JPH08297010A - レーザー計測装置及びこれを有するステージ装置や露光装置 - Google Patents
レーザー計測装置及びこれを有するステージ装置や露光装置Info
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- JPH08297010A JPH08297010A JP10237795A JP10237795A JPH08297010A JP H08297010 A JPH08297010 A JP H08297010A JP 10237795 A JP10237795 A JP 10237795A JP 10237795 A JP10237795 A JP 10237795A JP H08297010 A JPH08297010 A JP H08297010A
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- adjusting mechanism
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高精度な計測と調整の容易化を両立した優れ
たレーザ計測装置を提供すること。 【構成】 レーザー光を出力する光源１と、レーザー光
を遮断することなくビーム径を可変にする調節機構を有
することを特徴とする。調節機構としては、光路中に設
けたズーム式ビームエクスパンダーを用いる。
たレーザ計測装置を提供すること。 【構成】 レーザー光を出力する光源１と、レーザー光
を遮断することなくビーム径を可変にする調節機構を有
することを特徴とする。調節機構としては、光路中に設
けたズーム式ビームエクスパンダーを用いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、工作機械や半導体製造
装置などで使用するステージ装置の位置計測に用いられ
るレーザー計測装置に関するものである。
装置などで使用するステージ装置の位置計測に用いられ
るレーザー計測装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のレーザー干渉測長装置の構成例を
図６に示す。
図６に示す。
【０００３】レーザーヘッド２３の内部にはHe-Neレー
ザーチューブ２４、ビームエクスパンダ２６が設けら
れ、He-Neレーザーチューブ２４から出力されるレーザ
ービーム２５を、固定式ビームエクスパンダ２６によ
り、ビーム径を拡げて射出している。このビーム径は、
測長する距離と光学部品の大きさや光軸調整の容易さで
決定される。
ザーチューブ２４、ビームエクスパンダ２６が設けら
れ、He-Neレーザーチューブ２４から出力されるレーザ
ービーム２５を、固定式ビームエクスパンダ２６によ
り、ビーム径を拡げて射出している。このビーム径は、
測長する距離と光学部品の大きさや光軸調整の容易さで
決定される。
【０００４】また、光軸調整の確認のため、組立調整時
にレーザヘッド２３の前面にピンホール板を挿入してレ
ーザー光のビーム径を小さくし、調整後に取り出して計
測を行う方式がある。
にレーザヘッド２３の前面にピンホール板を挿入してレ
ーザー光のビーム径を小さくし、調整後に取り出して計
測を行う方式がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
例には以下のような課題があった。 （１）組立調整時の光軸調整を容易するために、ビーム
径を大きく設定すると、反射鏡が大型化するため装置の
コンパクト化の阻害要因となっていた。反射鏡を小型に
すると、レーザー光が反射鏡から外れる畏れがあり、人
体へのレーザー光被爆という安全上の問題が生じるた
め、安易に反射鏡を小型化することはできない。 （２）逆に、ビーム径を小さく設定すると、また光軸調
整が困難となり組立調整時の難易度が上がる要因とな
る。また、干渉計による角度計測範囲が小さくなり、計
測仕様の劣化となる。 （３）また、上記ピンホール板を計測時に光路中に出し
入れすると、レーザー光が遮断されて途切れて測長エラ
ーとなってしまうため、使用時にピンホールの出し入れ
をすることはできない。
例には以下のような課題があった。 （１）組立調整時の光軸調整を容易するために、ビーム
径を大きく設定すると、反射鏡が大型化するため装置の
コンパクト化の阻害要因となっていた。反射鏡を小型に
すると、レーザー光が反射鏡から外れる畏れがあり、人
体へのレーザー光被爆という安全上の問題が生じるた
め、安易に反射鏡を小型化することはできない。 （２）逆に、ビーム径を小さく設定すると、また光軸調
整が困難となり組立調整時の難易度が上がる要因とな
る。また、干渉計による角度計測範囲が小さくなり、計
測仕様の劣化となる。 （３）また、上記ピンホール板を計測時に光路中に出し
入れすると、レーザー光が遮断されて途切れて測長エラ
ーとなってしまうため、使用時にピンホールの出し入れ
をすることはできない。
【０００６】本発明は上記従来の技術が有する課題を解
決すべくなされたもので、高精度な計測と調整の容易化
を両立した優れたレーザ計測装置を提供することを目的
とする。また本発明の別の目的は、ステージ位置を広範
囲で高精度に測定することができ、ひいては高精度な位
置決めが可能な優れたステージ装置を提供することであ
る。
決すべくなされたもので、高精度な計測と調整の容易化
を両立した優れたレーザ計測装置を提供することを目的
とする。また本発明の別の目的は、ステージ位置を広範
囲で高精度に測定することができ、ひいては高精度な位
置決めが可能な優れたステージ装置を提供することであ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明のレーザー計測装置の好ましい形態は、レーザー光を
出力する光源と、レーザー光を遮断することなくビーム
径を可変にする調節機構を有することを特徴とするレー
ザー計測装置である。
明のレーザー計測装置の好ましい形態は、レーザー光を
出力する光源と、レーザー光を遮断することなくビーム
径を可変にする調節機構を有することを特徴とするレー
ザー計測装置である。
【０００８】ここで、調節機構は、光路中に設けたズー
ム式ビームエクスパンダー、あるいは光路中に設けた虹
彩型絞りを有していると好ましい。
ム式ビームエクスパンダー、あるいは光路中に設けた虹
彩型絞りを有していると好ましい。
【０００９】また、本発明のステージ装置の好ましい形
態は、移動ステージを上記レーザ計測装置で位置計測す
ることを特徴とするものである。ここで、移動ステージ
の駆動状況に応じて、レーザー光のビーム径を変化させ
ることが好ましく、例えば、移動ステージを回転移動さ
せる際には、レーザー光のビーム径を拡げる。あるいは
移動ステージを上下方向に移動させる際には、レーザー
光のビーム径を狭める。
態は、移動ステージを上記レーザ計測装置で位置計測す
ることを特徴とするものである。ここで、移動ステージ
の駆動状況に応じて、レーザー光のビーム径を変化させ
ることが好ましく、例えば、移動ステージを回転移動さ
せる際には、レーザー光のビーム径を拡げる。あるいは
移動ステージを上下方向に移動させる際には、レーザー
光のビーム径を狭める。
【００１０】また、本発明の更なる形態は、上記ステー
ジ装置を有することを特徴とする露光装置である。
ジ装置を有することを特徴とする露光装置である。
【００１１】
＜実施例１＞図１は本発明の第１の実施例の構成図であ
る。
る。
【００１２】同図において、１はレーザーチューブ、２
は凸レンズ、３は凹レンズ、４は凸レンズ、５は送りね
じ、６は駆動レバー、７はモータ、８はコントローラ、
９はレーザー用電源である。凸レンズ２、凹レンズ３、
凸レンズ４、送りねじ５、駆動レバー６、モータ７によ
ってビーム径調節手段であるズーム式ビームエクスパン
ダーを構成している。
は凸レンズ、３は凹レンズ、４は凸レンズ、５は送りね
じ、６は駆動レバー、７はモータ、８はコントローラ、
９はレーザー用電源である。凸レンズ２、凹レンズ３、
凸レンズ４、送りねじ５、駆動レバー６、モータ７によ
ってビーム径調節手段であるズーム式ビームエクスパン
ダーを構成している。
【００１３】この構成において、コントローラ８から各
モータ７に駆動指令を与えると、送りねじ５が回転し、
そのため駆動レバーにより凸レンズ２と凹レンズ３がそ
れぞれ光軸方向に移動する。本実施例では、凸レンズ２
と凹レンズ３をそれぞれ駆動したが、凹レンズ３のみを
動かすようにして簡略化することもできる。
モータ７に駆動指令を与えると、送りねじ５が回転し、
そのため駆動レバーにより凸レンズ２と凹レンズ３がそ
れぞれ光軸方向に移動する。本実施例では、凸レンズ２
と凹レンズ３をそれぞれ駆動したが、凹レンズ３のみを
動かすようにして簡略化することもできる。
【００１４】凸レンズ２、凹レンズ３、凸レンズ４の各
レンズの相対位置関係を調節することにより、射出レー
ザ光を遮断することなくビーム径を連続的に変化させる
ことができる。そこで例えば、光軸調整時にはビーム径
を小さくし、その後、ストロークや回転量の範囲に応じ
てビーム径を大きくして計測することにより、測長手段
の原点検出動作が不要になる。このため、調整時間の短
縮と、原点検出精度のばらつきが測長精度に影響を与え
ないことによる高精度化が両立が達成される。また、ズ
ーム式ビームエクスパンダーを用いたため、ビーム径を
小さくしても光量不足のために測長不可能となることが
ない。
レンズの相対位置関係を調節することにより、射出レー
ザ光を遮断することなくビーム径を連続的に変化させる
ことができる。そこで例えば、光軸調整時にはビーム径
を小さくし、その後、ストロークや回転量の範囲に応じ
てビーム径を大きくして計測することにより、測長手段
の原点検出動作が不要になる。このため、調整時間の短
縮と、原点検出精度のばらつきが測長精度に影響を与え
ないことによる高精度化が両立が達成される。また、ズ
ーム式ビームエクスパンダーを用いたため、ビーム径を
小さくしても光量不足のために測長不可能となることが
ない。
【００１５】＜実施例２＞本発明の第２の実施例の構成
を図２に示す。なお、同図において先の図１と同一の符
号は同一の部材を示す。
を図２に示す。なお、同図において先の図１と同一の符
号は同一の部材を示す。
【００１６】図２において、１０はモータ、１１は歯
車、１２はビーム径調節手段である虹彩型絞りである。
この構成において、コントローラ８からモータ１０に駆
動指令を与えると、歯車１１によって回転運動が虹彩型
絞り１２に伝達され、絞り部の開口面積が変化する。こ
のため駆動指令に応じて、射出光を遮断することなくレ
ーザー光のビーム径を連続的に可変とすることができ
る。
車、１２はビーム径調節手段である虹彩型絞りである。
この構成において、コントローラ８からモータ１０に駆
動指令を与えると、歯車１１によって回転運動が虹彩型
絞り１２に伝達され、絞り部の開口面積が変化する。こ
のため駆動指令に応じて、射出光を遮断することなくレ
ーザー光のビーム径を連続的に可変とすることができ
る。
【００１７】＜実施例３＞本発明の第３の実施例の構成
を図３に示す。本実施例は上記レーザー干渉測長装置を
半導体製造用の露光装置のステージ装置に組み込んだも
のである。
を図３に示す。本実施例は上記レーザー干渉測長装置を
半導体製造用の露光装置のステージ装置に組み込んだも
のである。
【００１８】１００は光源、光学系、転写すべきパター
ンを持ったマスクなどを含む照明手段である。１１０は
レーザヘッド、１１１はビーム径調節機構であり、この
ビーム径調節機構は先の図１に示すようなズーム式ビー
ムエキスパンダ、あるいは図２に示すような虹彩型絞り
である。１１２はディテクタ、１１３は干渉計である。
１１４はレーザー光を反射する反射鏡で、ウエハ１１５
を搭載するウエハチャック１１６とともに移動ステージ
１１７上に載置されている。この移動ステージ１１７
は、微動アクチュエータ１１８により垂直方向（鉛直方
向）及び垂直軸（Ｚ軸）回りに微小移動可能になってお
り、さらにＸＹステージ１１９により水平方向に移動可
能となっている。コントローラ１２０はビーム径調節機
構１１１とともにアクチュエータ１１８、ＸＹステージ
１１９を駆動する。また照明手段１００によってウエハ
１１５にパターンを露光転写する。
ンを持ったマスクなどを含む照明手段である。１１０は
レーザヘッド、１１１はビーム径調節機構であり、この
ビーム径調節機構は先の図１に示すようなズーム式ビー
ムエキスパンダ、あるいは図２に示すような虹彩型絞り
である。１１２はディテクタ、１１３は干渉計である。
１１４はレーザー光を反射する反射鏡で、ウエハ１１５
を搭載するウエハチャック１１６とともに移動ステージ
１１７上に載置されている。この移動ステージ１１７
は、微動アクチュエータ１１８により垂直方向（鉛直方
向）及び垂直軸（Ｚ軸）回りに微小移動可能になってお
り、さらにＸＹステージ１１９により水平方向に移動可
能となっている。コントローラ１２０はビーム径調節機
構１１１とともにアクチュエータ１１８、ＸＹステージ
１１９を駆動する。また照明手段１００によってウエハ
１１５にパターンを露光転写する。
【００１９】図４は、図３の構成の平面図である。図
中、１２１はビームスプリッタ、１２２は折り曲げミラ
ーである。干渉計１１３とディテクタ１１２は移動ステ
ージ１１７のＺ軸回りの回転量を計測可能なようにＸ方
向に２組配置されている。
中、１２１はビームスプリッタ、１２２は折り曲げミラ
ーである。干渉計１１３とディテクタ１１２は移動ステ
ージ１１７のＺ軸回りの回転量を計測可能なようにＸ方
向に２組配置されている。
【００２０】レーザーチューブ１１０から射出したレー
ザー光は、ズーム式ビームエキスパンダ１１１を通過し
た後、干渉計１１３で分岐され、分枝した一方の光束は
反射鏡１１４で反射後、ディテクタ１１２に入射する。
また、干渉計１１３で分枝した他方の光束は直接ディテ
クタ１１２に入射する。ディテクタ１１２においては両
者の光束によって干渉光を形成し、干渉光の明暗に応じ
て変化するディテクタ１１２の出力信号から、移動ステ
ージ１１７の水平方向における位置を計測することがで
きる。
ザー光は、ズーム式ビームエキスパンダ１１１を通過し
た後、干渉計１１３で分岐され、分枝した一方の光束は
反射鏡１１４で反射後、ディテクタ１１２に入射する。
また、干渉計１１３で分枝した他方の光束は直接ディテ
クタ１１２に入射する。ディテクタ１１２においては両
者の光束によって干渉光を形成し、干渉光の明暗に応じ
て変化するディテクタ１１２の出力信号から、移動ステ
ージ１１７の水平方向における位置を計測することがで
きる。
【００２１】いま、ウエハ１１５の回転方向の位置合わ
せのためにＺ軸回りに角度θだけ回転させると、反射鏡
１１４で反射したレーザー光は角度２θだけ偏向するた
め、反射鏡１１４を経てディテクタ１１２に達する光束
のみが位置変動する。一方、反射鏡１１４を経ないでデ
ィテクタ１１２に達した光束は位置変動しない。よって
ディテクタ１１２上での両者の光束の重なりがずれて干
渉領域が狭くなり、回転角度を大きくすると干渉領域が
なくなり、計測が不可能になってしまう。これに対処し
て許容回転角度を大きくするため、ステージ位置計測時
には、ビーム径調節機構１１１にてレーザー光のビーム
径を大きく設定する。例えば、レーザー光のビーム径Ｄ
ｍｍとして、干渉光の重なりの必要領域ａｍｍ、反射鏡
１１４と干渉計１１３との距離Ｌｍｍとして、以下の式
から許容回転角度θを計算することができる。
せのためにＺ軸回りに角度θだけ回転させると、反射鏡
１１４で反射したレーザー光は角度２θだけ偏向するた
め、反射鏡１１４を経てディテクタ１１２に達する光束
のみが位置変動する。一方、反射鏡１１４を経ないでデ
ィテクタ１１２に達した光束は位置変動しない。よって
ディテクタ１１２上での両者の光束の重なりがずれて干
渉領域が狭くなり、回転角度を大きくすると干渉領域が
なくなり、計測が不可能になってしまう。これに対処し
て許容回転角度を大きくするため、ステージ位置計測時
には、ビーム径調節機構１１１にてレーザー光のビーム
径を大きく設定する。例えば、レーザー光のビーム径Ｄ
ｍｍとして、干渉光の重なりの必要領域ａｍｍ、反射鏡
１１４と干渉計１１３との距離Ｌｍｍとして、以下の式
から許容回転角度θを計算することができる。
【００２２】 θ＝1/2 × ｔａｎ-1（（Ｄ／２−ａ）／Ｌ）
【００２３】また、移動ステージ１１７の鉛直方向の移
動量は、ウエハの平面度とＸＹステージ１１９の上下動
により決定されるが、通常数１０μｍ以下である。この
ため、反射鏡１１４はレーザー光の当たる範囲に上下方
向の移動量数１０μｍを見込んだ範囲で反射面が形成さ
れていれば良い。
動量は、ウエハの平面度とＸＹステージ１１９の上下動
により決定されるが、通常数１０μｍ以下である。この
ため、反射鏡１１４はレーザー光の当たる範囲に上下方
向の移動量数１０μｍを見込んだ範囲で反射面が形成さ
れていれば良い。
【００２４】また、ウエハチャック１１６に対してウエ
ハ１１５を交換する場合には、ウエハ受け渡しのために
微動アクチュエータ１１８によってウエハチャック１１
６を下方に駆動させるが、この場合にはウエハθ回転は
発生しない。そこで、ウエハ交換時には、コントローラ
１２０にてビーム径調節機構１１１に指令を与え、レー
ザー光のビーム径を上記θ回転のときよりも小さく設定
する。例えば、レーザー光のビーム径を２ｍｍとする
と、ウエハの交換時に移動ステージを３．５ｍｍ上下さ
せてもレーザー光が反射鏡から外れることは無い。この
ため、ウエハの位置合わせ時には回転計測範囲を大きく
とれ、且つ反射鏡１１４をコンパクトにすることができ
る。以上のように本実施例によれば、高精度化、高速
化、小型化を高いレベルでバランスさせることができ
る。
ハ１１５を交換する場合には、ウエハ受け渡しのために
微動アクチュエータ１１８によってウエハチャック１１
６を下方に駆動させるが、この場合にはウエハθ回転は
発生しない。そこで、ウエハ交換時には、コントローラ
１２０にてビーム径調節機構１１１に指令を与え、レー
ザー光のビーム径を上記θ回転のときよりも小さく設定
する。例えば、レーザー光のビーム径を２ｍｍとする
と、ウエハの交換時に移動ステージを３．５ｍｍ上下さ
せてもレーザー光が反射鏡から外れることは無い。この
ため、ウエハの位置合わせ時には回転計測範囲を大きく
とれ、且つ反射鏡１１４をコンパクトにすることができ
る。以上のように本実施例によれば、高精度化、高速
化、小型化を高いレベルでバランスさせることができ
る。
【００２５】＜実施例４＞本発明の第４の実施例の構成
を図５に示す。本実施例は先の図３の構成に対して、更
に反射鏡の平面度を測定して補正する機構を付加したこ
とを特徴とする。なお、先の図３、図４と同一の符号は
同一の部材を表す。
を図５に示す。本実施例は先の図３の構成に対して、更
に反射鏡の平面度を測定して補正する機構を付加したこ
とを特徴とする。なお、先の図３、図４と同一の符号は
同一の部材を表す。
【００２６】本実施例では、移動ステージのピッチング
とローリング及びチルト駆動量を計測するために、干渉
計１１３とディテクタ１１２を鉛直方向に平行に二組配
置している。なお図５ではＸ軸の測長系のみ図示してい
るが、同様のものがＹ軸の測長系にも配置されている。
とローリング及びチルト駆動量を計測するために、干渉
計１１３とディテクタ１１２を鉛直方向に平行に二組配
置している。なお図５ではＸ軸の測長系のみ図示してい
るが、同様のものがＹ軸の測長系にも配置されている。
【００２７】この構成において、コントローラ１２０は
ビーム径調節機構１１１にビーム径を小さくする指令を
与え、移動ステージの鉛直方向の上下位置は位置合わせ
及び露光時と同一としておく。そして、Ｘ方向のステー
ジの制御を停止させた状態でＹ方向に移動ステージを駆
動し、Ｙ方向に移動している間のＹ軸の各位置ごとのＸ
軸干渉計と回転量検出干渉計の位置を計測する。これに
より、Ｙ軸の各位置ごとの反射鏡の平面度とＸＹステー
ジの姿勢精度が合成された第１のデータテーブルを得
る。次に、移動ステージをＸ軸の計測の干渉計とＹ軸回
りの回転量の計測の干渉計の間隔分だけ移動させる。そ
の後に再びＸ方向の制御を停止させた状態でＹ方向にス
テージを駆動して、Ｙステージが移動している間のＹ軸
の各位置ごとのＸ軸干渉計と回転量検出干渉計の位置を
計測し、第２のデータテーブルを得る。
ビーム径調節機構１１１にビーム径を小さくする指令を
与え、移動ステージの鉛直方向の上下位置は位置合わせ
及び露光時と同一としておく。そして、Ｘ方向のステー
ジの制御を停止させた状態でＹ方向に移動ステージを駆
動し、Ｙ方向に移動している間のＹ軸の各位置ごとのＸ
軸干渉計と回転量検出干渉計の位置を計測する。これに
より、Ｙ軸の各位置ごとの反射鏡の平面度とＸＹステー
ジの姿勢精度が合成された第１のデータテーブルを得
る。次に、移動ステージをＸ軸の計測の干渉計とＹ軸回
りの回転量の計測の干渉計の間隔分だけ移動させる。そ
の後に再びＸ方向の制御を停止させた状態でＹ方向にス
テージを駆動して、Ｙステージが移動している間のＹ軸
の各位置ごとのＸ軸干渉計と回転量検出干渉計の位置を
計測し、第２のデータテーブルを得る。
【００２８】ここで上記第１および第２のデータテーブ
ル差分を算出すると、ステージの姿勢精度成分が除去さ
れた、Ｘ軸干渉計で計測する反射鏡の平面度と、回転量
検出干渉計で計測する反射鏡の平面度の差分を求めるこ
とができる。同様の計測をＹ軸側についても行う。これ
らの差分データをコントロー他１２０のメモリに記憶さ
せておき、ＸＹステージの座標位置に応じて回転量計測
干渉計の測定値に補正を加えることで、極めて高精度な
ステージ位置測定ひいてはステージ位置決めが可能とな
る。
ル差分を算出すると、ステージの姿勢精度成分が除去さ
れた、Ｘ軸干渉計で計測する反射鏡の平面度と、回転量
検出干渉計で計測する反射鏡の平面度の差分を求めるこ
とができる。同様の計測をＹ軸側についても行う。これ
らの差分データをコントロー他１２０のメモリに記憶さ
せておき、ＸＹステージの座標位置に応じて回転量計測
干渉計の測定値に補正を加えることで、極めて高精度な
ステージ位置測定ひいてはステージ位置決めが可能とな
る。
【００２９】
【発明の効果】請求項１乃至３記載の発明によれば、高
精度な計測と調整の容易化を両立した優れたレーザ計測
装置を提供することができる。また、請求項４乃至７記
載の発明によれば、ステージ位置を広範囲で高精度に測
定することができ、ひいては高精度な位置決めが可能な
優れたステージ装置を提供することができる。また、請
求項８記載の発明のよれば、高精度な露光転写が可能な
露光装置を提供することができる。
精度な計測と調整の容易化を両立した優れたレーザ計測
装置を提供することができる。また、請求項４乃至７記
載の発明によれば、ステージ位置を広範囲で高精度に測
定することができ、ひいては高精度な位置決めが可能な
優れたステージ装置を提供することができる。また、請
求項８記載の発明のよれば、高精度な露光転写が可能な
露光装置を提供することができる。
【図１】第１の実施例の構成図である。
【図２】第２の実施例の構成図である。
【図３】第３の実施例であるステージ装置の構成図であ
る。
る。
【図４】図３の装置の平面図である。
【図５】第４の実施例である反射鏡平面度補正のための
機構を有するステージ装置の構成図である。
機構を有するステージ装置の構成図である。
【図６】従来例の構成図である。
１ レーザーチューブ ２ 凸レンズ ３ 凹レンズ ４ 凸レンズ ５ 送りねじ ６ 駆動アーム ７ モータ ８ コントローラ ９ レーザー電源 １０ モータ １１ 歯車 １２ 虹彩型絞り １００ 照明手段 １１０ レーザヘッド １１１ ビーム径調節機構 １１２ ディテクタ １１３ 干渉計 １１４ 反射鏡 １１５ ウエハ １１６ ウエハチャック １１７ 移動ステージ １１８ 微動アクチュエータ １１９ ＸＹステージ １２０ コントローラ １２１ ビームスプリッタ １２２ 折り曲げミラー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２３Ｑ 3/00
Claims (8)
- 【請求項１】 レーザー光を出力する光源と、レーザー
光を遮断することなくビーム径を可変にする調節機構を
有することを特徴とするレーザー計測装置。 - 【請求項２】 調節機構が、光路中に設けたズーム式ビ
ームエクスパンダーを有することを特徴とする請求項１
記載のレーザー計測装置。 - 【請求項３】 調節機構が、光路中に設けた虹彩型絞り
を有することを特徴とする請求項１記載のレーザー計測
装置。 - 【請求項４】 移動ステージを、請求項１乃至３のいず
れか記載のレーザ計測装置で位置計測することを特徴と
するステージ装置。 - 【請求項５】 移動ステージの駆動状況に応じて、レー
ザー光のビーム径を変化させることを特徴とする請求項
４記載のステージ装置。 - 【請求項６】 移動ステージを回転移動させる際には、
レーザー光のビーム径を拡げることを特徴とする請求項
５記載のステージ装置。 - 【請求項７】 移動ステージを上下方向に移動させる際
には、レーザー光のビーム径を狭めることを特徴とする
請求項５又は６記載のステージ装置。 - 【請求項８】 請求項４乃至７のいずれか記載のステー
ジ装置を有することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10237795A JPH08297010A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | レーザー計測装置及びこれを有するステージ装置や露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10237795A JPH08297010A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | レーザー計測装置及びこれを有するステージ装置や露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08297010A true JPH08297010A (ja) | 1996-11-12 |
Family
ID=14325778
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10237795A Withdrawn JPH08297010A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | レーザー計測装置及びこれを有するステージ装置や露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08297010A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015503754A (ja) * | 2012-01-11 | 2015-02-02 | コー・ヤング・テクノロジー・インコーポレーテッド | 非対称偏光を用いた干渉計及びそれを用いた光学装置 |
| EP3557229A1 (en) * | 2018-04-16 | 2019-10-23 | Yokogawa Electric Corporation | Gas analyzer |
-
1995
- 1995-04-26 JP JP10237795A patent/JPH08297010A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015503754A (ja) * | 2012-01-11 | 2015-02-02 | コー・ヤング・テクノロジー・インコーポレーテッド | 非対称偏光を用いた干渉計及びそれを用いた光学装置 |
| EP3557229A1 (en) * | 2018-04-16 | 2019-10-23 | Yokogawa Electric Corporation | Gas analyzer |
| CN110389109A (zh) * | 2018-04-16 | 2019-10-29 | 横河电机株式会社 | 气体分析装置 |
| US10871398B2 (en) | 2018-04-16 | 2020-12-22 | Yokogawa Electric Corporation | Gas analyzer |
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