the test time by detecting whether or not is included.
【0006】また、不良セルに対し冗長セルを設定する
冗長試験の動作を図6に従って説明する。まず、試験装
置で被試験メモリの各記憶セルに対し動作試験が行わ
れ、図7に示すフェイルビットマップ1が生成される
(ステップ1)。The operation of a redundancy test for setting a redundant cell for a defective cell will be described with reference to FIG. First, the test apparatus performs an operation test on each memory cell of the memory under test to generate the fail bit map 1 shown in FIG. 7 (step 1).
【0007】すなわち、動作試験が行われる被試験メモ
リに同一データの書き込み及び読み出し動作が行われ、
読みだされたデータが試験用メモリの対応するアドレス
に格納される。そして、そのメモリの各ワード線に接続
されている記憶セルに格納されたデータが同一でない場
合には、当該ワード線に接続されている全記憶セルにア
クセスして、異常データが格納されているアドレス、す
なわち被試験メモリの不良セルのアドレスを検出するこ
とにより、前記フェイルビットマップ1が生成される。That is, the same data is written and read in the memory under test for which the operation test is performed,
The read data is stored in the corresponding address of the test memory. When the data stored in the memory cells connected to each word line of the memory are not the same, all the memory cells connected to the word line are accessed to store the abnormal data. The fail bit map 1 is generated by detecting the address, that is, the address of the defective cell of the memory under test.
【0008】図7は、便宜的にイ行〜ヌ行の10行のワ
ード線と、A列〜J列の10列のビット線からなる10
×10のセルマトリックスで説明し、ワード線方向に2
行の冗長ワード線R1,R2を備え、ビット線方向に2
列の冗長ビット線R3,R4を備えるものとする。そし
て、不良セルとして検出されたアドレスを×印で示す。For convenience sake, FIG. 7 is composed of 10 word lines of a to n rows and 10 bit lines of A to J columns.
A cell matrix of × 10 will be used to explain 2 in the word line direction.
2 rows of redundant word lines R1 and R2 are provided, and 2 in the bit line direction
It is assumed that column redundant bit lines R3 and R4 are provided. The address detected as a defective cell is indicated by a cross.
【0009】次いで、フェイルビットマップ1に基づい
て不良セルが存在するか否かが判定され(ステップ
2)、不良セルが存在しない場合には、冗長セルの設定
は不要であるため、完全良品と判定して(ステップ
3)、試験を終了する。Then, it is judged whether or not there is a defective cell based on the fail bit map 1 (step 2). If there is no defective cell, it is not necessary to set the redundant cell, so that it is judged as a completely good product. A judgment is made (step 3), and the test is ended.
【0010】また、ステップ2において不良セルの存在
が検出されると、まず同一ワード線上に一定数以上の不
良セルが存在するか否かを判定し(ステップ4)、存在
する場合には当該ワード線を冗長ワード線に置換する
(ステップ5)。When the presence of defective cells is detected in step 2, it is first judged whether or not there are a certain number or more of defective cells on the same word line (step 4). Replace the lines with redundant word lines (step 5).
【0011】ここで、一定数を「5」とすれば、フェイ
ルビットマップ1には当該ワード線は存在しないので、
次いで同一ビット線上に一定数以上の不良セルが存在す
るか否かを判定し(ステップ6)、存在する場合には当
該ビット線を冗長ビット線に置換する(ステップ7)。Here, if the fixed number is set to "5", since the word line does not exist in the fail bit map 1,
Next, it is determined whether or not there are a certain number or more of defective cells on the same bit line (step 6), and if there is, the bit line is replaced with a redundant bit line (step 7).
【0012】ここで、E列のビット線には6個の不良セ
ルが存在するので、E列のビット線が冗長ビット線R3
に置換される。次いで、さらに不良セルが存在するワー
ド線及びビット線が存在するか否かが判定され(ステッ
プ8)、存在しない場合には、冗長セルによる不良セル
の救済が完了したと判定して(ステップ9)、試験を終
了する。Since there are 6 defective cells in the bit line in the E column, the bit line in the E column is the redundant bit line R3.
Is replaced by. Next, it is determined whether or not there is a word line and a bit line in which a defective cell is further present (step 8), and if they are not present, it is determined that the repair of the defective cell by the redundant cell is completed (step 9). ), End the test.
【0013】ステップ8において、不良セルが存在する
ワード線及びビット線が存在すると判定されると、残っ
ている冗長ワード線及び冗長ビット線に順次置換される
(ステップ8,10,11)。When it is determined in step 8 that the word line and the bit line in which the defective cell exists are present, the remaining redundant word line and redundant bit line are sequentially replaced (steps 8, 10, 11).
【0014】そして、不良セルが存在するワード線及び
ビット線が存在するにも関わらず、置換すべき冗長ワー
ド線及び冗長ビット線が残っていない場合には、不良セ
ルの救済が完了できないため、不良チップと判定して
(ステップ12)、試験を終了する。If the redundant word line and the redundant bit line to be replaced do not remain despite the existence of the word line and the bit line in which the defective cell exists, the repair of the defective cell cannot be completed. The chip is determined to be a defective chip (step 12), and the test ends.
【0015】[0015]
【発明が解決しようとする課題】上記のような試験装置
での動作試験では、試験装置内の試験用メモリのワード
線を順次選択してセル情報を読みだすことにより、各ワ
ード線に接続される記憶セルに異常データが格納されて
いるか否かが判定可能であるが、各ビット線を順次選択
することにより、各ビット線に接続される記憶セルに異
常データが格納されているか否かを判定することはでき
ない。In the operation test in the test apparatus as described above, the word lines of the test memory in the test apparatus are sequentially selected and the cell information is read to connect to each word line. It is possible to determine whether or not abnormal data is stored in the memory cells that are stored in the memory cells.By selecting each bit line sequentially, it is possible to determine whether or not abnormal data is stored in the memory cells connected to each bit line. It cannot be judged.
【0016】また、全記憶セルのセル情報を判定するた
めには、各ワード線を順次選択するための時間が必要と
なり、それ以上の試験時間の短縮はできない。また、上
記のような冗長試験では、ステップ8において不良ワー
ド線及び不良ビット線を冗長ワード線及び冗長ビット線
に置換する際、不良ワード線及び不良ビット線のいずれ
を先に冗長するかによって、必要な冗長ワード線及び冗
長ビット線の本数が異なる場合がある。Further, in order to judge the cell information of all the memory cells, it is necessary to sequentially select each word line, and the test time cannot be further shortened. In the redundancy test as described above, when the defective word line and the defective bit line are replaced with the redundant word line and the redundant bit line in step 8, depending on which of the defective word line and the defective bit line is made redundant first, The required number of redundant word lines and redundant bit lines may differ.
【0017】すなわち、例えばワード線の下位(イ行)
方向から順次置換すると、ニ行及びト行のワード線を冗
長ワード線R1,R2に置換したとき、冗長ワード線の
残りはなくなる。次いで、B列、C列及びF列のビット
線を冗長ビット線に置換する必要があるが、冗長ビット
線R3は既にE列のビット線の置換に使用しており、冗
長ビット線が不足する。That is, for example, the lower order (a row) of the word line
When the replacement is sequentially performed from the direction, when the word lines in the second row and the second row are replaced with the redundant word lines R1 and R2, the redundant word lines are left. Next, it is necessary to replace the bit lines of the B column, the C column, and the F column with the redundant bit lines, but the redundant bit line R3 is already used for the replacement of the bit line of the E column, and the redundant bit lines are insufficient. .
【0018】従って、このチップは不良セルを完全に救
済することができないため、不良チップと判定されてし
まう。一方、ワード線の上位(ヌ行)方向から順次置換
すると、チ行及びト行のワード線を冗長ワード線R1,
R2に置換したとき、冗長ワード線の残りはなくなる。
次いで、D列のビット線を冗長ビット線R4に置換する
と、すべての不良セルを救済することができる。Therefore, since this chip cannot completely repair the defective cell, it is determined to be a defective chip. On the other hand, when the word lines are sequentially replaced from the upper (nu) row direction, the word lines of the Jth row and the Tth row are replaced by the redundant word line R1,
When replaced with R2, the rest of the redundant word lines are gone.
Then, by replacing the bit line of column D with the redundant bit line R4, all defective cells can be relieved.
【0019】また、不良ワード線及び不良ビット線につ
いて不良セルの多いものから置換すると、チ行のワード
線を冗長ワード線R1に置換し、D列のビット線を冗長
ビット線R4に置換すると、すべての不良セルを救済す
ることができる。If the defective word line and the defective bit line are replaced with those having a large number of defective cells, the word line in row H is replaced with the redundant word line R1, and the bit line in column D is replaced with the redundant bit line R4. All defective cells can be relieved.
【0020】また、ビット線から順次置換するようにし
ても、上記のようにすべての不良セルを救済できない場
合と、救済できる場合とが生じる。従って、上記のよう
な冗長試験では、同一数の不良セルが発生した場合に
も、不良セルの存在位置と不良ワード線及び不良ビット
線の置換順序によって、救済が可能な場合と不可能な場
合とが生じるため、冗長効率が悪く、チップの歩留りを
十分に向上させることができないという問題点がある。Even if the bit lines are sequentially replaced, as described above, there are cases where all the defective cells cannot be relieved and cases where the defective cells can be relieved. Therefore, in the redundancy test as described above, even when the same number of defective cells are generated, depending on the existence position of the defective cells and the replacement order of the defective word line and the defective bit line, it is possible to perform relief and when it is not possible. Therefore, there is a problem that the redundancy efficiency is poor and the chip yield cannot be sufficiently improved.
【0021】この発明の目的は、半導体記憶装置の動作
試験時間を短縮し、かつ冗長試験の効率を向上させ得る
試験装置を提供することにある。An object of the present invention is to provide a test apparatus which can shorten the operation test time of a semiconductor memory device and improve the efficiency of a redundancy test.
【0022】[0022]
【課題を解決するための手段】図1は請求項1の発明の
原理説明図である。すなわち、共通のビット線BL,バ
ーBLに接続された複数の記憶セルCには、該記憶セル
Cのセル情報が同一であるか否かを検出した検出信号K
を出力するセル情報検出回路6が接続される。FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of the invention of claim 1. That is, for the plurality of storage cells C connected to the common bit line BL and bar BL, the detection signal K for detecting whether or not the cell information of the storage cells C is the same.
Is connected to the cell information detection circuit 6.
【0023】請求項2では、共通のビット線に接続され
た複数の記憶セルには、該記憶セルのセル情報が同一で
あるか否かを検出する第一のセル情報検出回路が接続さ
れ、共通のワード線に接続された複数の記憶セルには、
該記憶セルのセル情報が同一であるか否かを検出する第
二のセル情報検出回路が備えられる。According to a second aspect of the present invention, a plurality of memory cells connected to a common bit line are connected to a first cell information detection circuit for detecting whether or not the cell information of the memory cells is the same. Multiple memory cells connected to a common word line
A second cell information detection circuit for detecting whether or not the cell information of the memory cells is the same is provided.
【0024】請求項3では、前記第一のセル情報検出回
路は、高抵抗を介して高電位側電源に接続される検出用
ビット線と、前記検出用ビット線と低電位側電源との間
に介在されて、前記記憶セルに格納されているセル情報
に基づいて開閉される複数のスイッチ回路とで構成さ
れ、前記第二のセル情報検出回路は、高抵抗を介して高
電位側電源に接続される検出用ワード線と、前記検出用
ワード線と低電位側電源との間に介在されて、前記記憶
セルに格納されているセル情報に基づいて開閉される複
数のスイッチ回路とで構成される。According to a third aspect of the present invention, the first cell information detection circuit includes a detection bit line connected to a high potential side power source through a high resistance, and between the detection bit line and the low potential side power source. And a plurality of switch circuits that are opened and closed based on cell information stored in the memory cell, and the second cell information detection circuit is connected to a high-potential-side power source via a high resistance. A detection word line connected thereto, and a plurality of switch circuits interposed between the detection word line and the low-potential-side power supply and opened / closed based on cell information stored in the memory cell. To be done.
【0025】請求項4では、試験装置は試験制御部と試
験用メモリとを備え、前記試験制御部は、被試験メモリ
にセル情報を書き込むとともに、被試験メモリに書き込
んだセル情報を読みだして、試験用メモリに格納し、前
記試験用メモリに格納されたセル情報に基づいて、被試
験メモリ内の不良セルを検出する。前記試験用メモリ
は、多数の記憶セルにワード線及びビット線がそれぞれ
接続されてセルマトリクスが構成され、前記ワード線及
びビット線が選択されることにより前記記憶セルが選択
されて、該記憶セルに対し書き込み及び読み出し動作が
行われ、共通のビット線に接続された複数の記憶セルに
は、該記憶セルのセル情報が同一であるか否かを検出す
るセル情報検出回路が接続される。According to a fourth aspect of the present invention, the test apparatus includes a test control section and a test memory, and the test control section writes the cell information in the memory under test and reads the cell information written in the memory under test. , The defective cell in the memory under test is detected based on the cell information stored in the test memory. In the test memory, a word line and a bit line are respectively connected to a large number of memory cells to form a cell matrix, and the memory cell is selected by selecting the word line and the bit line. A write / read operation is performed on the memory cell and a plurality of memory cells connected to a common bit line are connected to a cell information detection circuit that detects whether or not the cell information of the memory cells is the same.
【0026】請求項5では、前記試験用メモリは、共通
のビット線に接続された複数の記憶セルに、該記憶セル
のセル情報が同一であるか否かを検出する第一のセル情
報検出回路が接続され、共通のワード線に接続された複
数の記憶セルに、該記憶セルのセル情報が同一であるか
否かを検出する第二のセル情報検出回路が接続される。According to a fifth aspect of the present invention, the test memory detects, for a plurality of storage cells connected to a common bit line, whether or not the cell information of the storage cells is the same. A second cell information detection circuit that detects whether or not the cell information of the storage cells is the same is connected to the plurality of storage cells connected to the circuit and connected to the common word line.
【0027】請求項6では、前記試験制御部は、前記第
一及び第二のセル情報検出回路の出力信号に基づいて、
不良セルを含む不良ワード線と、不良セルを含む不良ビ
ット線との本数を検出し、前記不良ビット線と不良ワー
ド線のうち、前記本数の少ない方の最も不良セルの多い
線から冗長線に置換し、この動作を繰り返して、不良ワ
ード線及び不良ビット線を冗長する冗長線を特定し、か
つ前記不良ビット線と不良ワード線の置換に必要とする
冗長線の本数に基づいて、全不良セルを救済可能か否か
を判定する冗長試験装置が備えられる。According to a sixth aspect, the test control section, based on the output signals of the first and second cell information detection circuits,
The number of defective word lines including defective cells and defective bit lines including defective cells is detected, and from the defective bit line and the defective word line, the line with the smallest number of defective cells becomes the redundant line. Replacement is performed, and this operation is repeated to specify a redundant line that makes the defective word line and the defective bit line redundant, and based on the number of redundant lines required to replace the defective bit line and the defective word line, all defective lines are defective. A redundancy test device for determining whether or not the cell can be repaired is provided.
【0028】請求項7では、共通のビット線に接続され
た複数の記憶セルのセル情報が同一であるか否かを検出
することにより、不良セルを含む不良ビット線の本数を
検出し、共通のワード線に接続された複数の記憶セルの
セル情報が同一であるか否かを検出することにより、不
良セルを含む不良ワード線の本数を検出し、前記不良ビ
ット線と不良ワード線のうち、前記本数の少ない方の最
も不良セルの多い線から冗長線に置換し、この動作を繰
り返して、不良ワード線及び不良ビット線を冗長する冗
長線を特定し、かつ前記不良ビット線と不良ワード線の
置換に必要とする冗長線の本数に基づいて、全不良セル
を救済可能か否かを判定する。According to a seventh aspect of the present invention, by detecting whether or not the cell information of a plurality of memory cells connected to a common bit line is the same, the number of defective bit lines including a defective cell is detected and the common bit line is detected. The number of defective word lines including defective cells is detected by detecting whether or not the cell information of a plurality of memory cells connected to the word line is the same. , The line with the most defective cells with the smaller number is replaced with a redundant line, and this operation is repeated to identify the redundant line that makes the defective word line and the defective bit line redundant, and the defective bit line and the defective word line are identified. It is determined whether all defective cells can be repaired based on the number of redundant lines required for line replacement.
【0029】[0029]
【作用】請求項1では、共通のビット線BL,バーBL
に接続された複数の記憶セルCのセル情報が同一である
か否かがセル情報検出回路6で検出されて検出信号Kと
して出力される。According to the first aspect, the common bit line BL, bar BL
The cell information detection circuit 6 detects whether or not the cell information of the plurality of memory cells C connected to the same is the same, and outputs it as the detection signal K.
【0030】請求項2では、第一のセル情報検出回路に
より、共通のビット線に接続された複数の記憶セルのセ
ル情報が同一であるか否かが検出され、第二のセル情報
検出回路により、共通のワード線に接続された複数の記
憶セルのセル情報が同一であるか否かが検出される。In the second aspect, the first cell information detection circuit detects whether or not the cell information of a plurality of memory cells connected to the common bit line is the same, and the second cell information detection circuit. Thus, it is detected whether or not the cell information of a plurality of memory cells connected to the common word line is the same.
【0031】請求項3では、第一のセル情報検出回路
は、セル情報に基づいて少なくとも一つのスイッチ回路
が導通すると、検出用ビット線を低電位側電源レベルと
し、スイッチ回路がすべて不導通となると、検出用ビッ
ト線は高電位側電源レベルに維持される。第二のセル情
報検出回路は、セル情報に基づいて少なくとも一つのス
イッチ回路が導通すると、検出用ワード線を低電位側電
源レベルとし、スイッチ回路がすべて不導通となると、
検出用ワード線は高電位側電源レベルに維持される。According to a third aspect of the present invention, in the first cell information detection circuit, when at least one switch circuit is turned on based on the cell information, the detection bit line is set to the low-potential-side power supply level and all the switch circuits are turned off. Then, the detection bit line is maintained at the high-potential-side power supply level. The second cell information detection circuit, when at least one switch circuit is made conductive based on the cell information, sets the detection word line to the low potential side power supply level, and when all the switch circuits become non-conductive,
The detection word line is maintained at the power supply level on the high potential side.
【0032】請求項4では、被試験メモリのセル情報が
試験用メモリに格納され、試験用メモリに設けられたセ
ル情報検出回路により、共通のビット線に接続された複
数の記憶セルのセル情報が同一であるか否かが検出され
る。According to a fourth aspect of the present invention, the cell information of the memory under test is stored in the test memory, and the cell information detecting circuit provided in the test memory causes the cell information of a plurality of storage cells connected to a common bit line. Are detected to be the same.
【0033】請求項5では、前記試験用メモリでは、第
一のセル情報検出回路により、共通のビット線に接続さ
れた複数の記憶セルのセル情報が同一であるか否かが検
出され、第二のセル情報検出回路により、共通のワード
線に接続された複数の記憶セルのセル情報が同一である
か否かが検出される。According to a fifth aspect of the present invention, in the test memory, the first cell information detection circuit detects whether or not the cell information of a plurality of storage cells connected to a common bit line is the same, The second cell information detection circuit detects whether or not the cell information of the plurality of storage cells connected to the common word line is the same.
【0034】請求項6,7では、共通のビット線に接続
された複数の記憶セルのセル情報が同一であるか否かを
検出することにより、不良セルを含む不良ビット線の本
数が検出され、共通のワード線に接続された複数の記憶
セルのセル情報が同一であるか否かを検出することによ
り、不良セルを含む不良ワード線の本数が検出される。
前記不良ビット線と不良ワード線のうち、前記本数の少
ない方の最も不良セルの多い線から冗長線に置換され、
この動作を繰り返して、不良ワード線及び不良ビット線
を冗長する冗長線が特定される。また、前記不良ビット
線と不良ワード線の置換に必要とする冗長線の本数に基
づいて、全不良セルを救済可能か否かが判定される。According to the sixth and seventh aspects, the number of defective bit lines including defective cells is detected by detecting whether or not the cell information of a plurality of memory cells connected to a common bit line is the same. The number of defective word lines including defective cells is detected by detecting whether or not the cell information of a plurality of memory cells connected to a common word line is the same.
Of the defective bit lines and defective word lines, the line with the most defective cells with the smaller number is replaced with a redundant line,
By repeating this operation, the redundant line that makes the defective word line and the defective bit line redundant is specified. Further, based on the number of redundant lines required to replace the defective bit line and the defective word line, it is determined whether all defective cells can be repaired.
【0035】[0035]
【実施例】図2は、本発明を具体化した試験装置の概略
構成を示す。試験装置2内には試験制御部3と試験用メ
モリ4が設けられる。また、メモリの動作試験時には試
験装置2に被試験メモリ5が接続される。そして、試験
制御部3は被試験メモリ5に制御信号C1と書き込みデ
ータWD1とを出力して、その被試験メモリ5に同一デ
ータの書き込みを行うとともに、その被試験メモリ5に
書き込まれたデータを読み出しデータRD1として読み
だす。EXAMPLE FIG. 2 shows a schematic configuration of a test apparatus embodying the present invention. A test controller 3 and a test memory 4 are provided in the test apparatus 2. Further, the memory under test 5 is connected to the test apparatus 2 during a memory operation test. Then, the test control section 3 outputs the control signal C1 and the write data WD1 to the memory under test 5 to write the same data to the memory under test 5 and to write the data written in the memory under test 5. It is read out as read data RD1.
【0036】前記試験制御部3は、試験用メモリ4に制
御信号C2を出力し、被試験メモリ5から読みだした読
み出しデータRD1を、前記試験用メモリ4の対応する
アドレスに書き込みデータWD2として出力する。The test control section 3 outputs a control signal C2 to the test memory 4 and outputs the read data RD1 read from the memory under test 5 to the corresponding address of the test memory 4 as write data WD2. To do.
【0037】また、試験制御部3は試験用メモリ4に書
き込まれたデータに基づいて、読み出しデータRD2
と、検出信号K1〜Kn、L1〜Lmとを読み出し、試
験用メモリ4に異常データが格納されているか否か及び
異常データが格納されているアドレスを検出することに
より、被試験メモリ5に不良セルが存在するか否か及び
不良セルのアドレスを検出する。Further, the test controller 3 reads the read data RD2 based on the data written in the test memory 4.
And the detection signals K1 to Kn and L1 to Lm are read to detect whether or not abnormal data is stored in the test memory 4 and the address at which the abnormal data is stored. The presence or absence of a cell and the address of the defective cell are detected.
【0038】前記被試験メモリ5は冗長機能を備えたも
のであり、例えば2本ずつの冗長ワード線及び冗長ビッ
ト線を備えたものとする。そして、試験用メモリ4にも
同容量の冗長領域を備えている。The memory under test 5 has a redundancy function, and is assumed to have, for example, two redundant word lines and two redundant bit lines. The test memory 4 also has a redundant area of the same capacity.
【0039】SRAMで具体化した前記試験用メモリ4
のセルアレイの第一の実施例を図3に示す。フリップフ
ロップ型の多数の記憶セルCは、それぞれ一対の転送ト
ランジスタTG を介してビット線BL1,バーBL1〜
BLn,バーBLnのいずれかの対に接続される。The test memory 4 embodied by SRAM.
FIG. 3 shows a first embodiment of this cell array. A large number of flip-flop type storage cells C are respectively connected to a pair of bit lines BL1 and BL1 to BL1 through a pair of transfer transistors TG.
It is connected to any pair of BLn and bar BLn.
【0040】前記転送トランジスタTG のゲートは、ワ
ード線WL1〜WLmのいずれかにそれぞれ接続され、
m×nのセルマトリクスが構成される。従って、前記試
験制御部3から出力されるロウアドレス信号に基づい
て、ロウデコーダ(図示しない)によりワード線WL1
〜WLmのいずれかが選択されると、当該ワード線に接
続された記憶セルCに格納されているセル情報がビット
線BL1,バーBL1〜BLn,バーBLnに読みださ
れる。The gate of the transfer transistor TG is connected to one of the word lines WL1 to WLm,
An m × n cell matrix is constructed. Therefore, based on the row address signal output from the test controller 3, a row decoder (not shown) uses the word line WL1.
When any of WLm to WLm is selected, the cell information stored in the memory cell C connected to the word line is read out to the bit line BL1, bars BL1 to BLn, bar BLn.
【0041】前記ビット線BL1,バーBL1〜BL
n,バーBLnに読みだされたセル情報は、センスアン
プ(図示しない)で増幅され、コラムデコーダ(図示し
ない)でいずれかのビット線のセル情報が選択されて、
前記試験制御部3に読み出しデータRD2として出力さ
れる。Bit line BL1, bars BL1 to BL
The cell information read out to the n and bar BLn is amplified by a sense amplifier (not shown), and cell information of any bit line is selected by a column decoder (not shown).
The read data RD2 is output to the test controller 3.
【0042】前記各記憶セルCの一方のノードには、セ
ル情報検出用の二つのNチャネルMOSトランジスタT
n1,Tn2のゲートが接続される。前記トランジスタTn
1,Tn2のソースはグランドGNDに接続される。Two N-channel MOS transistors T for detecting cell information are provided at one node of each memory cell C.
The gates of n1 and Tn2 are connected. The transistor Tn
The sources of 1 and Tn2 are connected to the ground GND.
【0043】同一コラムのビット線に接続される記憶セ
ルCに設けられた前記トランジスタTn1のドレインは、
セル情報を検出するために各コラムに設けられる検出用
ビット線BLk1〜BLknにそれぞれ接続される。The drain of the transistor Tn1 provided in the memory cell C connected to the bit line in the same column is
The bit lines for detection BLk1 to BLkn provided in each column for detecting cell information are respectively connected.
【0044】前記検出用ビット線BLk1〜BLknは、サ
イズの小さいPチャネルMOSトランジスタTp1を介し
てそれぞれ電源Vccに接続され、同トランジスタTp1の
ゲートはグランドGNDに接続される。従って、前記ト
ランジスタTp1は常時高抵抗状態でオンされ、前記トラ
ンジスタTn1がオンされない限り検出用ビット線BLk1
〜BLknを電源Vccレベルに保持する。The detection bit lines BLk1 to BLkn are connected to the power supply Vcc via the P-channel MOS transistor Tp1 having a small size, and the gate of the transistor Tp1 is connected to the ground GND. Therefore, the transistor Tp1 is always turned on in a high resistance state, and the detection bit line BLk1 is turned on unless the transistor Tn1 is turned on.
~ BLkn is maintained at the power supply Vcc level.
【0045】同一ワード線に接続される記憶セルCに設
けられた前記トランジスタTn2のドレインは、セル情報
を検出するために各ワード線WL1〜WLmに並行にそ
れぞれ設けられる検出用ワード線WLk1〜WLkmに接続
される。The drains of the transistors Tn2 provided in the memory cells C connected to the same word line have detection word lines WLk1 to WLkm provided in parallel with the word lines WL1 to WLm for detecting cell information. Connected to.
【0046】前記検出用ワード線WLk1〜WLkmは、サ
イズの小さいPチャネルMOSトランジスタTp2を介し
てそれぞれ電源Vccに接続され、同トランジスタTp2の
ゲートはグランドGNDに接続される。従って、前記ト
ランジスタTp2は常時高抵抗状態でオンされ、前記トラ
ンジスタTn2がオンされない限りワード線WLk1〜WL
kmを電源Vccレベルに保持する。The detection word lines WLk1 to WLkm are connected to the power supply Vcc through the P-channel MOS transistor Tp2 having a small size, and the gate of the transistor Tp2 is connected to the ground GND. Therefore, the transistor Tp2 is always turned on in the high resistance state, and the word lines WLk1 to WLk are turned on unless the transistor Tn2 is turned on.
Hold km at the power supply Vcc level.
【0047】前記各記憶セルCには、前記試験制御部3
により、前記トランジスタTn1,Tn2が接続される一方
のノードがLレベルとなるセル情報が、あらかじめ書き
込まれる。The test control unit 3 is provided in each memory cell C.
As a result, cell information in which one of the nodes to which the transistors Tn1 and Tn2 are connected becomes L level is written in advance.
【0048】そして、被試験メモリ5の動作試験時に
は、前記被試験メモリ5の不良セルから読みだされた異
常データとして、前記トランジスタTn1,Tn2が接続さ
れる一方のノードがHレベルとなるセル情報が書き込ま
れる。Then, during the operation test of the memory under test 5, as abnormal data read from the defective cell of the memory under test 5, cell information in which one node to which the transistors Tn1 and Tn2 are connected becomes H level Is written.
【0049】従って、異常データが格納された記憶セル
CではトランジスタTn1,Tn2がオンされるため、当該
記憶セルCに接続された検出用ワード線及び検出用ビッ
ト線はLレベルとなる。Therefore, since the transistors Tn1 and Tn2 are turned on in the memory cell C storing abnormal data, the detection word line and the detection bit line connected to the memory cell C become L level.
【0050】このような構成により、各検出用ワード線
WLk1〜WLkmは、同検出用ワード線WLk1〜WLkmに
接続された記憶セルCのすべてに正常データが格納され
ている場合に限りHレベルの検出信号L1〜Lmを前記
試験制御部3に出力する。With such a configuration, each of the detection word lines WLk1 to WLkm is at the H level only when normal data is stored in all the memory cells C connected to the detection word lines WLk1 to WLkm. The detection signals L1 to Lm are output to the test control unit 3.
【0051】また、各検出用ワード線WLk1〜WLkmに
接続された記憶セルCのうち、一つ以上の記憶セルCに
異常データが格納されていると、各検出用ワード線WL
k1〜WLkmはLレベルの検出信号L1〜Lmを前記試験
制御部3に出力する。If abnormal data is stored in one or more storage cells C among the storage cells C connected to the detection word lines WLk1 to WLkm, the detection word lines WL are detected.
k1 to WLkm output the L level detection signals L1 to Lm to the test control unit 3.
【0052】同様に、各検出用ビット線BLk1〜BLkn
は、同検出用ビット線BLk1〜BLknに接続された記憶
セルCのすべてに正常データが格納されている場合に限
りHレベルの検出信号K1〜Knを前記試験制御部3に
出力する。Similarly, each detection bit line BLk1 to BLkn
Outputs H level detection signals K1 to Kn to the test control unit 3 only when normal data is stored in all the memory cells C connected to the detection bit lines BLk1 to BLkn.
【0053】また、各検出用ワード線BLk1〜BLknに
接続された記憶セルCのうち、一つ以上の記憶セルCに
異常データが格納されていると、各検出用ワード線BL
k1〜BLknはLレベルの検出信号K1〜Knを前記試験
制御部3に出力する。Further, if abnormal data is stored in one or more memory cells C among the memory cells C connected to the respective word lines BLk1 to BLkn for detection, each word line BL for detection is detected.
k1 to BLkn output the L level detection signals K1 to Kn to the test control unit 3.
【0054】従って、試験制御部3では検出信号L1〜
Lm,K1〜Knにより、異常データが格納されている
記憶セルが接続されているワード線及びビット線、言い
換えれば被試験メモリ5において、不良セルが接続され
ているワード線及びビット線を検出可能となっている。Therefore, the test control unit 3 detects the detection signals L1 to L1.
With Lm and K1 to Kn, the word line and the bit line to which the memory cell storing the abnormal data is connected, in other words, the word line and the bit line to which the defective cell is connected can be detected in the memory under test 5. Has become.
【0055】次に、上記のように構成された試験装置2
の動作を図4に従って説明する。まず、試験装置2の試
験制御部3で、被試験メモリ5の全記憶セルに対し動作
試験が行われ、図7に示すフェイルビットマップ1が生
成される(ステップ21)。Next, the test apparatus 2 configured as described above.
The operation will be described with reference to FIG. First, the test control unit 3 of the test apparatus 2 performs an operation test on all the memory cells of the memory under test 5 to generate the fail bit map 1 shown in FIG. 7 (step 21).
【0056】すなわち、試験制御部3は被試験メモリ5
に同一データを書き込み、次いで書き込まれたデータを
読み出し、読み出しデータの中から異常データを検出す
ると、試験用メモリ4の対応するアドレスに異常データ
を格納する。そして、前記試験用メモリ4上に前記フェ
イルビットマップ1を生成する。In other words, the test control section 3 controls the memory under test 5
When the abnormal data is detected from the read data, the abnormal data is stored in the corresponding address of the test memory 4. Then, the fail bit map 1 is generated on the test memory 4.
【0057】次いで、試験制御部3はフェイルビットマ
ップ1に基づいて不良セルが存在するか否かを判定し
(ステップ22)、不良セルが存在しない場合には、冗
長セルの設定は不要であるため、完全良品と判定して
(ステップ23)、試験を終了する。Next, the test controller 3 determines whether or not there is a defective cell based on the fail bit map 1 (step 22). If there is no defective cell, the redundant cell need not be set. Therefore, it is determined that the product is completely non-defective (step 23), and the test ends.
【0058】また、不良セルが存在する場合には、試験
用メモリ4から出力される検出信号L1〜Lm,K1〜
Knに基づいて、不良セルを含むワード線及びビット線
の本数を検出する(ステップ24)。When there is a defective cell, the detection signals L1 to Lm, K1 to be output from the test memory 4 are detected.
The number of word lines and bit lines including defective cells is detected based on Kn (step 24).
【0059】次いで、不良セルを含むワード線の本数A
と、不良セルを含むビット線の本数Bとを比較する(ス
テップ25)。例えば図7においては、不良セルを含む
ワード線の本数は「6」であり、不良セルを含むビット
線の本数は「5」であるので、A>Bとなる。Next, the number A of word lines including defective cells
And the number B of bit lines including defective cells are compared (step 25). For example, in FIG. 7, since the number of word lines including defective cells is “6” and the number of bit lines including defective cells is “5”, A> B.
【0060】次いで、試験制御部3はフェイルビットマ
ップ1に基づいて、不良セルを含む各ビット線の不良セ
ル数を演算し、不良セルが一番多いE列のビット線を冗
長ビット線R3に置換する(ステップ28)。Next, the test control section 3 calculates the number of defective cells of each bit line including the defective cell based on the fail bit map 1, and the bit line in the E column having the most defective cells is set to the redundant bit line R3. Replace (step 28).
【0061】次いで、試験制御部3は不良セルが存在す
るか否か及び冗長領域が残っているか否かを検出する
(ステップ29,31)。今、不良セルは未だ存在し、
冗長領域は残っているので、ステップ24に移行する。Next, the test control section 3 detects whether or not there is a defective cell and whether or not a redundant area remains (steps 29 and 31). Now there are still bad cells,
Since the redundant area remains, the process proceeds to step 24.
【0062】次いで、試験制御部3は不良セルを含むワ
ード線の本数は「3」であり、不良セルを含むビット線
の本数は「4」であることを検出し、A<Bとなる。す
ると、試験制御部3はフェイルビットマップ1に基づい
て、不良セルを含む各ワード線の不良セル数を演算し、
不良セルが一番多いチ行のワード線を冗長ワード線R1
に置換する(ステップ26)。Next, the test controller 3 detects that the number of word lines including defective cells is "3" and the number of bit lines including defective cells is "4", and A <B. Then, the test control unit 3 calculates the number of defective cells of each word line including the defective cell based on the fail bit map 1,
The word line of row C having the most defective cells is the redundant word line R1.
(Step 26).
【0063】次いで、試験制御部3は不良セルが未だ存
在すること及び冗長領域が残っていることを検出し(ス
テップ29,31)、不良セルを含むワード線の本数は
「2」であり、不良セルを含むビット線の本数は「1」
であることを検出し、A>Bとなる。Next, the test controller 3 detects that the defective cell still exists and that the redundant area remains (steps 29 and 31), and the number of word lines including the defective cell is "2", The number of bit lines including defective cells is "1"
It is detected that A> B.
【0064】すると、試験制御部3は不良セルが一番多
いD行のビット線を冗長ビット線R4に置換する(ステ
ップ26)。次いで、試験制御部3は不良セルが存在し
ないことを検出して(ステップ29)、救済完了を判定
して(ステップ30)、試験を終了する。Then, the test control section 3 replaces the bit line in the D row having the most defective cells with the redundant bit line R4 (step 26). Next, the test control unit 3 detects that there is no defective cell (step 29), determines repair completion (step 30), and ends the test.
【0065】また、ステップ25において、不良セルを
含むワード線の本数Aと、ビット線の本数Bとが一致す
る場合には、冗長ワード線の残数Cと、冗長ビット線の
残数Dとを比較する(ステップ27)。In step 25, when the number A of word lines including defective cells and the number B of bit lines match, the remaining number C of redundant word lines and the remaining number D of redundant bit lines are set. Are compared (step 27).
【0066】そして、C>Dであれば、ステップ26に
移行し、C≦Dであれば、ステップ28に移行する。ま
た、ステップ31で冗長領域が残っていないと判定され
ると、不良セルを救済しきれないので、被試験メモリ5
を不良チップと判定して(ステップ32)、試験を終了
する。If C> D, the process proceeds to step 26, and if C ≦ D, the process proceeds to step 28. If it is determined in step 31 that the redundant area does not remain, the defective cells cannot be relieved.
Is determined to be a defective chip (step 32), and the test ends.
【0067】以上のようにこの試験装置2に設けられた
試験用メモリ4は、ワード線WL1〜WLm及びビット
線BL1,バーBL1〜BLn,バーBLnを選択する
ことなく、検出用ワード線WLk1〜WLkm及び検出用ビ
ット線BLk1〜BLknに出力される検出信号L1〜L
m,K1〜Knに基づいて、不良セルを含むワード線及
びビット線の本数を検出することができる。As described above, the test memory 4 provided in the test apparatus 2 does not select the word lines WL1 to WLm and the bit lines BL1, the bars BL1 to BLn, and the bar BLn, and detects the detection word lines WLk1 to WLk1. Detection signals L1 to L output to WLkm and detection bit lines BLk1 to BLkn
The number of word lines and bit lines including defective cells can be detected based on m and K1 to Kn.
【0068】従って、アドレス信号に基づいてワード線
及びビット線を選択する読み出し動作を行うことなく、
不良セルを含むワード線及びビット線の本数を瞬時に検
出することができるので、試験時間を短縮することがで
きる。Therefore, without performing the read operation for selecting the word line and the bit line based on the address signal,
Since the number of word lines and bit lines including defective cells can be instantly detected, the test time can be shortened.
【0069】また、不良セルを含むワード線及びビット
線の本数に基づいて、不良セルを含むワード線及びビッ
ト線を最小数の冗長ワード線及び冗長ビット線に効率的
に置換することができる。Further, based on the number of word lines and bit lines including defective cells, the word lines and bit lines including defective cells can be efficiently replaced with the minimum number of redundant word lines and redundant bit lines.
【0070】また、置換する冗長ワード線及び冗長ビッ
ト線を最小数とすることができるので、被試験メモリの
歩留りを向上させることができるとともに、次工程での
被試験メモリの冗長工程数を削減してコストを低減する
ことができる。Further, since the number of redundant word lines and redundant bit lines to be replaced can be minimized, the yield of the memory under test can be improved and the number of redundant steps of the memory under test in the next process can be reduced. The cost can be reduced.
【0071】図5は、試験用メモリ4の第二の実施例を
示す。この実施例は、前記第一の実施例から検出用ワー
ド線WLk1〜WLkm及びトランジスタTn2を除去した構
成である。FIG. 5 shows a second embodiment of the test memory 4. In this embodiment, the detection word lines WLk1 to WLkm and the transistor Tn2 are removed from the first embodiment.
【0072】このような構成により、不良セルを含むビ
ット線は前記第一の実施例と同様に検出信号K1〜Kn
に基づいて検出することができる。また、不良セルを含
むワード線は、各ワード線WL1〜WLmを順次選択し
て、セル情報を読みだすことにより検出可能である。With this structure, the bit lines including the defective cells are detected by the detection signals K1 to Kn as in the first embodiment.
Can be detected based on. The word line including the defective cell can be detected by sequentially selecting each of the word lines WL1 to WLm and reading the cell information.
【0073】従って、不良セルを含むワード線及びビッ
ト線の本数を検出することが可能となり、試験制御部3
により、前記第一の実施例と同様に、不良セルを含むワ
ード線及びビット線を最小数の冗長ワード線及び冗長ビ
ット線に効率的に置換することができる。Therefore, it becomes possible to detect the number of word lines and bit lines including defective cells, and the test control unit 3
Thus, as in the first embodiment, the word lines and bit lines including defective cells can be efficiently replaced with the minimum number of redundant word lines and redundant bit lines.
【0074】なお、前記実施例では、記憶セルCの一方
のノードにトランジスタTn1, Tn2を接続して、検出信
号L1〜Lm,K1〜Knを出力したが、記憶セルCの
両方のノードから検出信号を取り出し可能とする構成と
してもよい。この場合には、記憶セルCに対する正常デ
ータと異常データの書き込みノードを反転させることが
できる。In the above embodiment, the transistors Tn1 and Tn2 are connected to one node of the memory cell C to output the detection signals L1 to Lm and K1 to Kn. A signal may be taken out. In this case, the write node of the normal data and the abnormal data for the memory cell C can be inverted.
【0075】また、記憶セルCはフリップフロップ型以
外の構成でも同様に実施可能である。また、前記検出信
号L1〜Lm、K1〜Knは、当該記憶セルCのセル情
報のOR論理あるいはAND論理をとることにより生成
することもできる。Further, the memory cell C can be similarly implemented with a configuration other than the flip-flop type. The detection signals L1 to Lm and K1 to Kn can also be generated by taking the OR logic or AND logic of the cell information of the memory cell C.
【0076】上記実施例から把握できる請求項以外の技
術思想について、以下にその効果とともに記載する。 (1)請求項3において、スイッチ回路は記憶セルの一
方のノードにゲートを接続したNチャネルMOSトラン
ジスタで構成した。冗長ワード線及び冗長ビット線にス
イッチ回路を介して接続された記憶セルの少なくとも一
つの一方のノードが異常データによりHレベルとなる
と、NチャネルMOSトランジスタがオンされて冗長ワ
ード線及び冗長ビット線がグランドGNDレベルとな
る。The technical ideas other than the claims that can be understood from the above-described embodiments will be described below along with their effects. (1) In claim 3, the switch circuit is composed of an N-channel MOS transistor having a gate connected to one node of the memory cell. When at least one node of the memory cells connected to the redundant word line and the redundant bit line via the switch circuit becomes H level due to abnormal data, the N-channel MOS transistor is turned on and the redundant word line and the redundant bit line are turned on. It becomes the ground GND level.
【0077】[0077]
【発明の効果】以上詳述したように、請求項1〜3の発
明では、半導体記憶装置の動作試験時間を短縮すること
ができる。As described in detail above, according to the inventions of claims 1 to 3, the operation test time of the semiconductor memory device can be shortened.
【0078】また、請求項4,5の発明では、半導体記
憶装置の動作試験時間を短縮し得る試験装置を提供する
ことができる。また、請求項6,7の発明では、半導体
記憶装置の動作試験時間を短縮し得るとともに、冗長試
験の効率を向上させることができる。Further, according to the inventions of claims 4 and 5, it is possible to provide a test apparatus capable of shortening the operation test time of the semiconductor memory device. Further, in the inventions of claims 6 and 7, the operation test time of the semiconductor memory device can be shortened and the efficiency of the redundancy test can be improved.
【図1】 本発明の原理説明図である。FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.
【図2】 試験装置を示すブロック図である。FIG. 2 is a block diagram showing a test apparatus.
【図3】 試験用メモリの第一の実施例を示す回路図で
ある。FIG. 3 is a circuit diagram showing a first embodiment of a test memory.
【図4】 試験装置の動作を示すフローチャート図であ
る。FIG. 4 is a flowchart showing the operation of the test apparatus.
【図5】 試験用メモリの第二の実施例を示す回路図で
ある。FIG. 5 is a circuit diagram showing a second embodiment of the test memory.
【図6】 従来例の試験装置の動作を示すフローチャー
ト図である。FIG. 6 is a flowchart showing the operation of the conventional test apparatus.
【図7】 セルマトリクスを示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing a cell matrix.
6 セル情報検出回路 BL,バーBL ビット線 C 記憶セル K 検出信号 6 Cell information detection circuit BL, bar BL Bit line C Storage cell K detection signal
Claims (7)
をそれぞれ接続してセルマトリクスを構成し、前記ワー
ド線及びビット線を選択することにより前記記憶セルを
選択して、該記憶セルに対し読み出し動作を行う半導体
記憶装置であって、 共通のビット線に接続された複数の記憶セルには、該記
憶セルのセル情報が同一であるか否かを検出した検出信
号を出力するセル情報検出回路が接続されることを特徴
とする半導体記憶装置。1. A cell matrix is formed by connecting a word line and a bit line to a large number of memory cells, and selecting the memory cell by selecting the word line and the bit line. A semiconductor memory device performing a read operation, wherein a plurality of memory cells connected to a common bit line outputs a detection signal for detecting whether or not the cell information of the memory cells is the same, and cell information detection A semiconductor memory device, to which circuits are connected.
をそれぞれ接続してセルマトリクスを構成し、前記ワー
ド線及びビット線を選択することにより前記記憶セルを
選択して、該記憶セルに対し読み出し動作を行う半導体
記憶装置であって、 共通のビット線に接続された複数の記憶セルには、該記
憶セルのセル情報が同一であるか否かを検出する第一の
セル情報検出回路を備え、共通のワード線に接続された
複数の記憶セルには、該記憶セルのセル情報が同一であ
るか否かを検出する第二のセル情報検出回路を備えたこ
とを特徴とする半導体記憶装置。2. A word line and a bit line are respectively connected to a large number of memory cells to form a cell matrix, and the memory cell is selected by selecting the word line and the bit line. In a semiconductor memory device that performs a read operation, a plurality of memory cells connected to a common bit line includes a first cell information detection circuit that detects whether or not the cell information of the memory cells is the same. A plurality of memory cells connected to a common word line are provided with a second cell information detection circuit for detecting whether or not the cell information of the memory cells is the same. apparatus.
を介して高電位側電源に接続される検出用ビット線と、
前記検出用ビット線と低電位側電源との間に介在され
て、前記記憶セルに格納されているセル情報に基づいて
開閉される複数のスイッチ回路とで構成し、前記第二の
セル情報検出回路は、高抵抗を介して高電位側電源に接
続される検出用ワード線と、前記検出用ワード線と低電
位側電源との間に介在されて、前記記憶セルに格納され
ているセル情報に基づいて開閉される複数のスイッチ回
路とで構成したことを特徴とする請求項2記載の半導体
記憶装置。3. The first cell information detection circuit includes a detection bit line connected to a high potential side power source via a high resistance,
A plurality of switch circuits that are interposed between the detection bit line and a low-potential-side power supply and that are opened / closed based on the cell information stored in the memory cell, and detect the second cell information. The circuit is interposed between the detection word line and the low-potential-side power supply and connected to the high-potential-side power supply via a high resistance, and cell information stored in the memory cell is provided. 3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the semiconductor memory device comprises a plurality of switch circuits that are opened and closed based on the above.
とともに、被試験メモリに書き込んだセル情報を読みだ
して、試験用メモリに格納し、前記試験用メモリに格納
されたセル情報に基づいて、被試験メモリ内の不良セル
を検出する半導体記憶装置の試験装置であって、 前記試験用メモリは、多数の記憶セルにワード線及びビ
ット線をそれぞれ接続してセルマトリクスを構成し、前
記ワード線及びビット線を選択することにより前記記憶
セルを選択して、該記憶セルに対し書き込み及び読み出
し動作を行い、共通のビット線に接続された複数の記憶
セルには、該記憶セルのセル情報が同一であるか否かを
検出するセル情報検出回路を備えたことを特徴とする半
導体記憶装置の試験装置。4. A test control unit and a test memory are provided, wherein the test control unit writes cell information in the memory under test, reads the cell information written in the memory under test, and stores the cell information in the test memory. A test device of a semiconductor memory device for detecting a defective cell in a memory under test based on cell information stored in the test memory, wherein the test memory includes word lines and A bit line is connected to each other to form a cell matrix, the memory cell is selected by selecting the word line and the bit line, write and read operations are performed on the memory cell, and connected to a common bit line. A testing device for a semiconductor memory device, wherein the plurality of memory cells are provided with a cell information detection circuit for detecting whether or not the cell information of the memory cells is the same.
接続された複数の記憶セルに、該記憶セルのセル情報が
同一であるか否かを検出する第一のセル情報検出回路を
接続し、共通のワード線に接続された複数の記憶セル
に、該記憶セルのセル情報が同一であるか否かを検出す
る第二のセル情報検出回路を接続したことを特徴とする
請求項4記載の半導体記憶装置の試験装置。5. The test memory has a plurality of storage cells connected to a common bit line connected to a first cell information detection circuit for detecting whether or not the cell information of the storage cells is the same. The second cell information detection circuit for detecting whether or not the cell information of the storage cells is the same is connected to the plurality of storage cells connected to the common word line. A semiconductor memory device testing device as described above.
セル情報検出回路の出力信号に基づいて、不良セルを含
む不良ワード線と、不良セルを含む不良ビット線との本
数を検出し、前記不良ビット線と不良ワード線のうち、
前記本数の少ない方の最も不良セルの多い線から冗長線
に置換し、この動作を繰り返して、不良ワード線及び不
良ビット線を冗長する冗長線を特定し、かつ前記不良ビ
ット線と不良ワード線の置換に必要とする冗長線の本数
に基づいて、全不良セルを救済可能か否かを判定する冗
長試験装置を備えたことを特徴とする請求項5記載の半
導体記憶装置の試験装置。6. The test control unit detects the number of defective word lines including defective cells and defective bit lines including defective cells based on the output signals of the first and second cell information detection circuits. Of the defective bit line and defective word line
The line with the largest number of defective cells with the smaller number is replaced with the redundant line, and this operation is repeated to identify the redundant line that makes the defective word line and the defective bit line redundant, and the defective bit line and the defective word line are identified. 6. The semiconductor memory device testing device according to claim 5, further comprising a redundancy testing device for determining whether or not all defective cells can be repaired based on the number of redundant lines required for replacement.
セルのセル情報が同一であるか否かを検出することによ
り、不良セルを含む不良ビット線の本数を検出し、共通
のワード線に接続された複数の記憶セルのセル情報が同
一であるか否かを検出することにより、不良セルを含む
不良ワード線の本数を検出し、前記不良ビット線と不良
ワード線のうち、前記本数の少ない方の最も不良セルの
多い線から冗長線に置換し、この動作を繰り返して、不
良ワード線及び不良ビット線を冗長する冗長線を特定
し、かつ前記不良ビット線と不良ワード線の置換に必要
とする冗長線の本数に基づいて、全不良セルを救済可能
か否かを判定することを特徴とする半導体記憶装置の試
験方法。7. The number of defective bit lines including defective cells is detected by detecting whether or not the cell information of a plurality of memory cells connected to the common bit line is the same, and the common word line is detected. The number of defective word lines including a defective cell is detected by detecting whether or not the cell information of a plurality of storage cells connected to each other is the same, and the number of defective word lines and defective word lines is detected. The line with the most defective cells, which has the smallest number of cells, is replaced with the redundant line, and this operation is repeated to identify the redundant line that makes the defective word line and the defective bit line redundant, and replaces the defective bit line with the defective word line. A method of testing a semiconductor memory device, comprising: determining whether or not all defective cells can be repaired based on the number of redundant lines required for the above.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7097249A JPH08293200A (en) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | Semiconductor memory device and semiconductor memory device testing apparatus and testing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7097249A JPH08293200A (en) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | Semiconductor memory device and semiconductor memory device testing apparatus and testing method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08293200A true JPH08293200A (en) | 1996-11-05 |
Family
ID=14187310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7097249A Withdrawn JPH08293200A (en) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | Semiconductor memory device and semiconductor memory device testing apparatus and testing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08293200A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002117697A (en) * | 2000-10-06 | 2002-04-19 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor integrated circuit device |
-
1995
- 1995-04-21 JP JP7097249A patent/JPH08293200A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002117697A (en) * | 2000-10-06 | 2002-04-19 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor integrated circuit device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020702 |