JPH08297873A

JPH08297873A - 光磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH08297873A
Application number: JP10368495A
Authority: JP
Inventors: Yutaka Takeya; 竹谷　　豊
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1995-04-27
Filing date: 1995-04-27
Publication date: 1996-11-12

Abstract

(57)【要約】【目的】基板表面の傷つきやすさを抑制すると共に、そ
りの状態を低下させ、併せて帯電性に優れた光学記録媒
体を得る。【構成】レーザ光が照射される側の基板面上に、反応性
樹脂混合物を架橋反応させて形成した光透過性の溶媒不
溶性高分子薄膜を備える。溶媒不溶性高分子薄膜を形成
するための反応性樹脂混合物が、成分Ａと成分Ｂと成分
Ｃと成分Ｄとの４成分からなる。成分Ａはケトン樹脂、
成分Ｂは炭素数２から６の飽和アルキレンジグリコール
ジアクリレート、成分Ｃはトリメチロールプロパントリ
アクリレート、またはペンタエリスリトールの１から６
量体の脱水縮合物であり、そのヒドロキシ基の３個以上
がアクリレートで変性されている誘導体、成分Ｄはポリ
ビニルピロリドン。混合比率が、成分Ａは１〜２５重量
％、成分Ｂは５〜４５重量％、成分Ｃは１０〜８６重量
％、成分Ｄは１０〜２０重量％。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プラスチック材からな
る基板側から照射するレーザ光と、基板を間に挟んでレ
ーザ光の照射側とは反対側から印加する磁界との組み合
わせによって、情報の書き込みおよび／または読み取り
を行う光磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】光磁気記録体は、高密度、大容量の情報
記録媒体として種々の研究開発が行われている。特に、
情報の繰り返し記録消去が可能な光磁気記録媒体は、応
用分野が広く、さまざまな光磁気記録媒体が発表されて
いる。そして、この光磁気記録媒体においては、基板上
に設けた記録層の所定の領域を、基板側より、レーザ光
を照射して加熱し、それと同時に所定の方向の磁界を印
加することによって、情報の書き込みが行われる。

【０００３】通常は、予め記録ビットや案内溝を形成し
た基板上に、各種合金あるいは光官能基を有する有機物
で構成される記録層を形成し、これにレーザ光を照射し
て、その反射強度の変化らを読みとることで、情報の識
別を行う。

【０００４】この時に記録層は、それ単独でで光学記録
媒体を構成するのではなくて、必ず基板を伴う形で構成
される。この基板としては、照射するレーザ光に対して
透明なものとして、ガラスや、ポリカーボネート、ポリ
メチルメタクリレート、非晶性ポリオレフィンで示され
るプラスチック等が用いられる。

【０００５】このうちガラスは、硬くて傷つきにくとい
う利点はあるものの、それが同時に案内溝の形成を困難
にさせている。このために、エッチング処理あるいは、
ポリマーの薄膜を別途形成させて、この目的にかなう試
みもあるが、量産性にかける。また、耐衝撃性の点など
からも、使用上の取扱いに限定がもたらされることが多
い。

【０００６】これに対してプラスチックは、マスタリン
グによりスタンパーを予め形成しておけば、このスタン
パーから射出成形を行うことで大量生産できるメリット
が存在する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】基板材料に用いるプラ
スチックは、ある程度の軟らかさや可とう性を有してい
るために、表面に傷がつきやすい。このために、基板表
面がそのまま直に外界と触れるような構成では、情報の
書き込み／読み取り特性が低下して、光学記録媒体とし
ては、好ましく無いことが多い。

【０００８】そこで、これらを補うためにレーザ光を照
射する側の基板表面に、別途架橋重合反応を行い、比較
的硬度の高い保護膜を形成するとか、薄い有機フィルム
を張り合わせて保護膜の役割を代行させることが行われ
る。この様な保護膜は、ハードコート膜とも呼ばれ、ま
たそのための材料をハードコート材とも呼ばれる。

【０００９】このハードコート材は、その安定性の観点
から一般に架橋高分子で形成される。しかし、一般に高
分子を架橋反応で形成すると、モノマーの存在している
初期の状態よりも収縮することが多い。そして、この収
縮応力で光学記録媒体が変形し、いわば「おわん」の様
な形態になる。そのため、照射されるレーザ光の光軸と
光学記録媒体の表面とが直角でなくなり、反射光が対物
レンズに戻らなくなる。そしてこの様な面軸方向の変形
が発生すると、記録された場所を読みとるためのサーボ
機構も、十分な追随が不可能になり、結果としてデータ
の書き込み／読み取りが不可能になる。

【００１０】さらに、媒体の書き込み／読み取り運転中
は、非常に高速で回転している。従って、媒体表面で
は、空気との摩擦を発生し、静電気を帯やすくなり、空
気中の塵芥を吸着することが多発する。特に、このちり
が大きき場合は、記録の書き込み／読み取りに大きな支
障をもたらすことが多い。このために、媒体は、絶縁状
態でない雰囲気であることの処理も必要となり、上述の
機械的な安定性を付与しつつ、帯電性をもたせなければ
ならない。

【００１１】本発明は、かかる課題を解決して、基板表
面の傷つきやすさを抑制すると共に、そりの状態を低下
させ、併せて帯電性に優れた光学記録媒体を得ることを
目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の光学記録媒体
は、プラチック材からなる基板側より照射するレーザ光
と、基板を間に挟んでレーザ光の照射側とは反対の側か
ら印加する磁界との組み合わせによって、情報の書き込
みおよび／または読み取りを行う光磁気記録媒体におい
て、レーザ光が照射される側の基板面上に、反応性樹脂
混合物を架橋反応させて形成した光透過性の溶媒不溶性
高分子薄膜を備えた光磁気記録媒体であって、かつ溶媒
不溶性高分子薄膜を形成するための反応性樹脂混合物
が、成分Ａと成分Ｂと成分Ｃと成分Ｄとの４成分からな
り、成分Ａはケトン樹脂、成分Ｂは炭素数２から６の飽
和アルキレンジグリコールジアクリレート、成分Ｃはト
リメチロールプロパントリアクリレート、またはペンタ
エリスリトールの１から６量体の脱水縮合物であり、そ
のヒドロキシ基の３個以上がアクリレートで変性されて
いる誘導体、成分Ｄはポリビニルピロリドンからなり、
反応性樹脂混合物中での４成分の混合比率が、成分Ａは
１〜２５重量％、成分Ｂは５〜４５重量％、成分Ｃは１
０〜８６重量％、成分Ｄは１０〜２０重量％であること
を特徴としている。

【００１３】ここで述べるケトン樹脂とは、ケトン骨格
を有する材料とアルデヒド誘導体との重縮合物である。
かかる樹脂の具体的な例としては、脂環式ケトン類を金
属アルカリで付加縮合させるもの、ケトン類を主として
ホルムアルデヒドとアルカリ付加縮合させて得られるも
のとがある。

【００１４】こうしたケトン樹脂の持つ化学構造的な堅
い環状骨格が密度高く存在することで、樹脂の相対的な
容積変化を抑制するために本発明の効果が得られる。ま
た、ケトン樹脂が共存すると顔料の分散性、光沢の改
良、塗膜の伸びの改善に効果がある。従って、単独で用
いられるよりは、いわば、配合助材として用いることに
より、高分子の状態の安定化に寄与する。

【００１５】そこで、反応性樹脂混合物中での配合比率
としては、２５重量％以下にすることが必要である。一
方、配合割合が余り少量では、効果を発揮できない。こ
のため、反応性樹脂中の配合割合は、１重量％以上必要
である。

【００１６】また十分な架橋高分子薄膜を形成するに
は、架橋骨格を形成する構造が必要となる。このため、
トリメチロールプロパントリアクリレート、またはペン
タエリスリトールの１から６量体の脱水縮合物であり、
そのヒドロキシ基の３個以上がアクリレートで変性され
ている誘導体が必要となる。そして反応性樹脂混合物中
での配合比率としては、必要な特性を得るためには１０
〜８６重量％が必要である。

【００１７】また、基板との接着安定性、あるいは樹脂
の可とう性を増大させる観点から、反応性樹脂混合物中
には５〜４５重量％の炭素数２から６の飽和アルキレン
ジグリコールジアクリレートが必要である。これによ
り、架橋反応の安定化もはかられる。炭素数２から６の
飽和アルキレンジグリコールとしては、エチレングリコ
ールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレ
ート、ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート等を挙げることができる。

【００１８】さらに帯電性を付与する観点からは、ポリ
ビニルピロリドンの共存が必要である。そしてこれが本
来の性能発現を生起するには、反応性樹脂混合物中での
配合比率としては１０重量％以上の存在が必要である。
しかし、余り過剰であるとフィルムの強度が極端に低下
する。かかる観点から最大２０重量％を越すべきでは無
い。

【００１９】この様に配合されてなる架橋高分子膜形成
の原液を薄く塗布するには、通常スピンコーテング法に
よる塗膜形成が、薄い膜を均一に作成するという観点か
らは望ましいが、バーコーターによる方法、あるいは単
純な浸漬、液切り、自然流延による手法でも、均一に、
濡れている限りにおいては、本発明を障害するものでは
ない。

【００２０】かかる、薄膜の架橋手法としては、アクリ
ル酸の不飽和部分が重合すればよく、熱による方法、光
による方法等を考えられるが、作業効率の観点から、ま
た、基板が比較的熱的安定性に劣るプラスチックである
ことを考えると、光、ＵＶ架橋が最も好ましく用いられ
る。なおそうした光による架橋を行う際には、極少量の
光増感剤を添加してもよい。

【００２１】ここで、本発明のプラスチック基板は、一
般に波長４５０ｎｍから９００ｎｍの領域において、透
明性に優れているポリカーボネート、ポリメチルメタア
クリレート、非結晶性ポリオレフィンから選ばれる一種
である。かかる材料は、現在でも広範囲に光記録材料基
板として用いられており、容易に入手可能な工業材料で
ある。通常この基板は、数ｍｍ程度の厚みに成形されて
用いられる。

【００２２】また、前述の基板との組み合わせにおいて
本発明の効果をより確実にするためには、本発明におけ
る高分子薄膜の膜厚が３μｍ以上５０μｍ以下であるこ
とがより望ましい。

【００２３】また、本発明にかかる光学記録媒体として
は、記録膜として近赤外波長に吸収のあるフタロシアニ
ン、ナフタロシアニン系色素、ベンゼンジチオール金属
錯体系色素のを用いた追記型光デスクや、Ｔｂ，ＦｅＰ
ｔ，Ｃｏ等の希土類遷移金属を、誘電体膜の上にスパッ
タ法等で、形成させた、書換可能型の光デスクに用いる
ことができる。またそうした記録膜上には、ＡｌＮ、Ｓ
ｉＮ、ＳｉＯ２らの材料の薄膜を保護膜として形成させ
ることができる。

【００２４】

【実施例１】ケトン樹脂としての本州製紙製の商品名
「ハロン８０」を１５重量部、トリメチロルプロパント
リアクリレート４５重量部、ポリビニルピロリドン１４
重量部、オリゴブタンジオールジアクリレート２６重量
部、および光増感剤としての商品名「ＤＡＲＯＣＵＲＥ
１１７」を極少量添加して、架橋高分子反応液を作成し
た。

【００２５】これを、ポリカーボネート基板（外径８６
ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚み１．２ｍｍ）の案内溝が形成
されてない面上に、スピンコート法により膜厚４．５μ
ｍになるように塗布し、その後高圧水銀ランプにより、
７５ｍＷ／平方ｃｍ以上のエネルギーを照射して光硬化
反応を行った。

【００２６】このようにして得られた光学基板のそり角
度は、絶対値として２．０ｍｒａｄであり、表面抵抗値
は、１．３ＴΩ／□であった。またこれを、８０℃，８
５％の相対湿度の雰囲気で２０００時間放置しても、殆
ど変化が認められなかった。

【００２７】なお、そり角度の測定は、新電子工業
（株）光デスク機械特性装置ＯＤＡ−２型により測定
した。また表面抵抗は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＫ−５４６
１に準拠して、２５℃，５０％湿度の状態で７２時間静
置した後に測定した。

【００２８】

【実施例２】塗布時点で高分子薄膜を形成する混合液の
組成を、ケトン樹脂（日立化成製の商品名「ハイラッ
ク」）を１３重量部、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート２５重量部、トリメチロールプロパントリア
クリレート２５重量部、ポリビニルピロリドン１３重量
部、ヘキサメチレンジグリこールジアクリレート２４重
量部とする以外は、実施例１と同様の方法で、光硬化薄
膜を得た。

【００２９】こうして得られた試料は、そり角度が絶対
値で２．２ｍｒａｄであり、表面抵抗値が５．３ＴΩ／
□であった。またこの性能は、経時変化が殆ど認められ
なかった。

【００３０】

【実施例３】実施例１における組成中のトリメチロルプ
ロパントリアクリレート４５重量部のかわりに、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート２５重量部と、ト
リメチロールプロパントリアクリレート２０重量部と
し、膜厚を８μｍにする以外は、実施例１とまったく同
じ方法で薄膜を得た。この試料はそり角度が３．０ｍｒ
ａｄであり、経時変化は殆ど観測されなかった。

【００３１】

【比較例１】実施例１における組成中のケトン樹脂を１
重量部とし、またポリビニルピロリドンを２８重量部と
増加させた以外は、実施例１と同じ条件で薄膜の製膜を
行った。しかし、丈夫で均一な薄膜が得られずそり角度
の測定ができなかった。

【００３２】

【発明の効果】本発明は、基板表面の傷つき易さを抑制
すると共に、そりの状態を低減して信号の書き込み／読
み取り特性に優れた光学記録媒体を得ることができる。
その際に、全体のそり角度が絶対値で５ｍｒａｄ以下の
光学記録媒体を得ることができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラチック材からなる基板側より照射す
るレーザ光と、基板を間に挟んでレーザ光の照射側とは
反対の側から印加する磁界との組み合わせによって、情
報の書き込みおよび／または読み取りを行う光磁気記録
媒体において、レーザ光が照射される側の基板面上に、
反応性樹脂混合物を架橋反応させて形成した光透過性の
溶媒不溶性高分子薄膜を備えた光磁気記録媒体であっ
て、かつ溶媒不溶性高分子薄膜を形成するための反応性
樹脂混合物が、成分Ａと成分Ｂと成分Ｃと成分Ｄとの４
成分からなり、成分Ａはケトン樹脂、成分Ｂは炭素数２
から６の飽和アルキレンジグリコールジアクリレート、
成分Ｃはトリメチロールプロパントリアクリレート、ま
たはペンタエリスリトールの１から６量体の脱水縮合物
であり、そのヒドロキシ基の３個以上がアクリレートで
変性されている誘導体、成分Ｄはポリビニルピロリドン
からなり、反応性樹脂混合物中での４成分の混合比率
が、成分Ａは１〜２５重量％、成分Ｂは５〜４５重量
％、成分Ｃは１０〜８６重量％、成分Ｄは１０〜２０重
量％であることを特徴とする光学記録媒体。