JPH0829502A - 試験可能なロジックおよびメモリ混載半導体チップ - Google Patents
試験可能なロジックおよびメモリ混載半導体チップInfo
- Publication number
- JPH0829502A JPH0829502A JP7151337A JP15133795A JPH0829502A JP H0829502 A JPH0829502 A JP H0829502A JP 7151337 A JP7151337 A JP 7151337A JP 15133795 A JP15133795 A JP 15133795A JP H0829502 A JPH0829502 A JP H0829502A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- test
- memory
- logic
- circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 100
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 4
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 4
- 238000003491 array Methods 0.000 abstract description 6
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 238000013461 design Methods 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/50—Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/30—Marginal testing, e.g. by varying supply voltage
- G01R31/3004—Current or voltage test
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ロジックおよびメモリを混合した半導体チッ
プにおいてロジックおよびメモリを個別に試験できるよ
うにすること。 【構成】 チップ10は、論理部14の電力供給レール
とメモリ・ユニット12.1の電力供給レールとの間に
置かれたスイッチとして機能するFETよりなる試験回
路44を有する。FETの制御ゲートは、標準の制御信
号LTに接続されている。LTの値により、試験回路
は、混合チップのメモリ・ユニットと論理部を、接続し
たり分離したりする。チップのTESTモード中は、制
御信号の値LTが試験回路をオフにし、メモリ・ユニッ
トには電力は供給されず、論理回路ネットワークが試験
される。次に制御信号の値LTが反転され、制御ゲート
がメモリ・ユニットのすべての電力供給レールを、論理
部の電力供給レールに接続する。次に、埋め込みアレイ
の一連の試験を行う。
プにおいてロジックおよびメモリを個別に試験できるよ
うにすること。 【構成】 チップ10は、論理部14の電力供給レール
とメモリ・ユニット12.1の電力供給レールとの間に
置かれたスイッチとして機能するFETよりなる試験回
路44を有する。FETの制御ゲートは、標準の制御信
号LTに接続されている。LTの値により、試験回路
は、混合チップのメモリ・ユニットと論理部を、接続し
たり分離したりする。チップのTESTモード中は、制
御信号の値LTが試験回路をオフにし、メモリ・ユニッ
トには電力は供給されず、論理回路ネットワークが試験
される。次に制御信号の値LTが反転され、制御ゲート
がメモリ・ユニットのすべての電力供給レールを、論理
部の電力供給レールに接続する。次に、埋め込みアレイ
の一連の試験を行う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、論理ネットワークおよ
び埋め込みアレイの両方を組み合わせて混載したチップ
の試験に関するものであり、さらに詳細には、試験中
に、上記の混載チップの論理部をメモリ部から分離する
回路に関するものである。メモリ・チップを個別に検査
することにより、故障したメモリ・エレメントの場合、
冗長回路を広範に利用することができる。これにより、
製造したメモリ/ロジック混載チップの歩留まりが増大
し、その結果、出荷製品品質レベルの数字が減少する。
び埋め込みアレイの両方を組み合わせて混載したチップ
の試験に関するものであり、さらに詳細には、試験中
に、上記の混載チップの論理部をメモリ部から分離する
回路に関するものである。メモリ・チップを個別に検査
することにより、故障したメモリ・エレメントの場合、
冗長回路を広範に利用することができる。これにより、
製造したメモリ/ロジック混載チップの歩留まりが増大
し、その結果、出荷製品品質レベルの数字が減少する。
【0002】
【従来の技術】高密度、高信頼性、および低コストを図
ることは、VLSI市場において製品が成功するために
重要である。マイクロプロセッサ、マイクロコントロー
ラ、その他多数の製品の実際の設計においては、同一チ
ップ上に大型アレイおよび論理回路ネットワークが混在
する。下記の説明では、このようなチップを混載チップ
または混合チップと称する。
ることは、VLSI市場において製品が成功するために
重要である。マイクロプロセッサ、マイクロコントロー
ラ、その他多数の製品の実際の設計においては、同一チ
ップ上に大型アレイおよび論理回路ネットワークが混在
する。下記の説明では、このようなチップを混載チップ
または混合チップと称する。
【0003】チップの試験は、チップが顧客のシステム
に取り付けられる前の最終段階であるため、重要な作業
である。試験の範囲は、チップに適用される多数のテス
ト・パターンにより、可能な限り広くする。しかし、処
理時間とコストを減少させるために、試験効率は100
%にはならず、一連の試験に合格したチップが、試験を
行わなかった欠陥のために顧客の環境に適合しないとい
う確率が残存する。この試験を行わなかった欠陥を有す
るチップの比率を、通常、出荷製品品質レベル(SPQ
L)の数字で表す。したがって、歩留まりおよびSPQ
Lは、直接試験効率に関係する。
に取り付けられる前の最終段階であるため、重要な作業
である。試験の範囲は、チップに適用される多数のテス
ト・パターンにより、可能な限り広くする。しかし、処
理時間とコストを減少させるために、試験効率は100
%にはならず、一連の試験に合格したチップが、試験を
行わなかった欠陥のために顧客の環境に適合しないとい
う確率が残存する。この試験を行わなかった欠陥を有す
るチップの比率を、通常、出荷製品品質レベル(SPQ
L)の数字で表す。したがって、歩留まりおよびSPQ
Lは、直接試験効率に関係する。
【0004】スタンドアローン・メモリ・チップおよび
個別の論理チップを伴って設計された製品の場合、一連
の試験は各チップについて行われる。一連の論理試験
は、論理チップに適用され、欠陥のあるチップは不合格
となる。一連の個別メモリ試験は、スタンドアローン・
メモリ・チップに適用される。冗長回路が設計されてお
り、冗長回路より多くのアレイ・セルに欠陥がなけれ
ば、欠陥のあるメモリ・チップは修理することができ
る。冗長構成は、欠陥のあるワード線またはビット線を
冗長ラインで置換することにより、メモリ・チップの歩
留まりを高める。チップの面積全体の25%台のアレイ
で、冗長構成が必要であるとされている。たとえば、図
3に、グラウンド・ルール(GR)による、各種のアレ
イ・サイズ(キロビット)における推奨される冗長ワー
ド線(RWL)の数を示す。
個別の論理チップを伴って設計された製品の場合、一連
の試験は各チップについて行われる。一連の論理試験
は、論理チップに適用され、欠陥のあるチップは不合格
となる。一連の個別メモリ試験は、スタンドアローン・
メモリ・チップに適用される。冗長回路が設計されてお
り、冗長回路より多くのアレイ・セルに欠陥がなけれ
ば、欠陥のあるメモリ・チップは修理することができ
る。冗長構成は、欠陥のあるワード線またはビット線を
冗長ラインで置換することにより、メモリ・チップの歩
留まりを高める。チップの面積全体の25%台のアレイ
で、冗長構成が必要であるとされている。たとえば、図
3に、グラウンド・ルール(GR)による、各種のアレ
イ・サイズ(キロビット)における推奨される冗長ワー
ド線(RWL)の数を示す。
【0005】冗長構成を使用する場合、欠陥のあるエレ
メント(すなわちメモリ・セル、ビット線またはワード
線)は、対応する冗長エレメントにより置換される。こ
れは一般に、ヒューズを溶断して故障したアドレスを切
り離し、これを冗長アドレスと置換する。論理回路また
はメモリ製品の代表的な欠陥により、高電源と低電源の
間に導電性のパスが形成される。このようなチップ上の
短絡により、Iddと呼ばれる直流の漏れ電流が生じ
る。この漏れ電流(Idd)は、許容値より低くなけれ
ばならない。したがって、真のIdd値を測定し、これ
を理論値(Iddtest)と比較するために、一連の
特定の試験を行う。混合チップの場合に重要な特徴とな
る特異性は、この漏れ電流の値が、論理ネットワークの
場合(数ミリアンペア)よりも、アレイの場合と同程度
になることである。論理チップについて測定したIdd
が、Idd testより大きい場合は、漏れのある回
路を修理する可能性がないため、チップは不良品とされ
る。メモリ・チップの場合も、Idd電流が、Idd
testの値と比較される。しかし電流が高い場合に
は、冗長性を試験する他のテスト・パターンが行われ
る。その後、故障エレメントを冗長エレメントにより置
換する。冗長性は、チップを埋め込んだメモリ製品の製
造歩留まりを改善するために、著しく貢献しているのは
明らかである。
メント(すなわちメモリ・セル、ビット線またはワード
線)は、対応する冗長エレメントにより置換される。こ
れは一般に、ヒューズを溶断して故障したアドレスを切
り離し、これを冗長アドレスと置換する。論理回路また
はメモリ製品の代表的な欠陥により、高電源と低電源の
間に導電性のパスが形成される。このようなチップ上の
短絡により、Iddと呼ばれる直流の漏れ電流が生じ
る。この漏れ電流(Idd)は、許容値より低くなけれ
ばならない。したがって、真のIdd値を測定し、これ
を理論値(Iddtest)と比較するために、一連の
特定の試験を行う。混合チップの場合に重要な特徴とな
る特異性は、この漏れ電流の値が、論理ネットワークの
場合(数ミリアンペア)よりも、アレイの場合と同程度
になることである。論理チップについて測定したIdd
が、Idd testより大きい場合は、漏れのある回
路を修理する可能性がないため、チップは不良品とされ
る。メモリ・チップの場合も、Idd電流が、Idd
testの値と比較される。しかし電流が高い場合に
は、冗長性を試験する他のテスト・パターンが行われ
る。その後、故障エレメントを冗長エレメントにより置
換する。冗長性は、チップを埋め込んだメモリ製品の製
造歩留まりを改善するために、著しく貢献しているのは
明らかである。
【0006】混合チップについていえば、漏れ電流はチ
ップの論理部、チップのメモリ部のいずれか、または論
理およびメモリ回路の両方により生じることがある。上
述のように、論理およびメモリのIdd test理論
値は等しい。このことは、測定値と比較するためには、
ひとつのIdd test値を考慮すればよいことを意
味する。さらに、混合チップについて、1回のIdd試
験が行われる。したがって、漏れ電流の測定値は識別さ
れず、許容値より高い場合は、そのチップは不合格とさ
れる。このように、故障の原因が修理が可能であったか
もしれないメモリ・チップにある場合であっても、故障
のあるチップの大部分が不合格となるため、アレイの冗
長性は効率が悪い。この理由で、混合チップの設計によ
っては、冗長構成は使い道がないとして、実施しないも
のもある。このように、混合チップの製造歩留まりが影
響を受け、本来よりも低くなる。欠陥のあるメモリ・エ
レメントを識別し、冗長構成により修理したとすれば、
製品の品質全体が改善されるであろう。したがって、混
合チップは、SPQLの立場から、満足な解決方法を実
施する必要がある。このためには、問題は論理回路の欠
陥による故障を、メモリ・ユニットの欠陥による故障と
識別することである。
ップの論理部、チップのメモリ部のいずれか、または論
理およびメモリ回路の両方により生じることがある。上
述のように、論理およびメモリのIdd test理論
値は等しい。このことは、測定値と比較するためには、
ひとつのIdd test値を考慮すればよいことを意
味する。さらに、混合チップについて、1回のIdd試
験が行われる。したがって、漏れ電流の測定値は識別さ
れず、許容値より高い場合は、そのチップは不合格とさ
れる。このように、故障の原因が修理が可能であったか
もしれないメモリ・チップにある場合であっても、故障
のあるチップの大部分が不合格となるため、アレイの冗
長性は効率が悪い。この理由で、混合チップの設計によ
っては、冗長構成は使い道がないとして、実施しないも
のもある。このように、混合チップの製造歩留まりが影
響を受け、本来よりも低くなる。欠陥のあるメモリ・エ
レメントを識別し、冗長構成により修理したとすれば、
製品の品質全体が改善されるであろう。したがって、混
合チップは、SPQLの立場から、満足な解決方法を実
施する必要がある。このためには、問題は論理回路の欠
陥による故障を、メモリ・ユニットの欠陥による故障と
識別することである。
【0007】解決方法のひとつは、下記に説明するよう
な、適当な工具による、混合チップの一連の試験方法を
確立することである。最初の一連のIdd試験をチップ
に適用する。この試験が良好であれば、すなわちIdd
の値が予想以下であれば、一連のメモリ試験を適用し、
メモリが良好であるか、修理可能であるか、修理不能で
あるかにより、チップを仕分けすることができる。Id
dの値が高い場合は、チップを不合格とせず、メモリ試
験を適用する。メモリ中に故障のエレメントが検出され
た場合には、冗長性を試験して、故障の回路を置換す
る。しかし、この段階で、Iddが高いのは故障したメ
モリ・エレメントによるものであるとは限らないため、
このチップが完全に欠陥がないということはできない。
たとえば、ビット線間またはワード線間の短絡が、Id
d電流に影響を与えることはないが、この種の故障も、
一連のメモリ試験で検出され、修正される。この種の故
障の場合、最初の修理後も、高い漏れ電流が残る。した
がって、この解決方法を適用する場合には、故障をすべ
て出荷前に確実に検出する方法はない。このようにし
て、SPQLが悪化する。経済的見地から、顧客の満足
の低下により、この解決方法は高価なものになる。そこ
で、低コストで信頼性のある解決方法は、混合チップの
論理部をメモリ部と無関係に試験することができる一連
の試験に基づいたものであることが好ましい。換言すれ
ば、混合チップは2個の異なるチップとして製造された
ようにして試験する必要がある。このことは、最初にテ
スト・パターンを論理回路に適用して、Iddの高いチ
ップを不合格にするということである。次に一連のId
d試験をIddの低い論理チップのメモリ部に適用す
る。欠陥のあるメモリ・エレメントを識別することがで
き、必要があれば冗長構成を使用する。
な、適当な工具による、混合チップの一連の試験方法を
確立することである。最初の一連のIdd試験をチップ
に適用する。この試験が良好であれば、すなわちIdd
の値が予想以下であれば、一連のメモリ試験を適用し、
メモリが良好であるか、修理可能であるか、修理不能で
あるかにより、チップを仕分けすることができる。Id
dの値が高い場合は、チップを不合格とせず、メモリ試
験を適用する。メモリ中に故障のエレメントが検出され
た場合には、冗長性を試験して、故障の回路を置換す
る。しかし、この段階で、Iddが高いのは故障したメ
モリ・エレメントによるものであるとは限らないため、
このチップが完全に欠陥がないということはできない。
たとえば、ビット線間またはワード線間の短絡が、Id
d電流に影響を与えることはないが、この種の故障も、
一連のメモリ試験で検出され、修正される。この種の故
障の場合、最初の修理後も、高い漏れ電流が残る。した
がって、この解決方法を適用する場合には、故障をすべ
て出荷前に確実に検出する方法はない。このようにし
て、SPQLが悪化する。経済的見地から、顧客の満足
の低下により、この解決方法は高価なものになる。そこ
で、低コストで信頼性のある解決方法は、混合チップの
論理部をメモリ部と無関係に試験することができる一連
の試験に基づいたものであることが好ましい。換言すれ
ば、混合チップは2個の異なるチップとして製造された
ようにして試験する必要がある。このことは、最初にテ
スト・パターンを論理回路に適用して、Iddの高いチ
ップを不合格にするということである。次に一連のId
d試験をIddの低い論理チップのメモリ部に適用す
る。欠陥のあるメモリ・エレメントを識別することがで
き、必要があれば冗長構成を使用する。
【0008】下記に、このような一連の試験の実施と、
その欠点について説明する。これは、埋め込みアレイ1
2と論理回路ネットワーク14を有する従来の混合チッ
プ10の一部を示す図4を参照して説明する。標準の埋
め込みアレイ12は、入出力回路12.2(ドライバ/
レシーバおよびセンス・アンプなど)および最終的に冗
長回路12.3に接続されたメモリ・ユニット12.1
で構成される。多数の論理回路(14.1ないし14.
N)で構成される論理回路ネットワーク14は、データ
処理動作を行うために、埋め込みアレイ全体に分布す
る。2個の一次入力端子16、18は、それぞれ通常の
方法で分布している内部VDD(GND)レールからな
る2個の独立したメタライズされたグリッドを介して、
VDD電源およびGND電源をチップ全体に供給するた
めのものである。さらに、標準の混合チップ10には、
2つの基本的動作モード、すなわち通常動作のためのS
YSTEMモードと、製造環境で使用するTESTモー
ドがある。SYSTEMモードでは、内部基準電圧は、
特定の動作モードを必要とするある種の回路中の、DC
電流を一定に保つのに用いられる。この内部基準は、一
定の信号(LT)により駆動される電圧発生装置により
発生させる。LTは、標準一次入力端子22から供給さ
れ、DC電流が必要な場合SYSTEM値に、また、I
dd試験中はこれらの直流消費回路のスイッチをオフに
し、したがって漏れ電流を正しく測定できるように、T
EST値に設定する。説明のため、図5は、LTにより
制御されるCMOS論理回路30を示す。論理回路30
は、入力信号VIN32を受けるPFETと、直列に接
続されて基準電圧Vrefを受けるNFETで構成され
ている。PFETおよびNFETトランジスタは、VD
DとGNDの間にバイアスされている。基準電圧Vre
fは、GNDおよび第2の電源VDD'の間に接続され
る基準電圧発生装置34により発生される。基準電圧発
生装置34がオンの場合、すなわち、SYSTEMモー
ドでは、LTは低で、VrefはVDD'に接続され
る。したがって、NFETがオンになり、一定のDC電
流を駆動する。VIN32が高の時は、VOUT36が
GNDに接続される。VIN32が低の時は、PFET
がオンになり、VOUT36が高になるが、NFETデ
バイスの電流のため、電圧はVDDよりも低くなる。
その欠点について説明する。これは、埋め込みアレイ1
2と論理回路ネットワーク14を有する従来の混合チッ
プ10の一部を示す図4を参照して説明する。標準の埋
め込みアレイ12は、入出力回路12.2(ドライバ/
レシーバおよびセンス・アンプなど)および最終的に冗
長回路12.3に接続されたメモリ・ユニット12.1
で構成される。多数の論理回路(14.1ないし14.
N)で構成される論理回路ネットワーク14は、データ
処理動作を行うために、埋め込みアレイ全体に分布す
る。2個の一次入力端子16、18は、それぞれ通常の
方法で分布している内部VDD(GND)レールからな
る2個の独立したメタライズされたグリッドを介して、
VDD電源およびGND電源をチップ全体に供給するた
めのものである。さらに、標準の混合チップ10には、
2つの基本的動作モード、すなわち通常動作のためのS
YSTEMモードと、製造環境で使用するTESTモー
ドがある。SYSTEMモードでは、内部基準電圧は、
特定の動作モードを必要とするある種の回路中の、DC
電流を一定に保つのに用いられる。この内部基準は、一
定の信号(LT)により駆動される電圧発生装置により
発生させる。LTは、標準一次入力端子22から供給さ
れ、DC電流が必要な場合SYSTEM値に、また、I
dd試験中はこれらの直流消費回路のスイッチをオフに
し、したがって漏れ電流を正しく測定できるように、T
EST値に設定する。説明のため、図5は、LTにより
制御されるCMOS論理回路30を示す。論理回路30
は、入力信号VIN32を受けるPFETと、直列に接
続されて基準電圧Vrefを受けるNFETで構成され
ている。PFETおよびNFETトランジスタは、VD
DとGNDの間にバイアスされている。基準電圧Vre
fは、GNDおよび第2の電源VDD'の間に接続され
る基準電圧発生装置34により発生される。基準電圧発
生装置34がオンの場合、すなわち、SYSTEMモー
ドでは、LTは低で、VrefはVDD'に接続され
る。したがって、NFETがオンになり、一定のDC電
流を駆動する。VIN32が高の時は、VOUT36が
GNDに接続される。VIN32が低の時は、PFET
がオンになり、VOUT36が高になるが、NFETデ
バイスの電流のため、電圧はVDDよりも低くなる。
【0009】製造環境、すなわちTESTモードでは、
LT値が反転する。VrefはGNDに接続され、NF
ETデバイスはオフになる。そのようにして、漏れ電流
を発散させる故障した回路がある場合を除いて、チップ
上の一定のDC電流値は0となる。このようにして、一
連のIdd試験を適用し、漏れ電流を測定する。その
後、LTパッドにLT SYSTEM値が供給されるよ
うにして良好なチップが出荷される。
LT値が反転する。VrefはGNDに接続され、NF
ETデバイスはオフになる。そのようにして、漏れ電流
を発散させる故障した回路がある場合を除いて、チップ
上の一定のDC電流値は0となる。このようにして、一
連のIdd試験を適用し、漏れ電流を測定する。その
後、LTパッドにLT SYSTEM値が供給されるよ
うにして良好なチップが出荷される。
【0010】混合チップのための一連の可能な試験の説
明に戻って、解決方法のひとつは、いくつかのVDD
(GND)電源グリッドを持つことで、ひとつは論理の
ためのVDD(GND)グリッド、他のひとつはアレイ
のためのVDD(GND)グリッドである。上述のよう
に、技術および設計には関係のない、供給グリッドを設
けるために、VLSIチップ上の供給電力の分布を均一
にする。論理とメモリに異なるグリッドを使用する場
合、チップ上にいくつかの埋め込みアレイがあると、供
給電力の分布はますます複雑になる。このような解決方
法は、いくつかの埋め込みアレイにより設計された混合
チップには適当ではない。
明に戻って、解決方法のひとつは、いくつかのVDD
(GND)電源グリッドを持つことで、ひとつは論理の
ためのVDD(GND)グリッド、他のひとつはアレイ
のためのVDD(GND)グリッドである。上述のよう
に、技術および設計には関係のない、供給グリッドを設
けるために、VLSIチップ上の供給電力の分布を均一
にする。論理とメモリに異なるグリッドを使用する場
合、チップ上にいくつかの埋め込みアレイがあると、供
給電力の分布はますます複雑になる。このような解決方
法は、いくつかの埋め込みアレイにより設計された混合
チップには適当ではない。
【0011】そこで、論理回路ネットワークおよび埋め
込みアレイの両方に共通の電力供給グリッドを保存し、
TESTモード中に2個の部品の間のセパレータとして
機能する新しい回路を設けることが望ましい。これによ
り、まず論理部を試験し、欠陥のある論理部にしたがっ
てチップを仕分けし、次に良好なチップの埋め込みアレ
イのみのための試験を行うことができる。したがって、
故障したメモリ・エレメントの場合、冗長性を使用する
ことができる。これにより、混合チップの製造歩留まり
を改善することができる。
込みアレイの両方に共通の電力供給グリッドを保存し、
TESTモード中に2個の部品の間のセパレータとして
機能する新しい回路を設けることが望ましい。これによ
り、まず論理部を試験し、欠陥のある論理部にしたがっ
てチップを仕分けし、次に良好なチップの埋め込みアレ
イのみのための試験を行うことができる。したがって、
故障したメモリ・エレメントの場合、冗長性を使用する
ことができる。これにより、混合チップの製造歩留まり
を改善することができる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明の主目的は、半
導体製品混合チップの製造歩留まりを増大し、SPQL
を改善するための、試験回路を提供することにある。
導体製品混合チップの製造歩留まりを増大し、SPQL
を改善するための、試験回路を提供することにある。
【0013】本発明の第2の目的は、埋め込みアレイの
位置および数に関係のない、混合チップの試験回路を提
供することにある。
位置および数に関係のない、混合チップの試験回路を提
供することにある。
【0014】本発明の他の目的は、TESTモード中
に、最初に混合チップの論理部に電力を供給し、次にメ
モリ部に電力を供給することのできる試験回路を提供す
ることにある。
に、最初に混合チップの論理部に電力を供給し、次にメ
モリ部に電力を供給することのできる試験回路を提供す
ることにある。
【0015】本発明の他の目的は、欠陥のある論理部ま
たは欠陥のあるメモリ部により、混合チップを仕分けす
るための、試験回路を提供することにある。
たは欠陥のあるメモリ部により、混合チップを仕分けす
るための、試験回路を提供することにある。
【0016】本発明の他の目的は、信頼性対コストの比
が高い混合チップを提供することにある。
が高い混合チップを提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の基本原理によれ
ば、同一の支持体の上に少なくとも1つの埋め込みアレ
イおよび論理回路ネットワークを有する混合チップの、
試験回路が提供される。
ば、同一の支持体の上に少なくとも1つの埋め込みアレ
イおよび論理回路ネットワークを有する混合チップの、
試験回路が提供される。
【0018】このような半導体チップには、2つの標準
の動作モード、すなわち通常の動作のためのSYSTE
Mモードと、製造環境に使用されるTESTモードがあ
る。
の動作モード、すなわち通常の動作のためのSYSTE
Mモードと、製造環境に使用されるTESTモードがあ
る。
【0019】本発明は、TESTモードでは、埋め込み
アレイのメモリ・ユニットを、論理回路ネットワークか
ら完全に分離し、SYSTEMモードでは、埋め込みア
レイを論理回路ネットワークに接続する試験回路を提供
する。これにより、一連の論理試験をチップの論理部の
みに適用し、欠陥のあるチップを不合格にすることがで
きる。次に、良好なチップについてメモリ部を試験す
る。欠陥のあるメモリ・エレメントについては、冗長回
路を使用して欠陥のあるチップを置換する。これによ
り、製造された混合チップの製造歩留まりが増大する。
アレイのメモリ・ユニットを、論理回路ネットワークか
ら完全に分離し、SYSTEMモードでは、埋め込みア
レイを論理回路ネットワークに接続する試験回路を提供
する。これにより、一連の論理試験をチップの論理部の
みに適用し、欠陥のあるチップを不合格にすることがで
きる。次に、良好なチップについてメモリ部を試験す
る。欠陥のあるメモリ・エレメントについては、冗長回
路を使用して欠陥のあるチップを置換する。これによ
り、製造された混合チップの製造歩留まりが増大する。
【0020】
【実施例】上述のように、本発明の主目的は、論理部に
無関係に、混合チップのメモリ部を試験することにあ
る。これは、最初にアレイの論理回路と、入出力回路に
電力を供給し、さらに埋め込みアレイのメモリ・セルに
電力を供給する試験回路により行われる。これにより、
最初にチップの論理部を試験した後、メモリ部を試験す
ることができる。さらに、本発明による解決方法は、標
準のVLSIチップの試験の目的に使用されている既存
の信号LTを利用することができる。
無関係に、混合チップのメモリ部を試験することにあ
る。これは、最初にアレイの論理回路と、入出力回路に
電力を供給し、さらに埋め込みアレイのメモリ・セルに
電力を供給する試験回路により行われる。これにより、
最初にチップの論理部を試験した後、メモリ部を試験す
ることができる。さらに、本発明による解決方法は、標
準のVLSIチップの試験の目的に使用されている既存
の信号LTを利用することができる。
【0021】従来の技術で説明したように、欠陥のある
メモリ・ユニット、一般にメモリ・セルの行または列を
修理するために、冗長回路を使用する。アレイ中の他の
回路、すなわち入出力回路は、冗長化されず、修理され
ない。このことは、入出力回路は、論理回路ネットワー
クと同じ一連のIdd試験中に試験することができるこ
とを意味する。したがって、本発明の試験回路は、TE
STモードの間、埋め込みアレイ中のメモリ・セルを、
チップ中の他のすべての回路から分離する。試験回路
は、制御値にしたがって、メモリ・ユニットを論理回路
ネットワークに接続し、または論理回路ネットワークか
ら分離する、スイッチとして機能する。試験回路は、メ
モリ・セルの電力供給レールと、論理回路の電力供給レ
ールとの間に置かれ、LT信号により制御される。チッ
プがTESTモードの時は、これらの電力供給レールは
分離され、チップがSYSTEMモードの時は接続され
る。TESTモードの間は、LTのTEST値が試験回
路の制御ゲートに印加され、これをオフにする。この時
は電力供給レールが分離され、論理回路ネットワークお
よび入出力回路にのみ電力供給されるが、メモリ・ユニ
ットには供給されない。したがって、一連のIdd試験
は、すべての論理回路のみに適用され、欠陥のある論理
チップについて最初の仕分けが行われる。次に、LT信
号の値を反転する。試験回路はオンになり、論理ネット
ワークとメモリ・ユニットの両方に電力を供給する。電
力供給レールは、SYSTEMモードの場合と同様に接
続される。メモリ・セルは選択することができ、アレイ
について一連のIdd試験が開始される。次に、欠陥の
あるエレメントが修理可能かどうかにより2番目の仕分
けが行われる。修理可能なときは、冗長回路を使用する
ことができ、したがって良好なチップの生産が改善され
る。この段階で、不合格になったチップは、欠陥のある
論理回路を持つチップと、未修理のメモリ・セルを持つ
チップのみである。
メモリ・ユニット、一般にメモリ・セルの行または列を
修理するために、冗長回路を使用する。アレイ中の他の
回路、すなわち入出力回路は、冗長化されず、修理され
ない。このことは、入出力回路は、論理回路ネットワー
クと同じ一連のIdd試験中に試験することができるこ
とを意味する。したがって、本発明の試験回路は、TE
STモードの間、埋め込みアレイ中のメモリ・セルを、
チップ中の他のすべての回路から分離する。試験回路
は、制御値にしたがって、メモリ・ユニットを論理回路
ネットワークに接続し、または論理回路ネットワークか
ら分離する、スイッチとして機能する。試験回路は、メ
モリ・セルの電力供給レールと、論理回路の電力供給レ
ールとの間に置かれ、LT信号により制御される。チッ
プがTESTモードの時は、これらの電力供給レールは
分離され、チップがSYSTEMモードの時は接続され
る。TESTモードの間は、LTのTEST値が試験回
路の制御ゲートに印加され、これをオフにする。この時
は電力供給レールが分離され、論理回路ネットワークお
よび入出力回路にのみ電力供給されるが、メモリ・ユニ
ットには供給されない。したがって、一連のIdd試験
は、すべての論理回路のみに適用され、欠陥のある論理
チップについて最初の仕分けが行われる。次に、LT信
号の値を反転する。試験回路はオンになり、論理ネット
ワークとメモリ・ユニットの両方に電力を供給する。電
力供給レールは、SYSTEMモードの場合と同様に接
続される。メモリ・セルは選択することができ、アレイ
について一連のIdd試験が開始される。次に、欠陥の
あるエレメントが修理可能かどうかにより2番目の仕分
けが行われる。修理可能なときは、冗長回路を使用する
ことができ、したがって良好なチップの生産が改善され
る。この段階で、不合格になったチップは、欠陥のある
論理回路を持つチップと、未修理のメモリ・セルを持つ
チップのみである。
【0022】本発明の他の主要な点は、チップ上の試験
回路の位置である。試験回路のひとつは、メモリ・ユニ
ット全体の独特の試験回路の代わりに、メモリ・セルの
各行または列について行う。この選択は、試験回路がセ
ルの各行または列の設計に取り込まれるため、アレイの
設計の自動化が良好になる。チップの設計が複雑かつ高
密度になるほど、1個のチップに寸法の異なるいくつか
のアレイが混在することが可能になる。本発明によれ
ば、試験回路の設計は、メモリ・ユニットの行または列
の数に無関係であるため、変わらない。
回路の位置である。試験回路のひとつは、メモリ・ユニ
ット全体の独特の試験回路の代わりに、メモリ・セルの
各行または列について行う。この選択は、試験回路がセ
ルの各行または列の設計に取り込まれるため、アレイの
設計の自動化が良好になる。チップの設計が複雑かつ高
密度になるほど、1個のチップに寸法の異なるいくつか
のアレイが混在することが可能になる。本発明によれ
ば、試験回路の設計は、メモリ・ユニットの行または列
の数に無関係であるため、変わらない。
【0023】本発明による混合チップを示す図1と、試
験回路の詳細を示す図2を参照して、試験回路がVDD
電力供給レールに置かれた場合の本発明の可能なハード
ウェアのひとつについて説明する。標準の埋め込みアレ
イ12のN行×M列のメモリ・ユニット12.1につい
ては、N個の試験エレメント44.1ないし44.Nか
らなる試験回路44が実装される。試験エレメントのひ
とつ44.1は、入力ゲート44.1a、出力ゲート4
4.1b、および制御ゲート44.1cで形成されるP
FET装置で構成される。入力ゲート44.1aは、論
理回路ネットワーク14と入出力回路12.2に電力を
供給するVDD電力供給レール46に接続されている。
出力ゲート44.1bは、メモリ・ユニット12.1の
対応する行のVDD電力供給レール48.1に接続され
ている。制御ゲート44.1cは、LT信号を受信す
る。N個のPFET装置のすべての入力ゲート44.1
aないし44.Naは、交差接続され、N個のPFET
装置の各出力ゲート44.1bないし44.Nbは、メ
モリ・ユニット12.1の各行の各VDD電力供給レー
ル48.1ないし48.Nにそれぞれ接続されている。
すべての制御ゲート44.1cないし44.Ncは、L
T信号により同時に駆動される。
験回路の詳細を示す図2を参照して、試験回路がVDD
電力供給レールに置かれた場合の本発明の可能なハード
ウェアのひとつについて説明する。標準の埋め込みアレ
イ12のN行×M列のメモリ・ユニット12.1につい
ては、N個の試験エレメント44.1ないし44.Nか
らなる試験回路44が実装される。試験エレメントのひ
とつ44.1は、入力ゲート44.1a、出力ゲート4
4.1b、および制御ゲート44.1cで形成されるP
FET装置で構成される。入力ゲート44.1aは、論
理回路ネットワーク14と入出力回路12.2に電力を
供給するVDD電力供給レール46に接続されている。
出力ゲート44.1bは、メモリ・ユニット12.1の
対応する行のVDD電力供給レール48.1に接続され
ている。制御ゲート44.1cは、LT信号を受信す
る。N個のPFET装置のすべての入力ゲート44.1
aないし44.Naは、交差接続され、N個のPFET
装置の各出力ゲート44.1bないし44.Nbは、メ
モリ・ユニット12.1の各行の各VDD電力供給レー
ル48.1ないし48.Nにそれぞれ接続されている。
すべての制御ゲート44.1cないし44.Ncは、L
T信号により同時に駆動される。
【0024】チップがTESTモードの場合は、LTは
高で、制御ゲート44.1cないし44.Ncは、VD
Dに接続され、N個のPFET装置はオフになる。した
がって、論理回路ネットワークのVDD電力供給レール
46と、メモリ・ユニットの電力供給レール48.1な
いし48.Nとの間は接続されない。メモリ・セルは完
全に分離され、選択は不可能になる。次に、一連のId
d試験が、論理ネットワーク14とアレイの入出力回路
12.2のみに適用される。欠陥のある論理チップは不
合格とされる。次にSYSTEMモードで、埋め込みア
レイを試験するために、Iddの低い論理チップに電力
が供給される。
高で、制御ゲート44.1cないし44.Ncは、VD
Dに接続され、N個のPFET装置はオフになる。した
がって、論理回路ネットワークのVDD電力供給レール
46と、メモリ・ユニットの電力供給レール48.1な
いし48.Nとの間は接続されない。メモリ・セルは完
全に分離され、選択は不可能になる。次に、一連のId
d試験が、論理ネットワーク14とアレイの入出力回路
12.2のみに適用される。欠陥のある論理チップは不
合格とされる。次にSYSTEMモードで、埋め込みア
レイを試験するために、Iddの低い論理チップに電力
が供給される。
【0025】LTにSYSTEMモードの値を供給する
と、N個のPFET装置はオンになり、論理回路のVD
D電力供給レール46は、メモリ・ユニットのすべての
電力供給レールに電力を供給し、メモリ・セルにVDD
を供給する。次に、一連のアレイ試験を適用する。Id
dの高いチップと、未修理のチップが不合格とされる。
良好なチップは、LTをSYSTEMモードの値に設定
して出荷され、論理回路ネットワーク14と埋め込みア
レイ12の間を完全に接続する。
と、N個のPFET装置はオンになり、論理回路のVD
D電力供給レール46は、メモリ・ユニットのすべての
電力供給レールに電力を供給し、メモリ・セルにVDD
を供給する。次に、一連のアレイ試験を適用する。Id
dの高いチップと、未修理のチップが不合格とされる。
良好なチップは、LTをSYSTEMモードの値に設定
して出荷され、論理回路ネットワーク14と埋め込みア
レイ12の間を完全に接続する。
【0026】以上の説明では、VDD電力供給レールを
介してメモリ・ユニットの行に接続されたPFET装置
により形成され、LT信号により制御される試験回路を
用いた実施態様に関して述べたが、GND電力供給レー
ルを介してメモリ・ユニットの列に接続されたNFET
装置で形成され、反転したLT信号により制御される試
験回路、すなわち、各メモリ・ユニット列の共通GND
接続をNFETで選択的に制御するようにした試験回路
にも完全に適用することもできる。
介してメモリ・ユニットの行に接続されたPFET装置
により形成され、LT信号により制御される試験回路を
用いた実施態様に関して述べたが、GND電力供給レー
ルを介してメモリ・ユニットの列に接続されたNFET
装置で形成され、反転したLT信号により制御される試
験回路、すなわち、各メモリ・ユニット列の共通GND
接続をNFETで選択的に制御するようにした試験回路
にも完全に適用することもできる。
【0027】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。
の事項を開示する。
【0028】(1)第1および第2の供給電圧の間にバ
イアスされ、SYSTEMモードおよびTESTモード
の2つの動作を有する半導体チップにおいて、標準の入
出力回路に接続された、N行×M列のメモリ・ユニット
により形成された少なくとも1個の埋め込みアレイと、
データ処理操作のための論理回路ネットワークと、上記
第1の電圧を供給するための第1のチップ一次入力端子
と、上記第2の電圧を供給するための第2のチップ一次
入力端子と、TESTモードでは特性試験の測定に使用
され、SYSTEMモードでは内部基準電圧を供給する
ために使用される制御信号LTを発生するための第3の
チップ一次入力端子と、TESTモードでは上記制御信
号LTに応答して、上記メモリ・ユニットを上記論理回
路ネットワークと上記標準入出力回路の両方から分離
し、SYSTEMモードでは上記制御信号LTに応答し
て、上記メモリ・ユニットを上記論理回路ネットワーク
と上記標準入出力回路の両方に接続する試験回路とを有
することを特徴とする半導体チップ。 (2)上記試験回路がN個のPFET装置からなり、そ
れぞれが第1端子、第2端子、および制御端子を有し、
上記第1の電圧が上記第1端子に印加され、上記第2端
子が上記メモリ・ユニットの各行の対応する電力供給レ
ールに接続され、上記制御信号LTが、上記制御端子に
供給されることを特徴とする、上記(1)に記載の半導
体チップ。 (3)上記試験回路がM個のNFET装置からなり、そ
れぞれが第1端子、第2端子、および制御端子を有し、
上記第2の電圧が上記第1端子に印加され、上記第2端
子が上記メモリ・ユニットの各列の対応する電力供給レ
ールに接続され、上記制御信号LTが、上記制御端子に
供給されることを特徴とする、上記(1)または(2)
に記載の半導体チップ。 (4)上記埋め込みアレイが、さらに冗長回路を有する
ことを特徴とする、上記(1)、(2)または(3)に
記載の半導体チップ。
イアスされ、SYSTEMモードおよびTESTモード
の2つの動作を有する半導体チップにおいて、標準の入
出力回路に接続された、N行×M列のメモリ・ユニット
により形成された少なくとも1個の埋め込みアレイと、
データ処理操作のための論理回路ネットワークと、上記
第1の電圧を供給するための第1のチップ一次入力端子
と、上記第2の電圧を供給するための第2のチップ一次
入力端子と、TESTモードでは特性試験の測定に使用
され、SYSTEMモードでは内部基準電圧を供給する
ために使用される制御信号LTを発生するための第3の
チップ一次入力端子と、TESTモードでは上記制御信
号LTに応答して、上記メモリ・ユニットを上記論理回
路ネットワークと上記標準入出力回路の両方から分離
し、SYSTEMモードでは上記制御信号LTに応答し
て、上記メモリ・ユニットを上記論理回路ネットワーク
と上記標準入出力回路の両方に接続する試験回路とを有
することを特徴とする半導体チップ。 (2)上記試験回路がN個のPFET装置からなり、そ
れぞれが第1端子、第2端子、および制御端子を有し、
上記第1の電圧が上記第1端子に印加され、上記第2端
子が上記メモリ・ユニットの各行の対応する電力供給レ
ールに接続され、上記制御信号LTが、上記制御端子に
供給されることを特徴とする、上記(1)に記載の半導
体チップ。 (3)上記試験回路がM個のNFET装置からなり、そ
れぞれが第1端子、第2端子、および制御端子を有し、
上記第2の電圧が上記第1端子に印加され、上記第2端
子が上記メモリ・ユニットの各列の対応する電力供給レ
ールに接続され、上記制御信号LTが、上記制御端子に
供給されることを特徴とする、上記(1)または(2)
に記載の半導体チップ。 (4)上記埋め込みアレイが、さらに冗長回路を有する
ことを特徴とする、上記(1)、(2)または(3)に
記載の半導体チップ。
【0029】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、 ・SPQLが顕著に減少するため、コストが大幅に低下
し、 ・冗長の最適な使用により、製造歩留まりが改善され、 ・チップの試験のために論理回路を追加する必要がな
く、 ・通常の電力供給分布と同じ設計概念が維持され、 ・本発明の回路を駆動するために、入力を追加する必要
がなく、チップのすべての入力は元の設計に固定され、 ・個別の論理チップおよびアレイ・チップに対するもの
と同じ試験工具および一連の試験を使用することができ
るという利点がある。
し、 ・冗長の最適な使用により、製造歩留まりが改善され、 ・チップの試験のために論理回路を追加する必要がな
く、 ・通常の電力供給分布と同じ設計概念が維持され、 ・本発明の回路を駆動するために、入力を追加する必要
がなく、チップのすべての入力は元の設計に固定され、 ・個別の論理チップおよびアレイ・チップに対するもの
と同じ試験工具および一連の試験を使用することができ
るという利点がある。
【図1】本発明による、標準の混合チップ中のハードウ
ェアを示す図である。
ェアを示す図である。
【図2】VDD電源の分離可能な、本発明による試験回
路のひとつを示す図である。
路のひとつを示す図である。
【図3】いくつかのアレイ寸法に対する、従来の冗長メ
モリ・アレイの数を示す表である。
モリ・アレイの数を示す表である。
【図4】埋め込みアレイと論理回路ネットワークを有す
る、従来の混合チップを示す図である。
る、従来の混合チップを示す図である。
【図5】標準のCMOS技術における、LT信号により
駆動される、最新の論理回路を示す図である。
駆動される、最新の論理回路を示す図である。
12 埋め込みアレイ 12.1 メモリ・ユニット 12.2 入出力回路 12.3 冗長回路 14 論理回路ネットワーク 16 一次入力端子 18 一次入力端子 22 一次入力端子 44 試験回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミシェル・リヴィエール フランス77630 バルビゾン リュー・ゴ ッシー 1ビス
Claims (4)
- 【請求項1】第1および第2の供給電圧の間にバイアス
され、SYSTEMモードおよびTESTモードの2つ
の動作を有する半導体チップにおいて、 標準の入出力回路に接続された、N行×M列のメモリ・
ユニットにより形成された少なくとも1個の埋め込みア
レイと、 データ処理操作のための論理回路ネットワークと、 上記第1の電圧を供給するための第1のチップ一次入力
端子と、 上記第2の電圧を供給するための第2のチップ一次入力
端子と、 TESTモードでは特性試験の測定に使用され、SYS
TEMモードでは内部基準電圧を供給するために使用さ
れる制御信号LTを発生するための第3のチップ一次入
力端子と、 TESTモードでは上記制御信号LTに応答して、上記
メモリ・ユニットを上記論理回路ネットワークと上記標
準入出力回路の両方から分離し、SYSTEMモードで
は上記制御信号LTに応答して、上記メモリ・ユニット
を上記論理回路ネットワークと上記標準入出力回路の両
方に接続する試験回路とを有することを特徴とする半導
体チップ。 - 【請求項2】上記試験回路がN個のPFET装置からな
り、それぞれが第1端子、第2端子、および制御端子を
有し、 上記第1の電圧が上記第1端子に印加され、 上記第2端子が上記メモリ・ユニットの各行の対応する
電力供給レールに接続され、 上記制御信号LTが、上記制御端子に供給されることを
特徴とする、請求項1に記載の半導体チップ。 - 【請求項3】上記試験回路がM個のNFET装置からな
り、それぞれが第1端子、第2端子、および制御端子を
有し、 上記第2の電圧が上記第1端子に印加され、 上記第2端子が上記メモリ・ユニットの各列の対応する
電力供給レールに接続され、 上記制御信号LTが、上記制御端子に供給されることを
特徴とする、請求項1または2に記載の半導体チップ。 - 【請求項4】上記埋め込みアレイが、さらに冗長回路を
有することを特徴とする、請求項1、2または3に記載
の半導体チップ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP94480057A EP0691612A1 (en) | 1994-07-07 | 1994-07-07 | A test circuit of embedded arrays in mixed logic and memory chips |
| FR94480057.2 | 1994-07-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0829502A true JPH0829502A (ja) | 1996-02-02 |
| JP3154644B2 JP3154644B2 (ja) | 2001-04-09 |
Family
ID=8218120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15133795A Expired - Fee Related JP3154644B2 (ja) | 1994-07-07 | 1995-06-19 | 試験可能なロジックおよびメモリ混載半導体チップ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5717696A (ja) |
| EP (1) | EP0691612A1 (ja) |
| JP (1) | JP3154644B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6278956B1 (en) * | 1998-04-30 | 2001-08-21 | International Business Machines Corporation | Method of locating a failed latch in a defective shift register |
| JP2002288255A (ja) * | 2001-03-26 | 2002-10-04 | Toshiba Corp | ハードウェア記述言語で記述されたシステムlsiの回路部品、及びその検証方法、検証支援回路、システムlsiの製造方法 |
| US7055074B2 (en) * | 2001-04-25 | 2006-05-30 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Device to inhibit duplicate cache repairs |
| US6839211B2 (en) * | 2002-02-21 | 2005-01-04 | Broadcom Corporation | Methods and systems for reducing power-on failure of integrated circuits |
| DE102004059506B3 (de) * | 2004-12-10 | 2006-08-17 | X-Fab Semiconductor Foundries Ag | Anordnung zum Test von eingebetteten Schaltungen mit Hilfe einer separaten Versorgungsspannung |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0346188A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶回路 |
| JP2723338B2 (ja) * | 1990-04-21 | 1998-03-09 | 株式会社東芝 | 半導体メモリ装置 |
| US5283762A (en) * | 1990-05-09 | 1994-02-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device containing voltage converting circuit and operating method thereof |
| US5321354A (en) * | 1990-07-23 | 1994-06-14 | Seiko Epson Corporation | Method for inspecting semiconductor devices |
| JP3226293B2 (ja) * | 1991-04-24 | 2001-11-05 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路 |
| US5294883A (en) * | 1992-08-04 | 1994-03-15 | International Business Machines Corporation | Test detector/shutoff and method for BiCMOS integrated circuit |
| EP0622735B1 (en) * | 1993-04-29 | 1997-11-05 | International Business Machines Corporation | Tie-up and tie-down circuits with a primary input for testability improvement of logic networks |
| TW260788B (ja) * | 1993-09-01 | 1995-10-21 | Philips Electronics Nv | |
| JP3238562B2 (ja) * | 1994-03-03 | 2001-12-17 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路 |
-
1994
- 1994-07-07 EP EP94480057A patent/EP0691612A1/en not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-02-21 US US08/391,997 patent/US5717696A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-06-19 JP JP15133795A patent/JP3154644B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5717696A (en) | 1998-02-10 |
| EP0691612A1 (en) | 1996-01-10 |
| JP3154644B2 (ja) | 2001-04-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5206583A (en) | Latch assisted fuse testing for customized integrated circuits | |
| EP0978125B1 (en) | System for optimizing memory repair time using test data | |
| US5313424A (en) | Module level electronic redundancy | |
| US4281398A (en) | Block redundancy for memory array | |
| US6940765B2 (en) | Repair apparatus and method for semiconductor memory device to be selectively programmed for wafer-level test or post package test | |
| KR960007478B1 (ko) | 반도체장치 및 반도체장치의 제조방법 | |
| EP0283186B1 (en) | Semiconductor integrated circuit with a plurality of circuit blocks having equivalent functions | |
| EP0709853B1 (en) | Circuit structure and method for stress testing of bit lines | |
| EP0163580B1 (en) | Semiconductor integrated circuit with redundant circuit replacement | |
| JP3154644B2 (ja) | 試験可能なロジックおよびメモリ混載半導体チップ | |
| JP2527871B2 (ja) | Vlsi設計における冗長性のための消費電力ゼロのレ―ザ・ヒュ―ズ・シグナチュア回路 | |
| US7202692B2 (en) | Semiconductor chip and method of testing the same | |
| US6661719B1 (en) | Wafer level burn-in for memory integrated circuit | |
| JP3226422B2 (ja) | 半導体記憶装置及びメモリセルのdc電流不良検出方法 | |
| JP3198546B2 (ja) | 冗長用メモリセルを有する半導体装置 | |
| US7257733B2 (en) | Memory repair circuit and method | |
| JP2930037B2 (ja) | 半導体メモリ及びそのテスト方法 | |
| US6717869B2 (en) | Integrated circuit having redundant, self-organized architecture for improving yield | |
| US20040057293A1 (en) | Hybrid fuses for redundancy | |
| JPS6266500A (ja) | 半導体記憶装置 | |
| US6950359B2 (en) | Memory bit line leakage repair | |
| KR960012793B1 (ko) | 반도체 메모리장치의 결함구제방법 및 그 회로 | |
| JPS5987852A (ja) | 半導体記憶装置 | |
| JP2000322898A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
| JPH09251797A (ja) | 半導体記憶装置、その救済方法及びその試験方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |